JP5567724B2 - Valve and substrate processing apparatus provided with the same - Google Patents

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Description

この発明は、バルブおよびこれを備えた基板処理装置に関する。基板処理装置によって処理される基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。   The present invention relates to a valve and a substrate processing apparatus including the valve. Examples of substrates processed by the substrate processing apparatus include semiconductor wafers, liquid crystal display substrates, plasma display substrates, FED (Field Emission Display) substrates, optical disk substrates, magnetic disk substrates, and magneto-optical disk substrates. , Photomask substrates, ceramic substrates, solar cell substrates, and the like.

半導体装置の製造工程では、たとえば、半導体ウエハなどの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板に処理液を供給する処理液供給機構とを備えている。処理液供給機構は、処理液を吐出するノズルと、ノズルに処理液を供給する供給配管と、供給配管に介装されたバルブとを含む。供給配管を流れる処理液は、バルブが開かれることによってノズルに供給される。これにより、処理液がノズルから吐出され、吐出された処理液が基板に供給される。バルブは、弁体が弁座に接触することにより閉じられ、弁体が弁座から離れることにより開かれる。   In the manufacturing process of a semiconductor device, for example, processing using a processing liquid is performed on a substrate such as a semiconductor wafer. A single wafer processing apparatus that processes substrates one by one includes, for example, a spin chuck that horizontally holds and rotates a substrate, and a processing liquid supply mechanism that supplies a processing liquid to the substrate held by the spin chuck. I have. The processing liquid supply mechanism includes a nozzle that discharges the processing liquid, a supply pipe that supplies the processing liquid to the nozzle, and a valve that is interposed in the supply pipe. The processing liquid flowing through the supply pipe is supplied to the nozzle by opening the valve. As a result, the processing liquid is discharged from the nozzle, and the discharged processing liquid is supplied to the substrate. The valve is closed when the valve body comes into contact with the valve seat, and is opened when the valve body leaves the valve seat.

特開２００９−２２２１８９号公報JP 2009-222189 A

バルブが閉じられるときには、弁体が弁座に接触する。しかしながら、弁体と弁座との接触によって、バルブ内にパーティクルが発生する場合がある。バルブが閉じられている状態では、処理液がバルブ内に留まるから、パーティクルが排出されない。そのため、このパーティクルは、バルブが開かれたときに、処理液と共にノズルに供給される。そして、パーティクルを含む処理液がノズルから吐出され、基板に供給される。したがって、基板の清浄度が低下する。   When the valve is closed, the valve body contacts the valve seat. However, particles may be generated in the valve due to contact between the valve body and the valve seat. In the state where the valve is closed, the processing liquid stays in the valve, so that particles are not discharged. Therefore, the particles are supplied to the nozzle together with the processing liquid when the valve is opened. And the process liquid containing a particle is discharged from a nozzle, and is supplied to a board | substrate. Therefore, the cleanliness of the substrate is lowered.

そこで、この発明の目的は、パーティクルの排出を制御できるバルブを提供することである。
また、この発明の他の目的は、基板の清浄度を高めることができる基板処理装置を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a valve capable of controlling the discharge of particles.
Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of increasing the cleanliness of a substrate.

前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、液体が供給される流入口（５１５）と、前記流入口に供給された液体を排出する排出口（５１６）と、前記流入口に供給された液体を吐出する吐出口（５１７、７１７）と、前記流入口と前記排出口とを接続する第１流路（５１８、５２０、６１８）と、前記流入口と前記排出口との間に設けられた接続位置（ＣＰ１）において前記第１流路に接続され、前記第１流路と前記吐出口とを接続する第２流路（５１９、６１９、７１９）と、前記第２流路が閉じる閉位置と、前記第２流路が開く開位置とに移動できるように構成された第１弁体（５２５、７２５）と、前記閉位置と前記開位置との間で前記第１弁体を移動させる第１アクチュエータ（２４）と、前記吐出口および第２流路の流路面積よりも小さい流路面積を有し、前記接続位置よりも前記排出口側において前記第１流路に設けられた絞り部（５４５）とを含み、前記第１弁体および絞り部は、前記絞り部の流路面積が前記第１弁体の位置によって変化するように構成されており、前記第１弁体が前記開位置に位置するときの前記絞り部の流路面積は、前記吐出口および第２流路の流路面積よりも小さく、前記第１弁体が前記閉位置に位置するときの前記絞り部の流路面積は、前記第１弁体が前記開位置に位置するときよりも大きい、バルブ（５１１、６１１、７１１）である。なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素の参照符号を表すものであるが、これらの参照符号により特許請求の範囲を限定する趣旨ではない。   In order to achieve the object, the invention according to claim 1 is characterized in that an inlet (515) to which a liquid is supplied, an outlet (516) for discharging the liquid supplied to the inlet, and a supply to the inlet. Between the discharge port (517, 717) for discharging the liquid, the first flow path (518, 520, 618) connecting the inflow port and the discharge port, and the inflow port and the discharge port The second flow path (519, 619, 719) connected to the first flow path at the provided connection position (CP1) and connecting the first flow path and the discharge port, and the second flow path A first valve body (525, 725) configured to be movable between a closed closed position and an open position where the second flow path is opened, and the first valve body between the closed position and the open position. A first actuator (24) for moving the discharge port, and the discharge port and the second flow channel And a throttle part (545) provided in the first flow path on the discharge port side of the connection position, the first valve body and the throttle part having the flow path area smaller than the product, The flow passage area of the throttle portion is configured to change depending on the position of the first valve body, and the flow passage area of the throttle portion when the first valve body is located in the open position is the discharge port. And the flow passage area of the throttle portion when the first valve body is located at the closed position is smaller than when the first valve body is located at the open position. Is also a large valve (511, 611, 711). In this section, alphanumeric characters in parentheses represent reference numerals of corresponding components in the embodiments described later, but the scope of the claims is not limited by these reference numerals.

この構成によれば、複数の開口（流入口、排出口、吐出口）がバルブに設けられている。排出口は、第１流路によって流入口に接続されている。吐出口は、第２流路によって第１流路に接続されている。第２流路は、流入口と排出口との間に設けられた接続位置において第１流路に接続されている。第２流路は、第１弁体が第１アクチュエータによって移動されることにより開閉される。また、絞り部は、接続位置よりも排出口側において第１流路に設けられている。絞り部は、吐出口および第２流路の流路面積よりも小さい流路面積を有している。   According to this configuration, a plurality of openings (inflow ports, discharge ports, discharge ports) are provided in the valve. The discharge port is connected to the inflow port by the first flow path. The discharge port is connected to the first channel by the second channel. The second flow path is connected to the first flow path at a connection position provided between the inlet and the outlet. The second flow path is opened and closed when the first valve body is moved by the first actuator. Further, the throttle portion is provided in the first flow path on the discharge port side from the connection position. The restricting portion has a channel area smaller than the channel area of the discharge port and the second channel.

第１弁体が開位置に配置され、第２流路が開かれると、流入口に供給された液体が、第１流路および第２流路を通って吐出口および排出口から吐出される。絞り部が、吐出口および第２流路の流路面積よりも小さい流路面積を有しているので、接続位置から排出口に向かう液体には、吐出口に向かう液体に加わる抵抗よりも大きな抵抗が加わる。そのため、吐出口に供給される液体の流量は、排出口に供給される液体の流量よりも大きい。これにより、吐出口から吐出される液体の流量（吐出流量）が確保される。   When the first valve body is disposed at the open position and the second flow path is opened, the liquid supplied to the inflow port is discharged from the discharge port and the discharge port through the first flow path and the second flow path. . Since the throttle portion has a channel area smaller than the channel area of the discharge port and the second channel, the liquid flowing from the connection position toward the discharge port is larger than the resistance applied to the liquid toward the discharge port. Resistance is added. For this reason, the flow rate of the liquid supplied to the discharge port is larger than the flow rate of the liquid supplied to the discharge port. Thereby, the flow rate (discharge flow rate) of the liquid discharged from the discharge port is ensured.

一方、第１弁体が閉位置に配置され、第２流路が閉じられると、流入口に供給された液体が、第１流路を通って排出口から吐出される。そのため、第２流路が閉じられることによって発生したパーティクルや、第２流路が閉じられているときにバルブ内に進入したパーティクルは、液体とともに排出口から排出される。このように、第２流路が閉じられている状態では、バルブ内で発生したパーティクルや、バルブ内に進入したパーティクルが、排出口から吐出され、吐出口から吐出されることが抑制または防止される。これにより、パーティクルの排出が制御される。   On the other hand, when the first valve body is disposed at the closed position and the second flow path is closed, the liquid supplied to the inflow port is discharged from the discharge port through the first flow path. Therefore, particles generated by closing the second flow path and particles entering the valve when the second flow path is closed are discharged from the discharge port together with the liquid. As described above, when the second flow path is closed, particles generated in the valve and particles entering the valve are discharged from the discharge port and are suppressed or prevented from being discharged from the discharge port. The Thereby, the discharge of particles is controlled.

さらに、第２流路が第１弁体によって開閉されるとともに、絞り部の流路面積が第１弁体によって変更される。具体的には、第１弁体が第１アクチュエータによって閉位置から開位置に移動されると、第２流路が開かれるとともに、絞り部の流路面積が吐出口および第２流路の流路面積よりも小さくなる。これにより、吐出口からの吐出流量が確保される。また、第１弁体が第１アクチュエータによって開位置から閉位置に移動されると、第２流路が閉じられるとともに、絞り部の流路面積が大きくなる。そのため、排出口に向かう液体の流れが速くなり、排出口からパーティクルが確実に排出される。このように、１つの弁体（第１弁体）と、１つのアクチュエータ（第１アクチュエータ）とによって吐出口からの液体の吐出、および排出口からの液体の吐出流量が制御されるので、バルブの部品点数の増加が抑制される。   Further, the second flow path is opened and closed by the first valve body, and the flow path area of the throttle portion is changed by the first valve body. Specifically, when the first valve body is moved from the closed position to the open position by the first actuator, the second flow path is opened, and the flow path area of the throttle portion is the flow rate of the discharge port and the second flow path. It becomes smaller than the road area. Thereby, the discharge flow rate from a discharge outlet is ensured. Further, when the first valve body is moved from the open position to the closed position by the first actuator, the second flow path is closed and the flow path area of the throttle portion is increased. Therefore, the flow of liquid toward the discharge port becomes faster, and particles are reliably discharged from the discharge port. In this way, the discharge of liquid from the discharge port and the discharge flow rate of liquid from the discharge port are controlled by one valve body (first valve body) and one actuator (first actuator). The increase in the number of parts is suppressed.

請求項２記載の発明は、前記第１流路は、接続流路（５４４、６４４）および筒状流路（５４３、６４３）を含み、前記接続流路は、前記筒状流路と前記流入口とを接続しており、前記筒状流路は、前記第２流路と平行に延び、かつ前記第２流路および接続位置を取り囲んでおり、前記第１弁体の前記閉位置は、前記接続位置に設けられ、前記第１弁体は、前記接続位置で前記第２流路を閉じるように構成されている、請求項１に記載のバルブである。   According to a second aspect of the present invention, the first flow path includes a connection flow path (544, 644) and a cylindrical flow path (543, 643), and the connection flow path includes the cylindrical flow path and the flow path. The cylindrical flow path extends in parallel with the second flow path and surrounds the second flow path and the connection position, and the closed position of the first valve body is: 2. The valve according to claim 1, wherein the valve is provided at the connection position, and the first valve body is configured to close the second flow path at the connection position.

この構成によれば、接続流路および筒状流路が、第１流路に設けられている。流入口と筒状流路とは、接続流路によって接続されている。したがって、流入口に供給された液体は、接続流路を通って筒状流路に供給される。また、筒状流路を満たす十分な流量で液体が流入口に供給されれば、筒状の流れが筒状流路に形成される。さらに、筒状流路が第２流路と平行に延び、第２流路および接続位置を取り囲んでいるから、このとき、第２流路および接続位置を取り囲む筒状の流れが形成される。さらに、第２流路は、接続位置において第１弁体によって閉じられるから、第２流路が閉じられている状態では、第１弁体を取り囲む筒状の流れが形成される。   According to this configuration, the connection channel and the cylindrical channel are provided in the first channel. The inflow port and the cylindrical flow path are connected by a connection flow path. Therefore, the liquid supplied to the inflow port is supplied to the cylindrical flow path through the connection flow path. If the liquid is supplied to the inlet at a sufficient flow rate that fills the cylindrical flow path, a cylindrical flow is formed in the cylindrical flow path. Furthermore, since the cylindrical flow path extends in parallel with the second flow path and surrounds the second flow path and the connection position, a cylindrical flow surrounding the second flow path and the connection position is formed at this time. Furthermore, since the second flow path is closed by the first valve body at the connection position, a cylindrical flow surrounding the first valve body is formed when the second flow path is closed.

第１弁体を取り囲む筒状の流れが形成されるので、第２流路が閉じられているときに、第１弁体の周りで液体がよどむことが抑制または防止される。すなわち、液体が流れずに第１弁体の周りに留まることや、液体が第１弁体の周りで流れて第１弁体の周りから移動しないことが抑制または防止される。そのため、第２流路が閉じられているときに第１弁体の周りで漂うパーティクルは、第２流路が閉じられている間に排出口の方へ流されて、排出口から排出される。したがって、たとえば、第２流路を閉じることによって第１弁体の周りに発生したパーティクルは、第２流路が閉じられている間にバルブの内部から排出される。これにより、第１弁体の周りで漂うパーティクルが、第２流路が開かれたときに、吐出口から吐出されることが抑制または防止される。   Since the cylindrical flow surrounding the first valve body is formed, the liquid stagnation around the first valve body is suppressed or prevented when the second flow path is closed. That is, it is suppressed or prevented that the liquid does not flow and stays around the first valve body, or the liquid flows around the first valve body and does not move from around the first valve body. Therefore, particles drifting around the first valve body when the second flow path is closed flow toward the discharge port while the second flow path is closed, and are discharged from the discharge port. . Therefore, for example, particles generated around the first valve body by closing the second flow path are discharged from the valve while the second flow path is closed. This suppresses or prevents particles floating around the first valve body from being discharged from the discharge port when the second flow path is opened.

請求項３記載の発明は、前記筒状流路は、前記接続流路が接続された接続点（Ｐ１）を含み、前記接続流路は、前記筒状流路に直交し前記接続点を含む平面において、前記接続点と前記筒状流路の中心（Ｃ１）とを通る直線（Ｌ１）に対して交差する方向に延びる交差流路（５４４）を含む、請求項２記載のバルブである。
この構成によれば、接続流路が、交差流路を含む。交差流路は、筒状流路に設けられた接続点に接続されている。また、交差流路は、筒状流路に直交し前記接続点を含む平面において、前記接続点と筒状流路の中心とを通る直線に対して交差する方向に延びている。すなわち、たとえば筒状流路が円筒状であれば、交差流路は、筒状流路の半径を含む直線に対して交差する方向に延びている。そのため、交差流路から筒状流路に供給された液体は、一定の方向（筒状流路の周方向の一方）に回転しながら筒状流路の軸方向に移動する。すなわち、筒状流路に供給された液体が螺旋状に流れ、渦流が筒状流路に形成される。これにより、第２流路が第１弁体によって閉じられているときに、第１弁体の周りで液体がよどむことが抑制または防止される。したがって、第１弁体の周りで漂うパーティクルは、第２流路が閉じられている間に、液体と共に排出口から排出される。 According to a third aspect of the present invention, the cylindrical flow path includes a connection point (P1) to which the connection flow path is connected, and the connection flow path is orthogonal to the cylindrical flow path and includes the connection point. The valve according to claim 2, comprising a cross channel (544) extending in a direction intersecting with a straight line (L1) passing through the connection point and the center (C1) of the cylindrical channel in a plane.
According to this configuration, the connection flow path includes the cross flow path. The cross flow path is connected to a connection point provided in the cylindrical flow path. Further, the intersecting flow path extends in a direction intersecting with a straight line passing through the connection point and the center of the cylindrical flow path in a plane perpendicular to the cylindrical flow path and including the connection point. That is, for example, if the cylindrical channel is cylindrical, the intersecting channel extends in a direction intersecting with a straight line including the radius of the cylindrical channel. Therefore, the liquid supplied from the intersecting channel to the cylindrical channel moves in the axial direction of the cylindrical channel while rotating in a certain direction (one of the circumferential directions of the cylindrical channel). That is, the liquid supplied to the cylindrical flow path flows spirally, and a vortex is formed in the cylindrical flow path. Thereby, when the 2nd channel is closed by the 1st valve body, it is controlled or prevented that a liquid stagnates around the 1st valve body. Therefore, the particles floating around the first valve body are discharged from the discharge port together with the liquid while the second flow path is closed.

前記バルブは、前記第１弁体および第１アクチュエータに連結されたダイヤフラム（２６）をさらに含み、前記第２流路は、前記ダイヤフラムが前記第１アクチュエータによって往復運動されることにより、前記第１弁体によって開閉されてもよい。
請求項５記載の発明は、基板（Ｗ）を保持する基板保持機構（３、８５０）と、請求項１〜４のいずれか一項に記載のバルブを含み、前記基板保持機構に保持された基板に処理液を供給する処理液供給機構（４、８０４）と、前記バルブを制御する制御装置（５）とを含む、基板処理装置（１、８０１）である。 The valve further includes a diaphragm (26) connected to the first valve body and the first actuator, and the second flow path is configured such that the first reciprocating motion of the diaphragm is caused by the first actuator. It may be opened and closed by a valve body.
The invention according to claim 5 includes the substrate holding mechanism (3, 850) for holding the substrate (W) and the valve according to any one of claims 1 to 4, and is held by the substrate holding mechanism. A substrate processing apparatus (1, 801) includes a processing liquid supply mechanism (4, 804) for supplying a processing liquid to a substrate and a control device (5) for controlling the valve.

この構成によれば、バルブが制御装置によって制御されることにより、処理液が、処理液供給機構から基板保持機構に保持された基板に供給される。前述のように、バルブは、吐出口からの吐出流量が確保されるとともに、パーティクルが排出口から排出されるように構成されている。したがって、バルブの吐出口から吐出された処理液を基板保持機構に保持された基板に供給すれば、パーティクルを含む処理液が基板に供給されることを抑制または防止することができる。これにより、基板の清浄度が高められる。   According to this configuration, the processing liquid is supplied from the processing liquid supply mechanism to the substrate held by the substrate holding mechanism by controlling the valve by the control device. As described above, the valve is configured so that a discharge flow rate from the discharge port is ensured and particles are discharged from the discharge port. Therefore, if the processing liquid discharged from the discharge port of the valve is supplied to the substrate held by the substrate holding mechanism, supply of the processing liquid containing particles to the substrate can be suppressed or prevented. Thereby, the cleanliness of the substrate is increased.

請求項６記載の発明は、前記処理液供給機構は、処理液を貯留する容器（６）と、処理液を吐出する吐出部材（７、８５１）と、前記容器と前記バルブの前記流入口とを接続する第１供給配管（８）と、前記バルブの前記吐出口と前記吐出部材とを接続する第２供給配管（９）と、前記容器と前記バルブの前記排出口とを接続する循環配管（１０）と、前記第１供給配管を介して前記容器から前記バルブに処理液を送る送液手段（１２）と、前記第１供給配管および循環配管の少なくとも一方に設けられ、処理液をろ過するフィルタ（１３）とを含む、請求項５記載の基板処理装置である。   According to a sixth aspect of the present invention, the processing liquid supply mechanism includes a container (6) for storing the processing liquid, a discharge member (7, 851) for discharging the processing liquid, the container, and the inlet of the valve. A first supply pipe (8) for connecting the valve, a second supply pipe (9) for connecting the discharge port of the valve and the discharge member, and a circulation pipe for connecting the container and the discharge port of the valve (10) and a liquid feeding means (12) for sending the processing liquid from the container to the valve via the first supply pipe, and at least one of the first supply pipe and the circulation pipe, and filtering the processing liquid The substrate processing apparatus according to claim 5, further comprising a filter (13) that performs processing.

この構成によれば、容器とバルブの流入口とが、第１供給配管によって接続されている。また、バルブの吐出口と吐出部材とが、第２供給配管によって接続されている。また、容器とバルブの排出口とが、循環配管によって接続されている。処理液をろ過するフィルタは、第１供給配管および循環配管の少なくとも一方に設けられている。容器に貯留された処理液は、送液手段によって第１供給配管を介してバルブの流入口に供給される。そして、バルブに供給された処理液は、吐出口および排出口の少なくとも一方から吐出される。   According to this structure, the container and the inflow port of the valve are connected by the first supply pipe. Further, the discharge port of the valve and the discharge member are connected by the second supply pipe. Further, the container and the outlet of the valve are connected by a circulation pipe. A filter for filtering the treatment liquid is provided in at least one of the first supply pipe and the circulation pipe. The processing liquid stored in the container is supplied to the inlet of the valve via the first supply pipe by the liquid feeding means. Then, the processing liquid supplied to the valve is discharged from at least one of the discharge port and the discharge port.

具体的には、バルブの第２流路が開かれている状態では、送液手段によって流入口に供給された処理液が、吐出口および排出口から吐出される。吐出口から吐出された処理液は、第２供給配管を介して吐出部材に供給され、基板保持機構に保持された基板に供給される。前述のように、バルブは、パーティクルが吐出口から吐出されることが抑制または防止されている。これにより、パーティクルを含む処理液が基板に供給されることが抑制または防止される。したがって、基板の清浄度が高められる。   Specifically, in a state where the second flow path of the valve is opened, the processing liquid supplied to the inflow port by the liquid feeding means is discharged from the discharge port and the discharge port. The processing liquid discharged from the discharge port is supplied to the discharge member via the second supply pipe, and is supplied to the substrate held by the substrate holding mechanism. As described above, the valve suppresses or prevents particles from being discharged from the discharge port. Thereby, it is suppressed or prevented that the processing liquid containing particles is supplied to the substrate. Therefore, the cleanliness of the substrate is increased.

一方、バルブの第２流路が閉じられている状態では、送液手段によって流入口に供給された処理液が、排出口から吐出される。排出口から吐出された処理液は、循環配管を通って容器に戻る。そして、この処理液は、送液手段によって再びバルブに供給され、吐出口および排出口の少なくとも一方から吐出される。これにより、排出口から吐出された処理液が有効に利用され、処理液の消費量が低減される。また、排出口から吐出された処理液に含まれるパーティクルは、第１供給配管および循環配管の少なくとも一方に設けられたフィルタによって捕獲される。したがって、パーティクルを含む処理液がバルブに供給されることが抑制または防止される。なお、送液手段としては、ポンプであってもよいし、容器内を加圧する機構であってもよい。   On the other hand, when the second flow path of the valve is closed, the processing liquid supplied to the inflow port by the liquid feeding means is discharged from the discharge port. The processing liquid discharged from the discharge port returns to the container through the circulation pipe. Then, the processing liquid is supplied again to the valve by the liquid feeding means, and is discharged from at least one of the discharge port and the discharge port. Thereby, the processing liquid discharged from the discharge port is effectively used, and the consumption of the processing liquid is reduced. Further, particles contained in the processing liquid discharged from the discharge port are captured by a filter provided in at least one of the first supply pipe and the circulation pipe. Therefore, supply of the processing liquid containing particles to the valve is suppressed or prevented. The liquid feeding means may be a pump or a mechanism that pressurizes the inside of the container.

本発明の第１参考形態に係る基板処理装置の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on the 1st reference form of this invention. 本発明の第１参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 1st reference form of this invention. 本発明の第１参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 1st reference form of this invention. 第１弁体および第２弁体の第１動作例を説明するためのタイミングチャートである。It is a timing chart for explaining the 1st example of operation of the 1st valve body and the 2nd valve body. 第１弁体および第２弁体の第２動作例を説明するためのタイミングチャートである。It is a timing chart for explaining the 2nd example of operation of the 1st valve body and the 2nd valve body. 第２動作例が行われているときのパーティクルの流れについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the particle when the 2nd operation example is performed. 第２動作例が行われているときのパーティクルの流れについて説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the particle when the 2nd operation example is performed. 本発明の第２参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 2nd reference form of this invention. 本発明の第３参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 3rd reference form of this invention. 図９におけるＸ−Ｘ線に沿うバルブの断面図である。It is sectional drawing of the valve | bulb in alignment with the XX line in FIG. 本発明の第４参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 4th reference form of this invention. 本発明の第５実施形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on 5th Embodiment of this invention. 本発明の第５実施形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on 5th Embodiment of this invention. 図１２におけるＸＩＶ−ＸＩＶ線に沿うバルブの断面図である。It is sectional drawing of the valve | bulb along the XIV-XIV line | wire in FIG. 図１２におけるＸＶ−ＸＶ線に沿うバルブの断面図である。It is sectional drawing of the valve | bulb along the XV-XV line | wire in FIG. 本発明の第６実施形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on 6th Embodiment of this invention. 図１６におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に沿うバルブの断面図である。It is sectional drawing of the valve | bulb along the XVII-XVII line | wire in FIG. 本発明の第７実施形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on 7th Embodiment of this invention. 本発明の第８実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on 8th Embodiment of this invention. 本発明の第９参考形態に係るバルブの内部構造を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb which concerns on the 9th reference form of this invention.

以下では、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の第１参考形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す模式図である。
基板処理装置１は、薬液やリンス液などの処理液によって半導体ウエハ等の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置である。基板処理装置１は、処理室２に配置されたスピンチャック３（基板保持機構）と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに処理液を供給する処理液供給機構４と、スピンチャック３などを制御する制御装置５とを含む。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus 1 according to a first reference embodiment of the present invention.
The substrate processing apparatus 1 is a single-wafer type substrate processing apparatus that processes substrates W such as semiconductor wafers one by one with a processing liquid such as a chemical liquid or a rinsing liquid. The substrate processing apparatus 1 includes a spin chuck 3 (substrate holding mechanism) disposed in the processing chamber 2, a processing liquid supply mechanism 4 for supplying a processing liquid to the substrate W held by the spin chuck 3, a spin chuck 3, and the like. And a control device 5 for controlling.

スピンチャック３は、１枚の基板Ｗを水平に保持して基板Ｗの中央部を通る鉛直軸線まわりに回転させるように構成されている。図１に示すように、スピンチャック３は、たとえば、基板Ｗを周囲から挟んで当該基板Ｗを水平に保持する挟持式のチャックである。スピンチャック３は、挟持式のチャックに限らず、たとえば、基板Ｗの下面（裏面）を吸着して当該基板Ｗを保持するバキューム式のチャックであってもよい。   The spin chuck 3 is configured to hold a single substrate W horizontally and rotate it around a vertical axis passing through the central portion of the substrate W. As shown in FIG. 1, the spin chuck 3 is, for example, a clamping chuck that holds the substrate W horizontally with the substrate W sandwiched from the periphery. The spin chuck 3 is not limited to the clamping chuck, and may be a vacuum chuck that holds the substrate W by sucking the lower surface (back surface) of the substrate W, for example.

また、処理液供給機構４は、処理液を貯留するタンク６（容器）と、処理室２に配置されたノズル７（吐出部材）と、複数の配管（第１供給配管８、第２供給配管９、循環配管１０）と、バルブ１１とを含む。また、処理液供給機構４は、第１供給配管８に取り付けられたポンプ１２（送液手段）、フィルタ１３、およびヒータ１４を含む。タンク６は、第１供給配管８によってバルブ１１に接続されている。バルブ１１は、第２供給配管９によってノズル７に接続されている。さらに、バルブ１１は、循環配管１０によってタンク６に接続されている。タンク６に貯留された処理液は、ポンプ１２によってバルブ１１に供給される。また、バルブ１１に供給される処理液に含まれるパーティクルは、フィルタ１３によって除去される。さらに、バルブ１１に供給される処理液は、ヒータ１４によって加熱される。   Further, the processing liquid supply mechanism 4 includes a tank 6 (container) for storing the processing liquid, a nozzle 7 (discharge member) disposed in the processing chamber 2, and a plurality of pipes (first supply pipe 8, second supply pipe). 9, a circulation pipe 10) and a valve 11. Further, the processing liquid supply mechanism 4 includes a pump 12 (liquid feeding means) attached to the first supply pipe 8, a filter 13, and a heater 14. The tank 6 is connected to the valve 11 by a first supply pipe 8. The valve 11 is connected to the nozzle 7 by a second supply pipe 9. Further, the valve 11 is connected to the tank 6 by a circulation pipe 10. The processing liquid stored in the tank 6 is supplied to the valve 11 by the pump 12. Further, particles contained in the processing liquid supplied to the valve 11 are removed by the filter 13. Further, the processing liquid supplied to the valve 11 is heated by the heater 14.

バルブ１１は、たとえば、三方弁である。バルブ１１は、制御装置５によって制御される。バルブ１１に供給された処理液が第２供給配管９に供給されると、この処理液は、ノズル７から吐出され、スピンチャック３に保持された基板Ｗに供給される。これにより、基板Ｗが処理液によって処理される。また、バルブ１１に供給された処理液が循環配管１０に供給されると、この処理液は、タンク６に戻る。したがって、タンク６内の処理液は、第１供給配管８、バルブ１１、循環配管１０、およびタンク６を循環する。タンク６内の処理液は、この循環経路を循環することによりヒータ１４によって均一に加熱される。   The valve 11 is, for example, a three-way valve. The valve 11 is controlled by the control device 5. When the processing liquid supplied to the valve 11 is supplied to the second supply pipe 9, the processing liquid is discharged from the nozzle 7 and supplied to the substrate W held on the spin chuck 3. Thereby, the substrate W is processed with the processing liquid. Further, when the processing liquid supplied to the valve 11 is supplied to the circulation pipe 10, the processing liquid returns to the tank 6. Therefore, the processing liquid in the tank 6 circulates through the first supply pipe 8, the valve 11, the circulation pipe 10, and the tank 6. The processing liquid in the tank 6 is uniformly heated by the heater 14 by circulating through this circulation path.

図２および図３は、それぞれ、本発明の第１参考形態に係るバルブ１１の内部構造を説明するための概略図である。図２では、第１弁体２５が開位置に位置し、第２弁体３２が小開位置に位置する状態が示されている。また、図３では、第１弁体２５が閉位置に位置し、第２弁体３２が大開位置に位置する状態が示されている。
バルブ１１は、複数の開口（流入口１５、排出口１６、吐出口１７）と、複数の流路（メイン流路１８、吐出流路１９、排出流路２０）とを含む。また、バルブ１１は、ハウジング２１と、開閉機構２２と、排出流量調整機構２３とを含む。メイン流路１８および排出流路２０は、本発明の第１参考形態に係る第１流路である。また、吐出流路１９は、本発明の第１参考形態に係る第２流路である。流入口１５、排出口１６、吐出口１７、メイン流路１８、吐出流路１９、および排出流路２０は、ハウジング２１に設けられている。ハウジング２１は、たとえば、耐薬性（薬液に対する耐性）を有する合成樹脂によって形成されている。第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、ハウジング２１に連結されている。第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、それぞれ、流入口１５、吐出口１７、および排出口１６に接続されている。第１供給配管８から流入口１５に供給された処理液は、メイン流路１８を通って、吐出流路１９および排出流路２０に供給される。 2 and 3 are schematic views for explaining the internal structure of the valve 11 according to the first reference embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a state where the first valve body 25 is located at the open position and the second valve body 32 is located at the small open position. FIG. 3 shows a state where the first valve body 25 is located at the closed position and the second valve body 32 is located at the large open position.
The valve 11 includes a plurality of openings (inflow port 15, discharge port 16, discharge port 17) and a plurality of flow paths (main flow path 18, discharge flow path 19, and discharge flow path 20). The valve 11 includes a housing 21, an opening / closing mechanism 22, and a discharge flow rate adjusting mechanism 23. The main flow path 18 and the discharge flow path 20 are the first flow paths according to the first reference embodiment of the present invention. Moreover, the discharge flow path 19 is a 2nd flow path which concerns on the 1st reference form of this invention. The inflow port 15, the discharge port 16, the discharge port 17, the main flow path 18, the discharge flow path 19, and the discharge flow path 20 are provided in the housing 21. The housing 21 is made of, for example, a synthetic resin having chemical resistance (resistance to chemicals). The first supply pipe 8, the second supply pipe 9, and the circulation pipe 10 are connected to the housing 21. The 1st supply piping 8, the 2nd supply piping 9, and the circulation piping 10 are connected to the inflow port 15, the discharge port 17, and the discharge port 16, respectively. The processing liquid supplied from the first supply pipe 8 to the inlet 15 is supplied to the discharge flow path 19 and the discharge flow path 20 through the main flow path 18.

メイン流路１８は、たとえば、直線状に延びている。吐出流路１９および排出流路２０は、それぞれ、メイン流路１８に接続されている。吐出流路１９および排出流路２０は、メイン流路１８に直交する方向に延びている。吐出流路１９および排出流路２０は、平行に配置されている。メイン流路１８は、吐出流路１９および排出流路２０の流路面積よりも大きい流路面積を有している。また、吐出流路１９および排出流路２０は、たとえば、互いに等しい大きさの流路面積を有している。流入口１５は、メイン流路１８の一端に設けられている。また、排出口１６は、排出流路２０によってメイン流路１８に接続されている。また、吐出口１７は、吐出流路１９によってメイン流路１８に接続されている。吐出流路１９は、流入口１５と排出口１６との間に設けられた接続位置ＣＰ１においてメイン流路１８に接続されている。   The main flow path 18 extends, for example, linearly. The discharge flow path 19 and the discharge flow path 20 are each connected to the main flow path 18. The discharge channel 19 and the discharge channel 20 extend in a direction orthogonal to the main channel 18. The discharge channel 19 and the discharge channel 20 are arranged in parallel. The main channel 18 has a channel area larger than the channel areas of the discharge channel 19 and the discharge channel 20. Moreover, the discharge flow path 19 and the discharge flow path 20 have, for example, flow path areas having the same size. The inflow port 15 is provided at one end of the main flow path 18. Further, the discharge port 16 is connected to the main flow path 18 by a discharge flow path 20. Further, the discharge port 17 is connected to the main flow path 18 by a discharge flow path 19. The discharge channel 19 is connected to the main channel 18 at a connection position CP <b> 1 provided between the inlet 15 and the outlet 16.

また、開閉機構２２は、第１アクチュエータ２４と、第１弁体２５と、第１ダイヤフラム２６（ダイヤフラム）とを含む。第１アクチュエータ２４は、たとえば、電力によって駆動される。第１アクチュエータ２４は、たとえば、ソレノイドを含む。第１アクチュエータ２４は、ハウジング２１に連結されている。第１アクチュエータ２４は、メイン流路１８に対して吐出流路１９および排出流路２０とは反対側に配置されている。第１アクチュエータ２４は、第１本体２７と、第１本体２７から突出する第１出力軸２８とを含む。第１出力軸２８は、メイン流路１８に直交する方向に延びている。第１出力軸２８は、ハウジング２１に設けられた第１貫通孔２９に挿入されている。第１出力軸２８は、第１本体２７に対して、メイン流路１８に直交する方向に往復するように構成されている。   The opening / closing mechanism 22 includes a first actuator 24, a first valve body 25, and a first diaphragm 26 (diaphragm). The first actuator 24 is driven by electric power, for example. The first actuator 24 includes, for example, a solenoid. The first actuator 24 is connected to the housing 21. The first actuator 24 is arranged on the opposite side of the main flow path 18 from the discharge flow path 19 and the discharge flow path 20. The first actuator 24 includes a first main body 27 and a first output shaft 28 protruding from the first main body 27. The first output shaft 28 extends in a direction orthogonal to the main flow path 18. The first output shaft 28 is inserted into a first through hole 29 provided in the housing 21. The first output shaft 28 is configured to reciprocate in the direction orthogonal to the main flow path 18 with respect to the first main body 27.

また、第１弁体２５および第１ダイヤフラム２６は、メイン流路１８に配置されている。第１ダイヤフラム２６は、第１弁体２５と第１出力軸２８との間に配置されている。第１ダイヤフラム２６は、第１弁体２５と第１出力軸２８とに連結されている。第１ダイヤフラム２６は、第１出力軸２８によって、メイン流路１８に直交する方向に往復運動される。第１弁体２５は、第１ダイヤフラム２６の往復運動に伴って、閉位置（図３に示す位置）と開位置（図２に示す位置）との間で移動される。第１弁体２５が閉位置に配置されると、図３に示すように、第１弁体２５が、ハウジング２１に設けられた第１弁座３０に押し付けられる。これにより、吐出流路１９が閉じられる。また、第１弁体２５が閉位置から開位置に移動されると、図２に示すように、第１弁体２５が第１弁座３０から離れる。これにより、吐出流路１９が開かれる。   Further, the first valve body 25 and the first diaphragm 26 are arranged in the main flow path 18. The first diaphragm 26 is disposed between the first valve body 25 and the first output shaft 28. The first diaphragm 26 is connected to the first valve body 25 and the first output shaft 28. The first diaphragm 26 is reciprocated by a first output shaft 28 in a direction orthogonal to the main flow path 18. The first valve body 25 is moved between a closed position (position shown in FIG. 3) and an open position (position shown in FIG. 2) as the first diaphragm 26 reciprocates. When the first valve body 25 is disposed at the closed position, the first valve body 25 is pressed against the first valve seat 30 provided in the housing 21 as shown in FIG. Thereby, the discharge flow path 19 is closed. When the first valve body 25 is moved from the closed position to the open position, the first valve body 25 moves away from the first valve seat 30 as shown in FIG. Thereby, the discharge flow path 19 is opened.

また、排出流量調整機構２３は、たとえば、開閉機構２２と同様の構成を含む。すなわち、排出流量調整機構２３は、第２アクチュエータ３１と、第２弁体３２と、第２ダイヤフラム３３とを含む。第２アクチュエータ３１は、たとえば、電力によって駆動される。第２アクチュエータ３１は、たとえば、ソレノイドを含む。第２アクチュエータ３１は、ハウジング２１に連結されている。第２アクチュエータ３１は、メイン流路１８に対して吐出流路１９および排出流路２０とは反対側に配置されている。第２アクチュエータ３１は、第２本体３４と、第２本体３４から突出する第２出力軸３５とを含む。第２出力軸３５は、メイン流路１８に直交する方向に延びている。第２出力軸３５は、ハウジング２１に設けられた第２貫通孔３６に挿入されている。第２出力軸３５は、第２本体３４に対して、メイン流路１８に直交する方向に往復するように構成されている。   Further, the discharge flow rate adjusting mechanism 23 includes the same configuration as the opening / closing mechanism 22, for example. That is, the discharge flow rate adjustment mechanism 23 includes a second actuator 31, a second valve body 32, and a second diaphragm 33. The second actuator 31 is driven by electric power, for example. The second actuator 31 includes, for example, a solenoid. The second actuator 31 is connected to the housing 21. The second actuator 31 is disposed on the opposite side of the main flow path 18 from the discharge flow path 19 and the discharge flow path 20. The second actuator 31 includes a second main body 34 and a second output shaft 35 protruding from the second main body 34. The second output shaft 35 extends in a direction orthogonal to the main flow path 18. The second output shaft 35 is inserted into a second through hole 36 provided in the housing 21. The second output shaft 35 is configured to reciprocate in the direction orthogonal to the main flow path 18 with respect to the second main body 34.

また、第２弁体３２および第２ダイヤフラム３３は、メイン流路１８に配置されている。第２ダイヤフラム３３は、第２弁体３２と第２出力軸３５との間に配置されている。第２ダイヤフラム３３は、第２弁体３２と第２出力軸３５とに連結されている。第２ダイヤフラム３３は、第２出力軸３５によって、メイン流路１８に直交する方向に往復運動される。第２弁体３２は、第２ダイヤフラム３３の往復運動に伴って、小開位置（図２に示す位置）と大開位置（図３に示す位置）との間で移動される。小開位置および大開位置は、それぞれ、本発明の第１参考形態に係る第１開位置および第２開位置である。   The second valve body 32 and the second diaphragm 33 are disposed in the main flow path 18. The second diaphragm 33 is disposed between the second valve body 32 and the second output shaft 35. The second diaphragm 33 is connected to the second valve body 32 and the second output shaft 35. The second diaphragm 33 is reciprocated by the second output shaft 35 in a direction orthogonal to the main flow path 18. The second valve body 32 is moved between a small opening position (position shown in FIG. 2) and a large opening position (position shown in FIG. 3) in accordance with the reciprocating motion of the second diaphragm 33. The small open position and the large open position are respectively a first open position and a second open position according to the first reference embodiment of the present invention.

小開位置および大開位置は、それぞれ、ハウジング２１に設けられた第２弁座３７（絞り部）から第２弁体３２が離れている位置である。前述のように、第２弁体３２は、第２アクチュエータ３１によって小開位置と大開位置との間で移動される。したがって、第２弁体３２は、第２弁体３２が第２弁座３７に接触しない範囲で移動される。また、小開位置は、大開位置よりも第２弁座３７に近い。したがって、第２弁体３２が大開位置から小開位置に移動されると、第２弁座３７の流路面積が減少する。第２弁体３２が小開位置に位置する状態での第２弁座３７の流路面積は、吐出流路１９および吐出口１７の流路面積よりも小さい。   The small open position and the large open position are positions where the second valve body 32 is separated from the second valve seat 37 (throttle portion) provided in the housing 21. As described above, the second valve body 32 is moved between the small open position and the large open position by the second actuator 31. Therefore, the second valve body 32 is moved within a range in which the second valve body 32 does not contact the second valve seat 37. The small open position is closer to the second valve seat 37 than the large open position. Therefore, when the second valve body 32 is moved from the large open position to the small open position, the flow path area of the second valve seat 37 decreases. The flow path area of the second valve seat 37 in a state where the second valve body 32 is located at the small opening position is smaller than the flow path areas of the discharge flow path 19 and the discharge port 17.

図４は、第１弁体２５および第２弁体３２の第１動作例を説明するためのタイミングチャートである。
制御装置５は、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１を制御する。制御装置５は、第１弁体２５を閉位置に向けて移動させるのと同時に第２弁体３２を大開位置に向けて移動させる（Ｔ１参照）。その後、制御装置５は、第１弁体２５を開位置に向けて移動させるのと同時に第２弁体３２を小開位置に向けて移動させる（Ｔ２参照）。すなわち、制御装置５は、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１を同期させて、第１弁体２５および第２弁体３２を同時に反対方向に移動させる。 FIG. 4 is a timing chart for explaining a first operation example of the first valve body 25 and the second valve body 32.
The control device 5 controls the first actuator 24 and the second actuator 31. The control device 5 moves the second valve body 32 toward the large open position simultaneously with moving the first valve body 25 toward the closed position (see T1). Thereafter, the control device 5 moves the second valve body 32 toward the small open position simultaneously with moving the first valve body 25 toward the open position (see T2). That is, the control device 5 synchronizes the first actuator 24 and the second actuator 31 to simultaneously move the first valve body 25 and the second valve body 32 in the opposite directions.

図５は、第１弁体２５および第２弁体３２の第２動作例を説明するためのタイミングチャートである。また、図６および図７は、それぞれ、第２動作例が行われているときのパーティクルの流れについて説明するための図である。
図５に示すように、制御装置５は、第１弁体２５が閉位置に向けて移動されるのと同時に第２弁体３２を大開位置に向けて移動させる（Ｔ３参照）。そして、制御装置５は、第２弁体３２を大開位置に位置させた後、第１弁体２５を閉位置に位置させた状態で第２弁体３２を小開位置に移動させる（Ｔ４参照）。その後、制御装置５は、第２弁体３２を小開位置に位置させた状態で第１弁体２５を開位置に移動させる（Ｔ５参照）。すなわち、この第２動作例では、吐出流路１９が閉じられるのと同時に第２弁座３７の流路面積が増加され、それから一定時間が経過すると、吐出流路１９が閉じられた状態で第２弁座３７の流路面積が減少される。 FIG. 5 is a timing chart for explaining a second operation example of the first valve body 25 and the second valve body 32. FIGS. 6 and 7 are diagrams for explaining the flow of particles when the second operation example is performed.
As shown in FIG. 5, the control device 5 moves the second valve body 32 toward the large open position simultaneously with the movement of the first valve body 25 toward the closed position (see T3). Then, the control device 5 moves the second valve body 32 to the small open position in a state where the first valve body 25 is positioned at the closed position after the second valve body 32 is positioned at the large open position (see T4). ). Thereafter, the control device 5 moves the first valve body 25 to the open position with the second valve body 32 positioned at the small open position (see T5). That is, in this second operation example, the flow passage area of the second valve seat 37 is increased at the same time as the discharge flow passage 19 is closed, and after a certain time has elapsed, the discharge flow passage 19 is closed and the first flow passage 19 is closed. The flow path area of the two-valve seat 37 is reduced.

図６に示すように、第１弁体２５が閉位置に配置されると、吐出流路１９が閉じられる。また、第１弁体２５が閉位置に配置されると、第１弁体２５が第１弁座３０に接触し、メイン流路１８内にパーティクルが発生する場合がある。しかし、このとき第２弁体３２が大開位置に位置し、第２弁座３７が開かれているので、図７に示すように、このパーティクルは、処理液とともに、排出口１６から排出される。したがって、第１弁体２５が再び開位置に配置され、吐出流路１９が開かれたときに、このパーティクルが、処理液と共に吐出口１７から吐出されることが抑制または防止される。   As shown in FIG. 6, when the first valve body 25 is disposed at the closed position, the discharge flow path 19 is closed. Further, when the first valve body 25 is disposed at the closed position, the first valve body 25 may come into contact with the first valve seat 30 and particles may be generated in the main flow path 18. However, at this time, since the second valve body 32 is located at the large open position and the second valve seat 37 is opened, the particles are discharged from the discharge port 16 together with the processing liquid as shown in FIG. . Therefore, when the first valve body 25 is disposed again in the open position and the discharge flow path 19 is opened, the particles are suppressed or prevented from being discharged from the discharge port 17 together with the processing liquid.

以上のように第１参考形態では、第１弁体２５が開位置に位置する状態で、第２弁体３２が小開位置に配置される。すなわち、吐出流路１９が開かれている状態では、排出流路２０は、閉じられずに開いた状態に維持される。そのため、第２弁体３２と第２弁座３７との接触によってパーティクルが発生し、このパーティクルが吐出口１７から吐出されることが抑制または防止される。また、第２弁体３２が小開位置に位置する状態では、第２弁座３７の流路面積が、吐出口１７および吐出流路１９の流路面積よりも小さい。したがって、第１弁体２５が開位置に位置し、第２弁体３２が小開位置に位置する状態では、吐出口１７に向かう処理液に加わる抵抗よりも大きな抵抗が、排出口１６に向かう処理液に加わる。そのため、吐出口１７に供給される処理液の流量は、排出口１６に供給される処理液の流量よりも大きい。これにより、吐出口１７から吐出される処理液の流量（吐出流量）が確保され、十分な流量で処理液が吐出口１７から吐出される。   As described above, in the first reference embodiment, the second valve body 32 is disposed at the small open position in a state where the first valve body 25 is located at the open position. That is, in a state where the discharge flow path 19 is open, the discharge flow path 20 is maintained in an open state without being closed. Therefore, particles are generated by contact between the second valve body 32 and the second valve seat 37, and the discharge of the particles from the discharge port 17 is suppressed or prevented. In the state where the second valve body 32 is located at the small opening position, the flow passage area of the second valve seat 37 is smaller than the flow passage areas of the discharge port 17 and the discharge flow passage 19. Therefore, in a state where the first valve body 25 is positioned at the open position and the second valve body 32 is positioned at the small open position, a resistance larger than the resistance applied to the processing liquid toward the discharge port 17 is directed toward the discharge port 16. Add to processing solution. Therefore, the flow rate of the processing liquid supplied to the discharge port 17 is larger than the flow rate of the processing liquid supplied to the discharge port 16. Thereby, the flow rate (discharge flow rate) of the processing liquid discharged from the discharge port 17 is ensured, and the processing liquid is discharged from the discharge port 17 at a sufficient flow rate.

また、第２弁体３２は、第１弁体２５が閉位置に位置する状態で、小開位置または大開位置に配置される。すなわち、吐出流路１９が閉じられている状態では、排出流路２０は、閉じられずに開いた状態に維持される。したがって、このときバルブ１１の流入口１５に供給された処理液は、排出口１６から吐出される。そのため、吐出流路１９が閉じられている状態でも、処理液が、バルブ１１の内部を流れる。よって、第１弁体２５と第１弁座３０との接触によって発生したパーティクルや、吐出流路１９が閉じられているときにバルブ１１内に進入したパーティクルは、バルブ１１内に留まらずに排出される。これにより、パーティクルを含む処理液が吐出口１７から吐出されることが抑制または防止される。したがって、パーティクルを含む処理液が基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。そのため、基板Ｗの清浄度が高められる。   Further, the second valve body 32 is arranged at the small open position or the large open position in a state where the first valve body 25 is located at the closed position. That is, in a state where the discharge channel 19 is closed, the discharge channel 20 is maintained in an open state without being closed. Accordingly, at this time, the processing liquid supplied to the inlet 15 of the valve 11 is discharged from the outlet 16. Therefore, the processing liquid flows through the valve 11 even when the discharge flow path 19 is closed. Therefore, particles generated by the contact between the first valve body 25 and the first valve seat 30 and particles entering the valve 11 when the discharge flow path 19 is closed are discharged without staying in the valve 11. Is done. Thereby, it is suppressed or prevented that the processing liquid containing particles is discharged from the discharge port 17. Therefore, supply of the processing liquid containing particles to the substrate W is suppressed or prevented. Therefore, the cleanliness of the substrate W is increased.

また、第１参考形態では、第１弁体２５が、メイン流路１８に設けられた接続位置ＣＰ１に配置されている。したがって、第１弁体２５と第１弁座３０との接触によって発生したパーティクルが排出口１６から確実に排出される。具体的には、たとえば、図３において、吐出流路１９およびこれに関連する構成と、排出流路２０およびこれに関連する構成の配置が左右逆である場合を考える。この場合、吐出流路１９が閉じられると、第１弁体２５の周りでの処理液の流れが悪くなる。すなわち、第１弁体２５の周りで処理液が停滞したり、第１弁体２５の周りでの処理液の流れが遅くなったりする。そのため、第１弁体２５と第１弁座３０との接触によって発生したパーティクルが排出口１６の方に流され難い。一方、第１参考形態に係るバルブ１１では、第１弁体２５が、排出口１６に向かう処理液の流れの中に配置されている。したがって、第１弁体２５と第１弁座３０との接触によって発生したパーティクルは、排出口１６に向かう処理液の流れによって排出口１６の方に流される。そのため、このパーティクルが排出口１６から確実に排出される。   In the first reference embodiment, the first valve body 25 is disposed at the connection position CP <b> 1 provided in the main flow path 18. Therefore, particles generated by the contact between the first valve body 25 and the first valve seat 30 are reliably discharged from the discharge port 16. Specifically, for example, in FIG. 3, a case is considered in which the arrangement of the discharge flow path 19 and the configuration related thereto and the discharge flow path 20 and the configuration related thereto are reversed left and right. In this case, when the discharge flow path 19 is closed, the flow of the processing liquid around the first valve body 25 becomes worse. That is, the processing liquid stagnates around the first valve body 25, or the flow of the processing liquid around the first valve body 25 becomes slow. Therefore, particles generated by the contact between the first valve body 25 and the first valve seat 30 are less likely to flow toward the discharge port 16. On the other hand, in the valve 11 according to the first reference embodiment, the first valve body 25 is disposed in the flow of the processing liquid toward the discharge port 16. Therefore, particles generated by the contact between the first valve body 25 and the first valve seat 30 are caused to flow toward the discharge port 16 by the flow of the processing liquid toward the discharge port 16. Therefore, the particles are reliably discharged from the discharge port 16.

また、第１動作例において説明したように、第１弁体２５は、第２弁体３２が第２弁座３７に近づく方向に移動されるのと同時に、第１弁座３０から遠ざかる方向に移動される。さらに、第１弁体２５は、第２弁体３２が第２弁座３７から遠ざかる方向に移動されるのと同時に、第１弁座３０に近づく方向に移動される。すなわち、第１弁体２５および第２弁体３２の動作が同期され、第１弁体２５および第２弁体３２が互いに反対の方向に同時に移動される。したがって、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１を制御するための複雑なプログラムが不要である。   Further, as described in the first operation example, the first valve body 25 is moved in the direction in which the second valve body 32 is moved closer to the second valve seat 37 and at the same time is moved away from the first valve seat 30. Moved. Further, the first valve body 25 is moved in a direction approaching the first valve seat 30 at the same time as the second valve body 32 is moved away from the second valve seat 37. That is, the operations of the first valve body 25 and the second valve body 32 are synchronized, and the first valve body 25 and the second valve body 32 are simultaneously moved in directions opposite to each other. Therefore, a complicated program for controlling the first actuator 24 and the second actuator 31 is unnecessary.

また、第２動作例において説明したように、第２弁体３２は、第１弁体２５が閉位置に位置する状態で、大開位置から小開位置に移動される。第２弁体３２が大開位置に位置する状態では、第２弁体３２が小開位置に位置するときよりも第２弁座３７の流路面積が大きい。そのため、第２弁体３２が小開位置に位置するときよりも、排出口１６に向かう処理液の流れが速い。したがって、吐出流路１９が閉じられることにより発生したパーティクルは、第２弁体３２が大開位置に位置する間にバルブ１１内から確実にかつ速やかに排出される。一方、第２弁体３２が小開位置に配置されると、第２弁座３７の流路面積が減少する。そのため、排出口１６から吐出される処理液の流量が減少する。したがって、たとえば、排出口１６から吐出された処理液が廃棄される場合には、処理液の廃棄量が低減される。   Further, as described in the second operation example, the second valve body 32 is moved from the large open position to the small open position in a state where the first valve body 25 is located at the closed position. In the state where the second valve body 32 is located at the large open position, the flow path area of the second valve seat 37 is larger than when the second valve body 32 is located at the small open position. Therefore, the flow of the processing liquid toward the discharge port 16 is faster than when the second valve body 32 is located at the small opening position. Therefore, particles generated by closing the discharge flow path 19 are reliably and promptly discharged from the valve 11 while the second valve body 32 is positioned at the large open position. On the other hand, when the 2nd valve body 32 is arrange | positioned in a small open position, the flow-path area of the 2nd valve seat 37 reduces. Therefore, the flow rate of the processing liquid discharged from the discharge port 16 is reduced. Therefore, for example, when the processing liquid discharged from the discharge port 16 is discarded, the amount of processing liquid discarded is reduced.

また、第１参考形態では、流入口１５に供給された処理液の全部または一部が、排出口１６から吐出され、循環配管１０を通ってタンク６に戻る。そして、この処理液は、再びバルブ１１に供給され、吐出口１７および排出口１６の少なくとも一方から吐出される。これにより、排出口１６から吐出された処理液が有効に利用され、処理液の消費量が低減される。また、フィルタ１３が循環配管１０に取り付けられているので、排出口１６から吐出された処理液に含まれるパーティクルは、フィルタ１３によって捕獲される。これにより、パーティクルを含む処理液がバルブ１１に供給されることが抑制または防止される。したがって、パーティクルを含む処理液が基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。   In the first reference embodiment, all or part of the processing liquid supplied to the inflow port 15 is discharged from the discharge port 16 and returns to the tank 6 through the circulation pipe 10. Then, the processing liquid is supplied again to the valve 11 and discharged from at least one of the discharge port 17 and the discharge port 16. Thereby, the processing liquid discharged from the discharge port 16 is effectively used, and the consumption of the processing liquid is reduced. In addition, since the filter 13 is attached to the circulation pipe 10, particles contained in the processing liquid discharged from the discharge port 16 are captured by the filter 13. Thereby, supply of the processing liquid containing particles to the valve 11 is suppressed or prevented. Therefore, supply of the processing liquid containing particles to the substrate W is suppressed or prevented.

第２参考形態
図８は、本発明の第２参考形態に係るバルブ２１１の内部構造を説明するための概略図である。この図８において、前述の図１〜図７に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
この第２参考形態と前述の第１参考形態との主要な相違点は、バルブ２１１が、オリフィス（orifice）を含むことである。 Second Reference Embodiment FIG. 8 is a schematic diagram for explaining the internal structure of a valve 211 according to a second reference embodiment of the present invention. 8, the same components as those shown in FIGS. 1 to 7 are given the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.
The main difference between the second reference embodiment and the first reference embodiment described above is that the valve 211 includes an orifice.

バルブ２１１は、複数の開口（流入口１５、排出口２１６、および吐出口１７）と、複数の流路（メイン流路２１８、吐出流路１９、および排出流路２２０）とを含む。また、バルブ２１１は、ハウジング２２１と、開閉機構２２とを含む。メイン流路２１８および排出流路２２０は、本発明の第２参考形態に係る第１流路である。また、排出流路２２０は、本発明の第２参考形態に係る絞り部である。流入口１５、排出口２１６、吐出口１７、メイン流路２１８、吐出流路１９、および排出流路２２０は、ハウジング２２１に設けられている。ハウジング２２１は、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、それぞれ、流入口１５、吐出口１７、および排出口２１６に接続されている。第１供給配管８から流入口１５に供給された処理液は、メイン流路２１８を通って、吐出流路１９および排出流路２２０に供給される。   The valve 211 includes a plurality of openings (inflow port 15, discharge port 216, and discharge port 17) and a plurality of flow paths (main flow path 218, discharge flow path 19, and discharge flow path 220). The valve 211 includes a housing 221 and an opening / closing mechanism 22. The main flow path 218 and the discharge flow path 220 are the first flow paths according to the second reference embodiment of the present invention. Further, the discharge flow path 220 is a throttle portion according to the second reference embodiment of the present invention. The inflow port 15, the discharge port 216, the discharge port 17, the main flow path 218, the discharge flow path 19, and the discharge flow path 220 are provided in the housing 221. The housing 221 is made of, for example, a synthetic resin having chemical resistance. The 1st supply piping 8, the 2nd supply piping 9, and the circulation piping 10 are connected to the inflow port 15, the discharge port 17, and the discharge port 216, respectively. The processing liquid supplied from the first supply pipe 8 to the inlet 15 is supplied to the discharge channel 19 and the discharge channel 220 through the main channel 218.

メイン流路２１８は、たとえば、直線状に延びている。流入口１５は、メイン流路２１８の一端に設けられている。排出流路２２０は、メイン流路２１８の他端からメイン流路２１８と平行な方向に延びている。吐出流路１９は、メイン流路２１８の他端近傍からメイン流路２１８に直交する方向に延びている。吐出口１７は、吐出流路１９によってメイン流路２１８に接続されている。また、排出口２１６は、排出流路２２０によってメイン流路２１８に接続されている。メイン流路２１８は、吐出流路１９および排出流路２２０の流路面積よりも大きい流路面積を有している。また、吐出流路１９は、排出流路２２０の流路面積よりも大きい流路面積を有している。排出流路２２０は、吐出流路１９および吐出口１７の流路面積よりも小さい流路面積を有するオリフィスである。   The main flow path 218 extends, for example, linearly. The inflow port 15 is provided at one end of the main flow path 218. The discharge channel 220 extends in the direction parallel to the main channel 218 from the other end of the main channel 218. The discharge channel 19 extends from the vicinity of the other end of the main channel 218 in a direction orthogonal to the main channel 218. The discharge port 17 is connected to the main flow path 218 by a discharge flow path 19. Further, the discharge port 216 is connected to the main flow path 218 by a discharge flow path 220. The main channel 218 has a channel area larger than the channel areas of the discharge channel 19 and the discharge channel 220. Further, the discharge channel 19 has a channel area larger than the channel area of the discharge channel 220. The discharge channel 220 is an orifice having a channel area smaller than the channel areas of the discharge channel 19 and the discharge port 17.

また、第１アクチュエータ２４は、ハウジング２２１に連結されている。第１アクチュエータ２４は、メイン流路２１８に対して吐出流路１９とは反対側に配置されている。第１出力軸２８は、メイン流路２１８に直交する方向に延びている。第１出力軸２８は、ハウジング２２１に設けられた第１貫通孔２９に挿入されている。第１出力軸２８は、第１本体２７に対して、メイン流路２１８に直交する方向に往復するように構成されている。   The first actuator 24 is connected to the housing 221. The first actuator 24 is disposed on the opposite side of the main flow path 218 from the discharge flow path 19. The first output shaft 28 extends in a direction orthogonal to the main flow path 218. The first output shaft 28 is inserted into a first through hole 29 provided in the housing 221. The first output shaft 28 is configured to reciprocate in the direction orthogonal to the main flow path 218 with respect to the first main body 27.

また、第１弁体２５および第１ダイヤフラム２６は、メイン流路２１８に配置されている。第１ダイヤフラム２６は、第１出力軸２８によって、メイン流路２１８に直交する方向に往復運動される。第１弁体２５は、第１ダイヤフラム２６の往復運動に伴って、閉位置（図８に示す位置）と開位置との間で移動される。吐出流路１９は、第１弁体２５の移動に伴って開閉される。吐出流路１９が閉じられているときには、流入口１５に供給された処理液が、メイン流路２１８および排出流路２２０を通って、排出口２１６から排出される。   The first valve body 25 and the first diaphragm 26 are disposed in the main flow path 218. The first diaphragm 26 is reciprocated in the direction orthogonal to the main flow path 218 by the first output shaft 28. The first valve body 25 is moved between a closed position (position shown in FIG. 8) and an open position in accordance with the reciprocating motion of the first diaphragm 26. The discharge flow path 19 is opened and closed as the first valve body 25 moves. When the discharge flow path 19 is closed, the processing liquid supplied to the inflow port 15 is discharged from the discharge port 216 through the main flow path 218 and the discharge flow path 220.

以上のように第２参考形態では、吐出流路１９が閉じられているときには、パーティクルが、処理液と共にオリフィス（排出流路２２０）を通って排出口２１６から排出される。また、吐出流路１９が開かれているときには、流入口１５に供給された処理液が、吐出口１７および排出口２１６から吐出される。オリフィス（排出流路２２０）は、吐出口１７および吐出流路１９の流路面積よりも小さい流路面積を有しているから、排出口２１６に向かう処理液には、吐出口１７に向かう処理液に加わる抵抗よりも大きな抵抗が加わる。そのため、十分な流量で吐出口１７から処理液が吐出される。このように、オリフィス（排出流路２２０）を設けることにより、吐出口１７からの吐出流量を確保するとともに、パーティクルを排出口２１６から排出することができる。したがって、たとえば、排出流量調整機構２３（たとえば図２参照）が設けられている場合よりもバルブ２１１の構成が簡単である。また、排出流量調整機構２３が設けられている場合よりもバルブ２１１の部品点数が低減される。   As described above, in the second reference embodiment, when the discharge channel 19 is closed, particles are discharged from the discharge port 216 together with the processing liquid through the orifice (discharge channel 220). Further, when the discharge channel 19 is opened, the processing liquid supplied to the inflow port 15 is discharged from the discharge port 17 and the discharge port 216. Since the orifice (discharge flow path 220) has a flow area smaller than the flow areas of the discharge port 17 and the discharge flow path 19, the treatment liquid directed to the discharge port 216 is treated with a process directed to the discharge port 17. A resistance greater than the resistance applied to the liquid is applied. Therefore, the processing liquid is discharged from the discharge port 17 at a sufficient flow rate. Thus, by providing the orifice (discharge channel 220), it is possible to secure the discharge flow rate from the discharge port 17 and discharge particles from the discharge port 216. Therefore, for example, the configuration of the valve 211 is simpler than when the discharge flow rate adjusting mechanism 23 (see, for example, FIG. 2) is provided. Further, the number of parts of the valve 211 is reduced as compared with the case where the discharge flow rate adjusting mechanism 23 is provided.

第３参考形態
図９は、本発明の第３参考形態に係るバルブ３１１の内部構造を説明するための概略図である。図１０は、図９におけるＸ−Ｘ線に沿うバルブ３１１の断面図である。この図９および図１０において、前述の図１〜図８に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。 Third Reference Embodiment FIG. 9 is a schematic diagram for explaining the internal structure of a valve 311 according to a third reference embodiment of the present invention. FIG. 10 is a cross-sectional view of the valve 311 taken along line XX in FIG. 9 and 10, the same components as those shown in FIGS. 1 to 8 are given the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.

この第３参考形態と前述の第２参考形態との主要な相違点は、メイン流路３１８の流路面積が、排出口２１６に向かうに従って連続的に減少していることである。
バルブ３１１は、メイン流路３１８および排出流路３２０を含む。メイン流路３１８および排出流路３２０は、本発明の第３参考形態に係る第１流路である。また、排出流路３２０は、本発明の第２参考形態に係る絞り部である。流入口１５、排出口２１６、吐出口１７、メイン流路３１８、吐出流路１９、および排出流路３２０は、ハウジング３２１に設けられている。ハウジング３２１は、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、それぞれ、流入口１５、吐出口１７、および排出口２１６に接続されている。流入口１５は、メイン流路３１８の一端に設けられている。排出流路３２０は、メイン流路３１８の他端からメイン流路３１８と平行な方向に延びている。排出口２１６は、排出流路３２０によってメイン流路３１８に接続されている。 The main difference between the third reference embodiment and the second reference embodiment described above is that the flow passage area of the main flow passage 318 continuously decreases toward the discharge port 216.
The valve 311 includes a main channel 318 and a discharge channel 320. The main flow path 318 and the discharge flow path 320 are the first flow paths according to the third reference embodiment of the present invention. Moreover, the discharge flow path 320 is a throttle part which concerns on the 2nd reference form of this invention. The inflow port 15, the discharge port 216, the discharge port 17, the main flow path 318, the discharge flow path 19, and the discharge flow path 320 are provided in the housing 321. The housing 321 is made of, for example, a synthetic resin having chemical resistance. The 1st supply piping 8, the 2nd supply piping 9, and the circulation piping 10 are connected to the inflow port 15, the discharge port 17, and the discharge port 216, respectively. The inflow port 15 is provided at one end of the main flow path 318. The discharge channel 320 extends from the other end of the main channel 318 in a direction parallel to the main channel 318. The discharge port 216 is connected to the main flow path 318 by a discharge flow path 320.

また、メイン流路３１８は、接続位置ＣＰ１よりも排出口２１６側に配置された円錐部３１８ａを含む。排出流路３２０は、円錐部３１８ａの頂部に接続されている。したがって、円錐部３１８ａの直径は、排出口２１６に向かうに従って連続的に減少している。すなわち、円錐部３１８ａの流路面積は、排出口２１６に向かうに従って連続的に減少している。円錐部３１８ａの最小流路面積は、たとえば、排出流路３２０の流路面積と等しい。排出流路３２０は、吐出流路１９および吐出口１７の流路面積よりも小さい流路面積を有するオリフィスである。図１０に示すように、円錐部３１８ａ、排出流路３２０、および排出口２１６は、同軸上に配置されている。   Moreover, the main flow path 318 includes a conical portion 318a disposed on the discharge port 216 side with respect to the connection position CP1. The discharge channel 320 is connected to the top of the conical portion 318a. Accordingly, the diameter of the conical portion 318a continuously decreases toward the discharge port 216. That is, the flow path area of the conical portion 318a continuously decreases toward the discharge port 216. The minimum channel area of the conical portion 318a is equal to the channel area of the discharge channel 320, for example. The discharge channel 320 is an orifice having a channel area smaller than the channel areas of the discharge channel 19 and the discharge port 17. As shown in FIG. 10, the conical portion 318a, the discharge flow path 320, and the discharge port 216 are arranged on the same axis.

以上のように第３参考形態では、メイン流路３１８が、接続位置ＣＰ１よりも排出口２１６側に配置された円錐部３１８ａを含む。円錐部３１８ａの流路面積は、排出口２１６に向かうに従って連続的に減少している。したがって、処理液は、接続位置ＣＰ１から排出口２１６に向かってスムーズに流れていく。これにより、接続位置ＣＰ１と排出口２１６との間での処理液のよどみの発生が抑制または防止される。すなわち、処理液が流れずに接続位置ＣＰ１と排出口２１６との間に留まることや、処理液が接続位置ＣＰ１と排出口２１６との間で流れて接続位置ＣＰ１と排出口２１６との間から移動しないことが抑制または防止される。したがって、たとえば、吐出流路１９が閉じられることにより発生したパーティクルは、処理液がよどんでいる位置に溜まることが抑制または防止される。そのため、処理液がよどんでいる位置に溜まったパーティクルが、吐出流路１９が開かれたときに吐出口１７から吐出されることが抑制または防止される。したがって、パーティクルを含む処理液が基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。これにより、基板Ｗの清浄度が高められる。   As described above, in the third reference embodiment, the main flow path 318 includes the conical portion 318a disposed on the discharge port 216 side with respect to the connection position CP1. The flow path area of the conical portion 318a continuously decreases toward the discharge port 216. Therefore, the processing liquid flows smoothly from the connection position CP1 toward the discharge port 216. Thereby, generation | occurrence | production of the stagnation of the process liquid between connection position CP1 and the discharge port 216 is suppressed or prevented. That is, the treatment liquid does not flow and stays between the connection position CP1 and the discharge port 216, or the treatment liquid flows between the connection position CP1 and the discharge port 216 and from between the connection position CP1 and the discharge port 216. It is suppressed or prevented from moving. Therefore, for example, particles generated by closing the discharge flow path 19 are suppressed or prevented from accumulating at a position where the processing liquid is stagnant. Therefore, the particles accumulated at the position where the processing liquid is stagnant are suppressed or prevented from being discharged from the discharge port 17 when the discharge flow path 19 is opened. Therefore, supply of the processing liquid containing particles to the substrate W is suppressed or prevented. Thereby, the cleanliness of the substrate W is increased.

第４参考形態
図１１は、本発明の第４参考形態に係るバルブ４１１の内部構造を説明するための概略図である。この図１１において、前述の図１〜図１０に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
この第４参考形態と前述の第１参考形態との主要な相違点は、バルブ４１１が、距離を隔てて配置された複数の部分に分割されていることである。 Fourth Reference Embodiment FIG. 11 is a schematic view for explaining the internal structure of a valve 411 according to a fourth reference embodiment of the present invention. In FIG. 11, the same components as those shown in FIGS. 1 to 10 described above are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.
The main difference between the fourth reference embodiment and the first reference embodiment described above is that the valve 411 is divided into a plurality of portions arranged at a distance.

バルブ４１１は、メイン流路４１８と、ハウジング４２１と、接続配管４４０とを含む。メイン流路４１８、排出流路２０、および接続配管４４０は、本発明の第４参考形態に係る第１流路である。ハウジング４２１は、第１ハウジング４３８と、第２ハウジング４３９とを含む。第１ハウジング４３８および第２ハウジング４３９は、それぞれ、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。メイン流路４１８は、第１ハウジング４３８に設けられた第１メイン流路４４１と、第２ハウジング４３９に設けられた第２メイン流路４４２とを含む。第１メイン流路４４１および第２メイン流路４４２は、それぞれ、直線状に延びている。第１メイン流路４４１は、第１ハウジング４３８を貫通している。流入口１５は、第１メイン流路４４１の一端に設けられている。また、接続配管４４０は、第１メイン流路４４１の他端に接続されている。さらに、接続配管４４０は、第２メイン流路４４２の一端に接続されている。第１メイン流路４４１および第２メイン流路４４２は、接続配管４４０によって互いに接続されている。流入口１５に供給された処理液は、第１メイン流路４４１および接続配管４４０を通って、第２メイン流路４４２に供給される。   The valve 411 includes a main channel 418, a housing 421, and a connection pipe 440. The main flow path 418, the discharge flow path 20, and the connection pipe 440 are the first flow paths according to the fourth reference embodiment of the present invention. The housing 421 includes a first housing 438 and a second housing 439. The first housing 438 and the second housing 439 are each formed of, for example, a synthetic resin having chemical resistance. The main flow path 418 includes a first main flow path 441 provided in the first housing 438 and a second main flow path 442 provided in the second housing 439. Each of the first main channel 441 and the second main channel 442 extends linearly. The first main flow path 441 passes through the first housing 438. The inflow port 15 is provided at one end of the first main flow path 441. Further, the connection pipe 440 is connected to the other end of the first main flow path 441. Further, the connection pipe 440 is connected to one end of the second main flow path 442. The first main channel 441 and the second main channel 442 are connected to each other by a connection pipe 440. The processing liquid supplied to the inflow port 15 is supplied to the second main flow path 442 through the first main flow path 441 and the connection pipe 440.

また、吐出流路１９および排出流路２０は、それぞれ、第１ハウジング４３８および第２ハウジング４３９に設けられている。また、開閉機構２２および排出流量調整機構２３は、それぞれ、第１ハウジング４３８および第２ハウジング４３９に連結されている。吐出流路１９は、第１メイン流路４４１に直交する方向に延びている。吐出口１７は、吐出流路１９によって第１メイン流路４４１に接続されている。また、排出流路２０は、第２メイン流路４４２に直交する方向に延びている。排出口１６は、排出流路２０によって第２メイン流路４４２に接続されている。第１供給配管８および第２供給配管９は、第１ハウジング４３８に連結されている。第１供給配管８および第２供給配管９は、それぞれ、流入口１５および吐出口１７に接続されている。また、循環配管１０は、第２ハウジング４３９に連結されている。循環配管１０は、排出口１６に接続されている。   Further, the discharge channel 19 and the discharge channel 20 are provided in the first housing 438 and the second housing 439, respectively. The opening / closing mechanism 22 and the discharge flow rate adjusting mechanism 23 are connected to the first housing 438 and the second housing 439, respectively. The discharge channel 19 extends in a direction orthogonal to the first main channel 441. The discharge port 17 is connected to the first main flow path 441 by the discharge flow path 19. Further, the discharge channel 20 extends in a direction orthogonal to the second main channel 442. The discharge port 16 is connected to the second main flow path 442 by the discharge flow path 20. The first supply pipe 8 and the second supply pipe 9 are connected to the first housing 438. The first supply pipe 8 and the second supply pipe 9 are connected to the inflow port 15 and the discharge port 17, respectively. In addition, the circulation pipe 10 is connected to the second housing 439. The circulation pipe 10 is connected to the discharge port 16.

第５実施形態
図１２および図１３は、それぞれ、本発明の第５実施形態に係るバルブ５１１の内部構造を説明するための概略図である。図１４は、図１２におけるＸＩＶ−ＸＩＶ線に沿うバルブ５１１の断面図である。また、図１５は、図１２におけるＸＶ−ＸＶ線に沿うバルブ５１１の断面図である。図１２では、第１弁体５２５が閉位置に位置する状態が示されている。また、図１３では、第１弁体５２５が開位置に位置する状態が示されている。この図１２〜図１５において、前述の図１〜図１１に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。 Fifth Embodiment FIGS. 12 and 13 are schematic views for explaining the internal structure of a valve 511 according to a fifth embodiment of the present invention. 14 is a cross-sectional view of the valve 511 along the line XIV-XIV in FIG. FIG. 15 is a cross-sectional view of the valve 511 taken along line XV-XV in FIG. FIG. 12 shows a state where the first valve body 525 is located at the closed position. Moreover, in FIG. 13, the state which the 1st valve body 525 is located in an open position is shown. 12 to 15, the same components as those shown in FIGS. 1 to 11 described above are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.

この第５実施形態と前述の第１参考形態との主要な相違点は、吐出口５１７からの処理液の吐出、および排出口５１６からの処理液の吐出流量が、１つの弁体（第１弁体５２５）と、１つのアクチュエータ（第１アクチュエータ２４）とによって制御されることである。
バルブ５１１は、メイン流路５１８と、吐出流路５１９と、排出流路５２０とを含む。また、バルブ５１１は、ハウジング５２１と、開閉機構５２２とを含む。メイン流路５１８および排出流路５２０は、本発明の第５実施形態に係る第１流路である。また、吐出流路５１９は、本発明の第５実施形態に係る第２流路である。流入口５１５、排出口５１６、吐出口５１７、メイン流路５１８、吐出流路５１９、および排出流路５２０は、ハウジング５２１に設けられている。ハウジング５２１は、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。第１アクチュエータ２４の第１本体２７は、ハウジング５２１の下に配置されている。第１アクチュエータ２４は、ハウジング５２１の下部に連結されている。また、第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、それぞれ、流入口５１５、吐出口５１７、および排出口５１６に接続されている。第１供給配管８から流入口５１５に供給された処理液は、メイン流路５１８を通って、吐出流路５１９および排出流路５２０に供給される。 The main difference between the fifth embodiment and the first reference embodiment described above is that the discharge of the processing liquid from the discharge port 517 and the discharge flow rate of the processing liquid from the discharge port 516 have one valve body (first It is controlled by the valve body 525) and one actuator (first actuator 24).
The valve 511 includes a main channel 518, a discharge channel 519, and a discharge channel 520. The valve 511 includes a housing 521 and an opening / closing mechanism 522. The main flow path 518 and the discharge flow path 520 are the first flow paths according to the fifth embodiment of the present invention. Moreover, the discharge flow path 519 is a 2nd flow path which concerns on 5th Embodiment of this invention. The inflow port 515, the discharge port 516, the discharge port 517, the main flow channel 518, the discharge flow channel 519, and the discharge flow channel 520 are provided in the housing 521. The housing 521 is made of, for example, a synthetic resin having chemical resistance. The first body 27 of the first actuator 24 is disposed below the housing 521. The first actuator 24 is connected to the lower part of the housing 521. The first supply pipe 8, the second supply pipe 9, and the circulation pipe 10 are connected to an inlet 515, a discharge port 517, and a discharge port 516, respectively. The processing liquid supplied from the first supply pipe 8 to the inlet 515 is supplied to the discharge flow path 519 and the discharge flow path 520 through the main flow path 518.

メイン流路５１８は、たとえば、概ね円柱状である。バルブ５１１は、メイン流路５１８が上下に延びるように配置されている。吐出流路５１９は、ハウジング５２１の外面（図１２および図１３では上面）からハウジング５２１の内部に向かってメイン流路５１８と平行な方向に延びている。吐出流路５１９は、たとえば、円柱状である。メイン流路５１８および吐出流路５１９は、同軸上に配置されている。吐出流路５１９の一部（上端部以外）は、メイン流路５１８の内部に配置されている。メイン流路５１８および吐出流路５１９は、ハウジング５２１の円筒部５２１ａによって同心状に仕切られている。吐出流路５１９は、流入口５１５と排出口５１６との間に設けられた接続位置ＣＰ１においてメイン流路５１８に接続されている。   The main flow path 518 is substantially cylindrical, for example. The valve 511 is disposed so that the main flow path 518 extends vertically. The discharge flow path 519 extends in a direction parallel to the main flow path 518 from the outer surface of the housing 521 (the upper surface in FIGS. 12 and 13) toward the inside of the housing 521. The discharge channel 519 has, for example, a cylindrical shape. The main flow path 518 and the discharge flow path 519 are arranged coaxially. A part of the discharge channel 519 (other than the upper end) is disposed inside the main channel 518. The main flow path 518 and the discharge flow path 519 are concentrically partitioned by the cylindrical portion 521a of the housing 521. The discharge channel 519 is connected to the main channel 518 at a connection position CP1 provided between the inlet 515 and the outlet 516.

また、図１２および図１３に示すように、メイン流路５１８は、筒状流路５４３と、接続流路５４４（交差流路）と、絞り流路５４５（絞り部）と、収容流路５４６とを含む。筒状流路５４３、絞り流路５４５、および収容流路５４６は、上からこの順番で上下に配列されている。筒状流路５４３および収容流路５４６は、絞り流路５４５を介して互いに接続されている。筒状流路５４３は、接続流路５４４によって流入口５１５に接続されている。また、収容流路５４６は、排出流路５２０によって排出口５１６に接続されている。筒状流路５４３は、たとえば、円筒状である。筒状流路５４３は、ハウジング５２１の上部から接続位置ＣＰ１まで吐出流路５１９と平行な方向に延びている。筒状流路５４３は、吐出流路５１９の一部（上端部以外）および接続位置ＣＰ１を取り囲んでいる。   As shown in FIGS. 12 and 13, the main flow path 518 includes a cylindrical flow path 543, a connection flow path 544 (cross flow path), a throttle flow path 545 (throttle section), and a storage flow path 546. Including. The cylindrical channel 543, the throttle channel 545, and the accommodation channel 546 are arranged vertically in this order from above. The cylindrical flow path 543 and the accommodation flow path 546 are connected to each other via the throttle flow path 545. The cylindrical channel 543 is connected to the inflow port 515 by the connection channel 544. In addition, the storage channel 546 is connected to the discharge port 516 by the discharge channel 520. The cylindrical flow path 543 is, for example, cylindrical. The cylindrical flow path 543 extends in a direction parallel to the discharge flow path 519 from the upper portion of the housing 521 to the connection position CP1. The cylindrical channel 543 surrounds a part of the discharge channel 519 (other than the upper end) and the connection position CP1.

また、筒状流路５４３の上端部は、流入口５１５と同じ高さに配置されている。筒状流路５４３の上端部は、接続流路５４４によって流入口５１５に接続されている。流入口５１５には、筒状流路５４３を満たす十分な流量で処理液が供給されている。図１２および図１３に示すように、接続流路５４４は、流入口５１５と同じ高さで筒状流路５４３に直交する方向に延びている。また、図１４に示すように、接続流路５４４は、接続点Ｐ１を含み筒状流路５４３に直交する平面において、接続点Ｐ１と筒状流路５４３の中心Ｃ１とを通る直線Ｌ１に対して交差する方向に延びている。より具体的には、接続流路５４４は、たとえば、筒状流路５４３の接線に沿って延びている。接続点Ｐ１は、たとえば、筒状流路５４３と接続流路５４４との交線（円弧）の中心である。   Further, the upper end portion of the cylindrical channel 543 is disposed at the same height as the inflow port 515. The upper end portion of the cylindrical channel 543 is connected to the inlet 515 by the connection channel 544. The treatment liquid is supplied to the inflow port 515 at a sufficient flow rate that fills the cylindrical flow path 543. As shown in FIGS. 12 and 13, the connection channel 544 extends in the direction perpendicular to the cylindrical channel 543 at the same height as the inflow port 515. Further, as shown in FIG. 14, the connection flow path 544 is relative to a straight line L1 passing through the connection point P1 and the center C1 of the cylindrical flow path 543 on a plane that includes the connection point P1 and orthogonal to the cylindrical flow path 543. Extending in the crossing direction. More specifically, the connection channel 544 extends, for example, along a tangent line of the cylindrical channel 543. The connection point P1 is, for example, the center of an intersection line (arc) between the cylindrical flow path 543 and the connection flow path 544.

また、図１５に示すように、絞り流路５４５は、たとえば、円柱状である。絞り流路５４５および筒状流路５４３は、同軸上に配置されている。絞り流路５４５の直径は、筒状流路５４３の外径よりも小さい。また、第１ダイヤフラム２６は、収容流路５４６に収容されている。第１ダイヤフラム２６は、接続位置ＣＰ１の真下に配置されている。第１ダイヤフラム２６は、第１出力軸２８によって、上下に往復運動される。また、第１弁体５２５は、円筒部５２１ａと第１ダイヤフラム２６との間に配置されている。第１ダイヤフラム２６は、第１弁体５２５および第１出力軸２８に連結されている。第１弁体５２５は、第１円柱部５２５ａを含む。第１円柱部５２５ａ、円筒部５２１ａ、および絞り流路５４５は、同軸上に配置されている。第１円柱部５２５ａの直径は、円筒部５２１ａの外径と等しい。また、図１５に示すように、第１円柱部５２５ａの直径は、絞り流路５４５の直径よりも小さい。   Further, as shown in FIG. 15, the throttle channel 545 has, for example, a cylindrical shape. The throttle channel 545 and the cylindrical channel 543 are arranged coaxially. The diameter of the throttle channel 545 is smaller than the outer diameter of the cylindrical channel 543. Further, the first diaphragm 26 is accommodated in the accommodation flow path 546. The first diaphragm 26 is disposed directly below the connection position CP1. The first diaphragm 26 is reciprocated up and down by the first output shaft 28. The first valve body 525 is disposed between the cylindrical portion 521a and the first diaphragm 26. The first diaphragm 26 is connected to the first valve body 525 and the first output shaft 28. The first valve body 525 includes a first cylindrical portion 525a. The first columnar part 525a, the cylindrical part 521a, and the throttle channel 545 are arranged coaxially. The diameter of the first cylindrical portion 525a is equal to the outer diameter of the cylindrical portion 521a. Further, as shown in FIG. 15, the diameter of the first cylindrical portion 525 a is smaller than the diameter of the throttle channel 545.

第１弁体５２５は、第１ダイヤフラム２６の往復運動に伴って、閉位置（図１２に示す位置）と開位置（図１３に示す位置）との間で移動される。第１弁体５２５が閉位置に配置されると、第１円柱部５２５ａの端面が接続位置ＣＰ１で円筒部５２１ａの下端（第１弁座５３０に相当）に押し付けられる。これにより、吐出流路５１９が閉じられる。また、第１弁体５２５が閉位置から開位置に移動されると、第１円柱部５２５ａが第１弁座５３０から離れる。これにより、吐出流路５１９が開かれる。また、第１弁体５２５が開位置に配置されると、第１円柱部５２５ａが絞り流路５４５に配置される。これにより、絞り流路５４５の流路面積が減少される。第１弁体５２５が開位置に位置する状態での絞り流路５４５の流路面積は、吐出流路５１９および吐出口５１７の流路面積よりも小さい。   The first valve body 525 is moved between a closed position (position shown in FIG. 12) and an open position (position shown in FIG. 13) as the first diaphragm 26 reciprocates. When the first valve body 525 is disposed at the closed position, the end surface of the first columnar part 525a is pressed against the lower end (corresponding to the first valve seat 530) of the cylindrical part 521a at the connection position CP1. Thereby, the discharge flow path 519 is closed. Further, when the first valve body 525 is moved from the closed position to the open position, the first cylindrical portion 525a is separated from the first valve seat 530. Thereby, the discharge flow path 519 is opened. Further, when the first valve body 525 is disposed in the open position, the first cylindrical portion 525a is disposed in the throttle channel 545. Thereby, the channel area of the throttle channel 545 is reduced. The flow passage area of the throttle flow passage 545 in a state where the first valve body 525 is located at the open position is smaller than the flow passage areas of the discharge flow passage 519 and the discharge port 517.

以上のように第５実施形態では、吐出流路５１９が第１弁体５２５によって開閉されるとともに、絞り流路５４５の流路面積が第１弁体５２５によって変更される。第１弁体５２５が第１アクチュエータ２４によって閉位置から開位置に移動されると、吐出流路５１９が開かれるとともに、絞り流路５４５の流路面積が吐出口５１７および吐出流路５１９の流路面積よりも小さくなる。これにより、吐出口５１７からの吐出流量が確保される。また、第１弁体５２５が第１アクチュエータ２４によって開位置から閉位置に移動されると、吐出流路５１９が閉じられるとともに、絞り流路５４５の流路面積が大きくなる。そのため、排出口５１６に向かう処理液の流れが速くなり、バルブ５１１の内部からパーティクルが確実にかつ速やかに排出される。このように、１つの弁体（第１弁体５２５）と、１つのアクチュエータ（第１アクチュエータ２４）とによって吐出口５１７からの処理液の吐出、および排出口５１６からの処理液の吐出流量が制御されるので、バルブ５１１の部品点数の増加が抑制される。   As described above, in the fifth embodiment, the discharge flow path 519 is opened and closed by the first valve body 525 and the flow path area of the throttle flow path 545 is changed by the first valve body 525. When the first valve body 525 is moved from the closed position to the open position by the first actuator 24, the discharge flow path 519 is opened, and the flow path area of the throttle flow path 545 is the flow of the discharge port 517 and the discharge flow path 519. It becomes smaller than the road area. Thereby, the discharge flow rate from the discharge outlet 517 is ensured. Further, when the first valve body 525 is moved from the open position to the closed position by the first actuator 24, the discharge flow path 519 is closed and the flow path area of the throttle flow path 545 is increased. Therefore, the flow of the processing liquid toward the discharge port 516 becomes faster, and particles are reliably and quickly discharged from the inside of the valve 511. As described above, the discharge of the processing liquid from the discharge port 517 and the discharge flow rate of the processing liquid from the discharge port 516 are performed by one valve body (first valve body 525) and one actuator (first actuator 24). Since it is controlled, an increase in the number of parts of the valve 511 is suppressed.

また、第５実施形態では、接続流路５４４が、筒状流路５４３の半径を含む直線Ｌ１に対して交差する方向に延びている。そのため、図１２および図１３に示すように、接続流路５４４から筒状流路５４３に供給された処理液は、一定の方向（筒状流路５４３の周方向の一方）に回転しながら筒状流路５４３の軸方向に移動する。すなわち、筒状流路５４３に供給された処理液が螺旋状に流れ、渦流が筒状流路５４３に形成される。また、吐出流路５１９が第１弁体５２５によって閉じられているときには、第１弁体５２５を取り囲む渦流が筒状流路５４３に形成される。これにより、吐出流路５１９が第１弁体５２５によって閉じられているときに、第１弁体５２５の周りで処理液がよどむことが抑制または防止される。したがって、第１弁体５２５の周りで漂うパーティクルは、吐出流路５１９が閉じられている間に、処理液と共に排出口５１６から排出される。これにより、パーティクルを含む処理液が、吐出口５１７から吐出され、基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。   In the fifth embodiment, the connection channel 544 extends in a direction intersecting the straight line L1 including the radius of the cylindrical channel 543. Therefore, as shown in FIGS. 12 and 13, the processing liquid supplied from the connection channel 544 to the cylindrical channel 543 rotates in a certain direction (one of the circumferential directions of the cylindrical channel 543) while rotating. It moves in the axial direction of the flow channel 543. That is, the processing liquid supplied to the cylindrical flow path 543 flows spirally, and a vortex is formed in the cylindrical flow path 543. Further, when the discharge flow path 519 is closed by the first valve body 525, a vortex flow surrounding the first valve body 525 is formed in the cylindrical flow path 543. Thus, the stagnation of the processing liquid around the first valve body 525 is suppressed or prevented when the discharge flow path 519 is closed by the first valve body 525. Therefore, particles drifting around the first valve body 525 are discharged from the discharge port 516 together with the processing liquid while the discharge flow path 519 is closed. Thereby, it is suppressed or prevented that the processing liquid containing particles is discharged from the discharge port 517 and supplied to the substrate W.

また、第５実施形態では、筒状流路５４３が上下に延びている。接続流路５４４は、接続位置ＣＰ１よりも上に配置されている。接続流路５４４から筒状流路５４３に供給された処理液は、接続位置ＣＰ１に向かって下に流れる。したがって、筒状流路５４３で漂うパーティクルは、処理液の流れに加えて、重力によって下に流される。そのため、第１弁体５２５の周りからパーティクルが確実に除去される。これにより、パーティクルを含む処理液が、吐出口５１７から吐出され、基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。   In the fifth embodiment, the cylindrical channel 543 extends vertically. The connection channel 544 is disposed above the connection position CP1. The processing liquid supplied from the connection channel 544 to the cylindrical channel 543 flows downward toward the connection position CP1. Therefore, the particles drifting in the cylindrical flow channel 543 are caused to flow downward by gravity in addition to the flow of the processing liquid. Therefore, particles are reliably removed from around the first valve body 525. Thereby, it is suppressed or prevented that the processing liquid containing particles is discharged from the discharge port 517 and supplied to the substrate W.

第６実施形態
図１６は、本発明の第６実施形態に係るバルブ６１１の内部構造を説明するための概略図である。また、図１７は、図１６におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線に沿うバルブ６１１の断面図である。この図１６および図１７において、前述の図１〜図１５に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。 Sixth Embodiment FIG. 16 is a schematic view for explaining the internal structure of a valve 611 according to a sixth embodiment of the present invention. FIG. 17 is a sectional view of the valve 611 taken along the line XVII-XVII in FIG. 16 and 17, the same components as those shown in FIGS. 1 to 15 are given the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.

この第６実施形態と前述の第５実施形態との主要な相違点は、筒状流路６４３、吐出流路６１９、および円筒部６２１ａが上下に延長されていることである。
バルブ６１１は、メイン流路６１８、吐出流路６１９、およびハウジング６２１を含む。メイン流路６１８および排出流路５２０は、本発明の第６実施形態に係る第１流路である。また、吐出流路６１９は、本発明の第６実施形態に係る第２流路である。メイン流路６１８は、筒状流路６４３と、接続流路６４４とを含む。筒状流路６４３の上端部は、接続流路６４４によって流入口５１５に接続されている。流入口５１５には、筒状流路６４３を満たす十分な流量で処理液が供給されている。また、ハウジング６２１は、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。ハウジング６２１は、筒状流路６４３および吐出流路６１９を同心状に仕切る円筒部６２１ａを含む。 The main difference between the sixth embodiment and the fifth embodiment described above is that the cylindrical flow path 643, the discharge flow path 619, and the cylindrical portion 621a are extended vertically.
The valve 611 includes a main channel 618, a discharge channel 619, and a housing 621. The main flow path 618 and the discharge flow path 520 are the first flow paths according to the sixth embodiment of the present invention. Moreover, the discharge flow path 619 is a 2nd flow path which concerns on 6th Embodiment of this invention. The main channel 618 includes a cylindrical channel 643 and a connection channel 644. The upper end portion of the cylindrical flow path 643 is connected to the inflow port 515 by the connection flow path 644. The treatment liquid is supplied to the inflow port 515 at a sufficient flow rate that fills the cylindrical flow path 643. The housing 621 is made of, for example, a synthetic resin having chemical resistance. The housing 621 includes a cylindrical portion 621a that concentrically partitions the cylindrical flow path 643 and the discharge flow path 619.

図１６に示すように、接続流路６４４は、筒状流路６４３に直交する方向に延びている。また、図１７に示すように、接続流路６４４は、接続点Ｐ１を含み筒状流路６４３に直交する平面において、接続点Ｐ１と筒状流路６４３の中心Ｃ１とを通る直線Ｌ１に沿って延びている。すなわち、接続流路６４４は、筒状流路６４３の半径を含む直線Ｌ１に沿って延びている。図１７に示すように、筒状流路６４３に向かって接続流路６４４を流れる処理液は、たとえば、接続点Ｐ１でほぼ均等に２つに分かれる。   As shown in FIG. 16, the connection channel 644 extends in a direction orthogonal to the cylindrical channel 643. As shown in FIG. 17, the connection flow path 644 is along a straight line L1 passing through the connection point P1 and the center C1 of the cylindrical flow path 643 on a plane that includes the connection point P1 and is orthogonal to the cylindrical flow path 643. It extends. That is, the connection channel 644 extends along the straight line L1 including the radius of the cylindrical channel 643. As shown in FIG. 17, the processing liquid flowing through the connection flow path 644 toward the cylindrical flow path 643 is divided into two substantially evenly at the connection point P <b> 1, for example.

以上のように第６実施形態では、接続流路６４４が、筒状流路６４３の半径を含む直線Ｌ１に沿って延びている。したがって、図１６に示すように、接続流路６４４から筒状流路６４３に供給された処理液は、たとえば、渦を形成せずに、筒状流路６４３の軸方向に流れる。これにより、接続位置ＣＰ１に向かう筒状の流れが形成される。また、接続流路６４４から筒状流路６４３に処理液が供給される位置と、接続位置ＣＰ１とが十分に離されているので、筒状流路６４３の上流部で処理液のよどみが発生したとしても、接続位置ＣＰ１には安定した処理液の流れが形成される。すなわち、接続位置ＣＰ１を取り囲む筒状の層流が処理液によって形成される。   As described above, in the sixth embodiment, the connection flow path 644 extends along the straight line L1 including the radius of the cylindrical flow path 643. Therefore, as shown in FIG. 16, the processing liquid supplied from the connection channel 644 to the cylindrical channel 643 flows, for example, in the axial direction of the cylindrical channel 643 without forming a vortex. Thereby, a cylindrical flow toward the connection position CP1 is formed. Further, since the position at which the processing liquid is supplied from the connection flow path 644 to the cylindrical flow path 643 is sufficiently separated from the connection position CP1, stagnation of the processing liquid is generated in the upstream portion of the cylindrical flow path 643. Even so, a stable flow of the processing liquid is formed at the connection position CP1. That is, a cylindrical laminar flow surrounding the connection position CP1 is formed by the processing liquid.

接続位置ＣＰ１を取り囲む筒状の層流が筒状流路６４３に形成されるので、吐出流路６１９が第１弁体５２５によって閉じられている状態では、第１弁体５２５を取り囲む層流が処理液によって形成される。これにより、吐出流路６１９が第１弁体５２５によって閉じられているときに、第１弁体５２５の周りで処理液がよどむことが抑制または防止される。したがって、第１弁体５２５の周りで漂うパーティクルは、吐出流路６１９が閉じられている間に、処理液と共に排出口５１６から排出される。そのため、パーティクルを含む処理液が、吐出口５１７から吐出され、基板Ｗに供給されることが抑制または防止される。   Since a cylindrical laminar flow surrounding the connection position CP1 is formed in the cylindrical flow path 643, in a state where the discharge flow path 619 is closed by the first valve body 525, a laminar flow surrounding the first valve body 525 is generated. Formed by treatment liquid. As a result, the stagnation of the processing liquid around the first valve body 525 is suppressed or prevented when the discharge flow path 619 is closed by the first valve body 525. Accordingly, particles drifting around the first valve body 525 are discharged from the discharge port 516 together with the processing liquid while the discharge flow path 619 is closed. Therefore, it is suppressed or prevented that the processing liquid containing particles is discharged from the discharge port 517 and supplied to the substrate W.

第７実施形態
図１８は、本発明の第７実施形態に係るバルブ７１１の内部構造を説明するための概略図である。図１８では、第１弁体７２５が閉位置に位置し、第２弁体７３２が大開位置に位置する状態が示されている。この図１８において、前述の図１〜図１７に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。 7th Embodiment FIG. 18: is the schematic for demonstrating the internal structure of the valve | bulb 711 which concerns on 7th Embodiment of this invention. FIG. 18 shows a state where the first valve body 725 is located at the closed position and the second valve body 732 is located at the large open position. In FIG. 18, the same components as those shown in FIGS. 1 to 17 described above are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

この第７実施形態と前述の第５実施形態との主要な相違点は、吐出流路７１９を開閉する専用の開閉機構７２２と、排出口５１６からの処理液の吐出流量の変更を行う専用の排出流量調整機構７２３とが設けられていることである。
バルブ７１１は、吐出流路７１９（第２流路）を含む。また、バルブ７１１は、ハウジング７２１と、開閉機構７２２と、排出流量調整機構７２３とを含む。流入口５１５、排出口５１６、吐出口７１７、メイン流路５１８、吐出流路７１９、および排出流路５２０は、ハウジング７２１に設けられている。ハウジング７２１は、たとえば、耐薬性を有する合成樹脂によって形成されている。第１アクチュエータ２４の第１本体２７は、ハウジング７２１の上に配置されている。また、第２アクチュエータ３１の第２本体３４は、ハウジング７２１の下に配置されている。第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１は、それぞれ、ハウジング７２１の上部および下部に連結されている。また、第１供給配管８、第２供給配管９、および循環配管１０は、それぞれ、流入口５１５、吐出口７１７、および排出口５１６に接続されている。第１供給配管８から流入口５１５に供給された処理液は、メイン流路５１８を通って、吐出流路７１９および排出流路５２０に供給される。 The main difference between the seventh embodiment and the fifth embodiment described above is that a dedicated opening / closing mechanism 722 that opens and closes the discharge flow path 719 and a dedicated flow rate change of the processing liquid discharged from the discharge port 516 are used. A discharge flow rate adjusting mechanism 723 is provided.
The valve 711 includes a discharge channel 719 (second channel). The valve 711 includes a housing 721, an opening / closing mechanism 722, and a discharge flow rate adjusting mechanism 723. The inflow port 515, the discharge port 516, the discharge port 717, the main flow path 518, the discharge flow path 719, and the discharge flow path 520 are provided in the housing 721. The housing 721 is made of a synthetic resin having chemical resistance, for example. The first body 27 of the first actuator 24 is disposed on the housing 721. The second body 34 of the second actuator 31 is disposed below the housing 721. The first actuator 24 and the second actuator 31 are connected to the upper part and the lower part of the housing 721, respectively. The first supply pipe 8, the second supply pipe 9, and the circulation pipe 10 are connected to an inlet 515, a discharge port 717, and a discharge port 516, respectively. The processing liquid supplied from the first supply pipe 8 to the inlet 515 is supplied to the discharge flow path 719 and the discharge flow path 520 through the main flow path 518.

また、吐出流路７１９は、収容流路７４７と、円柱流路７４８とを含む。収容流路７４７は、メイン流路５１８の上方に配置されている。収容流路７４７は、ハウジング７２１の外面からハウジング７２１の内部に向かって筒状流路５４３に直交する方向に延びている。収容流路７４７は、メイン流路５１８の上方において円柱流路７４８に接続されている。円柱流路７４８は、収容流路７４７から下に延びている。筒状流路５４３および円柱流路７４８は、同軸上に配置されている。円柱流路７４８の一部（上端部以外）は、筒状流路５４３によって取り囲まれている。筒状流路５４３および円柱流路７４８は、ハウジング７２１の円筒部５２１ａによって同心状に仕切られている。円柱流路７４８は、接続位置ＣＰ１においてメイン流路５１８に接続されている。   The discharge channel 719 includes an accommodation channel 747 and a cylindrical channel 748. The storage channel 747 is disposed above the main channel 518. The housing flow path 747 extends from the outer surface of the housing 721 toward the inside of the housing 721 in a direction orthogonal to the cylindrical flow path 543. The accommodation channel 747 is connected to the cylindrical channel 748 above the main channel 518. The cylindrical channel 748 extends downward from the accommodation channel 747. The cylindrical flow path 543 and the cylindrical flow path 748 are arranged coaxially. A part of the cylindrical channel 748 (other than the upper end) is surrounded by the cylindrical channel 543. The cylindrical channel 543 and the column channel 748 are concentrically partitioned by the cylindrical portion 521a of the housing 721. The cylindrical channel 748 is connected to the main channel 518 at the connection position CP1.

また、第１ダイヤフラム２６は、収容流路７４７に収容されている。第１ダイヤフラム２６は、第１アクチュエータ２４の第１出力軸２８によって、筒状流路５４３と平行な方向に往復運動される。また、第１弁体７２５は、第１ダイヤフラム２６の下に配置されている。第１弁体７２５は、軸部７２５ｂと、第１円柱部７２５ａとを含む。軸部７２５ｂは、円筒部５２１ａ内に挿入されている。軸部７２５ｂの上端部は、円筒部５２１ａから突出している。軸部７２５ｂの上端部および下端部は、それぞれ、第１ダイヤフラム２６および第１円柱部７２５ａに連結されている。第１円柱部７２５ａは、円筒部５２１ａの下方に配置されている。第１円柱部７２５ａ、円筒部５２１ａ、および絞り流路５４５は、同軸上に配置されている。第１円柱部７２５ａの外径は、円筒部５２１ａの外径と等しい。   Further, the first diaphragm 26 is accommodated in the accommodation flow path 747. The first diaphragm 26 is reciprocated in a direction parallel to the cylindrical flow path 543 by the first output shaft 28 of the first actuator 24. Further, the first valve body 725 is disposed under the first diaphragm 26. The first valve body 725 includes a shaft portion 725b and a first cylindrical portion 725a. The shaft portion 725b is inserted into the cylindrical portion 521a. The upper end portion of the shaft portion 725b protrudes from the cylindrical portion 521a. The upper end portion and the lower end portion of the shaft portion 725b are connected to the first diaphragm 26 and the first cylindrical portion 725a, respectively. The first columnar portion 725a is disposed below the cylindrical portion 521a. The first columnar portion 725a, the cylindrical portion 521a, and the throttle channel 545 are arranged coaxially. The outer diameter of the first cylindrical portion 725a is equal to the outer diameter of the cylindrical portion 521a.

第１弁体７２５は、第１ダイヤフラム２６の往復運動に伴って、閉位置（図１８に示す位置）と開位置との間で移動される。第１弁体７２５が閉位置に配置されると、第１円柱部７２５ａの端面が接続位置ＣＰ１で円筒部５２１ａの下端（第１弁座５３０に相当）に押し付けられる。これにより、吐出流路７１９が閉じられる。また、第１弁体７２５が閉位置から開位置に移動されると、第１円柱部７２５ａが第１弁座５３０から離れる。これにより、吐出流路７１９が開かれる。   The first valve body 725 is moved between a closed position (position shown in FIG. 18) and an open position as the first diaphragm 26 reciprocates. When the first valve body 725 is disposed at the closed position, the end surface of the first columnar part 725a is pressed against the lower end (corresponding to the first valve seat 530) of the cylindrical part 521a at the connection position CP1. Thereby, the discharge flow path 719 is closed. Further, when the first valve body 725 is moved from the closed position to the open position, the first cylindrical portion 725a is separated from the first valve seat 530. Thereby, the discharge flow path 719 is opened.

また、第２ダイヤフラム３３は、収容流路５４６に収容されている。第２ダイヤフラム３３は、第２アクチュエータ３１の第２出力軸３５によって、筒状流路５４３と平行な方向に往復運動される。また、第２弁体７３２は、円筒部５２１ａと第２ダイヤフラム３３との間に配置されている。第２ダイヤフラム３３は、第２弁体７３２および第２出力軸３５に連結されている。第２弁体７３２は、第２円柱部７３２ａを含む。第２円柱部７３２ａ、円筒部５２１ａ、および絞り流路５４５は、同軸上に配置されている。第２円柱部７３２ａの外径は、円筒部５２１ａの外径と等しい。また、第２円柱部７３２ａの外径は、絞り流路５４５の直径よりも小さい。   Further, the second diaphragm 33 is accommodated in the accommodation flow path 546. The second diaphragm 33 is reciprocated in a direction parallel to the cylindrical flow path 543 by the second output shaft 35 of the second actuator 31. The second valve body 732 is disposed between the cylindrical portion 521a and the second diaphragm 33. The second diaphragm 33 is connected to the second valve body 732 and the second output shaft 35. The second valve body 732 includes a second cylindrical portion 732a. The second columnar part 732a, the cylindrical part 521a, and the throttle channel 545 are arranged coaxially. The outer diameter of the second cylindrical portion 732a is equal to the outer diameter of the cylindrical portion 521a. Further, the outer diameter of the second cylindrical portion 732a is smaller than the diameter of the throttle channel 545.

第２弁体７３２は、第２ダイヤフラム３３の往復運動に伴って、小開位置と大開位置（図１８に示す位置）との間で移動される。小開位置および大開位置は、それぞれ、本発明の第７実施形態に係る第１開位置および第２開位置である。小開位置は、第２円柱部７３２ａが絞り流路５４５に配置される位置である。また、大開位置は、第２円柱部７３２ａが絞り流路５４５の上方に配置される位置である。第２弁体７３２が小開位置に配置されると、第２円柱部７３２ａが絞り流路５４５に配置される。これにより、絞り流路５４５の流路面積が減少する。第２弁体７３２が小開位置に位置する状態での絞り流路５４５の流路面積は、吐出流路７１９および吐出口７１７の流路面積よりも小さい。   The second valve body 732 is moved between a small open position and a large open position (position shown in FIG. 18) as the second diaphragm 33 reciprocates. The small open position and the large open position are respectively a first open position and a second open position according to the seventh embodiment of the present invention. The small opening position is a position where the second cylindrical portion 732a is disposed in the throttle channel 545. The large open position is a position where the second cylindrical portion 732a is disposed above the throttle channel 545. When the second valve body 732 is disposed at the small opening position, the second cylindrical portion 732a is disposed in the throttle channel 545. Thereby, the channel area of the throttle channel 545 is reduced. The flow passage area of the throttle flow passage 545 in a state where the second valve body 732 is located at the small opening position is smaller than the flow passage areas of the discharge flow passage 719 and the discharge port 717.

以上のように第７実施形態では、絞り流路５４５の流路面積を変更する排出流量調整機構７２３が設けられている。排出流量調整機構７２３は、第１弁体７２５とは独立して、第２弁体７３２を小開位置と大開位置との間で移動させることができる。したがって、排出流量調整機構７２３は、吐出流路７１９が閉じられている状態で、第２弁体７３２を大開位置から小開位置に移動させて、絞り流路５４５の流路面積を減少させることができる。これにより、吐出流路７１９が閉じられることによって発生したパーティクルを確実に排出することができるとともに、排出口５１６から吐出される処理液の量（排出量）を低減することができる。   As described above, in the seventh embodiment, the discharge flow rate adjustment mechanism 723 that changes the flow channel area of the throttle flow channel 545 is provided. The discharge flow rate adjusting mechanism 723 can move the second valve body 732 between the small open position and the large open position independently of the first valve body 725. Accordingly, the discharge flow rate adjustment mechanism 723 moves the second valve body 732 from the large open position to the small open position while the discharge flow path 719 is closed, thereby reducing the flow area of the throttle flow path 545. Can do. Thus, particles generated by closing the discharge flow path 719 can be reliably discharged, and the amount of processing liquid discharged from the discharge port 516 (discharge amount) can be reduced.

第８実施形態
図１９は、本発明の第８実施形態に係る基板処理装置８０１の概略構成を示す模式図である。この図１９において、前述の図１〜図１８に示された各部と同等の構成部分については、図１等と同一の参照符号を付してその説明を省略する。
この第８実施形態と前述の第１参考形態との主要な相違点は、基板処理装置８０１が、複数枚の基板Ｗを処理液によって一括して処理するバッチ式の基板処理装置であることである。 Eighth Embodiment FIG. 19 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus 801 according to an eighth embodiment of the present invention. In FIG. 19, the same components as those shown in FIGS. 1 to 18 are given the same reference numerals as those in FIG. 1 and the description thereof is omitted.
The main difference between the eighth embodiment and the first reference embodiment described above is that the substrate processing apparatus 801 is a batch type substrate processing apparatus that collectively processes a plurality of substrates W with a processing liquid. is there.

基板処理装置８０１は、処理液を貯留する処理槽８４９と、複数枚の基板Ｗを一括して保持する保持アーム８５０（基板保持機構）と、処理槽８４９に処理液を供給する処理液供給機構８０４とを含む。処理槽８４９は、複数枚の基板Ｗを収容できる大きさを有している。保持アーム８５０は、複数枚の基板Ｗを垂直姿勢で一括して保持することができるように構成されている。処理槽８４９の上端は開口している。保持アーム８５０は、保持アーム８５０に保持された複数枚の基板Ｗが処理槽８４９内の処理液に浸漬される処理位置と、保持アーム８５０が処理槽８４９の上方に退避する退避位置との間で昇降される。   The substrate processing apparatus 801 includes a processing tank 849 that stores processing liquid, a holding arm 850 (substrate holding mechanism) that holds a plurality of substrates W at once, and a processing liquid supply mechanism that supplies the processing liquid to the processing tank 849. 804. The processing tank 849 has a size that can accommodate a plurality of substrates W. The holding arm 850 is configured to be able to hold a plurality of substrates W at once in a vertical posture. The upper end of the treatment tank 849 is open. The holding arm 850 is between a processing position where the plurality of substrates W held by the holding arm 850 are immersed in the processing liquid in the processing tank 849 and a retreat position where the holding arm 850 is retracted above the processing tank 849. Is lifted up and down.

また、処理液供給機構８０４は、処理液を貯留するタンク６と、処理槽８４９に取り付けられた複数本の噴出管８５１（吐出部材）と、複数の配管（第１供給配管８、第２供給配管９、循環配管１０）と、バルブ１１とを含む。また、処理液供給機構８０４は、第１供給配管８に設けられたポンプ１２、フィルタ１３、およびヒータ１４を含む。タンク６は、第１供給配管８によってバルブ１１に接続されている。バルブ１１は、第２供給配管９によって各噴出管８５１に接続されている。さらに、バルブ１１は、循環配管１０によってタンク６に接続されている。タンク６に貯留された処理液は、ポンプ１２によってバルブ１１に供給される。また、バルブ１１に供給される処理液に含まれるパーティクルは、フィルタ１３によって除去される。さらに、バルブ１１に供給される処理液は、ヒータ１４によって加熱される。   The processing liquid supply mechanism 804 includes a tank 6 for storing the processing liquid, a plurality of ejection pipes 851 (discharge members) attached to the processing tank 849, and a plurality of pipes (first supply pipe 8, second supply). A pipe 9, a circulation pipe 10), and a valve 11 are included. Further, the processing liquid supply mechanism 804 includes a pump 12, a filter 13, and a heater 14 provided in the first supply pipe 8. The tank 6 is connected to the valve 11 by a first supply pipe 8. The valve 11 is connected to each ejection pipe 851 by the second supply pipe 9. Further, the valve 11 is connected to the tank 6 by a circulation pipe 10. The processing liquid stored in the tank 6 is supplied to the valve 11 by the pump 12. Further, particles contained in the processing liquid supplied to the valve 11 are removed by the filter 13. Further, the processing liquid supplied to the valve 11 is heated by the heater 14.

バルブ１１は、制御装置５によって制御される。バルブ１１に供給された処理液が第２供給配管９に供給されると、この処理液は、各噴出管８５１から処理槽８４９内に噴出され、処理槽８４９内に配置された複数枚の基板Ｗに供給される。これにより、複数枚の基板Ｗが処理液によって処理される。また、バルブ１１に供給された処理液が循環配管１０に供給されると、この処理液は、タンク６に戻る。したがって、タンク６内の処理液は、第１供給配管８、バルブ１１、循環配管１０、およびタンク６を循環する。これにより、タンク６内の処理液がヒータ１４によって均一に加熱される。   The valve 11 is controlled by the control device 5. When the processing liquid supplied to the valve 11 is supplied to the second supply pipe 9, the processing liquid is ejected from the ejection pipes 851 into the processing tank 849 and a plurality of substrates disposed in the processing tank 849. Supplied to W. Thereby, the plurality of substrates W are processed with the processing liquid. Further, when the processing liquid supplied to the valve 11 is supplied to the circulation pipe 10, the processing liquid returns to the tank 6. Therefore, the processing liquid in the tank 6 circulates through the first supply pipe 8, the valve 11, the circulation pipe 10, and the tank 6. Thereby, the processing liquid in the tank 6 is uniformly heated by the heater 14.

この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の第１〜第８実施または参考形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。たとえば、第１〜第８実施または参考形態では、吐出流路が第１弁体によって開閉される場合について説明した。しかし、吐出流路は、第１ダイヤフラムによって開閉されてもよい。すなわち、図２０に示す本発明の第９参考形態に係るバルブ９１１のように、第１ダイヤフラム２６が、弁体として機能するように構成されていてもよい。同様に、第２ダイヤフラム３３が、弁体として機能するように構成されてもよい。このバルブ９１１は、メイン流路９１８と、ハウジング９２１とを含む。メイン流路９１８および排出流路２０は、本発明の第９参考形態に係る第１流路である。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the contents of the first to eighth embodiments or the reference embodiments described above, and various modifications can be made within the scope of the claims. Is possible. For example, in the first to eighth embodiments or reference embodiments, the case where the discharge flow path is opened and closed by the first valve body has been described. However, the discharge flow path may be opened and closed by the first diaphragm. That is, like the valve 911 according to the ninth reference embodiment of the present invention shown in FIG. 20, the first diaphragm 26 may be configured to function as a valve body. Similarly, the 2nd diaphragm 33 may be comprised so that it may function as a valve body. The valve 911 includes a main channel 918 and a housing 921. The main flow path 918 and the discharge flow path 20 are the first flow paths according to the ninth reference embodiment of the present invention.

また、第１〜第９実施または参考形態では、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１が、それぞれ、電力によって駆動される場合について説明した。しかし、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１は、電力に限らず、空気圧や油圧によって駆動されてもよい。すなわち、第１アクチュエータ２４および第２アクチュエータ３１は、エアーシリンダであってもよいし、油圧シリンダであってもよい。   In the first to ninth embodiments or the reference embodiments, the case where the first actuator 24 and the second actuator 31 are each driven by electric power has been described. However, the first actuator 24 and the second actuator 31 are not limited to electric power, and may be driven by air pressure or hydraulic pressure. That is, the first actuator 24 and the second actuator 31 may be air cylinders or hydraulic cylinders.

また、前述の第５および第６実施形態（図１２および図１６参照）では、吐出流路５１９、６１９が閉じられているときに、一定の流量で排出口５１６から処理液が吐出される場合について説明した。しかし、排出口５１６からの吐出流量を調整する流量調整バルブが、排出口５１６に接続されていてもよい。この流量調整バルブとしては、たとえば、ニードルバルブや、ボールバルブ、バタフライバルブが挙げられる。   In the fifth and sixth embodiments described above (see FIGS. 12 and 16), the processing liquid is discharged from the discharge port 516 at a constant flow rate when the discharge flow paths 519 and 619 are closed. Explained. However, a flow rate adjustment valve that adjusts the discharge flow rate from the discharge port 516 may be connected to the discharge port 516. Examples of the flow rate adjusting valve include a needle valve, a ball valve, and a butterfly valve.

また、第１〜第９実施または参考形態では、バルブが、ダイヤフラムを備える場合について説明した。しかし、第１〜第９実施または参考形態に係るバルブは、ダイヤフラムを備えていなくもよい。具体的には、第１〜第９実施または参考形態に係るバルブは、ニードルバルブや、ボールバルブ、バタフライバルブなどのダイヤフラムを備えていないバルブであってもよい。
また、第１および第８実施または参考形態では、フィルタ１３が循環配管１０に取り付けられている場合について説明した。しかし、フィルタ１３は、第１供給配管８に取り付けられていてもよいし、第１供給配管８および循環配管１０の両方に取り付けられていてもよい。 In the first to ninth embodiments or reference embodiments, the case where the valve includes a diaphragm has been described. However, the valve according to the first to ninth embodiments or the reference embodiment may not include the diaphragm. Specifically, the valve according to the first to ninth embodiments or the reference embodiment may be a valve that does not include a diaphragm such as a needle valve, a ball valve, or a butterfly valve.
In the first and eighth embodiments or the reference embodiment, the case where the filter 13 is attached to the circulation pipe 10 has been described. However, the filter 13 may be attached to the first supply pipe 8 or may be attached to both the first supply pipe 8 and the circulation pipe 10.

また、第１および第８実施または参考形態では、基板処理装置１、８０１が、第１参考形態に係るバルブ１１を備える場合について説明した。しかし、基板処理装置１、８０１は、他の実施形態に係るバルブを備えていてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。 In the first and eighth embodiments or the reference embodiment, the case where the substrate processing apparatus 1 or 801 includes the valve 11 according to the first reference embodiment has been described. However, the substrate processing apparatuses 1 and 801 may include a valve according to another embodiment.
In addition, various design changes can be made within the scope of matters described in the claims.

１ 基板処理装置
３ スピンチャック（基板保持機構）
４ 処理液供給機構
５ 制御装置
６ タンク（容器）
７ ノズル（吐出部材）
８ 第１供給配管
９ 第２供給配管
１０ 循環配管
１１ バルブ
１２ ポンプ（送液手段）
１３ フィルタ
１５ 流入口
１６ 排出口
１７ 吐出口
１８ メイン流路（第１流路）
１９ 吐出流路（第２流路）
２０ 排出流路（第１流路）
２４ 第１アクチュエータ
２５ 第１弁体
２６ 第１ダイヤフラム（ダイヤフラム）
３１ 第２アクチュエータ
３２ 第２弁体
３７ 第２弁座（絞り部）
２１１ バルブ
２１８ メイン流路（第１流路）
２２０ 排出流路（第１流路、絞り部、オリフィス）
２１６ 排出口
３１１ バルブ
３１８ メイン流路（第１流路）
３２０ 排出流路（第１流路、絞り部、オリフィス）
４１１ バルブ
４１８ メイン流路（第１流路）
４４０ 接続配管（第１流路）
５１１ バルブ
５１５ 流入口
５１６ 排出口
５１７ 吐出口
５１８ メイン流路（第１流路）
５１９ 吐出流路（第２流路）
５２０ 排出流路（第１流路）
５２５ 第１弁体
５４３ 筒状流路
５４４ 接続流路（交差流路）
５４５ 絞り流路（絞り部）
６１１ バルブ
６１８ メイン流路（第１流路）
６１９ 吐出流路（第２流路）
６４３ 筒状流路
６４４ 接続流路
７１１ バルブ
７１７ 吐出口
７１９ 吐出流路（第２流路）
７２５ 第１弁体
７３２ 第２弁体
８０１ 基板処理装置
８０４ 処理液供給機構
８５０ 保持アーム（基板保持機構）
８５１ 噴出管（吐出部材）
９１１ バルブ
９１８ メイン流路（第１流路）
Ｃ１ 中心
ＣＰ１ 接続位置
Ｌ１ 直線
Ｐ１ 接続点
Ｗ 基板 1. Substrate processing apparatus 3. Spin chuck (substrate holding mechanism)
4 Processing liquid supply mechanism 5 Control device 6 Tank (container)
7 Nozzle (Discharge member)
8 First supply pipe 9 Second supply pipe 10 Circulation pipe 11 Valve 12 Pump (liquid feeding means)
13 Filter 15 Inlet 16 Discharge port 17 Discharge port 18 Main channel (first channel)
19 Discharge channel (second channel)
20 Discharge channel (first channel)
24 1st actuator 25 1st valve body 26 1st diaphragm (diaphragm)
31 2nd actuator 32 2nd valve body 37 2nd valve seat (throttle part)
211 Valve 218 Main channel (first channel)
220 Discharge channel (first channel, throttle, orifice)
216 Discharge port 311 Valve 318 Main channel (first channel)
320 discharge channel (first channel, throttle, orifice)
411 Valve 418 Main channel (first channel)
440 Connection piping (first flow path)
511 Valve 515 Inlet 516 Discharge port 517 Discharge port 518 Main channel (first channel)
519 Discharge channel (second channel)
520 discharge channel (first channel)
525 First valve body 543 Tubular channel 544 Connection channel (cross channel)
545 Restricted flow path (restricted part)
611 Valve 618 Main channel (first channel)
619 Discharge flow path (second flow path)
643 Tubular channel 644 Connection channel 711 Valve 717 Discharge port 719 Discharge channel (second channel)
725 First valve body 732 Second valve body 801 Substrate processing apparatus 804 Processing liquid supply mechanism 850 Holding arm (substrate holding mechanism)
851 Jet pipe (discharge member)
911 Valve 918 Main channel (first channel)
C1 Center CP1 Connection position L1 Straight line P1 Connection point W Substrate

Claims (6)

液体が供給される流入口と、
前記流入口に供給された液体を排出する排出口と、
前記流入口に供給された液体を吐出する吐出口と、
前記流入口と前記排出口とを接続する第１流路と、
前記流入口と前記排出口との間に設けられた接続位置において前記第１流路に接続され、前記第１流路と前記吐出口とを接続する第２流路と、
前記第２流路が閉じる閉位置と、前記第２流路が開く開位置とに移動できるように構成された第１弁体と、
前記閉位置と前記開位置との間で前記第１弁体を移動させる第１アクチュエータと、
前記吐出口および第２流路の流路面積よりも小さい流路面積を有し、前記接続位置よりも前記排出口側において前記第１流路に設けられた絞り部とを含み、
前記第１弁体および絞り部は、前記絞り部の流路面積が前記第１弁体の位置によって変化するように構成されており、
前記第１弁体が前記開位置に位置するときの前記絞り部の流路面積は、前記吐出口および第２流路の流路面積よりも小さく、
前記第１弁体が前記閉位置に位置するときの前記絞り部の流路面積は、前記第１弁体が前記開位置に位置するときよりも大きい、バルブ。 An inlet to which liquid is supplied;
An outlet for discharging the liquid supplied to the inlet;
A discharge port for discharging the liquid supplied to the inflow port;
A first flow path connecting the inlet and the outlet;
A second flow path connected to the first flow path at a connection position provided between the inflow port and the discharge port, and connecting the first flow path and the discharge port;
A first valve body configured to be movable between a closed position where the second flow path is closed and an open position where the second flow path is opened;
A first actuator that moves the first valve body between the closed position and the open position;
A flow passage area that is smaller than the flow passage area of the discharge port and the second flow passage, including a throttle portion provided in the first flow passage on the discharge outlet side from the connection position,
The first valve body and the throttle portion are configured such that the flow path area of the throttle portion varies depending on the position of the first valve body,
The flow passage area of the throttle portion when the first valve body is located at the open position is smaller than the flow passage areas of the discharge port and the second flow passage,
The flow path area of the throttle portion when the first valve body is located at the closed position is larger than that when the first valve body is located at the open position. 前記第１流路は、接続流路および筒状流路を含み、
前記接続流路は、前記筒状流路と前記流入口とを接続しており、
前記筒状流路は、前記第２流路と平行に延び、かつ前記第２流路および接続位置を取り囲んでおり、
前記第１弁体の前記閉位置は、前記接続位置に設けられ、前記第１弁体は、前記接続位置で前記第２流路を閉じるように構成されている、請求項１に記載のバルブ。 The first flow path includes a connection flow path and a cylindrical flow path,
The connection channel connects the cylindrical channel and the inflow port,
The cylindrical flow path extends in parallel with the second flow path and surrounds the second flow path and the connection position;
The valve according to claim 1, wherein the closed position of the first valve body is provided at the connection position, and the first valve body is configured to close the second flow path at the connection position. . 前記筒状流路は、前記接続流路が接続された接続点を含み、
前記接続流路は、前記筒状流路に直交し前記接続点を含む平面において、前記接続点と前記筒状流路の中心とを通る直線に対して交差する方向に延びる交差流路を含む、請求項２記載のバルブ。 The cylindrical flow path includes a connection point to which the connection flow path is connected,
The connection flow path includes a cross flow path extending in a direction intersecting with a straight line passing through the connection point and the center of the cylindrical flow path in a plane perpendicular to the cylindrical flow path and including the connection point. The valve according to claim 2. 前記第１弁体および第１アクチュエータに連結されたダイヤフラムをさらに含み、
前記第２流路は、前記ダイヤフラムが前記第１アクチュエータによって往復運動されることにより、前記第１弁体によって開閉される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のバルブ。 A diaphragm connected to the first valve body and the first actuator;
4. The valve according to claim 1, wherein the second flow path is opened and closed by the first valve body when the diaphragm is reciprocated by the first actuator. 5. 基板を保持する基板保持機構と、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のバルブを含み、前記基板保持機構に保持された基板に処理液を供給する処理液供給機構と、
前記バルブを制御する制御装置とを含む、基板処理装置。 A substrate holding mechanism for holding the substrate;
A processing liquid supply mechanism that includes the valve according to claim 1 and supplies a processing liquid to a substrate held by the substrate holding mechanism;
A substrate processing apparatus including a control device for controlling the valve. 前記処理液供給機構は、
処理液を貯留する容器と、
処理液を吐出する吐出部材と、
前記容器と前記バルブの前記流入口とを接続する第１供給配管と、
前記バルブの前記吐出口と前記吐出部材とを接続する第２供給配管と、
前記容器と前記バルブの前記排出口とを接続する循環配管と、
前記第１供給配管を介して前記容器から前記バルブに処理液を送る送液手段と、
前記第１供給配管および循環配管の少なくとも一方に設けられ、処理液をろ過するフィルタとを含む、請求項５記載の基板処理装置。 The treatment liquid supply mechanism is
A container for storing the processing liquid;
A discharge member for discharging the treatment liquid;
A first supply pipe connecting the container and the inlet of the valve;
A second supply pipe connecting the discharge port of the valve and the discharge member;
A circulation pipe connecting the container and the outlet of the valve;
A liquid feeding means for sending a processing liquid from the container to the valve via the first supply pipe;
The substrate processing apparatus according to claim 5, further comprising a filter that is provided in at least one of the first supply pipe and the circulation pipe and filters the processing liquid.
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