JP5587299B2 - 結像システム - Google Patents
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Description
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]複数のビームレットを使用してターゲット(11)を露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビーム(20)を生成するための荷電粒子ソース(1)と、
生成ビームからビームレット(23)の群を規定するまたはビームレット開口アレイ(4D)と、
前記ビームレットを制御可能に無効化するためのブランカーのアレイを備えているビームレットブランカーアレイ(6)と、
前記ブランカーによって偏向されたビームレットを無効化するためのビームストップアレイ(8)を備えており、前記ビームストップアレイは開口を備え、各ビームストップ開口は前記ブランカーの一つ以上に対応しており、さらに、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するための投影レンズ系(10)のアレイを備えており、
前記ビームストップアレイにある平面上に、前記投影レンズ系の有効レンズ平面に、または前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面の間に前記ソースを結像し、さらに前記ターゲット上に前記ビームレット開口アレイを結像する、システム。
[2]前記ソースは、コンデンサーレンズアレイ(5C)によって前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるまたは間にある平面上に結像される、[1]のシステム。
[3]前記コンデンサーレンズアレイは前記ビームレット開口アレイの上流に配置されている、[2]のシステム。
[4]前記生成ビームからサブビーム(25)を規定するためのサブビーム開口アレイ(4C)をさらに備えており、前記ビームレット開口アレイは前記サブビームから前記ビームレットの群を規定する、[1]〜[4]のいずれかのシステム。
[5]前記サブビームは、コンデンサーレンズアレイによって前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるまたは間にある平面上に合焦される、[4]のシステム。
[6]前記コンデンサーレンズアレイは、前記サブビーム開口アレイと前記ビームレット開口アレイの間に配置されている、[5]のシステム。
[7]前記ビームレット開口アレイと前記ビームレットブランカーアレイは一体化されている、[1]〜[6]のいずれかのシステム。
[8]前記ビームストップアレイの前記開口は前記システム中に制限されている、[1]〜[7]のいずれかひとつのシステム。
[9]複数のビームレットを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ソース、
生成ビームからビームレットの群を規定するための第一の開口アレイと、
第二の開口アレイと、
前記ビームレットを制御可能に無効化するためのブランカーのアレイを備えているビームレットブランカーアレイと、
前記ブランカーによって偏向されたビームレットを無効化するためのビームストップアレイを備えており、前記ビームストップアレイは開口のアレイを備え、各ビームストップ開口は前記複数のブランカーに対応しており、さらに、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するための投影レンズ系のアレイを備えており、
前記ビームレットブランカーアレイにある平面上に前記ソースを結像し、さらに前記ターゲット上に前記ビームレットブランカーアレイを結像する、システム。
[10]前記ソースは、第一のコンデンサーレンズアレイによって前記第二の開口アレイに平面上に結像される、[9]のシステム。
[11]前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるまたは間にある平面上に前記ビームレットの群を収束させるための第二のコンデンサーレンズアレイをさらに備えている、[9]または[10]のシステム。
[12]前記コンデンサーレンズアレイの各レンズは、前記ビームレットの群を前記ビームストップアレイ中の対応開口に収束させる、[11]のシステム。
[13]前記第二のコンデンサーレンズアレイは、前記第一のコンデンサーレンズアレイと前記第二の開口アレイの間に配置されている、[11]または12のシステム。
[14]前記ビームレットの群を、各群の収束の共通点に向けて収束させるためのビームレットマニピュレーターをさらに備えている、[9]または10のシステム。
[15]前記ビームレットの各群の収束の共通点は前記ビームストップアレイ中の対応開口にある、[14]のシステム。
[16]前記ビームレットマニピュレーターはビームレット群偏向器を備えている、[14]または[15]のシステム。
[17]前記第二の開口アレイと前記ビームレットブランカーアレイは一体化されている、[9]〜[16]のいずれかのシステム。
[18]前記ビームストップアレイの開口は前記システムに制限されている、[9]〜[17]のいずれかのシステム。
[19]前記第一の開口アレイは、前記ビームストップアレイ上に、前記投影レンズ系の有効レンズ平面上に、または前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面の間の平面上に投影される、[9]〜[18]のいずれかのシステム。
[20]複数のビームレットを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビームを生成するための少なくとも一つの荷電粒子ソースと、
生成ビームからサブビームを作り出すための第一の開口アレイと、
前記サブビームを合焦させるためのコンデンサーレンズアレイと、
各合焦サブビームからビームレットの群を作り出すための第二の開口アレイと、
前記ビームレットの群中のビームレットを制御可能に無効化するためのビームレットブランカーと、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するためのアレイ投影レンズ系を備えており、
前記コンデンサーレンズアレイは、前記投影レンズ系の一つに対応する点に各サブビームを合焦させることに適している、システム。
[21]前記第二の開口アレイは前記ビームレットブランカーアレイと結合されている、[20]のシステム。
Claims (18)
- 複数のビームレットを使用してターゲット(11)を露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビーム(20)を生成するための荷電粒子ソース(1)と、
前記生成ビームからサブビーム(25)を規定するためのサブビーム開口アレイ(4C)と、
前記サブビームからビームレット(23)の群を規定するためのビームレット開口アレイ(4D)と、
前記ビームレットを制御可能に無効化するためのブランカーのアレイを備えているビームレットブランカーアレイ(6)と、
前記ブランカーによって偏向されたビームレットを無効化するためのビームストップアレイ(8)を備えており、前記ビームストップアレイは開口を備え、各ビームストップ開口は前記ブランカーの一つ以上に対応しており、さらに、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するための投影レンズ系(10)のアレイを備えており、
前記ビームストップアレイにある平面上に、前記投影レンズ系の有効レンズ平面に、または前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面の間に前記ソースを結像し、さらに前記ターゲット上に前記ビームレット開口アレイを結像する、システム。 - 前記ソースは、コンデンサーレンズアレイ(5C)によって前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるまたは間にある平面上に結像される、請求項1のシステム。
- 前記コンデンサーレンズアレイは前記ビームレット開口アレイの上流に配置されている、請求項2のシステム。
- 前記サブビームは、コンデンサーレンズアレイによって前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるまたは間にある平面上に合焦される、請求項1のシステム。
- 前記コンデンサーレンズアレイは、前記サブビーム開口アレイと前記ビームレット開口アレイの間に配置されている、請求項4のシステム。
- 前記ビームレット開口アレイと前記ビームレットブランカーアレイは一体化されている、請求項1〜5のいずれかのシステム。
- 前記ビームストップアレイの前記開口は、これを通り抜けるビームレットの断面を制限している、請求項1〜6のいずれかひとつのシステム。
- 複数のビームレットを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ソース、
生成ビームからビームレットの群を規定するための第一の開口アレイと、
第二の開口アレイと、
前記ビームレットの群を、各群の収束の共通点に向けて収束させるためのビームレットマニピュレーターと、
前記ビームレットを制御可能に無効化するためのブランカーのアレイを備えているビームレットブランカーアレイと、
前記ブランカーによって偏向されたビームレットを無効化するためのビームストップアレイを備えており、前記ビームストップアレイは開口のアレイを備え、各ビームストップ開口は前記複数のブランカーに対応しており、さらに、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するための投影レンズ系のアレイを備えており、
前記ビームレットブランカーアレイにある平面上に前記ソースを結像し、さらに前記ターゲット上に前記ビームレットブランカーアレイを結像し、
前記ビームレットの各群の収束の共通点は前記ビームストップアレイ中の対応開口にある、システム。 - 前記ソースは、第一のコンデンサーレンズアレイによって前記第二の開口アレイに平面上に結像される、請求項8のシステム。
- 前記ビームストップアレイにあるか、前記投影レンズ系の有効レンズ平面にあるか、前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面の間にある平面上に前記ビームレットの群を収束させるための第二のコンデンサーレンズアレイをさらに備えている、請求項8または9のシステム。
- 前記第二のコンデンサーレンズアレイの各レンズは、前記ビームレットの群を前記ビームストップアレイ中の対応開口に収束させる、請求項10のシステム。
- 前記第二のコンデンサーレンズアレイは、前記第一のコンデンサーレンズアレイと前記第二の開口アレイの間に配置されている、請求項10または11のシステム。
- 前記ビームレットマニピュレーターはビームレット群偏向器を備えている、請求項8のシステム。
- 前記第二の開口アレイと前記ビームレットブランカーアレイは一体化されている、請求項8〜13のいずれかのシステム。
- 前記ビームストップアレイの開口は、これを通り抜けるビームレットの断面を制限している、請求項8〜14のいずれかのシステム。
- 前記第一の開口アレイは、前記ビームストップアレイ上に、前記投影レンズ系の有効レンズ平面上に、または前記ビームストップアレイと前記投影レンズ系の有効レンズ平面の間の平面上に投影される、請求項8〜15のいずれかのシステム。
- 複数のビームレットを使用してターゲットを露光するための荷電粒子マルチビームレットシステムであり、
荷電粒子ビームを生成するための少なくとも一つの荷電粒子ソースと、
生成ビームからサブビームを作り出すための第一の開口アレイと、
前記サブビームを合焦させるためのコンデンサーレンズアレイと、
各合焦サブビームからビームレットの群を作り出すための第二の開口アレイと、
前記ビームレットの群中のビームレットを制御可能に無効化するためのビームレットブランカーと、
前記ターゲットの表面上にビームレットを投影するためのアレイ投影レンズ系を備えており、
前記コンデンサーレンズアレイは、前記投影レンズ系の一つに対応する点に各サブビームを合焦させることに適している、システム。 - 前記第二の開口アレイは前記ビームレットブランカーアレイと結合されている、請求項17のシステム。
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