JP5572710B2 - ターゲット取付機構 - Google Patents
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Description
本願は、2010年6月28日に、日本に出願された特願2010−146617号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
この種のLow−Eガラスは、ガラス表面に金属薄膜を成膜することで形成される。従来、ガラス等の表面に金属薄膜を形成する際には、平板状のターゲット(以下、単にターゲットと称する)を備えたマグネトロンスパッタリング装置を用いて成膜を行っていた。
こうした大面積の成膜対象物に均一な厚みでムラなく金属膜を成膜する手段として、円筒形状のターゲットを用いたスパッタリング装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、円筒状のターゲットは平板状のターゲットよりも使用効率が高いという特徴がある。
前記ターゲットが、円筒形の基体と、この基体を覆うターゲット材とを備えるとともに、前記ターゲット材が配された中央領域と、この中央領域を除く両端側で前記基体が露出する連結領域と、を有し;前記カソードの連結部に、この連結部と前記連結領域とを内在させる略円筒形のクランプが形成され;前記ターゲットの前記連結領域に形成される第一の係合凸部と、前記クランプの内周面に形成される第二の係合凸部とが、前記連結部及び前記連結領域が前記クランプに内在した状態で、前記ターゲットの円周方向に沿ってのみ相対移動することにより、係合され;前記カソードが、前記連結部において軸心に対して垂直に延在する部分を有し、前記クランプは、前記カソードの垂直に延在する部分と前記基体とを密着させる固定手段を更に備えることを特徴とするターゲット取付機構。
(9)上記(8)の場合、前記スペーサに、表面処理が施されていることが好ましい。
図1は、スパッタリング装置の構成を示す縦断面図である。また、図2は、ターゲットを含む領域を示す要部拡大斜視図である。
スパッタリング装置10は、反応室11、アノード(陽極)12、カソード(陰極)13、真空ポンプ17、およびArガス供給装置18を備えている。反応室11の内部は、真空ポンプ17によって減圧可能であり、成膜時には、例えば、真空度6Pa程度まで減圧される。
図3は、本発明のターゲット取付機構を示す拡大斜視図である。また、図4は、本発明のターゲット取付機構を示す断面図である。
ターゲット21の両端部で基体22が露呈した連結領域S2には、基体22の円周方向に沿って、第一の係合凸部61が形成される。第一の係合凸部61は、基材22の周面22aから外方に突出する突起であり、基体22の円周方向Qに沿って、例えば6箇所に均等に配置される。この第一の係合凸部61は、基体22と一体に形成されていればよい。
このように、スペーサ76の表面処理を行うことによって、スペーサ76の耐摩耗性向上、摺動性向上、かじり防止等を実現することができる。
本実施形態のターゲット取付機構によってスパッタリング装置10のカソード13に円筒形のターゲット21を取付ける際には、図5Aに示すように、ターゲット21の基材22が露出した連結領域S2に、カソード13の連結部S3に形成されたクランプ71を接近させる。そして、クランプ71の内部に基材22の連結領域S2を挿入する。
図7は、本発明のターゲット取付機構の別な実施形態を示す拡大斜視図である。また、図8は、同ターゲット取付機構の断面図である。
この実施形態では、ターゲット21の両端部で基体22が露呈した連結領域S2には、基体22の円周方向に沿って、第一の係合凸部31が形成される。第一の係合凸部31は、基材22の周面22aから外方に突出する突起であり、基体22の円周方向に沿って、例えば6箇所に均等に配置される。この第一の係合凸部31は、基体22と一体に形成されていればよい。
こうした構成により、第一の係合凸部31と第二の係合凸部42とは、ターゲット21の取付時に、互いに係合可能に配置される。
本実施形態のターゲット取付機構によってスパッタリング装置10のカソード13に円筒形のターゲット21を取付ける際には、図9Aに示すように、ターゲット21の基材22が露出した連結領域S2に、カソード13の連結部S3に形成されたクランプ41を接近させる。そして、クランプ41に形成されたそれぞれの第二の係合凸部42が、基材22に形成された第一の係合凸部31どうしの間を通るように位置合わせしてから、クランプ41の内面に基材22の連結領域S2を挿入する。
12…アノード
13…カソード
21…ターゲット
22…基体
23…ターゲット材
61…第一の係合凸部
71…クランプ
72…第二の係合凸部
Claims (9)
- スパッタリング装置において用いられる円筒形のターゲットをカソードの連結部に対して着脱可能に取り付けるターゲット取付機構であって、
前記ターゲットが、円筒形の基体と、この基体を覆うターゲット材とを備えるとともに、前記ターゲット材が配された中央領域と、この中央領域を除く両端側で前記基体が露出する連結領域と、を有し;
前記カソードの連結部に、この連結部と前記連結領域とを内在させる略円筒形のクランプが形成され;
前記ターゲットの前記連結領域に形成される第一の係合凸部と、前記クランプの内周面に形成される第二の係合凸部とが、前記連結部及び前記連結領域が前記クランプに内在した状態で、前記ターゲットの円周方向に沿ってのみ相対移動することにより、係合され; 前記カソードが、前記連結部において軸心に対して垂直に延在する部分を有し、前記クランプは、前記カソードの垂直に延在する部分と前記基体とを密着させる固定手段を更に備えることを特徴とするターゲット取付機構。 - 前記第一の係合凸部と前記第二の係合凸部との接触面が、前記ターゲットの円周方向が短手、前記ターゲットの軸方向が長手を成す形状であることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記第一の係合凸部と前記第二の係合凸部との係合動作が完了したことを判別する信号を発する構造を備えることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記第二の係合凸部が3つ以上形成され、前記クランプの内周面方向の同一線上にあり、前記ターゲットの回転軸を中心と見なした仮想円上にもあり、かつ前記中心と、前記第二の係合凸部のうち少なくとも一つとを通る線分に対して、それ以外の前記第二の係合凸部が軸対称に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記カソードの前記連結部における軸心に対して垂直に延在する部分と、前記基体との接触部分とに設けられたガスケットリングを更に備えることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記固定手段が、前記クランプの一端側に配された、前記ターゲットの軸心方向に締付けられる締付ネジと、ネジ穴とから構成されていることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記カソードの前記連結部における軸心に対して垂直に延在する部分と、前記クランプとの隙間に配置されたスペーサを更に備えることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
- 前記スペーサに、表面処理が施されていることを特徴とする請求項7に記載のターゲット取付機構。
- 前記第一の係合凸部と前記第二の係合凸部との係合に必要とされるトルクが、1(kgf・cm)以上、20(kgf・cm)以下であることを特徴とする請求項1に記載のターゲット取付機構。
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