JP5588525B2 - タッチパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明のもう1つの目的は、製造コストを節約することができるタッチパネルの製造方法を提供することにある。
図1〜図3を参照する。図1は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの製造方法を示す流れ図である。図2は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの構造を示す平面図である。図3は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの製造工程を示す断面図である。図1〜図3に示すように、本発明のタッチパネルの製造方法は、以下S1〜S8のステップを含む。
図4及び図5を参照する。図4は、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの製造方法を示す流れ図である。図5は、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの構造を示す断面図である。図4及び図5に示すように、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの製造方法は、以下S1〜S8のステップを含む。
(1)製造コストが低減される。
(2)フォトマスクの使用が減少される。
11 遮蔽層
12 非タッチ領域
13 タッチ領域
14 タッチ電極層
141 タッチ電極
15 金属配線層
151 金属配線
16 絶縁層
161 導電性接続孔
17 金属導線
18 保護層
19 光学補償層
Claims (10)
- タッチパネルの製造方法であって、
基板を準備し、前記基板上に遮蔽層を設置し、前記基板の前記遮蔽層の位置を非タッチ領域に画定し、遮蔽されない位置をタッチ領域に画定し、
その後、前記基板上に複数のタッチ電極を形成するためのタッチ電極層を設置し、
その後、前記タッチ電極層上に複数の金属配線を形成するための金属配線層を設置し、
その後、1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、前記非タッチ領域に位置する前記金属配線層を前記複数の金属配線に成形し、
その後、2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、前記タッチ領域の前記タッチ電極層を前記複数のタッチ電極に成形し、
その後、前記複数のタッチ電極上に絶縁層を設置し、前記タッチ電極上の前記絶縁層に複数の導電性接続孔を形成し、
その後、前記絶縁層上に複数の金属導線を有する導線層を設置し、前記導電性接続孔を介して前記複数の金属導線と前記複数のタッチ電極とを電気的に接続し、
その後、前記タッチ電極層、前記導線層及び前記絶縁層上に、保護層を設置することを特徴とするタッチパネルの製造方法。 - 前記タッチ電極層は、スパッタリングによって形成され、前記タッチ電極層は、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ亜鉛、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムスズ、酸化アルミニウム亜鉛、酸化カドミウムスズ及び酸化カドミウム亜鉛からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記遮蔽層は、インクを塗布することによって形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記金属配線層は、スパッタリングによって形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記絶縁層は、スクリーン印刷又は平版印刷によって形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記保護層は、無機材料又は有機材料であり、前記無機材料は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化ハフニウム及び酸化アルミニウムからなる群から選択され、前記有機材料は、フォトレジスト、ベンゾシクロブテン、環状オレフィン類、ポリエステル類、ポリオール類、ポリエチレンオキシド類、ポリフェニル類、樹脂類、ポリエーテル類及びポリケチド類からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記基板上の非タッチ領域に遮蔽層を設置するステップの後、前記タッチ領域及び前記非タッチ領域に光学補償層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記絶縁層は、無機材料又は有機材料であり、前記無機材料は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化ハフニウム及び酸化アルミニウムからなる群から選択され、前記有機材料は、フォトレジスト、ベンゾシクロブテン、環状オレフィン類、ポリエステル類、ポリオール類、ポリエチレンオキシド類、ポリフェニル類、樹脂類、ポリエーテル類及びポリケチド類からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記1回目のフォトリソグラフィ工程を行う際に使用されるエッチング液は、リン酸塩、硝酸、酢酸及び水からなる群から選択され、前記2回目のフォトリソグラフィ工程を行う際に使用されるエッチング液は、硝酸、塩酸及び水からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記導線層は、銀ペースト印刷又はスパッタリングによって形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルの製造方法。
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