JP5583002B2 - イオン交換膜法電解槽 - Google Patents
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- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 title claims description 108
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 35
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 16
- 238000007634 remodeling Methods 0.000 claims description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 21
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229920003935 Flemion® Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 241000226585 Antennaria plantaginifolia Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- PCLURTMBFDTLSK-UHFFFAOYSA-N nickel platinum Chemical compound [Ni].[Pt] PCLURTMBFDTLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOPCKOPZYFFEDA-UHFFFAOYSA-N nickel(2+);dinitrate;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O AOPCKOPZYFFEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007420 reactivation Effects 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
例えば、本出願人が開発した複極式電解槽、TMB型イオン交換膜法電解槽は5kA/m2という高電流密度で長期間安定的に運転可能であることが知られている(例えば、非特許文献1参照)。
上記TMB型イオン交換膜法電解槽をはじめ、ナローギャップ型イオン交換膜法電解槽、すなわち、イオン交換膜と陰極とが一定の間隔を置いて配置された構成を有するイオン交換膜法電解槽が広く用いられている。
図1において、陰極(1)とイオン交換膜(2)とは1〜3mm離れており、その距離はガスケット(4)の厚みで調整されている。このように、陰極(1)とイオン交換膜(2)とが一定の間隔を置いて配置された構成を有するイオン交換膜法電解槽は、一般的にナローギャップ型電解槽と呼ばれる。対照的に、イオン交換膜と陰極が互いに密接して配置された構成を有する電解槽はゼロギャップ型電解槽と呼ばれる。
そこで、陰極の更新費用が安価で、かつ、電気エネルギーのロスが可及的に小さいイオン交換膜法電解槽が望まれていた。
以下の記述では、食塩電解に用いるイオン交換膜法電解槽を例に説明するが、本発明のイオン交換膜法電解槽は、食塩電解以外、例えば、塩化カリウム水溶液電解やアルカリ水電解などにも好適に利用し得ることは無論である。
また、本発明のイオン交換膜法電解槽は、複極式イオン交換膜法電解槽と単極式イオン交換膜法電解槽の何れにも好適に使用可能である。
本発明のイオン交換膜法電解槽は、既存のナローギャップ型電解槽の改造品に相当するが、陽極室は特に改造する必要はなく、陰極室のみを改造してもよい。
まず、陰極(1)上にコイルクッション材(5)を設置する。以下の記述では、既存のナローギャップ型イオン交換膜法電解槽に設置されていた陰極(1)を旧陰極(1)として示す。次いで、コイルクッション材(5)上に新陰極(6)を設置する。このような簡便な改造を既存のナローギャップ型イオン交換膜法電解槽に施すだけで、陰極更新費用が極めて安価になり、かつ、電解槽運転時の消費電力が削減可能となるといった驚くべき効果が得られる。
本発明に用いる既存のナローギャップ型イオン交換膜法電解槽において、その旧陰極(1)の交換時期(陰極の電解運転時間)は特に限定されるものではないが、予め長期間の電解に供して水素発生触媒が劣化し、陰極更新が必要となった旧陰極(1)を取り替えると、陰極の水素発生触媒活性の復帰によりエネルギーロス低減が可能となり、経済的に好ましい。
劣化触媒の除去には、研磨などで物理的に除去する方法や鉱酸含有液に溶解させるなどして化学的に除去する方法などが用いられる。
金属枠(7)の材質としては、ニッケルやステンレスなどの耐食性が高いものが好ましく使用される。その枠の径は1乃至3mmが好ましく、より好ましくは1乃至2mmである。枠の径が1mm未満であると強度が不足するためハンドリングが困難となる。逆に、3mmを超えると材料費が悪化し、また、イオン交換膜(2)や新陰極(6)に枠が過剰に押し付けられ、イオン交換膜(2)や新陰極(6)が破損する場合がある。
金属製コイル体(8)には、ニッケルやステンレスなどの耐食性と電気導電性が高いものが好ましく使用される。また、銅などの導電性に優れたコイル体の表面をニッケル被覆して耐食性を高めたものも好適に用いることができる。
上記のコイルクッション材(5)を旧陰極(1)に設置する方法は、図2に示すように、コイルクッション材(5)が旧陰極(1)上に固定されればよく、特に制限はない。例えば、コイルクッション材(5)の金属枠の少なくとも一部を旧陰極(1)に溶接すればよい。
しかしながら、電極の一つの空孔の面積が小さすぎると電極から発生する気体の抜けが悪くなるため好ましくなく、逆に、大きすぎると電極自体の強度が低下して好ましくない。電極の一つの空孔の面積は1.0〜10mm2の範囲であることが好ましい。
また、電極の開口率は、余り小さいと電極から発生する気体の抜けが悪くなるため好ましくなく、大きすぎると電極自体の強度が低下するため好ましくない。電極の開口率は48〜60%が好ましい。
この接触により、コイルクッション材(5)から新陰極(6)を通してイオン交換膜(2)に所定の圧力をかけるためには、コイルクッション材(5)の弾性反発力を平均の面圧として7〜17kPaに調整すればよい。コイルクッション材(5)の弾性反発力はコイル厚みで調整可能である。即ち、使用するコイルクッション材(5)のコイル厚みと弾性反発力の関係を予め測定しておき、本発明のイオン交換膜法電解槽を組み立てた際に、所望の弾性反発力が得られるようにコイル厚みを調整すればよい。コイル厚みの調整方法は特に限定はないが、例えば、ガスケット(4)の厚みで調整すると簡便である。
イオン交換膜(2)は特に限定はなく、従来知られているものを適時用いればよい。例えば、スルホン酸基やカルボン酸基などの陽イオン交換基を有するフッ素樹脂フィルムからなるイオン交換膜が広く知られている。
(陰極交換前のナローギャップ型イオン交換膜法電解槽)
ナローギャップ型電解槽としてTMB型イオン交換膜法電解槽を用い食塩の電解を実施した。
TMB型イオン交換膜法電解槽にて、電流密度5kA/dm2で6年間の連続運転を2回実施し、トータル12年間の運転を実施した。電解槽の旧陰極上に、コイルクッション材及び新陰極を設置した。
具体的には、1.2mm径のニッケル棒を図3に示される構造に組み立てて金属枠(7)を作製した。金属枠(7)に、0.1mm径のニッケル線材をロールプレスして製作した金属製コイル(8)を糸巻状に図4に示されるように巻き付け、図5に示されるようなコイルクッション材を製作した。金属製コイル(8)の巻き付け数は60回/dm2とした。図7に示すようにコイルクッション材を旧陰極上に設置した。
新陰極(6)を次のように作製した。刻み巾:0.2mm、短径:1.0mm、長径:2.0mm、板厚:0.2mmのファインメッシュのニッケル製エキスパンドメタル(短径方向の長さ1400mm、長径方向の長さ390mm)を基板として使用し、この基板を10重量%の塩酸溶液を用いて温度50℃で15分間エッチングした後、水洗、乾燥した。
次いで、この塗布液を前記ファインメッシュ基板に刷毛を用いて全面に塗布し、熱風式乾燥機内で80℃、15分間乾燥後、箱型電気炉を用いて空気流通下のもと500℃で15分間熱分解した。この一連の操作を5回繰り返して、白金−ニッケル合金を被覆した電極を本願の改造TMB型イオン交換膜法電解槽の新陰極(6)とした。
ガスケット(4)の厚みを調整し、コイルクッション材(5)の弾性反発力が9.8kPaとなるコイル幅に設定した。
図9に示す構造を有する、従来のTMB電解槽を用いて、食塩電解の比較試験をおこなった。
運転終了後のTMB型イオン交換膜法電解槽の旧陰極(1)を取り外して、板厚:1.0mm、長径:8.0mm、短径:4.0mm、刻み巾:1.0mmであるニッケル製エキスパンドメタル基板(短径方向の長さ1400mm、長径方向の長さ1200mm)に電極触媒を担持した新しい陰極(11)に更新した。
電流密度5kA/m2、陽極室出口塩水濃度:200〜210g/L、陰極室出口水酸化ナトリウム水溶液濃度:31〜33重量%、温度:90℃にて食塩電解試験を行い、電解電圧を測定した。電解電圧は、3.2V付近で推移し、実施例1と比較して、0.2V高い電圧で推移した。
従って、本発明のイオン交換膜法電解槽は、食塩電解などクロルアルカリ電解に代表される電解工業で利用される。食塩電解以外、例えば、塩化カリウム水溶液電解やアルカリ水電解などにも好適に利用し得る
2:イオン交換膜
3:陰極リブ
4:ガスケット
5:コイルクッション材
6:新陰極
7:金属枠
8:金属製コイル体
9:固定用ピン
10:陽極
11:新しい陰極
Claims (6)
- 旧陰極を有するナローギャップ型イオン交換膜法電解槽の旧陰極上に、コイルクッション材が設置され、該コイルクッション材の上に、電極触媒を担持した新陰極が設置され、かつ、新陰極がイオン交換膜と接触していることを特徴とするイオン交換膜法電解槽。
- 新陰極が、刻み巾が0.1mm以上1.0mm以下、短径が0.5mm以上5.0mm以下、長径が1.0mm以上10mm以下、板厚が0.1mm以上1.0mm以下であり、開口率が48〜60%であるエキスパンドメタルに電極触媒が担持されている請求項1に記載のイオン交換膜法電解槽。
- コイルクッション材が、金属枠に金属製コイル体を巻き付けた構造を有する請求項1又は請求項2に記載のイオン交換膜法電解槽。
- 金属枠に巻き付けた金属製コイル体の巻き数が3〜9回/cmである請求項3に記載のイオン交換膜法電解槽。
- コイルクッション材の弾性反発力が平均の面圧として7〜17kPaに調整される請求項1乃至4のいずれか1項に記載のイオン交換膜法電解槽。
- 旧陰極を有するナローギャップ型イオン交換膜法電解槽の旧陰極上にコイルクッション材を設置し、次いで、該コイルクッション材の上に電極触媒を担持した新陰極を設置し、新陰極とイオン交換膜とを接触させることを特徴とするナローギャップ型イオン交換膜法電解槽の改造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010292306A JP5583002B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | イオン交換膜法電解槽 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010292306A JP5583002B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | イオン交換膜法電解槽 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012140653A JP2012140653A (ja) | 2012-07-26 |
JP5583002B2 true JP5583002B2 (ja) | 2014-09-03 |
Family
ID=46677214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010292306A Active JP5583002B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | イオン交換膜法電解槽 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5583002B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20130563A1 (it) * | 2013-04-10 | 2014-10-11 | Uhdenora Spa | Metodo di adeguamento di celle elettrolitiche aventi distanze interelettrodiche finite |
JP7260272B2 (ja) * | 2018-09-21 | 2023-04-18 | 旭化成株式会社 | 電極の製造方法 |
CN112739853B (zh) | 2018-09-21 | 2024-06-18 | 旭化成株式会社 | 层积体制造用夹具、层积体的制造方法、包装体、层积体、电解槽以及电解槽的制造方法 |
CN110205644A (zh) * | 2019-06-03 | 2019-09-06 | 江阴市宏泽氯碱设备制造有限公司 | 新型ineos膜极距电解槽 |
EP4112784A1 (en) * | 2020-02-26 | 2023-01-04 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Electrolytic tank and method for manufacturing electrolytic tank |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3002236B2 (ja) * | 1990-06-22 | 2000-01-24 | ペルメレック電極株式会社 | 電解用電極の再活性化方法 |
JP3860132B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2006-12-20 | クロリンエンジニアズ株式会社 | 水素発生陰極を使用するイオン交換膜電解槽 |
JP4834329B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2011-12-14 | クロリンエンジニアズ株式会社 | イオン交換膜型電解槽 |
JP2009120882A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Tosoh Corp | 電解槽構成部材及びそれを用いた電解槽 |
JP5437651B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-03-12 | 東ソー株式会社 | イオン交換膜法電解槽及びその製造方法 |
JP4846869B1 (ja) * | 2010-09-07 | 2011-12-28 | クロリンエンジニアズ株式会社 | 電解用陰極構造体およびそれを用いた電解槽 |
JP5693215B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2015-04-01 | 東ソー株式会社 | イオン交換膜法電解槽 |
-
2010
- 2010-12-28 JP JP2010292306A patent/JP5583002B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012140653A (ja) | 2012-07-26 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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