JP5587133B2 - High-side switch circuit, interface circuit, and electronic equipment - Google Patents

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Description

本発明は、ハイサイドスイッチ回路、そのハイサイドスイッチ回路を備えるインターフェイス回路、およびそのインターフェイス回路を備える電子機器に関する。   The present invention relates to a high-side switch circuit, an interface circuit including the high-side switch circuit, and an electronic device including the interface circuit.

電源と負荷との間に接続されるスイッチは、一般にハイサイドスイッチと呼ばれる。たとえば配線の短絡あるいは負荷の故障などによって、ハイサイドスイッチに流れる電流が過大になった場合には、ハイサイドスイッチが故障することがある。このため、ハイサイドスイッチと、ハイサイドスイッチを過電流から保護するための保護回路とを備えるハイサイドスイッチ回路が提案されている。   A switch connected between a power supply and a load is generally called a high side switch. For example, if the current flowing through the high-side switch becomes excessive due to a short circuit in the wiring or a load failure, the high-side switch may fail. For this reason, a high side switch circuit including a high side switch and a protection circuit for protecting the high side switch from overcurrent has been proposed.

たとえば、実開平7−11031号公報(特許文献1)は、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)をハイサイドスイッチに利用した半導体ハイサイドスイッチ、およびそのハイサイドスイッチの過電流保護検出装置を開示する。具体的には、過電流保護検出装置は、MOSFETの一方の端子に接続されて基準電圧を発生させる基準電圧発生回路と、基準電圧発生回路の出力端子およびMOSFETの他方の端子に接続された比較器とを備える。比較器は、MOSFETのオン電圧と基準電圧とを比較することによって、MOSFETの過電流状態を検出する。   For example, Japanese Utility Model Publication No. 7-11031 (Patent Document 1) discloses a semiconductor high-side switch using a MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) as a high-side switch, and an overcurrent protection detection device for the high-side switch. To do. Specifically, the overcurrent protection detection device includes a reference voltage generating circuit that is connected to one terminal of a MOSFET to generate a reference voltage, and a comparison that is connected to the output terminal of the reference voltage generating circuit and the other terminal of the MOSFET. With a vessel. The comparator detects the overcurrent state of the MOSFET by comparing the on-voltage of the MOSFET with a reference voltage.

実開平7−11031号公報Japanese Utility Model Publication No.7-11031

特許文献1においては、MOSFETの過電流状態を検出することは記載されている。しかし、特許文献1には、過電流が検出されたときの半導体ハイサイドスイッチの保護について具体的に記載されていない。さらに、半導体ハイサイドスイッチに過電流が流れた場合、その半導体ハイサイドスイッチに接続された負荷および電源等の回路の保護も考慮する必要がある。しかし、特許文献1は、このような課題を解決するための具体的な構成について説明していない。   Patent Document 1 describes that an overcurrent state of a MOSFET is detected. However, Patent Document 1 does not specifically describe the protection of the semiconductor high-side switch when an overcurrent is detected. Furthermore, when an overcurrent flows through the semiconductor high side switch, it is necessary to consider protection of circuits such as a load and a power source connected to the semiconductor high side switch. However, Patent Document 1 does not describe a specific configuration for solving such a problem.

本発明の目的は、ハイサイドスイッチの過電流が検出された場合に、ハイサイドスイッチだけでなくハイサイドスイッチに接続される回路を保護することが可能なハイサイドスイッチ回路、および、そのハイサイドスイッチ回路を含む装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a high-side switch circuit capable of protecting not only the high-side switch but also a circuit connected to the high-side switch when an overcurrent of the high-side switch is detected, and the high side An apparatus is provided that includes a switch circuit.

本発明のある局面において、ハイサイドスイッチ回路は、電源から供給される電流を受けるための入力端子と、負荷に電流を供給するための出力端子と、入力端子と出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、電流制限回路とを備える。電流制限回路は、過電流検出部によって過電流が検出された場合に、トランジスタの制御電圧を、トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、トランジスタに流れる電流を制限する。電流制限回路は、トランジスタの制御電極に並列に接続されて、制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含む。第1の降圧回路は、制御電圧を、第1の電圧から、第1の電圧と第2の電圧との間の第3の電圧まで、第1の時間変化率で低下させる。第2の降圧回路は、制御電圧が第3の電圧に達した後に、制御電圧を第3の電圧から第2の電圧まで第2の時間変化率で低下させる。第1の時間変化率は、第2の時間変化率よりも大きい。   In one aspect of the present invention, the high-side switch circuit is electrically connected between an input terminal for receiving a current supplied from a power supply, an output terminal for supplying a current to a load, and the input terminal and the output terminal. And an overcurrent detector for detecting that an overcurrent has flowed through the transistor, and a current limiting circuit. When an overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the current limiting circuit changes the control voltage of the transistor from the first voltage for completely turning on the transistor to turning the transistor incompletely on. The current flowing through the transistor is limited by reducing the voltage to the second voltage. The current limiting circuit includes first and second step-down circuits that are connected in parallel to the control electrode of the transistor and reduce the control voltage. The first step-down circuit lowers the control voltage from the first voltage to a third voltage between the first voltage and the second voltage at a first time change rate. The second step-down circuit decreases the control voltage from the third voltage to the second voltage at the second time change rate after the control voltage reaches the third voltage. The first time change rate is larger than the second time change rate.

好ましくは、ハイサイドスイッチ回路は、チャージポンプをさらに備える。チャージポンプは、入力端子に印加される電圧を昇圧して、第1の電圧をトランジスタの制御電極に印加する一方、過電流検出部の出力により停止する。第1の降圧回路は、第1のスイッチと、定電圧回路とを含む。第1のスイッチは、接地ノードおよびトランジスタの制御電極の少なくとも一方に接続されて、過電流検出部の出力に応じてオンする。定電圧回路は、第1のスイッチを介して接地ノードとトランジスタの制御電極との間に電気的に接続されることにより、制御電極に第3の電圧を印加する。第2の降圧回路は、チャージポンプと制御電極との接続点から接地ノードに向けて電流を流すための抵抗素子と、第2のスイッチとを含む。第2のスイッチは、過電流検出部の出力によりオンして、接続点から抵抗素子を介して接地ノードに至るまでの電流経路を形成する第2のスイッチとを含む。   Preferably, the high side switch circuit further includes a charge pump. The charge pump boosts the voltage applied to the input terminal, applies the first voltage to the control electrode of the transistor, and stops by the output of the overcurrent detection unit. The first step-down circuit includes a first switch and a constant voltage circuit. The first switch is connected to at least one of the ground node and the control electrode of the transistor and is turned on according to the output of the overcurrent detection unit. The constant voltage circuit applies a third voltage to the control electrode by being electrically connected between the ground node and the control electrode of the transistor via the first switch. The second step-down circuit includes a resistance element for allowing a current to flow from a connection point between the charge pump and the control electrode toward the ground node, and a second switch. The second switch includes a second switch that is turned on by the output of the overcurrent detection unit and forms a current path from the connection point to the ground node via the resistance element.

好ましくは、定電圧回路は、少なくとも1つのダイオードを含む。少なくとも1つのダイオードは、トランジスタの制御電極から接地ノードに向かう向きに順方向電流を流すように配置される。   Preferably, the constant voltage circuit includes at least one diode. The at least one diode is arranged to pass a forward current in a direction from the control electrode of the transistor toward the ground node.

好ましくは、定電圧回路は、少なくとも1つのダイオード接続されたトランジスタを含む。少なくとも1つのダイオード接続されたトランジスタは、トランジスタの制御電極から接地ノードに向かう向きに順方向電流を流すように配置される。   Preferably, the constant voltage circuit includes at least one diode-connected transistor. The at least one diode-connected transistor is arranged to pass a forward current in a direction from the control electrode of the transistor toward the ground node.

本発明の他の局面に係るインターフェイス回路は、電源から負荷に電流を供給するためのインターフェイス回路である。インターフェイス回路は、回路基板と、回路基板に実装されるハイサイドスイッチ回路とを備える。ハイサイドスイッチ回路は、電源から供給される電流を受けるための入力端子と、負荷に電流を供給するための出力端子と、入力端子と出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、電流制限回路とを含む。電流制限回路は、過電流検出部によって過電流が検出された場合に、トランジスタの制御電圧を、トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、トランジスタに流れる電流を制限する。電流制限回路は、トランジスタの制御電極に並列に接続されて、制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含む。第1の降圧回路は、制御電圧を、第1の電圧から、第1の電圧と第2の電圧との間の第3の電圧まで、第1の時間変化率で低下させる。第2の降圧回路は、制御電圧が第3の電圧に達した後に、制御電圧を第3の電圧から第2の電圧まで第2の時間変化率で低下させる。第1の時間変化率は、第2の時間変化率よりも大きい。   An interface circuit according to another aspect of the present invention is an interface circuit for supplying a current from a power supply to a load. The interface circuit includes a circuit board and a high side switch circuit mounted on the circuit board. The high side switch circuit includes an input terminal for receiving a current supplied from a power supply, an output terminal for supplying a current to a load, a transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal, An overcurrent detection unit that detects that an overcurrent has flowed through the transistor, and a current limiting circuit are included. When an overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the current limiting circuit changes the control voltage of the transistor from the first voltage for completely turning on the transistor to turning the transistor incompletely on. The current flowing through the transistor is limited by reducing the voltage to the second voltage. The current limiting circuit includes first and second step-down circuits that are connected in parallel to the control electrode of the transistor and reduce the control voltage. The first step-down circuit lowers the control voltage from the first voltage to a third voltage between the first voltage and the second voltage at a first time change rate. The second step-down circuit decreases the control voltage from the third voltage to the second voltage at the second time change rate after the control voltage reaches the third voltage. The first time change rate is larger than the second time change rate.

本発明のさらに他の局面に係る電子機器は、負荷に電流を供給するための電源と、電源と負荷とを接続するためのインターフェイス回路とを備える。インターフェイス回路は、回路基板と、回路基板に実装されるハイサイドスイッチ回路とを含む。ハイサイドスイッチ回路は、電源から供給される電流を受けるための入力端子と、負荷に電流を供給するための出力端子と、入力端子と出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、電流制限回路とを含む。電流制限回路は、過電流検出部によって過電流が検出された場合に、トランジスタの制御電圧を、トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、トランジスタに流れる電流を制限する。電流制限回路は、トランジスタの制御電極に並列に接続されて、制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含む。第1の降圧回路は、制御電圧を、第1の電圧から、第1の電圧と第2の電圧との間の第3の電圧まで、第1の時間変化率で低下させる。第2の降圧回路は、制御電圧が第3の電圧に達した後に、制御電圧を第3の電圧から第2の電圧まで第2の時間変化率で低下させる。第1の時間変化率は、第2の時間変化率よりも大きい。   An electronic device according to still another aspect of the present invention includes a power source for supplying a current to a load, and an interface circuit for connecting the power source and the load. The interface circuit includes a circuit board and a high side switch circuit mounted on the circuit board. The high side switch circuit includes an input terminal for receiving a current supplied from a power supply, an output terminal for supplying a current to a load, a transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal, An overcurrent detection unit that detects that an overcurrent has flowed through the transistor, and a current limiting circuit are included. When an overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the current limiting circuit changes the control voltage of the transistor from the first voltage for completely turning on the transistor to turning the transistor incompletely on. The current flowing through the transistor is limited by reducing the voltage to the second voltage. The current limiting circuit includes first and second step-down circuits that are connected in parallel to the control electrode of the transistor and reduce the control voltage. The first step-down circuit lowers the control voltage from the first voltage to a third voltage between the first voltage and the second voltage at a first time change rate. The second step-down circuit decreases the control voltage from the third voltage to the second voltage at the second time change rate after the control voltage reaches the third voltage. The first time change rate is larger than the second time change rate.

本発明によれば、ハイサイドスイッチの過電流が検出された場合に、ハイサイドスイッチだけでなくハイサイドスイッチに接続される回路を保護することができる。   According to the present invention, when an overcurrent of the high side switch is detected, not only the high side switch but also a circuit connected to the high side switch can be protected.

本発明の実施の形態に係るハイサイドスイッチ回路を備える電子機器の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of an electronic device provided with the high side switch circuit which concerns on embodiment of this invention. 図1に示したハイサイドスイッチ回路10が形成された半導体チップの平面レイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the planar layout of the semiconductor chip in which the high side switch circuit 10 shown in FIG. 1 was formed. 図2に示したパワーMOSトランジスタ領域15Aに配置されるドレイン電極およびソース電極を概略的に示した平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a drain electrode and a source electrode arranged in a power MOS transistor region 15A shown in FIG. 本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の第1の比較例を示した平面図である。It is the top view which showed the 1st comparative example of the drain electrode and source electrode which concern on this Embodiment. 図4に示したドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the drain electrode and the source electrode shown in FIG. 4. 本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の第1の比較例を示した平面図である。It is the top view which showed the 1st comparative example of the drain electrode and source electrode which concern on this Embodiment. 図6に示したドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the drain electrode and the source electrode shown in FIG. 6. 本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a drain electrode and a source electrode according to the present embodiment. MOSトランジスタ15を構成するトランジスタ素子の構造を説明するための半導体チップの模式断面図である。2 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor chip for explaining the structure of a transistor element constituting a MOS transistor 15. FIG. 図9に示された接地配線の平面レイアウトを示す模式図である。FIG. 10 is a schematic diagram showing a planar layout of the ground wiring shown in FIG. 9. 本実施の形態に係る過電流検出回路の構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the overcurrent detection circuit which concerns on this Embodiment. ゲート制御部16の構成を示した図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a gate control unit 16. 過電流検出時におけるハイサイドスイッチ回路の電流制限動作の流れを説明したフローチャートである。It is the flowchart explaining the flow of the electric current limiting operation | movement of the high side switch circuit at the time of overcurrent detection. 図12に示したゲート電圧降圧部31の構成を説明した図である。FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration of a gate voltage step-down unit 31 illustrated in FIG. 12. ゲート電圧降圧部31の具体的な構成例を示した図である。5 is a diagram illustrating a specific configuration example of a gate voltage step-down unit 31. FIG. ハイサイドスイッチに流れる電流を制限するための第1の方法を示した波形図である。It is the wave form diagram which showed the 1st method for restricting the electric current which flows into a high side switch. ハイサイドスイッチに流れる電流を制限するための第2の方法を示した波形図である。It is the wave form diagram which showed the 2nd method for restrict | limiting the electric current which flows into a high side switch. 本発明の実施の形態による電流を制限するための波形図である。It is a wave form diagram for restricting the current by an embodiment of the invention.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳しく説明する。なお、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して、その説明を繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

図1は、本発明の実施の形態に係るハイサイドスイッチ回路を備える電子機器の概略ブロック図である。   FIG. 1 is a schematic block diagram of an electronic device including a high-side switch circuit according to an embodiment of the present invention.

図1を参照して、電子機器100は、メイン電源1と、サブ電源2と、処理ブロック3と、インターフェイス回路4とを備える。メイン電源1は、サブ電源2および処理ブロック3に電源電圧を供給する。サブ電源2はメイン電源1から電源電圧を受けるとともに、その電圧から、インターフェイス回路4に供給される電源電圧(たとえばDC5V)を生成する。処理ブロック3は、電子機器100の本体部である。処理ブロック3はメイン電源1から供給される電源電圧によって、所定の処理を実行する。   Referring to FIG. 1, electronic device 100 includes a main power supply 1, a sub power supply 2, a processing block 3, and an interface circuit 4. The main power supply 1 supplies a power supply voltage to the sub power supply 2 and the processing block 3. The sub power supply 2 receives a power supply voltage from the main power supply 1, and generates a power supply voltage (for example, DC 5V) supplied to the interface circuit 4 from the voltage. The processing block 3 is a main body of the electronic device 100. The processing block 3 executes a predetermined process according to the power supply voltage supplied from the main power supply 1.

インターフェイス回路4は、負荷200に接続されるとともに、サブ電源2から出力された電源電圧を負荷200に供給する。インターフェイス回路4は、回路基板5と、制御回路6と、ハイサイドスイッチ回路10とを含む。制御回路6およびハイサイドスイッチ回路10は回路基板5に実装される。   The interface circuit 4 is connected to the load 200 and supplies the power supply voltage output from the sub power supply 2 to the load 200. The interface circuit 4 includes a circuit board 5, a control circuit 6, and a high side switch circuit 10. The control circuit 6 and the high side switch circuit 10 are mounted on the circuit board 5.

ハイサイドスイッチ回路10はサブ電源2と負荷200との間に接続される。制御回路6は、ハイサイドスイッチ回路10から出力される信号に基づいてハイサイドスイッチ回路10を制御する。これによりインターフェイス回路4の電源管理が実現される。   The high side switch circuit 10 is connected between the sub power supply 2 and the load 200. The control circuit 6 controls the high side switch circuit 10 based on a signal output from the high side switch circuit 10. Thereby, power management of the interface circuit 4 is realized.

インターフェイス回路4は、たとえばUSB(Universal Serial Bus)規格に準じたインターフェイス回路である。しかしながらインターフェイス回路4の規格は特に限定されるものではない。同じく、電子機器100は、たとえばPC(personal computer)、プリンタ、テレビ、オーディオ機器等であるが、これらに特に限定されるものではない。   The interface circuit 4 is an interface circuit conforming to, for example, the USB (Universal Serial Bus) standard. However, the standard of the interface circuit 4 is not particularly limited. Similarly, the electronic device 100 is, for example, a personal computer (PC), a printer, a television, an audio device, or the like, but is not particularly limited thereto.

この実施の形態では、ハイサイドスイッチ回路10は、半導体集積回路(IC)によって実現される。ハイサイドスイッチ回路10は、入力端子(IN)11と、出力端子(OUT)12と、過電流モニタ端子(OC)13と、イネーブル端子(EN)14と、MOSトランジスタ15と、ゲート制御部16と、過電流検出部20とを備える。   In this embodiment, the high side switch circuit 10 is realized by a semiconductor integrated circuit (IC). The high side switch circuit 10 includes an input terminal (IN) 11, an output terminal (OUT) 12, an overcurrent monitor terminal (OC) 13, an enable terminal (EN) 14, a MOS transistor 15, and a gate control unit 16. And an overcurrent detection unit 20.

入力端子11は、サブ電源2から出力される電流を受けるための端子である。出力端子12は、負荷200に電流を供給するための端子である。   The input terminal 11 is a terminal for receiving a current output from the sub power supply 2. The output terminal 12 is a terminal for supplying current to the load 200.

MOSトランジスタ15は、入力端子11と出力端子12との間に接続されるハイサイドスイッチである。MOSトランジスタ15は、具体的にはNチャネルMOSFETである。MOSトランジスタ15のドレインは入力端子11に接続される。MOSトランジスタ15のソースは出力端子12に接続される。   The MOS transistor 15 is a high side switch connected between the input terminal 11 and the output terminal 12. The MOS transistor 15 is specifically an N-channel MOSFET. The drain of the MOS transistor 15 is connected to the input terminal 11. The source of the MOS transistor 15 is connected to the output terminal 12.

ゲート制御部16は、MOSトランジスタ15のゲート電圧を制御することによって、MOSトランジスタ15をオンおよびオフする。MOSトランジスタ15のオン時において、サブ電源2から出力される電流は、MOSトランジスタ15を経由して負荷200に供給される。   The gate control unit 16 turns on and off the MOS transistor 15 by controlling the gate voltage of the MOS transistor 15. When the MOS transistor 15 is on, the current output from the sub power supply 2 is supplied to the load 200 via the MOS transistor 15.

MOSトランジスタ15に流れる電流が過大となった場合に、過電流検出部20は、MOSトランジスタ15の過電流を検出する。過電流検出部20は、過電流検出部20の検出結果を示す信号をゲート制御部16に出力する。ゲート制御部16は、過電流検出部20の検出結果により、MOSトランジスタ15に流れる電流を制限し、あるいはMOSトランジスタ15をオフする。   When the current flowing through the MOS transistor 15 becomes excessive, the overcurrent detection unit 20 detects the overcurrent of the MOS transistor 15. The overcurrent detection unit 20 outputs a signal indicating the detection result of the overcurrent detection unit 20 to the gate control unit 16. The gate control unit 16 limits the current flowing through the MOS transistor 15 or turns off the MOS transistor 15 based on the detection result of the overcurrent detection unit 20.

過電流検出部20は、さらに、過電流検出部20の検出結果を示す信号を、過電流モニタ端子13を介して外部に出力する。制御回路6は、過電流モニタ端子13から出力された信号を受ける。この場合、制御回路6は、ハイサイドスイッチ回路10を停止するためのディスイネーブル信号を出力する。ディスイネーブル信号はイネーブル端子14を通じてゲート制御部16に入力される。ゲート制御部16はディスイネーブル信号に応答してMOSトランジスタ15をオフする。一方、制御回路6が過電流検出部20からの信号を受けていない場合には、制御回路6は、ハイサイドスイッチ回路10を動作可能な状態に設定するためのイネーブル信号を出力する。イネーブル信号はイネーブル端子14を通じてゲート制御部16に入力される。ゲート制御部16はイネーブル信号に応答してMOSトランジスタ15をオンする。   The overcurrent detection unit 20 further outputs a signal indicating the detection result of the overcurrent detection unit 20 to the outside via the overcurrent monitor terminal 13. The control circuit 6 receives the signal output from the overcurrent monitor terminal 13. In this case, the control circuit 6 outputs a disable signal for stopping the high side switch circuit 10. The disable signal is input to the gate controller 16 through the enable terminal 14. The gate control unit 16 turns off the MOS transistor 15 in response to the disable signal. On the other hand, when the control circuit 6 has not received a signal from the overcurrent detection unit 20, the control circuit 6 outputs an enable signal for setting the high-side switch circuit 10 to an operable state. The enable signal is input to the gate controller 16 through the enable terminal 14. The gate control unit 16 turns on the MOS transistor 15 in response to the enable signal.

ハイサイドスイッチ回路10は、さらに、温度保護回路(TSD)17と、低電圧保護回路(UVLO)18とを備える。温度保護回路17は、ハイサイドスイッチ回路10の温度が所定のしきい温度を超えた場合には、MOSトランジスタ15をオフするための信号をゲート制御部16に出力する。ゲート制御部16は、温度保護回路17からの信号に応答して、MOSトランジスタ15をオフさせる。低電圧保護回路18は、入力端子11の電圧を監視するとともに、その電圧が、所定のしきい電圧よりも低い場合には、MOSトランジスタ15をオフするための信号をゲート制御部16に出力する。ゲート制御部16は、低電圧保護回路18からの信号に応答して、MOSトランジスタ15をオフさせる。   The high side switch circuit 10 further includes a temperature protection circuit (TSD) 17 and a low voltage protection circuit (UVLO) 18. The temperature protection circuit 17 outputs a signal for turning off the MOS transistor 15 to the gate controller 16 when the temperature of the high-side switch circuit 10 exceeds a predetermined threshold temperature. The gate control unit 16 turns off the MOS transistor 15 in response to a signal from the temperature protection circuit 17. The low voltage protection circuit 18 monitors the voltage of the input terminal 11 and outputs a signal for turning off the MOS transistor 15 to the gate control unit 16 when the voltage is lower than a predetermined threshold voltage. . The gate control unit 16 turns off the MOS transistor 15 in response to a signal from the low voltage protection circuit 18.

図2は、図1に示したハイサイドスイッチ回路10が形成された半導体チップの平面レイアウトを示す模式図である。図2を参照して、半導体チップ10Aは、パワーMOSトランジスタ領域15Aと、回路領域17Aとを有する。パワーMOSトランジスタ領域15Aは、互いに並列接続された多数のトランジスタ素子を含む。パワーMOSトランジスタ領域15Aに形成された多数のトランジスタ素子が、全体として図1に示したMOSトランジスタ15を構成する。回路領域17Aは、図1に示したゲート制御部16および過電流検出部20が形成される領域である。   FIG. 2 is a schematic diagram showing a planar layout of the semiconductor chip on which the high-side switch circuit 10 shown in FIG. 1 is formed. Referring to FIG. 2, the semiconductor chip 10A has a power MOS transistor region 15A and a circuit region 17A. Power MOS transistor region 15A includes a large number of transistor elements connected in parallel to each other. A large number of transistor elements formed in the power MOS transistor region 15A constitute the MOS transistor 15 shown in FIG. The circuit region 17A is a region where the gate control unit 16 and the overcurrent detection unit 20 shown in FIG. 1 are formed.

半導体チップ10Aの横方向(X方向)の長さおよび半導体チップ10Aの縦方向(Y方向)の長さは、半導体チップ10Aが搭載されるパッケージの形状に依存する。この実施の形態では半導体チップ10Aの形状は長方形であり、半導体チップ10AのX方向の長さが半導体チップ10AのY方向の長さよりも長い。   The length of the semiconductor chip 10A in the horizontal direction (X direction) and the length of the semiconductor chip 10A in the vertical direction (Y direction) depend on the shape of the package on which the semiconductor chip 10A is mounted. In this embodiment, the shape of the semiconductor chip 10A is a rectangle, and the length of the semiconductor chip 10A in the X direction is longer than the length of the semiconductor chip 10A in the Y direction.

図3は、図2に示したパワーMOSトランジスタ領域15Aに配置されるドレイン電極およびソース電極を概略的に示した平面図である。図3を参照して、X方向およびY方向は図2に示されたX方向およびY方向にそれぞれ対応する。なお、以後説明する図に示されるX方向およびY方向も図2に示されたX方向およびY方向にそれぞれ対応するので、X方向およびY方向に関する説明は以後繰り返さない。   FIG. 3 is a plan view schematically showing a drain electrode and a source electrode arranged in power MOS transistor region 15A shown in FIG. Referring to FIG. 3, the X direction and the Y direction correspond to the X direction and the Y direction shown in FIG. 2, respectively. Note that the X direction and the Y direction shown in the drawings to be described below also correspond to the X direction and the Y direction shown in FIG. 2, respectively, and therefore the description regarding the X direction and the Y direction will not be repeated hereinafter.

図3に示されるように、ドレイン(D)電極15Dは、X方向に延在する第1のドレイン電極部15D1と、第1のドレイン電極部15D1から各々Y方向に引き出された複数の第2のドレイン電極部15D2とを有する。第1のドレイン電極部15D1には、ドレインパッドを各々形成する複数のドレインパッド領域DPが形成される。   As shown in FIG. 3, the drain (D) electrode 15D includes a first drain electrode portion 15D1 extending in the X direction and a plurality of second electrodes drawn in the Y direction from the first drain electrode portion 15D1. Drain electrode portion 15D2. A plurality of drain pad regions DP each forming a drain pad are formed in the first drain electrode portion 15D1.

第1のドレイン電極部15D1の長さはLd1であり、第1のドレイン電極部15D1の幅はWd1である。第2のドレイン電極部15D2の長さはLd2であり、第2のドレイン電極部15D2の幅はWd2である。なお、Ld1>Ld2であり、Wd1>Wd2である。   The length of the first drain electrode portion 15D1 is Ld1, and the width of the first drain electrode portion 15D1 is Wd1. The length of the second drain electrode portion 15D2 is Ld2, and the width of the second drain electrode portion 15D2 is Wd2. Note that Ld1> Ld2 and Wd1> Wd2.

同様に、ソース(S)電極15Sは、X方向に延在する第1のソース電極部15S1と、第1のソース電極部15S1から各々Y方向に引き出された複数の第2のソース電極部15S2とを有する。第1のソース電極部15S1には、ソースパッドを各々形成する複数のソースパッド領域SPが形成される。ドレインパッドおよびソースパッドには、図示しないワイヤが接続される。   Similarly, the source (S) electrode 15S includes a first source electrode portion 15S1 extending in the X direction and a plurality of second source electrode portions 15S2 each extending in the Y direction from the first source electrode portion 15S1. And have. A plurality of source pad regions SP each forming a source pad are formed in the first source electrode portion 15S1. Wires (not shown) are connected to the drain pad and the source pad.

第1のソース電極部15S1の長さはLs1であり、第1のソース電極部15S1の幅はWs1である。第2のソース電極部15S2の長さはLs2であり、第2のソース電極部15S2の幅はWs2である。なお、Ls1>Ls2であり、Ws1>Ws2である。   The length of the first source electrode portion 15S1 is Ls1, and the width of the first source electrode portion 15S1 is Ws1. The length of the second source electrode portion 15S2 is Ls2, and the width of the second source electrode portion 15S2 is Ws2. Note that Ls1> Ls2 and Ws1> Ws2.

図3に示されるように、第2のドレイン電極部15D2および第2のソース電極部15S2は、X方向に沿って交互に配置される。   As shown in FIG. 3, the second drain electrode portions 15D2 and the second source electrode portions 15S2 are alternately arranged along the X direction.

ハイサイドスイッチ回路10が形成された半導体装置が多層配線構造を有するのであれば、ドレイン電極15Dおよびソース電極15Sが形成される配線層と、ドレイン電極15Dおよびソース電極15Sをドレイン拡散領域およびソース拡散領域にそれぞれ接続するための配線層とが設けられてもよい。あるいは、ドレイン電極およびソース電極は、半導体基板に形成されたドレイン拡散領域およびソース拡散領域(いずれも図示せず)にそれぞれ直接的に接続されてもよい。   If the semiconductor device in which the high-side switch circuit 10 is formed has a multilayer wiring structure, the wiring layer in which the drain electrode 15D and the source electrode 15S are formed, and the drain electrode 15D and the source electrode 15S are connected to the drain diffusion region and the source diffusion. A wiring layer for connecting to each region may be provided. Alternatively, the drain electrode and the source electrode may be directly connected to a drain diffusion region and a source diffusion region (both not shown) formed in the semiconductor substrate, respectively.

MOSトランジスタ15がオンしたときの抵抗値は、MOSトランジスタ15のオン抵抗の値とドレイン電極15Dの抵抗値とソース電極15Sの抵抗値との合計であると見積もられる。ドレイン電極15Dおよびソース電極15Sの抵抗値が小さいほど、ハイサイドスイッチのオン時におけるハイサイドスイッチの抵抗値を小さくすることができる。したがってハイサイドスイッチの損失を低減できる。   The resistance value when the MOS transistor 15 is turned on is estimated to be the sum of the ON resistance value of the MOS transistor 15, the resistance value of the drain electrode 15D, and the resistance value of the source electrode 15S. The smaller the resistance values of the drain electrode 15D and the source electrode 15S, the smaller the resistance value of the high side switch when the high side switch is on. Therefore, the loss of the high side switch can be reduced.

ドレイン電極15Dの抵抗値は、第1のドレイン電極部15D1の抵抗値および第2のドレイン電極部15D2の抵抗値に依存する。この実施の形態では、第1のドレイン電極部15D1に複数のパッドが分散的に配置される。第2のドレイン電極部15D2は、パワーMOSトランジスタ領域に形成された複数のMOSトランジスタ素子(図3では1個のトランジスタ素子Trを示す)のドレイン電極を並列に接続する。この第2のドレイン電極部15D2は、パワーMOSトランジスタ領域の短手方向(Y方向)に沿って延在する。これによって、ドレイン電極15Dの抵抗値を低減できる。   The resistance value of the drain electrode 15D depends on the resistance value of the first drain electrode portion 15D1 and the resistance value of the second drain electrode portion 15D2. In this embodiment, a plurality of pads are distributed on the first drain electrode portion 15D1. The second drain electrode portion 15D2 connects in parallel the drain electrodes of a plurality of MOS transistor elements (one transistor element Tr is shown in FIG. 3) formed in the power MOS transistor region. The second drain electrode portion 15D2 extends along the short direction (Y direction) of the power MOS transistor region. Thereby, the resistance value of the drain electrode 15D can be reduced.

ソース電極15Sは、ドレイン電極15Dと同様の構成を有する。すなわち、第1のソース電極部15S1に複数のパッドが分散的に配置される。第2のソース電極部15S2は、パワーMOSトランジスタ領域に形成された複数のMOSトランジスタ素子のソース電極を並列に接続する。これによってソース電極15Sの抵抗値を低減できる。   The source electrode 15S has the same configuration as the drain electrode 15D. That is, a plurality of pads are distributed in the first source electrode portion 15S1. The second source electrode portion 15S2 connects the source electrodes of a plurality of MOS transistor elements formed in the power MOS transistor region in parallel. Thereby, the resistance value of the source electrode 15S can be reduced.

次に、上記ドレイン電極15Dおよびソース電極15Sの構成によって、各々の抵抗値を低減できる理由について比較例と本実施形態との対比により説明する。   Next, the reason why the respective resistance values can be reduced by the configuration of the drain electrode 15D and the source electrode 15S will be described by comparing the comparative example with the present embodiment.

図4は、本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の第1の比較例を示した平面図である。図5は、図4に示したドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。図4および図5を参照して、複数のドレインパッド領域DPは第1のドレイン電極部15D1に集中的に配置される。第1のドレイン電極部15D1および第2のドレイン電極部15D2は、ドレインパッド領域DPに接続された抵抗Rとして表わされる。第2のドレイン電極部15D2はX方向に延在するので、その長さが大きくなる。このため、第2のドレイン電極部15D2の抵抗値が大きくなる。したがって、ドレイン電極15Dの全体の抵抗値が大きくなる。同じ理由によって、ソース電極15Sの全体の抵抗値も大きくなる。   FIG. 4 is a plan view showing a first comparative example of the drain electrode and the source electrode according to the present embodiment. FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the drain electrode and the source electrode shown in FIG. Referring to FIGS. 4 and 5, the plurality of drain pad regions DP are concentrated on the first drain electrode portion 15D1. The first drain electrode portion 15D1 and the second drain electrode portion 15D2 are represented as a resistor R connected to the drain pad region DP. Since the second drain electrode portion 15D2 extends in the X direction, its length increases. For this reason, the resistance value of the second drain electrode portion 15D2 increases. Therefore, the overall resistance value of the drain electrode 15D increases. For the same reason, the overall resistance value of the source electrode 15S also increases.

図6は、本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の第1の比較例を示した平面図である。図7は、図6に示したドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。図6および図7を参照して、複数のドレインパッド領域DPは第1のドレイン電極部15D1に集中的に配置される。第2のドレイン電極部15D2はY方向に延在するので、第1の比較例に比べて第2のドレイン電極部15D2の抵抗値は小さくなる。しかしながら、第1のドレイン電極部15D1のうち、ドレインパッド領域DPからX方向に延在する部分の長さが大きいので第1のドレイン電極部15D1の抵抗値が大きくなる。したがって、ドレイン電極15Dの抵抗値は大きい。同じ理由によって、ソース電極15Sの全体の抵抗値も大きい。   FIG. 6 is a plan view showing a first comparative example of the drain electrode and the source electrode according to the present embodiment. FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the drain electrode and the source electrode shown in FIG. Referring to FIGS. 6 and 7, the plurality of drain pad regions DP are concentrated on the first drain electrode portion 15D1. Since the second drain electrode portion 15D2 extends in the Y direction, the resistance value of the second drain electrode portion 15D2 is smaller than that of the first comparative example. However, since the length of the portion extending in the X direction from the drain pad region DP in the first drain electrode portion 15D1 is large, the resistance value of the first drain electrode portion 15D1 is increased. Therefore, the resistance value of the drain electrode 15D is large. For the same reason, the entire resistance value of the source electrode 15S is also large.

図8は、本実施の形態に係るドレイン電極およびソース電極の等価回路図である。図3および図8を参照して、第1のドレイン電極部15D1において、複数のドレインパッド領域DPは分散的に配置される。このため、第1のドレイン電極部15D1がX方向に延在することで第1のドレイン電極部15D1が長くなっても、で第1のドレイン電極部15D1の抵抗値を低減することができる。一方、第2のドレイン電極部15D2はY方向に延在しているので、第2のドレイン電極部15D2は短い。したがって、第2のドレイン電極部15D2の抵抗値を小さくできる。   FIG. 8 is an equivalent circuit diagram of the drain electrode and the source electrode according to the present embodiment. 3 and 8, in first drain electrode portion 15D1, a plurality of drain pad regions DP are arranged in a distributed manner. For this reason, even if the first drain electrode portion 15D1 becomes longer because the first drain electrode portion 15D1 extends in the X direction, the resistance value of the first drain electrode portion 15D1 can be reduced. On the other hand, since the second drain electrode portion 15D2 extends in the Y direction, the second drain electrode portion 15D2 is short. Therefore, the resistance value of the second drain electrode portion 15D2 can be reduced.

このように本実施の形態によれば第1のドレイン電極部15D1および第2のドレイン電極部15D2の抵抗値を低減することでドレイン電極15Dの抵抗値を低減できる。同じ理由によって、ソース電極15Sの抵抗値も低減できる。したがって、MOSトランジスタ15のオン時における電力損失を低減することができる。   Thus, according to the present embodiment, the resistance value of the drain electrode 15D can be reduced by reducing the resistance values of the first drain electrode portion 15D1 and the second drain electrode portion 15D2. For the same reason, the resistance value of the source electrode 15S can also be reduced. Therefore, power loss when the MOS transistor 15 is on can be reduced.

図9は、MOSトランジスタ15を構成するトランジスタ素子の構造を説明するための半導体チップの模式断面図である。図9を参照して、半導体チップ10Aは、P型半導体基板151と、P型半導体基板151に形成されたN型エピタキシャル層152と、N型エピタキシャル層152に形成されたP型ウェル153とを有する。P型半導体基板151には、P型拡散領域154が形成される。N型エピタキシャル層152にはN型拡散領域155が形成される。N型エピタキシャル層152の島を形成するために、一般に、半導体チップの表面からP型半導体基板151に達する高濃度のP型の拡散領域(分離領域)が形成される。図9ではこの分離領域もP型半導体基板151の一部として示されている。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor chip for explaining the structure of the transistor elements constituting the MOS transistor 15. Referring to FIG. 9, semiconductor chip 10A includes a P-type semiconductor substrate 151, an N-type epitaxial layer 152 formed on P-type semiconductor substrate 151, and a P-type well 153 formed on N-type epitaxial layer 152. Have. A P-type diffusion region 154 is formed in the P-type semiconductor substrate 151. An N type diffusion region 155 is formed in the N type epitaxial layer 152. In order to form an island of the N-type epitaxial layer 152, a high-concentration P-type diffusion region (isolation region) reaching the P-type semiconductor substrate 151 from the surface of the semiconductor chip is generally formed. In FIG. 9, this separation region is also shown as a part of the P-type semiconductor substrate 151.

P型ウェル153の上にはゲート酸化膜(図示せず)を介してゲート電極159が形成される。P型ウェル153には、N型拡散領域157,158およびP型拡散領域156がさらに形成される。N型拡散領域157,158およびゲート電極159により、トランジスタ素子Trが構成される。N型拡散領域157は、入力端子(IN)に接続されることによりドレイン領域となる。N型拡散領域158は、出力端子(OUT)に接続されることによりソース領域となる。P型ウェル153はトランジスタ素子Trのボディ(バックゲート)として機能する。   A gate electrode 159 is formed on the P-type well 153 via a gate oxide film (not shown). In the P-type well 153, N-type diffusion regions 157 and 158 and a P-type diffusion region 156 are further formed. N-type diffusion regions 157 and 158 and gate electrode 159 constitute transistor element Tr. The N-type diffusion region 157 becomes a drain region by being connected to the input terminal (IN). The N-type diffusion region 158 becomes a source region by being connected to the output terminal (OUT). The P-type well 153 functions as a body (back gate) of the transistor element Tr.

P型拡散領域154,156は接地配線160に接続されることによって接地される。これによりP型半導体基板151およびP型ウェル153が接地される。一方、N型拡散領域155の電位がオープンとされることで、N型エピタキシャル層152の電位もオープンとなる。   The P-type diffusion regions 154 and 156 are grounded by being connected to the ground wiring 160. As a result, the P-type semiconductor substrate 151 and the P-type well 153 are grounded. On the other hand, when the potential of the N-type diffusion region 155 is opened, the potential of the N-type epitaxial layer 152 is also opened.

図9に示された構成の場合、一般的には、N型エピタキシャル層152の電位を最も高く設定し、かつ、P型半導体基板151の電位を最も低くする。これによりN型エピタキシャル層152がP型半導体基板151から電気的に分離される。また、P型ウェル153の電位は、N型エピタキシャル層152の電位よりも低い電位、たとえばP型半導体基板151の電位と共通の電位に設定される。   In the case of the configuration shown in FIG. 9, in general, the potential of the N-type epitaxial layer 152 is set to the highest level and the potential of the P-type semiconductor substrate 151 is set to the lowest level. As a result, the N-type epitaxial layer 152 is electrically separated from the P-type semiconductor substrate 151. The potential of the P-type well 153 is set to a potential lower than the potential of the N-type epitaxial layer 152, for example, a potential common to the potential of the P-type semiconductor substrate 151.

一方、N型拡散領域157、P型ウェル153およびN型拡散領域158によって寄生NPNトランジスタQ1が形成される。さらに、N型エピタキシャル層152、P型ウェル153およびN型拡散領域158によって寄生NPNトランジスタQ2が形成される。さらに、P型ウェル153、N型エピタキシャル層152およびN型拡散領域158によって、寄生PNPトランジスタQ3が形成される。   On the other hand, parasitic NPN transistor Q1 is formed by N-type diffusion region 157, P-type well 153, and N-type diffusion region 158. Further, parasitic NPN transistor Q2 is formed by N-type epitaxial layer 152, P-type well 153, and N-type diffusion region 158. Further, the P-type well 153, the N-type epitaxial layer 152, and the N-type diffusion region 158 form a parasitic PNP transistor Q3.

トランジスタ素子Trのオン時には、P型ウェル153の表面のチャネル領域を通じてドレイン領域(N型拡散領域157)からソース領域(N型拡散領域158)に電流が流れる。N型エピタキシャル層152が高電位に設定されている場合、P型ウェル153を流れる電流によって、寄生NPNトランジスタQ2がオンすることが起こりうる。   When the transistor element Tr is on, a current flows from the drain region (N-type diffusion region 157) to the source region (N-type diffusion region 158) through the channel region on the surface of the P-type well 153. When the N-type epitaxial layer 152 is set at a high potential, the parasitic NPN transistor Q2 may be turned on by a current flowing through the P-type well 153.

本実施の形態によれば、N型エピタキシャル層152の電位がオープンとされる。さらに、P型ウェル153が接地されることにより、P型ウェル153の電位とP型半導体基板151の電位とが等しくなる。これにより、寄生NPNトランジスタQ2が動作することを回避することができる。さらに、本実施の形態によれば、MOSトランジスタ15を細分化するようにP型拡散領域156が配置される。これによりP型ウェル153に流れる電流が分散されて、P型ウェル153の電位が浮遊する可能性を低減できるので、より確実に、寄生NPNトランジスタQ2が動作することを回避することができる。   According to the present embodiment, the potential of N type epitaxial layer 152 is open. Further, since the P-type well 153 is grounded, the potential of the P-type well 153 and the potential of the P-type semiconductor substrate 151 become equal. Thereby, it is possible to avoid the operation of the parasitic NPN transistor Q2. Furthermore, according to the present embodiment, P type diffusion region 156 is arranged so as to subdivide MOS transistor 15. As a result, the possibility that the current flowing in the P-type well 153 is dispersed and the potential of the P-type well 153 floats can be reduced, so that the operation of the parasitic NPN transistor Q2 can be avoided more reliably.

図10は、図9に示された接地配線の平面レイアウトを示す模式図である。図10を参照して、接地配線160はパッド161に接続される。接地配線160は、P型ウェル153上に格子状に配置される。これにより、図1に示すMOSトランジスタ15(図1参照)は、各々が複数のトランジスタ素子Trを含む複数のグループに分割される。複数のトランジスタ素子Tr(図10では1つのトランジスタ素子Trを示す)を含む各グループは、接地配線160によって取り囲まれる。   FIG. 10 is a schematic diagram showing a planar layout of the ground wiring shown in FIG. Referring to FIG. 10, ground wiring 160 is connected to pad 161. The ground wiring 160 is arranged on the P-type well 153 in a grid pattern. Thereby, the MOS transistors 15 (see FIG. 1) shown in FIG. 1 are divided into a plurality of groups each including a plurality of transistor elements Tr. Each group including a plurality of transistor elements Tr (one transistor element Tr is shown in FIG. 10) is surrounded by a ground wiring 160.

図11は、本実施の形態に係る過電流検出回路の構成を示した図である。図11を参照して、過電流検出部20は、検出抵抗21と、比較器22とを備える。検出抵抗21およびMOSトランジスタ25は、直列に接続される。検出抵抗21およびMOSトランジスタ25は、MOSトランジスタ15と並列に入力端子11と出力端子12との間に接続される。   FIG. 11 is a diagram showing the configuration of the overcurrent detection circuit according to the present embodiment. Referring to FIG. 11, the overcurrent detection unit 20 includes a detection resistor 21 and a comparator 22. The detection resistor 21 and the MOS transistor 25 are connected in series. The detection resistor 21 and the MOS transistor 25 are connected between the input terminal 11 and the output terminal 12 in parallel with the MOS transistor 15.

ハイサイドスイッチ回路の動作時において、ゲート制御部16はMOSトランジスタ15を完全オン状態(フルオン状態)にするためのゲート電圧をMOSトランジスタ15のゲートに印加するとともに、MOSトランジスタ25をオン状態にするためのゲート電圧をMOSトランジスタ25のゲートに印加する。このときに、MOSトランジスタ15には電流Iが流れるとともに、検出抵抗21には電流Iが流れる。これにより検出抵抗21の第1の端子N1と検出抵抗21の第2の端子N2との間には、検出抵抗21の抵抗値および電流Iの積によって決定される電圧V1が発生する。比較器22は、この電圧V1がしきい電圧より大きいかどうかを検出する。電圧V1がしきい電圧よりも高い場合、比較器22は、過電流の検出を示す検出信号を出力する。ゲート制御部16は、検出信号を受けて、過電流保護のためのMOSトランジスタ15の制御を行なう。具体的にはゲート制御部16は、MOSトランジスタ15のゲート電圧を低下させることにより、MOSトランジスタ15を不完全オン状態にする。不完全オン状態のMOSトランジスタ15のオン抵抗は、完全オン状態のMOSトランジスタ15のオン抵抗よりも高い。したがってMOSトランジスタ15に流れる電流が制限される。 During the operation of the high-side switch circuit, the gate control unit 16 applies a gate voltage for setting the MOS transistor 15 to the fully-on state (full-on state) to the gate of the MOS transistor 15 and turns the MOS transistor 25 on. A gate voltage is applied to the gate of the MOS transistor 25. In this time, the current flows I 0 is the MOS transistor 15, current flows I 1 in the detection resistor 21. Thus between the second terminal N2 of the first terminal N1 and the detection resistor 21 of the detecting resistor 21, the voltage V1 which is determined by the product of the resistance and the current I 1 of the detecting resistor 21 is generated. The comparator 22 detects whether this voltage V1 is larger than the threshold voltage. When the voltage V1 is higher than the threshold voltage, the comparator 22 outputs a detection signal indicating detection of overcurrent. The gate controller 16 receives the detection signal and controls the MOS transistor 15 for overcurrent protection. Specifically, the gate controller 16 lowers the gate voltage of the MOS transistor 15 to turn the MOS transistor 15 in an incompletely on state. The on-resistance of the incompletely-on MOS transistor 15 is higher than the on-resistance of the fully-on MOS transistor 15. Therefore, the current flowing through MOS transistor 15 is limited.

図12は、ゲート制御部16の構成を示した図である。図12を参照して、ゲート制御部16は、チャージポンプ30と、ゲート電圧降圧部31,32と、OR回路33とを備える。ゲート電圧降圧部31,32は、過電流検出部20によってMOSトランジスタ15の過電流が検出されたときにMOSトランジスタ15に流れる電流を制限する電流制限回路を構成する。   FIG. 12 is a diagram showing a configuration of the gate control unit 16. Referring to FIG. 12, gate control unit 16 includes a charge pump 30, gate voltage step-down units 31 and 32, and an OR circuit 33. The gate voltage step-down units 31 and 32 constitute a current limiting circuit that limits the current flowing through the MOS transistor 15 when the overcurrent detection unit 20 detects an overcurrent of the MOS transistor 15.

ゲート電圧降圧部31,32は、MOSトランジスタ15のゲート電極に並列に接続されて、ゲート電圧Vgを低下させる。ゲート電圧降圧部32は、抵抗素子35,37と、トランジスタ36とを備える。トランジスタ36は、具体的にはNチャネルMOSトランジスタであり、スイッチとして機能する。抵抗素子35は、MOSトランジスタ15のゲートと、チャージポンプ30との間に接続される。チャージポンプ30と抵抗素子35との接続点38にはトランジスタ36のドレイン(スイッチの一方端)が接続される。接続点38は、チャージポンプ30とMOSトランジスタ15のゲート電極との接続点に対応する。抵抗素子37はトランジスタ36のソース(スイッチの他方端)と接地ノードとの間に接続される。抵抗素子37は、チャージポンプ30とMOSトランジスタ15のゲート電極との接続点38から接地ノードに向けて電流を流すための抵抗素子である。   The gate voltage step-down units 31 and 32 are connected in parallel to the gate electrode of the MOS transistor 15 and reduce the gate voltage Vg. The gate voltage step-down unit 32 includes resistance elements 35 and 37 and a transistor 36. The transistor 36 is specifically an N-channel MOS transistor and functions as a switch. Resistance element 35 is connected between the gate of MOS transistor 15 and charge pump 30. A drain (one end of the switch) of the transistor 36 is connected to a connection point 38 between the charge pump 30 and the resistance element 35. The connection point 38 corresponds to a connection point between the charge pump 30 and the gate electrode of the MOS transistor 15. Resistance element 37 is connected between the source of transistor 36 (the other end of the switch) and the ground node. The resistance element 37 is a resistance element for causing a current to flow from the connection point 38 between the charge pump 30 and the gate electrode of the MOS transistor 15 toward the ground node.

過電流検出部20は、入力端子11から出力端子12に流れる電流の一部である電流Iを用いて、MOSトランジスタ15に過電流が流れたことを検出する。過電流検出部20は、この場合に、MOSトランジスタ15に流れる電流を制限するための電流制限信号を出力する。 The overcurrent detection unit 20 detects that an overcurrent has flowed through the MOS transistor 15 by using the current I 1 that is a part of the current flowing from the input terminal 11 to the output terminal 12. In this case, the overcurrent detection unit 20 outputs a current limiting signal for limiting the current flowing through the MOS transistor 15.

チャージポンプ30は、入力端子11に印加された電圧Vinを昇圧して、ゲート電圧VgをMOSトランジスタ15のゲートに印加する。これによりMOSトランジスタ15が完全オン状態となる。正常時には電流Iがしきい電流レベルIthに達していないので、過電流検出部20から電流制限信号が出力されていない(電流制限信号がLowレベルである)。このときゲート電圧降圧部31は動作していない。同じく、ゲート電圧降圧部32のトランジスタ36はオフしているのでゲート電圧降圧部32も動作していない。 The charge pump 30 boosts the voltage Vin applied to the input terminal 11 and applies the gate voltage Vg to the gate of the MOS transistor 15. As a result, the MOS transistor 15 is completely turned on. Since the current I 0 does not reach the threshold current level Ith at the normal time, the current limit signal is not output from the overcurrent detection unit 20 (the current limit signal is at the low level). At this time, the gate voltage step-down unit 31 is not operating. Similarly, since the transistor 36 of the gate voltage step-down unit 32 is off, the gate voltage step-down unit 32 is not operating.

一方、電流Iがしきい電流レベルIthに達した場合、過電流検出部20は電流Iに基づいて、MOSトランジスタ15に過電流が流れたことを検出する。このときには過電流検出部20から電流制限信号が出力される(電流制限信号がHighレベルとなる)。この場合、ゲート制御部16は、MOSトランジスタ15のゲート電圧を、第1の電圧から第2の電圧まで低下させる。第1の電圧は、MOSトランジスタ15を完全オン状態にするためのゲート電圧であり、ゲート電圧降圧部32が動作していない場合にチャージポンプ30から出力される電圧に等しい。第2の電圧は、MOSトランジスタ15を不完全オン状態にするためのゲート電圧であり、MOSトランジスタ15に流れる電流を制限するためのゲート電圧である。 On the other hand, when the current I 0 reaches the threshold current level Ith, the overcurrent detection unit 20 detects that an overcurrent has passed through the MOS transistor 15 based on the current I 1 . At this time, a current limit signal is output from the overcurrent detection unit 20 (the current limit signal becomes High level). In this case, the gate control unit 16 reduces the gate voltage of the MOS transistor 15 from the first voltage to the second voltage. The first voltage is a gate voltage for turning on the MOS transistor 15 completely, and is equal to a voltage output from the charge pump 30 when the gate voltage step-down unit 32 is not operating. The second voltage is a gate voltage for setting the MOS transistor 15 in an incompletely on state, and is a gate voltage for limiting the current flowing through the MOS transistor 15.

具体的には、まずゲート電圧降圧部31が、過電流検出部20からの電流制限信号(Highレベルの信号)に応じて、MOSトランジスタ15のゲート電圧を上記第1の電圧から、第1の電圧と第2の電圧との間の第3の電圧まで、第1の時間変化率で低下させる。これによりMOSトランジスタ15のオン抵抗がMOSトランジスタ15の完全オン時のオン抵抗より高くなる。ただしMOSトランジスタ15は完全にはオフせずに不完全オン状態にある。   Specifically, first, the gate voltage step-down unit 31 changes the gate voltage of the MOS transistor 15 from the first voltage to the first voltage in response to the current limit signal (High level signal) from the overcurrent detection unit 20. The voltage is decreased at a first time change rate to a third voltage between the voltage and the second voltage. Thereby, the on-resistance of the MOS transistor 15 becomes higher than the on-resistance when the MOS transistor 15 is completely on. However, the MOS transistor 15 is not completely turned off but is in an incompletely on state.

ゲート電圧降圧部32は、ゲート電圧が第3の電圧に達した後に、ゲート電圧を第3の電圧から第2の電圧まで第2の時間変化率で低下させる。ここで第1の時間変化率は、第2の時間変化率よりも大きい。具体的には、過電流検出部20からの電流制限信号(Highレベルの信号)に応じて、トランジスタ36(スイッチ)がオンする。このときのゲート電圧Vgは、チャージポンプ30から供給される電流と、トランジスタ36および抵抗素子37に流れる電流とのバランスで決定される。   The gate voltage step-down unit 32 reduces the gate voltage from the third voltage to the second voltage at the second time change rate after the gate voltage reaches the third voltage. Here, the first time change rate is larger than the second time change rate. Specifically, the transistor 36 (switch) is turned on in response to a current limit signal (High level signal) from the overcurrent detection unit 20. The gate voltage Vg at this time is determined by the balance between the current supplied from the charge pump 30 and the current flowing through the transistor 36 and the resistance element 37.

OR回路33は、イネーブル端子14に入力される信号、温度保護回路17からの信号、および低電圧保護回路18からの信号を受ける。これらの信号の少なくとも1つがHighレベルである場合に、OR回路33から、Highレベルの信号が出力される。OR回路33の出力信号に応じてチャージポンプ30は停止する。   The OR circuit 33 receives a signal input to the enable terminal 14, a signal from the temperature protection circuit 17, and a signal from the low voltage protection circuit 18. When at least one of these signals is at a high level, the OR circuit 33 outputs a high level signal. The charge pump 30 stops in response to the output signal of the OR circuit 33.

図13は、過電流検出時におけるハイサイドスイッチ回路の電流制限動作の流れを説明したフローチャートである。図13を参照して、過電流検出部20が、MOSトランジスタ15に流れる電流Iが過電流であることを検出する(ステップS1)。具体的には、過電流検出部20に流れる電流Iが所定のしきい電流レベルに達した場合に、過電流検出部20は電流Iが過電流であること(電流Iがしきい電流レベルIthに達したこと)を検出する。 FIG. 13 is a flowchart illustrating the flow of the current limiting operation of the high-side switch circuit when overcurrent is detected. Referring to FIG. 13, overcurrent detection unit 20 detects that current I 0 flowing through MOS transistor 15 is an overcurrent (step S1). Specifically, when the current I 1 flowing through the overcurrent detection unit 20 reaches a predetermined threshold current level, the overcurrent detection unit 20 determines that the current I 0 is an overcurrent (the current I 0 is a threshold value). The current level Ith is reached).

次に、過電流検出部20からゲート制御部16に電流制限信号が出力される(ステップS2)。続いて、ゲート電圧降圧部31は電流制限信号に応じて、ゲート電圧Vgを定電圧(上記の第3の電圧)に固定して、MOSトランジスタ15(ハイサイドスイッチ)のオン抵抗を高くする(ステップS3)。これにより電流Iの減少が開始される。ゲート電圧降圧部31がMOSトランジスタ15のゲート電圧を低下させた後にゲート電圧降圧部32がMOSトランジスタ15のゲート電圧をさらに低下させる。最終的なゲート電圧(第2の電圧)は、チャージポンプ30と抵抗素子37とによって決定される。ゲート電圧Vgが第2の電圧に維持されることによって、電流Iの値が固定される(ステップS4)。 Next, a current limit signal is output from the overcurrent detection unit 20 to the gate control unit 16 (step S2). Subsequently, the gate voltage step-down unit 31 fixes the gate voltage Vg to a constant voltage (the above third voltage) according to the current limit signal, and increases the on-resistance of the MOS transistor 15 (high side switch) ( Step S3). As a result, the current I 0 starts to decrease. After the gate voltage step-down unit 31 decreases the gate voltage of the MOS transistor 15, the gate voltage step-down unit 32 further decreases the gate voltage of the MOS transistor 15. The final gate voltage (second voltage) is determined by the charge pump 30 and the resistance element 37. By maintaining the gate voltage Vg at the second voltage, the value of the current I 0 is fixed (step S4).

一方、過電流検出部20は、過電流が検出された場合、過電流の検出された時点から所定時間が経過したかどうかを判定する(ステップS5)。所定時間が経過するまでステップS5の処理が繰り返される(ステップS5においてNO)。所定時間が経過した場合(ステップS5においてYES)、過電流検出部20は、過電流フラグを出力する(ステップS6)。このフラグは、過電流検出部20の検出結果を示す信号として、ハイサイドスイッチ回路の外部(たとえば図1に示す制御回路6)に出力される。   On the other hand, when the overcurrent is detected, the overcurrent detection unit 20 determines whether or not a predetermined time has elapsed since the overcurrent was detected (step S5). The process of step S5 is repeated until a predetermined time has elapsed (NO in step S5). When the predetermined time has elapsed (YES in step S5), overcurrent detection unit 20 outputs an overcurrent flag (step S6). This flag is output to the outside of the high-side switch circuit (for example, the control circuit 6 shown in FIG. 1) as a signal indicating the detection result of the overcurrent detection unit 20.

図14は、図12に示したゲート電圧降圧部31の構成を説明した図である。図14を参照して、ゲート電圧降圧部31は、定電圧回路41およびスイッチ42により構成される。スイッチ42は、接地ノードおよびMOSトランジスタ15のゲートの少なくとも一方に接続されて、過電流検出部20の出力に応じてオンする。定電圧回路41は、スイッチ42を介して接地ノードとMOSトランジスタ15のゲート電極との間に電気的に接続される。スイッチ42がオンすることによって、定電圧回路41は、MOSトランジスタ15のゲート電極に所定の電圧(上記第3の電圧)を印加する。   FIG. 14 is a diagram illustrating the configuration of the gate voltage step-down unit 31 shown in FIG. Referring to FIG. 14, gate voltage step-down unit 31 includes a constant voltage circuit 41 and a switch 42. The switch 42 is connected to at least one of the ground node and the gate of the MOS transistor 15 and is turned on according to the output of the overcurrent detection unit 20. The constant voltage circuit 41 is electrically connected between the ground node and the gate electrode of the MOS transistor 15 via the switch 42. When the switch 42 is turned on, the constant voltage circuit 41 applies a predetermined voltage (the third voltage) to the gate electrode of the MOS transistor 15.

第1の構成では、定電圧回路41の高電圧端子43がMOSトランジスタ15のゲートに接続されて、スイッチ42が定電圧回路41の低電圧端子44と接地ノードとの間に接続される。第2の構成では、スイッチ42が定電圧回路41の高電圧端子43とMOSトランジスタ15のゲートとの間に接続されて、定電圧回路41の低電圧端子44が接地ノードに接続される。   In the first configuration, the high voltage terminal 43 of the constant voltage circuit 41 is connected to the gate of the MOS transistor 15, and the switch 42 is connected between the low voltage terminal 44 of the constant voltage circuit 41 and the ground node. In the second configuration, the switch 42 is connected between the high voltage terminal 43 of the constant voltage circuit 41 and the gate of the MOS transistor 15, and the low voltage terminal 44 of the constant voltage circuit 41 is connected to the ground node.

なお、定電圧回路41の高電圧端子43とMOSトランジスタ15のゲートとの間に第1のスイッチが設けられるとともに、定電圧回路41の低電圧端子44と接地ノードとの間に第2のスイッチが設けられてもよい。   A first switch is provided between the high voltage terminal 43 of the constant voltage circuit 41 and the gate of the MOS transistor 15, and a second switch is provided between the low voltage terminal 44 of the constant voltage circuit 41 and the ground node. May be provided.

図15は、ゲート電圧降圧部31の具体的な構成例を示した図である。図15を参照して、第1の例では、ゲート電圧降圧部31は、定電圧回路としての電源41Aと、スイッチとしてのトランジスタ42Aとを備える。電源41Aの構成は特に限定されるものではない。電源41Aは、上記の第3の電圧を発生させる。   FIG. 15 is a diagram illustrating a specific configuration example of the gate voltage step-down unit 31. Referring to FIG. 15, in the first example, the gate voltage step-down unit 31 includes a power supply 41A as a constant voltage circuit and a transistor 42A as a switch. The configuration of the power supply 41A is not particularly limited. The power supply 41A generates the third voltage.

第2の例では、ゲート電圧降圧部31は、直列に接続されたダイオードD1,D2によって構成される定電圧回路41Bと、スイッチとしてのトランジスタ42Bとを備える。ダイオードD1,D2は、MOSトランジスタ15のゲートから接地ノードに向かう向きに順方向電流が流れるように、直列接続される。1つのダイオードの順方向電圧Vfは約0.7Vであるので、第2の構成によれば、定電圧回路41Bにより約1.4Vの電圧を得ることができる。なおダイオードの個数は特に限定されるものではなく、上記第3の電圧の設定によってダイオードの個数を適切に定めることができる。   In the second example, the gate voltage step-down unit 31 includes a constant voltage circuit 41B configured by diodes D1 and D2 connected in series, and a transistor 42B as a switch. Diodes D1 and D2 are connected in series so that forward current flows in the direction from the gate of MOS transistor 15 to the ground node. Since the forward voltage Vf of one diode is about 0.7 V, according to the second configuration, a voltage of about 1.4 V can be obtained by the constant voltage circuit 41B. The number of diodes is not particularly limited, and the number of diodes can be appropriately determined by setting the third voltage.

第3の例では、ゲート電圧降圧部31は、ダイオード接続されたNチャネルMOSトランジスタM1,M2によって構成される定電圧回路41Cと、スイッチとしてのトランジスタ42Cとを備える。NチャネルMOSトランジスタM1,M2の各々は、そのゲートとドレインとが接続される。これによりNチャネルMOSトランジスタM1,M2は、第2の例で示されたダイオードD1,D2とそれぞれ等価になる。したがって第3の構成によれば、定電圧回路41Cによって約1.4Vの電圧を得ることができる。第2の例と同じく、ダイオード接続されたMOSトランジスタの個数は特に限定されない。また、ダイオード接続されたトランジスタは、MOSトランジスタに限定されず、バイポーラトランジスタでもよい。   In the third example, the gate voltage step-down unit 31 includes a constant voltage circuit 41C configured by diode-connected N-channel MOS transistors M1 and M2, and a transistor 42C as a switch. Each of N channel MOS transistors M1, M2 has its gate and drain connected. As a result, the N-channel MOS transistors M1 and M2 are equivalent to the diodes D1 and D2 shown in the second example, respectively. Therefore, according to the third configuration, a voltage of about 1.4 V can be obtained by the constant voltage circuit 41C. As in the second example, the number of diode-connected MOS transistors is not particularly limited. The diode-connected transistor is not limited to a MOS transistor, and may be a bipolar transistor.

図14および図15に示される定電圧回路に代えて、マイコン等からのデジタル信号により所定のゲート電圧を出力するD/A変換器を用いることが考えられる。しかしD/A変換器の動作には一般にクロックが必要であるため、過電流が検出されたときから所定のゲート電圧を出力するまでの時間が長くなる可能性がある。さらにD/A変換器を用いた場合には、ゲート電圧降圧部の構成が複雑となるとともに半導体チップの面積が大きくなることも考えられる。これに対して、図13に示した構成、特に第2および第3の構成例によれば、ダイオード素子あるいはMOSトランジスタ素子のそのものの特性を利用してMOSトランジスタ15のゲート電圧を低下させる。したがってD/A変換器によってMOSトランジスタ15のゲート電圧を低下させる場合に比較して、より短時間でMOSトランジスタ15のゲート電圧を低下させることができる。さらにゲート電圧降圧部31の構成を簡素化することもできるので、半導体チップの面積が増大することを抑制できる。   Instead of the constant voltage circuit shown in FIGS. 14 and 15, it is conceivable to use a D / A converter that outputs a predetermined gate voltage by a digital signal from a microcomputer or the like. However, since a clock is generally required for the operation of the D / A converter, there is a possibility that the time from when an overcurrent is detected until a predetermined gate voltage is output may become longer. Further, when a D / A converter is used, it is conceivable that the configuration of the gate voltage step-down unit becomes complicated and the area of the semiconductor chip increases. On the other hand, according to the configuration shown in FIG. 13, particularly the second and third configuration examples, the gate voltage of the MOS transistor 15 is lowered using the characteristics of the diode element or the MOS transistor element itself. Therefore, the gate voltage of the MOS transistor 15 can be reduced in a shorter time than when the gate voltage of the MOS transistor 15 is reduced by the D / A converter. Furthermore, since the configuration of the gate voltage step-down unit 31 can be simplified, an increase in the area of the semiconductor chip can be suppressed.

続いて、本発明の実施の形態による電流制限について、さらに詳細に説明する。
図16は、ハイサイドスイッチに流れる電流を制限するための第1の方法を示した波形図である。図16を参照して、時刻t1において、ハイサイドスイッチ(MOSトランジスタ15)に流れる電流Iが急激に上昇する。時刻t2において、電流Iがしきい電流レベルIthに達する。このときに過電流検出部20が過電流を検出して、ゲート制御部16は、電流Iを制限するために、MOSトランジスタ15のゲート電圧Vgを電圧Vh(第1の電圧)から0(V)近くまで一旦低下させる。しかしながら電流Iはすぐには低下せず、しきい電流Ithを越えた後からΔt1の期間は上昇を続ける。時刻t3において電流Iの低下が開始され、電流Iは0(A)近くまで一旦低下する。ゲート電圧Vgは、電圧Vh(第1の電圧)から0(V)近くまで低下した後に、電圧Vl(第2の電圧)に設定される。電流Iは、0(A)近くまで一旦低下した後に制限電流Ilimitに達する。時刻t4以後、電流Iは制限電流Ilimitに保たれる。Δt2は、電流Iの減少が開始されてから電流Iが制限電流Ilimitに達するまでの期間である。
Subsequently, the current limitation according to the embodiment of the present invention will be described in more detail.
FIG. 16 is a waveform diagram showing a first method for limiting the current flowing through the high-side switch. Referring to FIG. 16, at time t1, current I 0 flowing through the high side switch (MOS transistor 15) rises rapidly. At time t2, the current I 0 reaches the threshold current level Ith. In this case the overcurrent detection unit 20 detects the overcurrent, the gate control unit 16, in order to limit the current I 0, 0 to the gate voltage Vg of the MOS transistor 15 from the voltage Vh (first voltage) ( V) Decrease to near. However, the current I 0 does not decrease immediately and continues to increase during the period Δt1 after the threshold current Ith is exceeded. At time t3, the current I 0 starts to decrease, and the current I 0 once decreases to near 0 (A). The gate voltage Vg is set to the voltage Vl (second voltage) after dropping from the voltage Vh (first voltage) to near 0 (V). The current I 0 once decreases to near 0 (A) and then reaches the limit current Ilimit. Time t4 after, the current I 0 is kept to limit current Ilimit. Δt2 is a period from when the decrease of the current I 0 is started until the current I 0 reaches the limit current Ilimit.

ゲート電圧VgがVhから0(V)に低下するまでの期間を短くするほど電流Iの減少を早く始めることができる。しかし、電流Iの減少が開始されてから電流Iが0(A)付近に達するまでの時間も短くなる。すなわち電流Iが急激に減少する。 As the period until the gate voltage Vg decreases from Vh to 0 (V) is shortened, the decrease in the current I 0 can be started earlier. However, the time from when the current I 0 starts decreasing until the current I 0 reaches around 0 (A) is also shortened. That current I 0 decreases rapidly.

図1に示されるように、MOSトランジスタ15とサブ電源2とは入力端子11を介して接続される。電流Iが急激に減少すると、MOSトランジスタ15とサブ電源2とを接続する配線のインダクタンス成分によって、サブ電源2の電源電圧が瞬間的に上昇する。これによりサブ電源2の電源電圧にオーバーシュートが発生する。 As shown in FIG. 1, the MOS transistor 15 and the sub power supply 2 are connected via an input terminal 11. When the current I 0 rapidly decreases, the power source voltage of the sub power source 2 rises instantaneously due to the inductance component of the wiring connecting the MOS transistor 15 and the sub power source 2. As a result, an overshoot occurs in the power supply voltage of the sub power supply 2.

図17は、ハイサイドスイッチに流れる電流を制限するための第2の方法を示した波形図である。図17を参照して、時刻t1〜t4は、図16に示した時刻t1〜t4にそれぞれ対応する。第2の方法では、時刻t2以後に、MOSトランジスタ15のゲート電圧Vgを、第1の方法よりも緩やかに低下させる。   FIG. 17 is a waveform diagram showing a second method for limiting the current flowing through the high-side switch. Referring to FIG. 17, times t1 to t4 correspond to times t1 to t4 shown in FIG. In the second method, after time t2, the gate voltage Vg of the MOS transistor 15 is lowered more slowly than in the first method.

第2の方法によれば、第1の方法に比べて、期間Δt1,Δt2がともに長くなる。期間Δt2を長くすることによって、電流Iが緩やかに減少する。これにより第1の方法の場合に起こりうる、電源電圧のオーバーシュートを抑制できる。しかし、第2の方法によれば、期間Δt1も長くなる。期間Δt1の間は、電流Iが増加する。したがって、電流Iの減少が開始されるまでに多くの電流が流れる。さらにピーク電流Ipeakも、第1の方法の場合のピーク電流より大きくなる。このため、サブ電源2の電源電圧が大きく低下する可能性がある。また、大電流がMOSトランジスタ15および負荷を流れるため、MOSトランジスタ15および負荷が損傷することも起こりうる。 According to the second method, both the periods Δt1 and Δt2 become longer than in the first method. By making the period Δt2 longer, the current I 0 gradually decreases. Thereby, the overshoot of the power supply voltage that can occur in the case of the first method can be suppressed. However, according to the second method, the period Δt1 also increases. During the period Δt1, the current I 0 increases. Accordingly, many current flows until reduction of the current I 0 is started. Further, the peak current Ipeak is also larger than the peak current in the case of the first method. For this reason, the power supply voltage of the sub power supply 2 may be greatly reduced. Further, since a large current flows through the MOS transistor 15 and the load, the MOS transistor 15 and the load may be damaged.

第1の方法のような、過電流が検出されたときに電流Iを0(A)付近まで急激に低下させる方法では、電源電圧のオーバーシュートの問題が生じ得る。一方、第2の方法によれば、期間Δt1,Δt2を一律に長くすることで電源電圧のオーバーシュートを防ぐことができたとしても、電源電圧の大幅な低下という問題が生じ得る。本発明の実施の形態では、これらの問題を解決することができる。 As in the first method, the method of reducing drastically the current I 0 when the overcurrent is detected to near 0 (A), the overshoot problem in the power supply voltage can occur. On the other hand, according to the second method, even if it is possible to prevent the overshoot of the power supply voltage by uniformly extending the periods Δt1 and Δt2, a problem that the power supply voltage is greatly reduced may occur. In the embodiment of the present invention, these problems can be solved.

図18は、本発明の実施の形態による電流を制限するための波形図である。図18を参照して、時刻t1〜t4は、図16および図17に示される時刻t1〜t4にそれぞれ対応する。本発明の実施の形態では、電流Iがしきい電流Ithに達した場合(時刻t2)、ゲート電圧降圧部31がゲート電圧Vgを電圧Vhから電圧Vm(第3の電圧)に一旦低下させ、その後、ゲート電圧降圧部32がゲート電圧Vgを電圧Vmから電圧Vlに低下させる。電圧Vmは、電圧Vhと電圧Vlとの間の電圧である。ゲート電圧Vgが電圧Vhから電圧Vmまで変化するときのゲート電圧Vgの時間変化率は、ゲート電圧Vgが電圧Vmから電圧Vlまで変化するときのゲート電圧Vgの時間変化率より大きい。すなわち、ゲート電圧Vgは電圧Vhから電圧Vmまで急速に低下し、その後、ゲート電圧Vgは電圧Vmから電圧Vlまでゆっくりと低下する。 FIG. 18 is a waveform diagram for limiting the current according to the embodiment of the present invention. Referring to FIG. 18, times t1 to t4 correspond to times t1 to t4 shown in FIGS. 16 and 17, respectively. In the embodiment of the present invention, when the current I 0 reaches the threshold current Ith (time t2), the gate voltage step-down unit 31 temporarily reduces the gate voltage Vg from the voltage Vh to the voltage Vm (third voltage). Thereafter, the gate voltage step-down unit 32 reduces the gate voltage Vg from the voltage Vm to the voltage Vl. The voltage Vm is a voltage between the voltage Vh and the voltage Vl. The time change rate of the gate voltage Vg when the gate voltage Vg changes from the voltage Vh to the voltage Vm is larger than the time change rate of the gate voltage Vg when the gate voltage Vg changes from the voltage Vm to the voltage Vl. That is, the gate voltage Vg rapidly decreases from the voltage Vh to the voltage Vm, and then the gate voltage Vg slowly decreases from the voltage Vm to the voltage Vl.

図15に示した第2および第3の構成例によれば、スイッチ(トランジスタ42B,42C)をオンすることにより、ダイオード(あるいはダイオード接続されたNチャネルMOSトランジスタ)に電流が流れる。これにより、ゲート電圧Vgを電圧Vhから電圧Vmまで急速に低下させることができる。したがって期間Δt1を短くすることができる。期間Δt1を短くすることで、第1および第2の方法に比べて電流Iの減少を早く始めることができる。これにより、ピーク電流Ipeakを下げることができるとともに、大電流が流れる期間も短くなる。したがって電源電圧の低下量を小さくすることができる。 According to the second and third configuration examples shown in FIG. 15, when a switch (transistors 42B and 42C) is turned on, a current flows through a diode (or a diode-connected N channel MOS transistor). Thereby, the gate voltage Vg can be rapidly lowered from the voltage Vh to the voltage Vm. Therefore, the period Δt1 can be shortened. By shortening the period Δt1, it is possible to start the decrease of the current I 0 earlier than in the first and second methods. Thereby, the peak current Ipeak can be lowered and the period during which a large current flows is also shortened. Therefore, the amount of decrease in power supply voltage can be reduced.

一方、ゲート電圧Vgが電圧Vmまで低下すると、ゲート電圧降圧部32が、ゲート電圧Vgを低下させる。この場合、ゲート電圧Vgは、チャージポンプ30から出力される電流と、抵抗素子37に流れる電流(抵抗素子37が引き抜く電流)とのバランスによって決定される。ゲート電圧降圧部32により、ゲート電圧Vgが電圧VmからVlまで緩やかに低下するので、電流Iも緩やかに低下して制限電流Ilimitに到達する。電流Iが緩やかに減少するので、電源電圧がオーバーシュートした場合であっても電源電圧の上昇分を小さくすることができる。 On the other hand, when the gate voltage Vg decreases to the voltage Vm, the gate voltage step-down unit 32 decreases the gate voltage Vg. In this case, the gate voltage Vg is determined by the balance between the current output from the charge pump 30 and the current flowing through the resistance element 37 (current drawn by the resistance element 37). The gate voltage step-down unit 32, the gate voltage Vg decreases gradually from a voltage Vm to Vl, the current I 0 is also reached gradually decreased to limit current Ilimit. Since the current I 0 is reduced gradually, it is possible to supply voltage to reduce the rise of even the power supply voltage in a case where the overshoot.

このように本発明の実施の形態によれば、過電流検出および電流制限の際における電源電圧の変化を抑制することができる。したがって、サブ電源2に接続された電源ラインに配置される回路(MOSトランジスタ15、負荷200および他のICなど)の損傷を防止できる。   Thus, according to the embodiment of the present invention, it is possible to suppress a change in power supply voltage during overcurrent detection and current limitation. Therefore, it is possible to prevent damage to circuits (MOS transistor 15, load 200, and other ICs) arranged on the power supply line connected to sub power supply 2.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものでないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time must be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

1 メイン電源、2 サブ電源、3 処理ブロック、4 インターフェイス回路、5 回路基板、6 制御回路、10 ハイサイドスイッチ回路、10A 半導体チップ、11 入力端子、12 出力端子、13 過電流モニタ端子、14 イネーブル端子、15,25,36,42A〜42C トランジスタ、15A パワーMOSトランジスタ領域、15D ドレイン電極、15D1 第1のドレイン電極部、15D2 第2のドレイン電極部、15S ソース電極、15S1 第1のソース電極部、15S2 第2のソース電極部、16 ゲート制御部、17 温度保護回路、17A 回路領域、18 低電圧保護回路、20 過電流検出部、21 検出抵抗、22 比較器、30 チャージポンプ、31,32 ゲート電圧降圧部、33 OR回路、35,37 抵抗素子、38 接続点、41,41B,41C 定電圧回路、41A 電源、42 スイッチ、43 高電圧端子、44 低電圧端子、100 電子機器、151 P型半導体基板、152 N型エピタキシャル層、153 P型ウェル、154,156 P型拡散領域、155,157,158 N型拡散領域、159 ゲート電極、160 接地配線、161 パッド、200 負荷、D1,D2 ダイオード、DP ドレインパッド領域、M1,M2 NチャネルMOSトランジスタ、N1 第1の端子、N2 第2の端子、SP ソースパッド領域、Tr トランジスタ素子。   1 main power supply, 2 sub power supply, 3 processing block, 4 interface circuit, 5 circuit board, 6 control circuit, 10 high-side switch circuit, 10A semiconductor chip, 11 input terminal, 12 output terminal, 13 overcurrent monitor terminal, 14 enable Terminal, 15, 25, 36, 42A to 42C transistor, 15A power MOS transistor region, 15D drain electrode, 15D1 first drain electrode portion, 15D2 second drain electrode portion, 15S source electrode, 15S1 first source electrode portion , 15S2 Second source electrode section, 16 gate control section, 17 temperature protection circuit, 17A circuit area, 18 low voltage protection circuit, 20 overcurrent detection section, 21 detection resistance, 22 comparator, 30 charge pump, 31, 32 Gate voltage step-down unit, 33 OR circuit, 35 37 resistance element, 38 connection point, 41, 41B, 41C constant voltage circuit, 41A power supply, 42 switch, 43 high voltage terminal, 44 low voltage terminal, 100 electronic device, 151 P-type semiconductor substrate, 152 N-type epitaxial layer, 153 P type well, 154, 156 P type diffusion region, 155, 157, 158 N type diffusion region, 159 gate electrode, 160 ground wiring, 161 pad, 200 load, D1, D2 diode, DP drain pad region, M1, M2 N Channel MOS transistor, N1 first terminal, N2 second terminal, SP source pad region, Tr transistor element.

Claims (6)

ハイサイドスイッチ回路であって、
電源の高電圧側から供給される電流を受けるための入力端子と、
負荷に前記電流を供給するための出力端子と、
前記入力端子と前記出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、
前記トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、
前記過電流検出部によって前記過電流が検出された場合に、前記トランジスタの制御電圧を、前記トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、前記トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、前記トランジスタに流れる電流を制限する電流制限回路とを備え、
前記電流制限回路は、
前記トランジスタの制御電極に並列に接続されて、前記制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含み、
前記第1の降圧回路は、前記制御電圧を、第1の時間変化率で低下させ、
前記第2の降圧回路は、前記制御電圧を、前記第1の時間変化率よりも小さい第2の時間変化率で低下させ、
前記ハイサイドスイッチ回路は、
前記入力端子に印加される電圧を昇圧して、前記第1の電圧を前記トランジスタの制御電極に印加する昇圧回路をさらに備え、
前記第1の降圧回路は、
接地ノードおよび前記トランジスタの制御電極の少なくとも一方に接続されて、前記過電流検出部の出力に応じてオンする第1のスイッチと、
前記第1のスイッチを介して前記接地ノードと前記トランジスタの前記制御電極との間に電気的に接続されることにより、前記制御電極に前記第3の電圧を印加する定電圧回路とを含み、
前記第2の降圧回路は、
前記昇圧回路と前記制御電極との接続点から前記接地ノードに向けて電流を流すための抵抗素子と、
前記過電流検出部の出力によりオンして、前記接続点から前記抵抗素子を介して前記接地ノードに至るまでの電流経路を形成する第2のスイッチとを含む、ハイサイドスイッチ回路。
A high-side switch circuit,
An input terminal for receiving a current supplied from the high voltage side of the power supply;
An output terminal for supplying the current to a load;
A transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal;
An overcurrent detector that detects that an overcurrent has flowed through the transistor;
When the overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the control voltage of the transistor is changed from a first voltage for setting the transistor to a fully on state to turn the transistor into an incompletely on state. A current limiting circuit for reducing the current flowing through the transistor by lowering to a second voltage;
The current limiting circuit is:
Including first and second step-down circuits connected in parallel to the control electrode of the transistor to reduce the control voltage;
The first step-down circuit reduces the control voltage at a first time change rate,
The second step-down circuit reduces the control voltage at a second time change rate smaller than the first time change rate ,
The high side switch circuit is
Further comprising a booster circuit that boosts a voltage applied to the input terminal and applies the first voltage to a control electrode of the transistor;
The first step-down circuit includes:
A first switch connected to at least one of a ground node and a control electrode of the transistor and turned on in accordance with an output of the overcurrent detection unit;
A constant voltage circuit for applying the third voltage to the control electrode by being electrically connected between the ground node and the control electrode of the transistor via the first switch;
The second step-down circuit includes
A resistance element for flowing a current from a connection point between the booster circuit and the control electrode toward the ground node;
A high-side switch circuit including a second switch that is turned on by an output of the overcurrent detection unit and forms a current path from the connection point to the ground node via the resistance element .
前記定電圧回路は、
前記トランジスタの前記制御電極から前記接地ノードに向かう向きに順方向電流を流すように配置された、少なくとも1つのダイオードを含む、請求項に記載のハイサイドスイッチ回路。
The constant voltage circuit is:
The high-side switch circuit according to claim 1 , comprising at least one diode arranged to flow a forward current in a direction from the control electrode of the transistor toward the ground node.
前記定電圧回路は、
前記トランジスタの前記制御電極から前記接地ノードに向かう向きに順方向電流を流すように配置された、少なくとも1つのダイオード接続されたトランジスタを含む、請求項に記載のハイサイドスイッチ回路。
The constant voltage circuit is:
The high-side switch circuit according to claim 1 , comprising at least one diode-connected transistor arranged to pass a forward current in a direction from the control electrode of the transistor toward the ground node.
電源から負荷に電流を供給するためのインターフェイス回路であって、
回路基板と、
前記回路基板に実装されるハイサイドスイッチ回路とを備え、
前記ハイサイドスイッチ回路は、
電源の高電圧側から供給される電流を受けるための入力端子と、
負荷に前記電流を供給するための出力端子と、
前記入力端子と前記出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、
前記トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、
前記過電流検出部によって前記過電流が検出された場合に、前記トランジスタの制御電圧を、前記トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、前記トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、前記トランジスタに流れる電流を制限する電流制限回路とを備え
前記電流制限回路は、
前記トランジスタの制御電極に並列に接続されて、前記制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含み、
前記第1の降圧回路は、前記制御電圧を、第1の時間変化率で低下させ、
前記第2の降圧回路は、前記制御電圧を、前記第1の時間変化率よりも小さい第2の時間変化率で低下させ、
前記ハイサイドスイッチ回路は、
前記入力端子に印加される電圧を昇圧して、前記第1の電圧を前記トランジスタの制御電極に印加する昇圧回路をさらに備え、
前記第1の降圧回路は、
接地ノードおよび前記トランジスタの制御電極の少なくとも一方に接続されて、前記過電流検出部の出力に応じてオンする第1のスイッチと、
前記第1のスイッチを介して前記接地ノードと前記トランジスタの前記制御電極との間に電気的に接続されることにより、前記制御電極に前記第3の電圧を印加する定電圧回路とを含み、
前記第2の降圧回路は、
前記昇圧回路と前記制御電極との接続点から前記接地ノードに向けて電流を流すための抵抗素子と、
前記過電流検出部の出力によりオンして、前記接続点から前記抵抗素子を介して前記接地ノードに至るまでの電流経路を形成する第2のスイッチとを含む、インターフェイス回路。
An interface circuit for supplying current from a power source to a load,
A circuit board;
A high-side switch circuit mounted on the circuit board,
The high side switch circuit is
An input terminal for receiving a current supplied from the high voltage side of the power supply;
An output terminal for supplying the current to a load;
A transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal;
An overcurrent detector that detects that an overcurrent has flowed through the transistor;
When the overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the control voltage of the transistor is changed from a first voltage for setting the transistor to a fully on state to turn the transistor into an incompletely on state. is lowered to a second voltage, and a current limiting circuit for limiting a current flowing through the transistor,
The current limiting circuit is:
Including first and second step-down circuits connected in parallel to the control electrode of the transistor to reduce the control voltage;
The first step-down circuit reduces the control voltage at a first time change rate,
The second step-down circuit reduces the control voltage at a second time change rate smaller than the first time change rate ,
The high side switch circuit is
Further comprising a booster circuit that boosts a voltage applied to the input terminal and applies the first voltage to a control electrode of the transistor;
The first step-down circuit includes:
A first switch connected to at least one of a ground node and a control electrode of the transistor and turned on in accordance with an output of the overcurrent detection unit;
A constant voltage circuit for applying the third voltage to the control electrode by being electrically connected between the ground node and the control electrode of the transistor via the first switch;
The second step-down circuit includes
A resistance element for flowing a current from a connection point between the booster circuit and the control electrode toward the ground node;
An interface circuit including a second switch that is turned on by an output of the overcurrent detection unit and forms a current path from the connection point to the ground node via the resistance element .
負荷に電流を供給するための電源と、
前記電源と前記負荷とを接続するためのインターフェイス回路とを備え、
前記インターフェイス回路は、
回路基板と、
前記回路基板に実装されるハイサイドスイッチ回路とを含み、
前記ハイサイドスイッチ回路は、
電源の高電圧側から供給される電流を受けるための入力端子と、
負荷に前記電流を供給するための出力端子と、
前記入力端子と前記出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、
前記トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、
前記過電流検出部によって前記過電流が検出された場合に、前記トランジスタの制御電圧を、前記トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、前記トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、前記トランジスタに流れる電流を制限する電流制限回路とを含み、
前記電流制限回路は、
前記トランジスタの制御電極に並列に接続されて、前記制御電圧を低下させる第1および第2の降圧回路を含み、
前記第1の降圧回路は、前記制御電圧を、第1の時間変化率で低下させ、
前記第2の降圧回路は、前記制御電圧を、前記第1の時間変化率よりも小さい第2の時間変化率で低下させ、
前記ハイサイドスイッチ回路は、
前記入力端子に印加される電圧を昇圧して、前記第1の電圧を前記トランジスタの制御電極に印加する昇圧回路をさらに備え、
前記第1の降圧回路は、
接地ノードおよび前記トランジスタの制御電極の少なくとも一方に接続されて、前記過電流検出部の出力に応じてオンする第1のスイッチと、
前記第1のスイッチを介して前記接地ノードと前記トランジスタの前記制御電極との間に電気的に接続されることにより、前記制御電極に前記第3の電圧を印加する定電圧回路とを含み、
前記第2の降圧回路は、
前記昇圧回路と前記制御電極との接続点から前記接地ノードに向けて電流を流すための抵抗素子と、
前記過電流検出部の出力によりオンして、前記接続点から前記抵抗素子を介して前記接地ノードに至るまでの電流経路を形成する第2のスイッチとを含む、電子機器。
A power supply for supplying current to the load;
An interface circuit for connecting the power source and the load;
The interface circuit is
A circuit board;
A high-side switch circuit mounted on the circuit board,
The high side switch circuit is
An input terminal for receiving a current supplied from the high voltage side of the power supply;
An output terminal for supplying the current to a load;
A transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal;
An overcurrent detector that detects that an overcurrent has flowed through the transistor;
When the overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the control voltage of the transistor is changed from a first voltage for setting the transistor to a fully on state to turn the transistor into an incompletely on state. A current limiting circuit for reducing the current flowing through the transistor by lowering to a second voltage;
The current limiting circuit is:
Including first and second step-down circuits connected in parallel to the control electrode of the transistor to reduce the control voltage;
The first step-down circuit reduces the control voltage at a first time change rate,
The second step-down circuit reduces the control voltage at a second time change rate smaller than the first time change rate ,
The high side switch circuit is
Further comprising a booster circuit that boosts a voltage applied to the input terminal and applies the first voltage to a control electrode of the transistor;
The first step-down circuit includes:
A first switch connected to at least one of a ground node and a control electrode of the transistor and turned on in accordance with an output of the overcurrent detection unit;
A constant voltage circuit for applying the third voltage to the control electrode by being electrically connected between the ground node and the control electrode of the transistor via the first switch;
The second step-down circuit includes
A resistance element for flowing a current from a connection point between the booster circuit and the control electrode toward the ground node;
An electronic device comprising: a second switch that is turned on by an output of the overcurrent detection unit and forms a current path from the connection point to the ground node via the resistance element .
電源の高電圧側から供給される電流を受けるための入力端子と、An input terminal for receiving a current supplied from the high voltage side of the power supply;
負荷に前記電流を供給するための出力端子と、An output terminal for supplying the current to a load;
前記入力端子と前記出力端子との間に電気的に接続されるトランジスタと、A transistor electrically connected between the input terminal and the output terminal;
前記トランジスタに過電流が流れたことを検出する過電流検出部と、An overcurrent detector that detects that an overcurrent has flowed through the transistor;
前記過電流検出部によって前記過電流が検出された場合に、前記トランジスタの制御電圧を、前記トランジスタを完全オン状態にするための第1の電圧から、前記トランジスタを不完全オン状態にするための第2の電圧まで低下させて、前記トランジスタに流れる電流を制限する電流制限回路と、When the overcurrent is detected by the overcurrent detection unit, the control voltage of the transistor is changed from a first voltage for setting the transistor to a fully on state to turn the transistor into an incompletely on state. A current limiting circuit for reducing the current flowing through the transistor by lowering to a second voltage;
前記入力端子に印加される電圧を昇圧して、前記第1の電圧を前記トランジスタの制御電極に印加する昇圧回路とを備え、A voltage boosting circuit that boosts a voltage applied to the input terminal and applies the first voltage to a control electrode of the transistor;
前記電流制限回路は、The current limiting circuit is:
前記制御電圧を、前記第1の電圧から、前記第1の電圧と前記第2の電圧との間の第3の電圧まで、第1の時間変化率で低下させるとともに、前記制御電圧が前記第3の電圧に達した後に、前記昇圧回路から供給される電流により前記制御電圧を前記第3の電圧から前記第2の電圧まで前記第1の時間変化率よりも小さい第2の時間変化率で低下させる、ハイサイドスイッチ回路。The control voltage is reduced at a first time change rate from the first voltage to a third voltage between the first voltage and the second voltage, and the control voltage is reduced to the first voltage. After the voltage of 3 is reached, the control voltage is changed from the third voltage to the second voltage by a current supplied from the booster circuit at a second time change rate smaller than the first time change rate. High side switch circuit to lower.
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