JP5554051B2 - Gas barrier film, gas barrier layer, apparatus, and method for producing gas barrier film - Google Patents

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本発明は、ガスバリア性の長期間の経時安定性を確保することができるガスバリア性フィルム及びガスバリア層、及び装置、並びにガスバリア性フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a gas barrier film, a gas barrier layer, an apparatus, and a method for producing a gas barrier film that can ensure long-term stability of gas barrier properties.

ガスバリア性フィルムは、有機ＥＬ素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパー等の装置に対し、それらの性能を劣化させる酸素又は水蒸気等の化学成分の透過を防ぐために好ましく適用されている。特に近年の電子デバイスの高性能化と高品質化に伴い、ガスバリア性フィルムにおいても高いガスバリア性が求められている。   The gas barrier film is preferably applied to devices such as organic EL elements, liquid crystal display elements, thin film transistors, solar cells, touch panels, electronic papers and the like in order to prevent permeation of chemical components such as oxygen or water vapor that degrade their performance. Yes. In particular, with high performance and high quality of electronic devices in recent years, high gas barrier properties are also required for gas barrier films.

最近のガスバリア性フィルムには、プラスチップフィルムと、そのプラスチップフィルム上に設けられた有機層と、その有機層上に設けられた無機層とで構成されているものがある。有機層は、ガスバリア性の無機層の下に平坦化層として設けられ、無機層に生じる欠陥を低減してガスバリア性を高めるという役割を担うとされている。   Some recent gas barrier films include a plus chip film, an organic layer provided on the plus chip film, and an inorganic layer provided on the organic layer. The organic layer is provided as a planarizing layer under the gas barrier inorganic layer, and plays a role of increasing the gas barrier property by reducing defects generated in the inorganic layer.

しかし、無機層を真空蒸着等で形成する場合、有機層中に残存する揮発成分が抜け出して有機層表面に欠陥を生じさせ、その上に成膜する無機層の均一性が低下するという問題があった。こうした問題に対し、特許文献１では、基材フィルム上に、重合性化合物とヒドロキシケトンオリゴマー型開始剤とを用いて有機層を形成し、その上に無機層を形成したバリア性フィルム基板を提案している。このバリア性フィルム基板は、１分子中に２以上の重合開始部位を有する重合開始剤を用いているために、揮発成分である分子量１００〜３００の非ラジカル成分の生成を抑えることができ、その揮発成分の揮発に基づいた欠陥の発生を抑制できるとされている。   However, when the inorganic layer is formed by vacuum deposition or the like, there is a problem in that the volatile components remaining in the organic layer escape, causing defects on the surface of the organic layer, and the uniformity of the inorganic layer formed thereon is reduced. there were. For such problems, Patent Document 1 proposes a barrier film substrate in which an organic layer is formed on a base film using a polymerizable compound and a hydroxyketone oligomer type initiator, and an inorganic layer is formed thereon. doing. Since this barrier film substrate uses a polymerization initiator having two or more polymerization initiation sites in one molecule, generation of a non-radical component having a molecular weight of 100 to 300 as a volatile component can be suppressed. It is said that the occurrence of defects based on volatilization of volatile components can be suppressed.

特開２００９−１７２９８８号公報JP 2009-172988 A

しかしながら、上記重合開始剤を用いた場合であっても、重合性化合物の種類によってはガスバリア性の長期の経時安定性を確保できないという問題があった。具体的には、紫外線硬化樹脂で形成された有機層は、その中に未反応成分や重合開始剤が残っている場合が多く、そのため、外部からの熱又は紫外線等の負荷を受けて徐々に反応が促進したり、未反応のモノマー成分又は重合開始剤が膜中を動いて内部応力の増大やマイクロクラックの発生を引き起こしたりして、ガスバリア性が低下するという問題があった。こうしたガスバリア性の低下は、ガスバリア性フィルムを適用する装置にも悪影響を及ぼし、結果として装置特性が低下するという問題があった。   However, even when the above polymerization initiator is used, there is a problem that long-term stability over time of gas barrier properties cannot be ensured depending on the type of the polymerizable compound. Specifically, an organic layer formed of an ultraviolet curable resin often has unreacted components and a polymerization initiator remaining therein, and therefore, gradually receives an external load such as heat or ultraviolet rays. There is a problem that the gas barrier property is deteriorated because the reaction is promoted or the unreacted monomer component or the polymerization initiator moves in the film to cause an increase in internal stress or generation of microcracks. Such a decrease in gas barrier property also has an adverse effect on an apparatus to which the gas barrier film is applied, resulting in a problem that the apparatus characteristics deteriorate.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、ガスバリア性の長期間の経時安定性を確保することができるガスバリア性フィルム及びガスバリア層を提供することにある。また、本発明の他の目的は、ガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置を提供することにある。また、本発明のさらに他の目的は、ガスバリア性フィルムの製造方法提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a gas barrier film and a gas barrier layer that can ensure long-term stability of gas barrier properties over a long period of time. Another object of the present invention is to provide an apparatus using a gas barrier film or gas barrier layer having excellent gas barrier properties. Another object of the present invention is to provide a method for producing a gas barrier film.

上記課題を解決するための本発明に係るガスバリア性フィルムは、ポリエステル系樹脂基材と、該ポリエステル系樹脂基材上に設けられた有機化合物層と、該有機化合物層上に設けられた無機化合物層とを有し、前記有機化合物層が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した層であることを特徴とする。   A gas barrier film according to the present invention for solving the above problems includes a polyester-based resin substrate, an organic compound layer provided on the polyester-based resin substrate, and an inorganic compound provided on the organic compound layer. And the organic compound layer is a layer polymerized with a polymerizable compound having a polyester-based oligomer and a polymerization initiator composed of a hydroxyketone-based oligomer.

この発明によれば、ポリエステルオリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで有機化合物層を形成するので、モノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いることにより有機化合物層中に残存する成分が有機化合物層中で拘束されると推察され、その結果、外部からの熱や光エネルギー等の負荷を受けた後も有機化合物層中を動けず、モノマーを用いた場合よりも内部応力の増大やマイクロクラックの発生が起こりにくいと推察される。こうした有機化合物層を有するガスバリア性フィルムは、結果としてガスバリア性の長期間の経時安定性を確保することができている。   According to this invention, since the organic compound layer is formed by the polymerizable compound having the polyester oligomer and the polymerization initiator composed of the hydroxyketone oligomer, the use of the oligomer component having a structure larger than that of the monomer allows the organic compound layer to be contained in the organic compound layer. It is inferred that the components remaining in the organic compound layer are constrained in the organic compound layer, and as a result, it does not move in the organic compound layer even after receiving a load such as heat and light energy from the outside, compared with the case of using the monomer It is assumed that the increase in internal stress and the occurrence of microcracks are unlikely to occur. As a result, the gas barrier film having such an organic compound layer can ensure the long-term stability of the gas barrier property.

さらに、この発明によれば、基材としてポリエステル系樹脂基材を用い、有機化合物層を形成する重合性化合物としてポリエステル系オリゴマーを用いるので、基材と重合性化合物とが同種のポリエステル成分となる。その結果、有機化合物層形成時に親和性が増して両者の密着性が向上し、ガスバリア性の長期間の経時安定性の確保に寄与するものと推察される。   Furthermore, according to this invention, since the polyester resin base material is used as the base material and the polyester oligomer is used as the polymerizable compound for forming the organic compound layer, the base material and the polymerizable compound are the same kind of polyester component. . As a result, it is presumed that when the organic compound layer is formed, the affinity is increased and the adhesion between the two is improved, which contributes to ensuring the long-term stability of the gas barrier property.

本発明に係るガスバリア性フィルムにおいて、前記ポリエステル系樹脂基材の他方の面にも、前記有機化合物層と前記無機化合物層とがその順で設けられ、又は、前記無機化合物層が設けられている。この発明によれば、有機化合物層と前記無機化合物層とを又は無機化合物層を、ポリエステル系樹脂基材の反対面にも設け、ガスバリア性をさらに高めることができる。   In the gas barrier film according to the present invention, the organic compound layer and the inorganic compound layer are provided in that order on the other surface of the polyester-based resin substrate, or the inorganic compound layer is provided. . According to this invention, an organic compound layer and the said inorganic compound layer or an inorganic compound layer can also be provided in the other surface of a polyester-type resin base material, and gas barrier property can further be improved.

本発明に係るガスバリア性フィルムにおいて、前記ポリエステル系樹脂基材が、ポリエチレンナフタレートフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであり、前記無機化合物層が、酸化珪素、窒化珪素、及び酸化窒化珪素から選ばれる１種又は２種以上からなる層である。   In the gas barrier film according to the present invention, the polyester-based resin base material is a polyethylene naphthalate film or a polyethylene terephthalate film, and the inorganic compound layer is one or more selected from silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride. It is a layer composed of two or more types.

上記課題を解決するための本発明に係るガスバリア層は、有機化合物層と、該有機化合物層上に設けられた無機化合物層とを有し、前記有機化合物層が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した層であることを特徴とする。   The gas barrier layer according to the present invention for solving the above problems has an organic compound layer and an inorganic compound layer provided on the organic compound layer, and the organic compound layer has a polyester oligomer. It is a layer polymerized with a compound and a polymerization initiator comprising a hydroxyketone oligomer.

この発明によれば、ポリエステルオリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで有機化合物層を形成するので、モノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いることにより有機化合物層中に残存する成分が有機化合物層中で拘束されると推察され、その結果、外部からの熱や光エネルギー等の負荷を受けた後も有機化合物層中を動けず、モノマーを用いた場合よりも内部応力の増大やマイクロクラックの発生が起こりにくいと推察される。こうした有機化合物層を有するガスバリア層は、結果として長期間の経時安定性を確保することができている。   According to this invention, since the organic compound layer is formed by the polymerizable compound having the polyester oligomer and the polymerization initiator composed of the hydroxyketone oligomer, the use of the oligomer component having a structure larger than that of the monomer allows the organic compound layer to be contained in the organic compound layer. It is inferred that the components remaining in the organic compound layer are constrained in the organic compound layer, and as a result, it does not move in the organic compound layer even after receiving a load such as heat and light energy from the outside, compared with the case of using the monomer It is assumed that the increase in internal stress and the occurrence of microcracks are unlikely to occur. As a result, the gas barrier layer having such an organic compound layer can ensure long-term stability over time.

上記課題を解決するための本発明に係る装置は、上記本発明のガスバリア性フィルム又は上記本発明のガスバリア層を用いる表示装置又は発電装置であることを特徴とする。   An apparatus according to the present invention for solving the above problems is a display device or a power generation device using the gas barrier film of the present invention or the gas barrier layer of the present invention.

この発明によれば、長期間の経時安定性を確保できる上記ガスバリア性フィルム又はガスバリア層を、長期間の安定品質が要求される表示装置又は発電装置に用いたので、その表示装置又は発電装置の長期信頼性の向上に寄与することができる。   According to the present invention, since the gas barrier film or gas barrier layer capable of ensuring long-term stability over time is used in a display device or power generation device that requires long-term stable quality, the display device or power generation device It can contribute to the improvement of long-term reliability.

上記課題を解決するための本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法は、ポリエステル系樹脂基材上に、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層上に無機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする。   The method for producing a gas barrier film according to the present invention for solving the above-described problems is obtained by polymerizing a polyester compound base with a polymerizable compound having a polyester oligomer and a polymerization initiator comprising a hydroxyketone oligomer. It has the process of forming an organic compound layer, and the process of forming an inorganic compound layer on the said organic compound layer, It is characterized by the above-mentioned.

この発明によれば、ガスバリア性の長期間の経時安定性を確保したガスバリア性フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a gas barrier film that ensures long-term stability of the gas barrier property over a long period of time.

本発明に係るガスバリア性フィルム及びガスバリア層によれば、モノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いることにより有機化合物層中に残存する成分が有機化合物層中で拘束されると推察されるので、外部からの熱や光エネルギー等の負荷を受けた後も有機化合物層中を動けず、モノマーを用いた場合よりも内部応力の増大が起こりにくく、また、無機化合物層のマイクロクラックの発生も起こりにくいと推察される。また、この効果は、ポリエステル系樹脂基材と有機化合物層との界面でも考えられ、オリゴマー成分を用いることで外部からの熱や光エネルギー等の負荷（脱ガス等）による界面剥離等の現象も抑えられると推察される。その結果、こうした有機化合物層を有するガスバリア性フィルム及びガスバリア層は、結果としてガスバリア性の長期間の経時安定性を確保することができている。   According to the gas barrier film and the gas barrier layer according to the present invention, it is assumed that the component remaining in the organic compound layer is constrained in the organic compound layer by using an oligomer component having a structure larger than that of the monomer. It does not move in the organic compound layer even after receiving a load such as heat or light energy from the inside, and it is less likely to increase internal stress than when using a monomer, and microcracking in the inorganic compound layer is also unlikely to occur. It is guessed. This effect can also be considered at the interface between the polyester-based resin substrate and the organic compound layer. By using the oligomer component, phenomena such as interfacial peeling due to external heat or light energy (degassing, etc.) can also occur. Inferred to be suppressed. As a result, the gas barrier film and the gas barrier layer having such an organic compound layer can ensure the long-term stability of the gas barrier property as a result.

さらに、本発明に係るガスバリア性フィルムによれば、基材と重合性化合物とが同種のポリエステル成分となるので、有機化合物層形成時に親和性が増して両者の密着性が向上し、ガスバリア性の長期間の経時安定性の確保に寄与するものと推察される。   Furthermore, according to the gas barrier film according to the present invention, since the base material and the polymerizable compound are the same kind of polyester component, the affinity is increased at the time of forming the organic compound layer, the adhesion between them is improved, and the gas barrier property is improved. It is assumed that it contributes to securing long-term stability over time.

本発明に係る装置によれば、長期間の経時安定性を確保できる上記ガスバリア性フィルム又はガスバリア層を、長期間の安定品質が要求される表示装置又は発電装置に用いたので、その表示装置又は発電装置の長期信頼性の向上に寄与することができる。   According to the apparatus of the present invention, the gas barrier film or gas barrier layer that can ensure long-term stability over time is used in a display apparatus or power generation apparatus that requires long-term stable quality. This can contribute to improvement of long-term reliability of the power generation device.

本発明に係るガスバリア性フィルムの製造方法によれば、ガスバリア性の長期間の経時安定性を確保したガスバリア性フィルムを提供することができる。   According to the method for producing a gas barrier film according to the present invention, it is possible to provide a gas barrier film that ensures long-term stability of the gas barrier property.

本発明に係るガスバリア性フィルムの一例を示す模式的な断面図である。It is a typical sectional view showing an example of a gas barrier film concerning the present invention. 本発明に係るガスバリア性フィルムの他の一例を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows another example of the gas barrier film which concerns on this invention.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.

［ガスバリア性フィルム及びガスバリア層］
本発明に係るガスバリア性フィルム１０は、図１及び図２に示すように、ポリエステル系樹脂基材１と、ポリエステル系樹脂基材１上に設けられた有機化合物層２と、有機化合物層２上に設けられた無機化合物層３とを有する。そして、有機化合物層２が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した層であることを特徴とする。 [Gas barrier film and gas barrier layer]
As shown in FIGS. 1 and 2, the gas barrier film 10 according to the present invention includes a polyester resin substrate 1, an organic compound layer 2 provided on the polyester resin substrate 1, and an organic compound layer 2. And an inorganic compound layer 3 provided on the substrate. And the organic compound layer 2 is a layer polymerized by the polymeric compound which has a polyester-type oligomer, and the polymerization initiator which consists of a hydroxyketone-type oligomer, It is characterized by the above-mentioned.

また、本発明に係るガスバリア層４は、図１及び図２に示すように、有機化合物層２と、有機化合物層２上に設けられた無機化合物層３とを有し、有機化合物層２が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した層であることを特徴とする。   Moreover, as shown in FIG.1 and FIG.2, the gas barrier layer 4 which concerns on this invention has the organic compound layer 2, and the inorganic compound layer 3 provided on the organic compound layer 2, and the organic compound layer 2 is And a layer polymerized with a polymerizable compound having a polyester oligomer and a polymerization initiator comprising a hydroxyketone oligomer.

本発明では、ポリエステルオリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで有機化合物層２を形成する。重合性化合物及び重合開始剤としてモノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いるので、有機化合物層中に残存するオリゴマー成分が有機化合物層中で拘束されるものと推察される。その結果、残存するオリゴマー成分は、外部からの熱や光エネルギー等の負荷を受けた後も有機化合物層中を動けず、モノマーを用いた場合よりも内部応力の増大やマイクロクラックの発生が起こりにくいものと推察される。こうした有機化合物層２を有するガスバリア性フィルム１０及びガスバリア層４は、後述の実施例に記載のように、ガスバリア性の長期間の経時安定性を確保することができている。   In the present invention, the organic compound layer 2 is formed of a polymerizable compound having a polyester oligomer and a polymerization initiator made of a hydroxyketone oligomer. Since an oligomer component having a structure larger than that of the monomer is used as the polymerizable compound and the polymerization initiator, it is assumed that the oligomer component remaining in the organic compound layer is restrained in the organic compound layer. As a result, the remaining oligomer component does not move in the organic compound layer even after receiving external loads such as heat and light energy, resulting in an increase in internal stress and generation of microcracks compared to the case of using a monomer. Inferred to be difficult. The gas barrier film 10 and the gas barrier layer 4 having such an organic compound layer 2 can ensure the long-term stability of the gas barrier property over a long period of time as described in Examples below.

なお、有機化合物層２と無機化合物層３と（これら２層で「ガスバリア層４」ともいう。）は、図１に示すようにポリエステル系樹脂基材１の一方の面Ｓ１にその順で少なくとも設けられるが、図２に示すように他方の面Ｓ２にも有機化合物層２’と無機化合物層３’と（これら２層で「ガスバリア層４’」ともいう。）をその順で設けてもよい。また、他方の面Ｓ２には、図１に示すように、有機化合物層２’を設けずに無機化合物層３’を設けてもよい。他方の面Ｓ２にも、無機化合物層３’を設け（図１）又はガスバリア層４’（有機化合物層２’と無機化合物層３’）を設けることにより、ガスバリア性をさらに高めることができる。   The organic compound layer 2 and the inorganic compound layer 3 (these two layers are also referred to as “gas barrier layer 4”) are at least in this order on one surface S1 of the polyester-based resin substrate 1 as shown in FIG. As shown in FIG. 2, an organic compound layer 2 ′ and an inorganic compound layer 3 ′ (also referred to as “gas barrier layer 4 ′” in these two layers) may be provided in that order on the other surface S2. Good. Further, as shown in FIG. 1, an inorganic compound layer 3 'may be provided on the other surface S2 without providing the organic compound layer 2'. By providing the inorganic compound layer 3 ′ (FIG. 1) or the gas barrier layer 4 ′ (organic compound layer 2 ′ and inorganic compound layer 3 ′) also on the other surface S <b> 2, the gas barrier property can be further improved.

以下、ガスバリア性フィルム及びガスバリア層の構成要素を詳しく説明する。   Hereinafter, components of the gas barrier film and the gas barrier layer will be described in detail.

（ポリエステル系樹脂基材）
ポリエステル系樹脂基材１は、ポリエステル系樹脂を少なくとも有機化合物層２側に有するフィルム状基材である。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、これらの共重合体、及びポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）等を挙げることができる。ポリエステル系樹脂のうちでも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、及びこれらの共重合体が好ましい。 (Polyester resin base material)
The polyester-based resin substrate 1 is a film-shaped substrate having a polyester-based resin at least on the organic compound layer 2 side. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), copolymers thereof, and polycyclohexanedimethylene terephthalate (PCT). Among the polyester resins, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and copolymers thereof are preferable.

ポリエステル系樹脂基材１は、その全てがポリエステル系樹脂からなるフィルム状基材であってもよいし、有機化合物層２が形成される側（図１における片面Ｓ１又は図２における両面Ｓ１，Ｓ２）に少なくともポリエステル系樹脂層が形成されているフィルム状積層基材であってもよい。このフィルム状積層基材において、有機化合物層２が形成されるポリエステル系樹脂層以外の層は、ポリエステル系樹脂層でなくてもよい。ポリエステル系樹脂層以外の層の種類の選定にあたっては、耐熱性、熱膨張、光透過性等を考慮して各種の樹脂層が任意に選定される。   The polyester-based resin substrate 1 may be a film-shaped substrate that is entirely made of a polyester-based resin, or the side on which the organic compound layer 2 is formed (one side S1 in FIG. 1 or both sides S1, S2 in FIG. 2). ) May be a film-like laminated base material in which at least a polyester-based resin layer is formed. In this film-like laminated substrate, layers other than the polyester resin layer on which the organic compound layer 2 is formed may not be a polyester resin layer. In selecting a layer type other than the polyester-based resin layer, various resin layers are arbitrarily selected in consideration of heat resistance, thermal expansion, light transmittance, and the like.

ポリエステル系樹脂基材１の厚さは特に限定されないが、全てがポリエステル系樹脂からなるフィルム状基材の場合は、厚さが１０μｍ以上５００μｍ以下程度であることが好ましい。一方、ポリエステル系樹脂層を有するフィルム状積層基材の場合は、ポリエステル系樹脂層の厚さが１０μｍ以上４００μｍで、そのポリエステル系樹脂層を含む全体の厚さが１２μｍ以上５００μｍ以下程度であることが好ましい。   Although the thickness of the polyester-type resin base material 1 is not specifically limited, In the case of the film-like base material which consists entirely of a polyester-type resin, it is preferable that thickness is about 10 micrometers or more and 500 micrometers or less. On the other hand, in the case of a film-like laminated substrate having a polyester resin layer, the thickness of the polyester resin layer is 10 μm or more and 400 μm, and the total thickness including the polyester resin layer is about 12 μm or more and 500 μm or less. Is preferred.

ポリエステル系樹脂基材１の表面は、必要に応じて、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、加熱処理、薬品処理、及び易接着処理等の表面処理を行ってもよい。こうした表面処理の具体的な方法は従来公知のものを適宜用いることができる。また、有機化合物層２を直接形成しない側の面には、他の機能層を設けてもよい。機能層の例としては、マット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。   The surface of the polyester resin substrate 1 is subjected to surface treatment such as corona treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, heat treatment, chemical treatment, and easy adhesion treatment as necessary. Also good. As a specific method of such surface treatment, a conventionally known method can be appropriately used. Moreover, you may provide another functional layer in the surface of the side which does not form the organic compound layer 2 directly. Examples of functional layers include matting agent layers, protective layers, antistatic layers, smoothing layers, adhesion improving layers, light shielding layers, antireflection layers, hard coat layers, stress relaxation layers, antifogging layers, antifouling layers, coatings. A printing layer, an easily bonding layer, etc. are mentioned.

このポリエステル系樹脂基材１上には、後述するように、ポリエステル系オリゴマーを重合性化合物とする有機化合物層２が設けられる。こうした構成を有するガスバリア性フィルム１０は、ポリエステル系樹脂基材１と有機化合物層２との密着性が良く、ガスバリア性が長期に渡って確保される。その理由は、基材成分と有機化合物層成分とが同種のポリエステル成分であるので、有機化合物層形成時に親和性が増して両者の密着性が向上し、ガスバリア性の長期間の経時安定性の確保に寄与するものと推察される。   On this polyester-type resin base material 1, the organic compound layer 2 which makes a polyester-type oligomer a polymeric compound is provided so that it may mention later. The gas barrier film 10 having such a configuration has good adhesion between the polyester resin substrate 1 and the organic compound layer 2 and ensures gas barrier properties over a long period of time. The reason is that since the base material component and the organic compound layer component are the same polyester component, the affinity is increased during the formation of the organic compound layer, the adhesion between them is improved, and the long-term stability of the gas barrier property is improved. It is assumed that it contributes to securing.

（有機化合物層）
有機化合物層２は、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とを有する有機化合物層用組成物を重合させてなる層であり、上述したポリエステル系樹脂基材１上に直接設けられる。本発明では、有機化合物層用組成物として、重合性化合物と重合開始剤とを含む電離放射線硬化樹脂組成物が好ましく用いられる。電離放射線とは、紫外線又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、Ｘ線、γ線等の電磁波、或いはα線等の荷電粒子線を挙げることができる。こうした電離放射線を電離放射線硬化樹脂組成物に照射して重合性化合物を架橋重合等させることにより、有機化合物層２を形成できる。 (Organic compound layer)
The organic compound layer 2 is a layer obtained by polymerizing a composition for an organic compound layer having a polymerizable compound having a polyester-based oligomer and a polymerization initiator composed of a hydroxyketone-based oligomer. 1 is directly provided. In the present invention, an ionizing radiation curable resin composition containing a polymerizable compound and a polymerization initiator is preferably used as the composition for the organic compound layer. The ionizing radiation is typically ultraviolet rays or electron beams, but other examples include electromagnetic waves such as visible rays, X rays and γ rays, and charged particle beams such as α rays. The organic compound layer 2 can be formed by irradiating the ionizing radiation curable resin composition with such ionizing radiation to cause the polymerizable compound to undergo cross-linking polymerization.

重合性化合物は、ポリエステル系オリゴマーを用いる。ポリエステル系オリゴマーは、２官能基以上を有する多官能の電離放射線硬化型のアクリル系化合物の一つである。電離放射線硬化型のアクリル系化合物としては、例えば、紫外線硬化樹脂層を構成するポリエステルアクリレートオリゴマーを主成分とする樹脂を挙げることができ、具体的には、ポリエステルの構造単位の繰り返しの数が２〜５０、好ましくは２〜２０の重合体中に、アクリレート基を結合させた化合物を挙げることができる。そうしたポリエステルアクリレートオリゴマーとしては、特に東亞合成株式会社製のアロニックスＭ−８０３０、８０６０、９０５０（いずれも商品名）が、重合時の収縮が小さく、紫外線照射による分解反応が遅いことから、好ましい。   A polyester-based oligomer is used as the polymerizable compound. The polyester oligomer is one of polyfunctional ionizing radiation curable acrylic compounds having two or more functional groups. Examples of the ionizing radiation curable acrylic compound include a resin mainly composed of a polyester acrylate oligomer constituting an ultraviolet curable resin layer. Specifically, the number of repeating structural units of the polyester is 2. A compound having an acrylate group bonded to a polymer of ˜50, preferably 2˜20 can be mentioned. As such a polyester acrylate oligomer, Aronix M-8030, 8060 and 9050 (all trade names) manufactured by Toagosei Co., Ltd. are preferable because they have a small shrinkage during polymerization and a slow decomposition reaction by ultraviolet irradiation.

なお、ポリエステルアクリレートオリゴマーは、ポリオールと二塩基酸とで合成したポリエステル骨格に残ったヒドロキシ基に、（メタ）アクリル酸を縮合してアクリレートオリゴマーにしたものである。具体的には、無水フタル酸とプロピオンオキサイドとアクリル酸との反応物、アジピン酸と１，６−ヘキサンジオールとアクリル酸との反応物、トリメリット酸とジエチレングリコールとアクリル酸との反応物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   The polyester acrylate oligomer is an acrylate oligomer obtained by condensing (meth) acrylic acid with a hydroxy group remaining in a polyester skeleton synthesized with a polyol and a dibasic acid. Specifically, a reaction product of phthalic anhydride, propion oxide and acrylic acid, a reaction product of adipic acid, 1,6-hexanediol and acrylic acid, a reaction product of trimellitic acid, diethylene glycol and acrylic acid, etc. It can be mentioned, but is not limited to these.

本発明では、このポリエステル系オリゴマーのみを含む重合性化合物であってもよいし、ポリエステル系オリゴマーを主成分として含み、副成分として他のオリゴマー又はプレポリマーを含むものであってもよい。ここで、「主成分として含む」とは、ポリエステル系オリゴマーが、全重合性化合物の６０％（重量比）以上、好ましくは６６％（２／３）以上であることをいい、したがって、「副成分」とは、全重合性化合物の４０％（重量比）未満、好ましくは３３％（１／３）であることをいう。なお、オリゴマーとは、モノマーでない分子量数千レベルまでのものであり、化合物の分子構造に依存するので分子量で正確に特定することはできないが、およそ、３００〜４０００程度ということができる。
In this invention, the polymeric compound containing only this polyester-type oligomer may be included, and the polyester-type oligomer may be included as a main component and another oligomer or prepolymer may be included as a subcomponent. Here, “including as a main component” means that the polyester-based oligomer is 60% (weight ratio) or more, preferably 66% (2/3) or more of the total polymerizable compound. "Component" means less than 40% (weight ratio) of the total polymerizable compound, preferably 33% (1/3). An oligomer is a monomer having a molecular weight of up to several thousand levels, and depends on the molecular structure of the compound, and thus cannot be specified accurately by molecular weight, but can be about 300 to 4000.

ポリエステル系オリゴマーと共に混合可能な副成分としてのオリゴマー又プレポリマーとしては、上記配合比の範囲内で、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリマーを挙げることができる。これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能オリゴマー又プレポリマー並びに多官能オリゴマー又プレポリマーを挙げることができ、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のオリゴマー又プレポリマーが挙げられる。本明細書において「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、副成分は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。   As an oligomer or prepolymer that can be mixed with the polyester oligomer, the polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol can be used within the above blend ratio. Examples include oligomers or prepolymers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyene resins and polyhydric alcohols. Specific examples thereof may include monofunctional oligomers or prepolymers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, and polyfunctional oligomers or prepolymers. , Polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Examples thereof include oligomers and prepolymers such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate. In this specification, “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate. Moreover, a subcomponent may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.

本発明では、前記したポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリマーを、ポリエステル系オリゴマーと併用しないで用いることはできない。その理由は、ガスバリア性の長期間の経時安定性を達成できないからである。   In the present invention, the above-mentioned polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, oligomer such as (meth) acrylate of polyfunctional compound such as polyhydric alcohol, or the like The prepolymer cannot be used without being used in combination with the polyester-based oligomer. This is because the long-term stability over time of the gas barrier property cannot be achieved.

重合開始剤は、ヒドロキシケトン系オリゴマーを用いる。ヒドロキシケトン系オリゴマーとしては、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］等が挙げられる。
As the polymerization initiator, a hydroxyketone oligomer is used. Examples of the hydroxyketone oligomer include oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone] and the like.

重合開始剤の配合量は特に限定されないが、良好な重合が行われるという観点から、重合性化合物１００重量部に対して０．１〜５重量部程度添加することが好ましい。   Although the compounding quantity of a polymerization initiator is not specifically limited, From a viewpoint that favorable superposition | polymerization is performed, it is preferable to add about 0.1-5 weight part with respect to 100 weight part of polymeric compounds.

溶剤は、塗布液の粘度調整の見地から、有機化合物層用組成物に応じて任意に混合される。溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；又はこれらの混合物を挙げることができる。   A solvent is arbitrarily mixed according to the composition for organic compound layers from the viewpoint of viscosity adjustment of a coating liquid. Solvents include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; aromatic carbonization such as toluene and xylene Mention may be made of hydrogen; or mixtures thereof.

有機化合物層用組成物を構成する重合性化合物と重合開始剤との混合比は、重量比で、１００：０．１〜１００：２０の範囲であることが好ましく、１００：０．５〜１００：１０の範囲であることがより好ましい。   The mixing ratio of the polymerizable compound constituting the composition for an organic compound layer and the polymerization initiator is preferably in the range of 100: 0.1 to 100: 20 by weight, and 100: 0.5 to 100 : More preferably, it is in the range of 10.

有機化合物層用組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、必要に応じて適宜添加剤を添加する。添加剤としては、例えば、光増感剤、熱安定剤、ラジカル捕捉剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、色素（着色染料、着色顔料）、体質顔料、光拡散剤等が挙げられる。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。   Additives are appropriately added to the composition for an organic compound layer as necessary within a range not inhibiting the effects of the present invention. Examples of additives include photosensitizers, heat stabilizers, radical scavengers, plasticizers, surfactants, antistatic agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, and pigments (colored dyes and colored pigments). ), Extender pigments, light diffusing agents and the like. As a photosensitizer, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be mixed and used.

有機化合物層２は、ポリエステル系樹脂基材１上に上記有機化合物層用組成物を塗布し、塗布後の塗膜に電離放射線を照射して架橋重合等させて形成する。塗布方法は、後述の「製造方法」欄で説明する塗布方法から選択して適用できる。このときの電離放射線の照射も、後述の「製造方法」欄で説明する電離放射線及び電離放射線照射装置を任意に選択して適用できる。   The organic compound layer 2 is formed by applying the composition for an organic compound layer on the polyester-based resin substrate 1 and irradiating the coating film after the application with ionizing radiation to cause crosslinking polymerization. The application method can be selected and applied from the application methods described in the “Manufacturing method” section below. Irradiation with ionizing radiation at this time can also be applied by arbitrarily selecting ionizing radiation and an ionizing radiation irradiating apparatus described in the “Manufacturing method” section below.

有機化合物層２は、一回の成膜回数で形成してなる単層でも、２回以上の成膜回数で形成してなる２層以上の層であってもよい。２層以上の場合、本発明の構成要素を満たせば、各層は同じ有機化合物層用組成物を用いてもよいし、異なる有機化合物層用組成物を用いてもよい。有機化合物層２の厚さは、単層又は２層以上に関わらず、基板のたわみの観点から０．１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、さらに表面性や生産性の観点を加えると１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。   The organic compound layer 2 may be a single layer formed by one film formation or may be two or more layers formed by two or more film formations. In the case of two or more layers, each layer may use the same organic compound layer composition or different organic compound layer compositions as long as the constituent elements of the present invention are satisfied. The thickness of the organic compound layer 2 is preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less from the viewpoint of substrate deflection, regardless of whether it is a single layer or two or more layers. More preferably, it is 10 μm or less.

（無機化合物層）
無機化合物層３は、水蒸気等のガスを遮断するバリア層として、有機化合物層２上に形成される。無機化合物層３の形成材料としては、例えば、無機酸化物、無機酸化窒化物、無機窒化物、無機酸化炭化物、及び無機酸化炭化窒化物等から選ばれる１又は２以上の無機化合物を挙げることができる。具体的には、珪素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウム、及びセリウムから選ばれる１種又は２種以上の元素を含有する無機化合物を挙げることができ、より具体的には、珪素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物、チタン酸化物、スズ酸化物、及びインジウム合金酸化物等の無機酸化物；珪素窒化物、アルミニウム窒化物、及びチタン窒化物等の無機窒化物；酸化窒化珪素等の無機酸化窒化珪素；を挙げることができる。特に好ましくは、酸化珪素、窒化珪素、及び酸化窒化珪素から選ばれる１又は２以上の無機化合物を挙げることができる。無機化合物層３は上記材料を単独で用いてもよいし、本発明の要旨の範囲内で上記材料を任意の割合で混合して用いてもよい。 (Inorganic compound layer)
The inorganic compound layer 3 is formed on the organic compound layer 2 as a barrier layer that blocks gas such as water vapor. Examples of the material for forming the inorganic compound layer 3 include one or more inorganic compounds selected from inorganic oxides, inorganic oxynitrides, inorganic nitrides, inorganic oxide carbides, inorganic oxycarbonitrides, and the like. it can. Specific examples include inorganic compounds containing one or more elements selected from silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium, and cerium, and more specifically, silicon oxide. Inorganic oxides such as aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, and indium alloy oxide; inorganic nitrides such as silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride; silicon oxynitride, etc. And inorganic silicon oxynitride. Particularly preferable examples include one or more inorganic compounds selected from silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride. For the inorganic compound layer 3, the above materials may be used alone, or the above materials may be mixed and used at an arbitrary ratio within the scope of the present invention.

無機化合物層３の厚さは、使用する無機化合物によっても異なるが、ガスバリア性確保の見地から、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、また、クラック等の発生を抑制する見地から、通常５０００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下である。また、無機化合物層３は１層であってもよいし、合計厚さが上記範囲内となる２層以上の無機化合物層３であってもよい。２層以上の無機化合物層３の場合には、同じ材料同士を組み合わせてもよいし、異なる材料同士を組み合わせてもよい。   Although the thickness of the inorganic compound layer 3 varies depending on the inorganic compound to be used, it is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more from the viewpoint of securing gas barrier properties, and usually 5000 nm from the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks and the like. Hereinafter, it is preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less. The inorganic compound layer 3 may be a single layer or two or more inorganic compound layers 3 having a total thickness within the above range. In the case of two or more inorganic compound layers 3, the same materials may be combined or different materials may be combined.

（その他の構成）
ガスバリア性フィルム１０は、上述のとおり、ポリエステル系樹脂基材１、有機化合物層２、及び無機化合物層３で構成されているが、例えば、これら以外の層を有機化合物層２と無機化合物層３との間に適宜挿入したり、ポリエステル系樹脂基材１の有機化合物層２が形成されていない側の面Ｓ２に積層したり、無機化合物層３上又は無機化合物層３’上に積層したりしてもよい。任意の層としては、本発明の特徴を阻害しない範囲で、例えば、従来公知のプライマー層、マット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。 (Other configurations)
As described above, the gas barrier film 10 is composed of the polyester-based resin substrate 1, the organic compound layer 2, and the inorganic compound layer 3. For example, layers other than these include the organic compound layer 2 and the inorganic compound layer 3. Or a layer on the surface S2 of the polyester-based resin substrate 1 where the organic compound layer 2 is not formed, or a layer on the inorganic compound layer 3 or the inorganic compound layer 3 ′. May be. As an optional layer, as long as the characteristics of the present invention are not impaired, for example, a conventionally known primer layer, matting agent layer, protective layer, antistatic layer, smoothing layer, adhesion improving layer, light shielding layer, antireflection layer, Examples include a hard coat layer, a stress relaxation layer, an antifogging layer, an antifouling layer, a printing layer, and an easy adhesion layer.

従来の構成によれば、有機化合物層中に残存するモノマー成分は、無機化合物層側とポリエステル系樹脂基材側の両方向に拡散し、無機化合物層側では、無機化合物層のマイクロクラックの原因となり、ポリエステル系樹脂基材側では、有機化合物層とポリエステル系樹脂基材との界面剥離の原因となると考えられ、いずれもガスバリア性の長期間の経時安定性の悪化を生じさせていたと推察される。しかしながら、上記構成の有機化合物層２は、モノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いており、有機化合物層２中に残存する成分が有機化合物層２中で拘束されると推察される。そのため、外部からの熱や光エネルギー等の負荷を受けた後も有機化合物層２中を動けず、モノマーを用いた場合よりも内部応力の増大が起こりにくく、また、無機化合物層のマイクロクラックの発生も起こりにくいと推察される。また、この効果は、ポリエステル系樹脂基材と有機化合物層との界面でも考えられ、オリゴマー成分を用いることで外部からの熱や光エネルギー等の負荷（脱ガス等）による界面剥離等の現象も抑えられると推察される。   According to the conventional configuration, the monomer component remaining in the organic compound layer diffuses in both directions of the inorganic compound layer side and the polyester resin base material side, and causes micro cracks in the inorganic compound layer on the inorganic compound layer side. On the polyester-based resin substrate side, it is considered that it causes interface peeling between the organic compound layer and the polyester-based resin substrate, and it is speculated that both have caused deterioration of long-term stability of gas barrier properties. . However, the organic compound layer 2 having the above structure uses an oligomer component having a structure larger than that of the monomer, and it is assumed that the component remaining in the organic compound layer 2 is restrained in the organic compound layer 2. Therefore, the organic compound layer 2 cannot move in the organic compound layer 2 even after receiving a load such as heat or light energy from the outside, and an increase in internal stress is less likely to occur than when a monomer is used. Presumed to be less likely to occur. This effect can also be considered at the interface between the polyester-based resin substrate and the organic compound layer. By using the oligomer component, phenomena such as interfacial peeling due to external heat or light energy (degassing, etc.) can also occur. Inferred to be suppressed.

こうして構成された本発明に係るガスバリア性フィルム１０は、作製直後の初期水蒸気ガスバリア性が０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、しかも温度４０℃・湿度９０％の恒温恒湿槽に４００時間保存した加速試験後の水蒸気ガスバリア性も０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、長期間の経時安定性を示した。特に好ましい構成では、温度４０℃・湿度９０％の恒温恒湿槽に１０００時間保存した加速試験後の水蒸気ガスバリア性も０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、極めて長期間の経時安定性を示した。なお、水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、型名：ＡＱＵＡＴＲＡＮ）を用いて行った結果で評価した。 The gas barrier film 10 according to the present invention constructed in this way has an initial water vapor gas barrier property immediately after production of less than 0.01 g / m 2 · day and 400 hours in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90%. The water vapor gas barrier property after the stored acceleration test was also less than 0.01 g / m 2 · day, indicating long-term stability over time. In a particularly preferred configuration, the water vapor gas barrier property after the accelerated test stored in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% for less than 0.01 g / m 2 · day is also very long-term stability. Indicated. In addition, the water vapor transmission rate was evaluated based on the result of using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by MOCON, model name: AQUATRAN).

［製造方法］
本発明に係るガスバリア性フィルム１０の製造方法は、ポリエステル系樹脂基材１上に、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とで重合した有機化合物層２を形成する工程と、有機化合物層２上に無機化合物層３を形成する工程と、を有する。以下、各工程について説明する。 [Production method]
In the method for producing a gas barrier film 10 according to the present invention, an organic compound layer 2 polymerized with a polymerizable compound having a polyester oligomer and a polymerization initiator made of a hydroxyketone oligomer on a polyester resin substrate 1 is used. A step of forming, and a step of forming the inorganic compound layer 3 on the organic compound layer 2. Hereinafter, each step will be described.

（有機化合物層形成工程）
有機化合物層形成工程は、ポリエステル系樹脂基材１上に、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、ヒドロキシケトン系オリゴマーからなる重合開始剤とを有する有機化合物層用組成物で有機化合物層２を形成する工程である。通常、ポリエステル系樹脂基材１上に電離放射線硬化樹脂組成物（紫外線硬化樹脂組成物等）を塗布し、その塗膜に電離放射線（紫外線等）を照射し、電離放射線硬化樹脂組成物を重合硬化させて有機化合物層２を形成する。なお、電離放射線硬化樹脂組成物を構成する重合性化合物と重合開始剤等については、上記「有機化合物層」の説明欄で説明したとおりであるので、ここではその説明を省略する。 (Organic compound layer formation process)
In the organic compound layer forming step, the organic compound layer 2 is composed of a composition for an organic compound layer having a polymerizable compound having a polyester oligomer and a polymerization initiator comprising a hydroxyketone oligomer on the polyester resin substrate 1. It is a process of forming. Usually, an ionizing radiation curable resin composition (such as an ultraviolet curable resin composition) is applied onto the polyester resin substrate 1, and the coating film is irradiated with ionizing radiation (such as ultraviolet light) to polymerize the ionizing radiation curable resin composition. The organic compound layer 2 is formed by curing. Note that the polymerizable compound, the polymerization initiator, and the like constituting the ionizing radiation curable resin composition are as described in the description section of the above “organic compound layer”, and thus the description thereof is omitted here.

電離放射線硬化樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスロールコート法、リバースロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、及びダイコート法等を挙げることができる。   Examples of the application method of the ionizing radiation curable resin composition include a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss roll coating method, a reverse roll coating method, a Miya bar coating method, a gravure coating method, a spin coating method, and a die coating method. Can be mentioned.

電離放射線硬化樹脂組成物の塗布後は、必要に応じて乾燥を行う。乾燥温度は、常温であってもよいが、電離放射線硬化樹脂組成物が溶剤を含有する場合には、溶剤を除去するための乾燥を、溶剤の沸点以上の温度で行うことが好ましい。電離放射線としては既述したとおりであるが、電離放射線として紫外線を適用する場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が用いられる。   After application of the ionizing radiation curable resin composition, drying is performed as necessary. The drying temperature may be room temperature, but when the ionizing radiation curable resin composition contains a solvent, drying for removing the solvent is preferably performed at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent. Although ionizing radiation is as described above, when ultraviolet rays are applied as ionizing radiation, for example, a light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, a metal halide lamp Is used.

（無機化合物層形成工程）
無機化合物層形成工程は、有機化合物層２上に無機化合物層用材料を堆積して無機化合物層３を形成する工程である。無機化合物層用材料は、上記「無機化合物層」の説明欄で説明したとおりであるので、ここではその説明を省略する。 (Inorganic compound layer forming step)
The inorganic compound layer forming step is a step of depositing an inorganic compound layer material on the organic compound layer 2 to form the inorganic compound layer 3. The material for the inorganic compound layer is as described in the explanation section of the “inorganic compound layer”, and the description thereof is omitted here.

無機化合物層３の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法又はプラズマ化学気相成長法等を好ましく挙げることができる。こうした各種の形成方法での成膜条件は、得ようとする無機化合物層３の物性及び厚さ等を考慮し、従来公知の成膜条件を適宜調整して行えばよい。   As a method for forming the inorganic compound layer 3, for example, a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method can be preferably exemplified. The film forming conditions in these various forming methods may be adjusted by appropriately adjusting conventionally known film forming conditions in consideration of the physical properties and thickness of the inorganic compound layer 3 to be obtained.

より具体的には、（１）無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、又は金属等の原料を基材上に加熱蒸着させる真空蒸着法、（２）原料に酸素ガスを導入して酸化させ、基材に蒸着させる酸化反応蒸着法、（３）ターゲット原料にアルゴンガス、酸素ガスを導入してスパッタリングすることにより、基材に堆積させるスパッタリング法、（４）原料をプラズマガンで発生させたプラズマビームで加熱させ、基材に堆積させるイオンプレーティング法、（５）有機珪素化合物を原料とし、酸化珪素膜を基材に堆積させるプラズマ化学気相成長法、等を利用することができる。   More specifically, (1) a vacuum vapor deposition method in which a raw material such as an inorganic oxide, inorganic nitride, inorganic oxynitride, or metal is heated and deposited on a substrate, and (2) oxygen gas is introduced into the raw material. Oxidation reaction vapor deposition method to oxidize and deposit on the substrate, (3) Sputtering method to deposit on the substrate by introducing argon gas and oxygen gas into the target material and sputtering, (4) Generate the material with plasma gun An ion plating method in which the substrate is heated with a plasma beam and deposited on a substrate, and (5) a plasma chemical vapor deposition method in which an organic silicon compound is used as a raw material and a silicon oxide film is deposited on the substrate. it can.

なお、ガスバリア性フィルム１０が、上述した他の機能層を有する場合には、それらの層の形成工程が任意に含まれる。   In addition, when the gas barrier film 10 has the other functional layer mentioned above, the formation process of those layers is included arbitrarily.

［装置］
本発明に係る装置は、上記本発明のガスバリア性フィルム１０又は上記本発明のガスバリア層４を用いる表示装置又は発電装置である。上記したガスバリア性フィルム１０及びガスバリア層４はいずれも長期間の経時安定性を有するので、そのガスバリア性フィルム１０又はガスバリア層４を用いた表示装置及び発電装置は、その品質特性を低下させる水蒸気等のガス成分の影響を排除できる。その結果、表示装置又は発電装置の長期信頼性を図ることができる。 [apparatus]
The device according to the present invention is a display device or a power generator using the gas barrier film 10 of the present invention or the gas barrier layer 4 of the present invention. Since both the gas barrier film 10 and the gas barrier layer 4 have a long-term stability over time, the display device and the power generation device using the gas barrier film 10 or the gas barrier layer 4 have water vapor and the like that deteriorate the quality characteristics thereof. The influence of the gas component can be eliminated. As a result, long-term reliability of the display device or the power generation device can be achieved.

表示装置としては、例えば、有機ＥＬ素子、液晶表示素子、タッチパネル、電子ペーパー等を挙げることができる。また、これらの表示装置をアクティブマトリックス駆動する薄膜トランジスタも、この表示装置に含まれる。なお、これら各表示装置の構成は特に限定されず、それぞれ従来公知の構成を適宜採用することができ、且つそうした各表示装置に適用するガスバリア性フィルム１０又はガスバリア層４による封止手段も特に限定されず、従来公知の手段とすることができる。   Examples of the display device include an organic EL element, a liquid crystal display element, a touch panel, and electronic paper. A thin film transistor that drives these display devices in an active matrix is also included in the display device. In addition, the configuration of each of these display devices is not particularly limited, and a conventionally known configuration can be appropriately adopted, and the sealing means by the gas barrier film 10 or the gas barrier layer 4 applied to each of such display devices is also particularly limited. Instead, a conventionally known means can be used.

具体的には、例えば、有機ＥＬ素子としては、本発明に係るガスバリア性フィルム１０上に陰極と陽極を有し、両電極の間に、有機発光層（単に「発光層」ともいう。）を含む有機層を有するものを挙げることができる。発光層を含む有機層の積層態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。また、陽極と正孔輸送層との間に正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間に電子注入層を有してもよい。また、発光層は一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層及び第三発光層等のように発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。なお、有機ＥＬ素子は発光素子であることから、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明であることが好ましい。   Specifically, for example, as an organic EL element, a cathode and an anode are provided on the gas barrier film 10 according to the present invention, and an organic light emitting layer (also simply referred to as “light emitting layer”) is provided between both electrodes. The thing which has an organic layer to include can be mentioned. As a lamination | stacking aspect of the organic layer containing a light emitting layer, the aspect laminated | stacked in order of the positive hole transport layer, the light emitting layer, and the electron carrying layer from the anode side is preferable. Furthermore, a charge blocking layer or the like may be provided between the hole transport layer and the light-emitting layer, or between the light-emitting layer and the electron transport layer. Further, a hole injection layer may be provided between the anode and the hole transport layer, and an electron injection layer may be provided between the cathode and the electron transport layer. Further, the light emitting layer may be only one layer, or the light emitting layer may be divided like a first light emitting layer, a second light emitting layer, a third light emitting layer, and the like. Furthermore, each layer may be divided into a plurality of secondary layers. Since the organic EL element is a light emitting element, at least one of the anode and the cathode is preferably transparent.

発電装置としては、例えば、太陽電池素子（太陽電池モジュール）を挙げることができる。発電装置の構成は特に限定されず、従来公知の構成を適宜採用することができる。さらに、そうした発電装置に適用するガスバリア性フィルム１０又はガスバリア層４による封止手段も特に限定されず、従来公知の手段とすることができる。例えば、ガスバリア性フィルム１０を太陽電池素子の裏面保護シートとして用いることができる。   Examples of the power generation device include a solar cell element (solar cell module). The configuration of the power generation device is not particularly limited, and a conventionally known configuration can be appropriately employed. Furthermore, the sealing means by the gas barrier film 10 or the gas barrier layer 4 applied to such a power generator is not particularly limited, and may be a conventionally known means. For example, the gas barrier film 10 can be used as a back surface protection sheet for solar cell elements.

具体的には、例えば、太陽電池モジュールとしては、本発明に係るガスバリア性フィルム１０を太陽電池バックシートとして使用した例を挙げることができる。こうした太陽電池モジュールは、太陽光側から厚さ方向に順に、前面基材（ガラス又はフィルム等の高光線透過性を有するもの）、充填材、太陽電池素子、リード線、端子、端子ボックス、太陽電池バックシートの構成で、それらがシール材を介して両端の外装材（アルミ枠等）に固定されている。その太陽電池バックシートとしては、裏面封止用フィルムと、外層側に配置されるフィルムとの間に、本発明に係るガスバリア性シート１０を挟んで構成される例を挙げることができる。裏面封止用フィルムとしては、太陽電池モジュール側で太陽光を反射して電換効率を高めるべく、高度な反射率を有する例えば白色のポリエステルフィルム等が使用される。また、外層側に配置されるフィルムとしては、耐候性、耐加水分解性フィルム等が使用される。   Specifically, for example, as a solar cell module, an example in which the gas barrier film 10 according to the present invention is used as a solar cell back sheet can be given. Such solar cell modules are, in order from the sunlight side in the thickness direction, a front substrate (having high light transmittance such as glass or film), filler, solar cell element, lead wire, terminal, terminal box, solar In the configuration of the battery back sheet, they are fixed to exterior materials (such as aluminum frames) at both ends via a sealing material. As the solar cell back sheet, an example in which the gas barrier sheet 10 according to the present invention is sandwiched between the back surface sealing film and the film disposed on the outer layer side can be given. As the back surface sealing film, for example, a white polyester film having a high reflectivity is used so as to reflect sunlight on the solar cell module side and increase the conversion efficiency. Moreover, as a film arrange | positioned at the outer layer side, a weather resistance, a hydrolysis resistance film, etc. are used.

本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the description of the following examples unless it exceeds the gist.

［実施例１］
まず、ポリエステル系樹脂基材１として、一方の面Ｓ２（図１参照）に易接着処理が施された厚さ１００μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレンフィルム（ＰＥＮフィルム、帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：Ｑ６５Ｆ）を用いた。このポリエステル系樹脂基材１上に、下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（１）をダイコート法で塗布し、１２０℃で３分間乾燥させた後、紫外線照射ランプを用い、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射し、厚さ２μｍの有機化合物層２を形成した。 [Example 1]
First, as the polyester-based resin substrate 1, a polyethylene-2,6-naphthalene film (PEN film, manufactured by Teijin DuPont Film Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and subjected to an easy adhesion treatment on one surface S2 (see FIG. 1), Trade name: Q65F) was used. An ultraviolet curable resin layer ink (1) having the following composition was applied on the polyester resin substrate 1 by a die coating method, dried at 120 ° C. for 3 minutes, and then an accumulated light amount of 500 mJ / cm using an ultraviolet irradiation lamp. ultraviolet ray was irradiated with 2 conditions, to form an organic compound layer 2 having a thickness of 2 [mu] m.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（１）の組成）
・ポリエステルオリゴマー（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−８０３０）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (1))
Polyester oligomer (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M-8030): 38 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4 -Methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

次に、ガスバリア性の無機化合物層３をスパッタリング法で形成した。具体的には、有機化合物層２を形成したポリエステル系樹脂基材１を、バッチ式スパッタリング装置（アネルバ株式会社製、型名：ＳＰＦ−５３０Ｈ）のチャンバー内に、有機化合物層側に成膜する向きに設置し、珪素をターゲット材として搭載した。ターゲットと、有機化合物層２が形成されたポリエステル系樹脂基材１との距離は５０ｍｍに設定した。成膜時の添加ガスとして、窒素ガスとアルゴンガスを用いた。チャンバー内を２．５×１０−４Ｐａまで減圧した後、チャンバー内に窒素ガスを流量１５ｓｃｃｍで導入し、アルゴンガスを流量２０ｓｃｃｍで導入した。そして、チャンバー内圧力を０．２５Ｐａに保ち、ＲＦマグネトロンスパッタリング法により、投入電力１．２ｋＷで、有機化合物層上に厚さ８０ｎｍの酸化窒化珪素層（無機化合物層３）を形成した。なお、ｓｃｃｍとは、ｓｔａｎｄａｒｄ ｃｕｂｉｃ ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ ｐｅｒ ｍｉｎｕｔｅの略である。 Next, a gas barrier inorganic compound layer 3 was formed by a sputtering method. Specifically, the polyester-based resin base material 1 on which the organic compound layer 2 is formed is formed on the organic compound layer side in the chamber of a batch type sputtering apparatus (manufactured by Anerva Corporation, model name: SPF-530H). It was installed in the direction and silicon was mounted as a target material. The distance between the target and the polyester resin substrate 1 on which the organic compound layer 2 was formed was set to 50 mm. Nitrogen gas and argon gas were used as additive gases during film formation. After reducing the pressure in the chamber to 2.5 × 10 −4 Pa, nitrogen gas was introduced into the chamber at a flow rate of 15 sccm, and argon gas was introduced at a flow rate of 20 sccm. Then, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) having a thickness of 80 nm was formed on the organic compound layer by an RF magnetron sputtering method with an input power of 1.2 kW while maintaining the pressure in the chamber at 0.25 Pa. Note that sccm is an abbreviation for standard cubic centimeter per minute.

最後に、ポリエステル系樹脂基材１の反対側の面Ｓ２（易接着処理面）に、上記無機化合物層３と同様の手順で厚さ８０ｎｍの酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）を形成し、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例１のガスバリア性フィルムを得た。   Finally, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) having a thickness of 80 nm is formed on the surface S2 (easy adhesion treatment surface) on the opposite side of the polyester-based resin base material 1 in the same procedure as the inorganic compound layer 3 described above. Layer structure of silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) A gas barrier film of Example 1 was obtained.

［実施例２］
実施例１において、ポリエステル系樹脂基材１の反対側の面Ｓ２上に、実施例１の有機化合物層２と同様の手順で厚さ２μｍの有機化合物層２’を形成し、その後、実施例１の無機化合物層３’と同様の手順で厚さ８０ｎｍの酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）を形成し、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例２のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 2]
In Example 1, an organic compound layer 2 ′ having a thickness of 2 μm was formed on the opposite surface S2 of the polyester-based resin substrate 1 in the same manner as the organic compound layer 2 of Example 1, and then Example A silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) having a thickness of 80 nm is formed in the same procedure as that of the inorganic compound layer 3 ′, and a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / ultraviolet curable resin layer (organic compound) Gas barrier film of Example 2 having a layer structure of layer 2 ′) / PEN film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) Got.

［実施例３］
実施例１において、ポリエステル系樹脂基材１として、厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ４３００）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＴフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例３のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 3]
In Example 1, a 188 μm thick polyester film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A4300) was used as the polyester-based resin substrate 1 in the same manner as in Example 1, except for oxynitriding. Example comprising a layer structure of silicon layer (inorganic compound layer 3 ′) / PET film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) No. 3 gas barrier film was obtained.

［実施例４］
実施例２において、ポリエステル系樹脂基材１として、厚さ１８８μｍのポリエステルフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ４３００）を用いた他は、実施例２と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２’）／ＰＥＴフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例４のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 4]
In Example 2, a 188 μm thick polyester film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A4300) was used as the polyester-based resin base material 1 in the same manner as in Example 2 for oxynitriding. Silicon layer (inorganic compound layer 3 ′) / UV curable resin layer (organic compound layer 2 ′) / PET film (polyester resin substrate 1) / UV curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic A gas barrier film of Example 4 having a layer structure of Compound Layer 3) was obtained.

［実施例５］
実施例１において、下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（２）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例５のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 5]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN film (polyester resin group) was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (2) having the following composition was used. A gas barrier film of Example 5 having a layer structure of material 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（２）の組成）
・ポリエステルオリゴマー（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−８０３０）：１９重量部
・ビスフルオレン型エポキシアクリレート／ビスフェニルテトラカルボン酸共重合体:１９重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (2))
Polyester oligomer (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M-8030): 19 parts by weight Bisfluorene type epoxy acrylate / bisphenyltetracarboxylic acid copolymer: 19 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［実施例６］
実施例１において、下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（３）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例６のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 6]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN film (polyester resin group) was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (3) having the following composition was used. A gas barrier film of Example 6 having a layer structure of material 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（３）の組成）
・ポリエステルオリゴマー（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−８０３０）：２４重量部
・ビスフルオレン型エポキシアクリレート／ビスフェニルテトラカルボン酸共重合体:１６重量部
・トルエン（溶剤）：５８重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (3))
Polyester oligomer (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M-8030): 24 parts by weight Bisfluorene type epoxy acrylate / bisphenyltetracarboxylic acid copolymer: 16 parts by weight Toluene (solvent): 58 parts by weight-Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［実施例７］
実施例１において、下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（４）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる実施例７のガスバリア性フィルムを得た。 [Example 7]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN film (polyester resin group) was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (4) having the following composition was used. A gas barrier film of Example 7 having a layer structure of material 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（４）の組成）
・ポリエステルオリゴマー（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−８０３０）：２４重量部
・エポキシアクリレート（重合性ポリマー、大日本インキ株式会社製、商品名：Ｖ−５５０２）１６重量部（なお、ポリエステルオリゴマー：エポキシアクリレート＝３：２）
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (4))
Polyester oligomer (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M-8030): 24 parts by weight Epoxy acrylate (polymerizable polymer, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., trade name: V-5502) 16 parts by weight (Note that polyester oligomer: epoxy acrylate = 3: 2)
-Toluene (solvent): 60 parts by weight-Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［比較例１］
実施例１において、光重合開始剤を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（５）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例１のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 1]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / in the same manner as in Example 1 except that the UV curable resin layer ink (5) having the following composition in which the photopolymerization initiator was changed was used. A gas barrier film of Comparative Example 1 having a layer structure of PEN film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（５）の組成）
・ポリエステルオリゴマー（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−８０３０）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（モノマー系光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (5))
Polyester oligomer (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M-8030): 38 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (initiating monomer-based photopolymerization Agent, Nippon Ciba Geigy Co., Ltd., trade name: Irgacure 184): 2 parts by weight

［比較例２］
実施例１において、重合性化合物と光重合開始剤を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（６）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例２のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 2]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer) was used in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable compound and the photopolymerization initiator were changed and the ultraviolet curable resin layer ink (6) having the following composition was used. 3 ′) / PEN film (polyester resin substrate 1) / UV curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) Obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（６）の組成）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（重合性化合物、日本化薬株式会社製、商品名：ＰＥＴ−３０）：２０重量部
・イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート（重合性化合物、東亜合成株式会社製、商品名：Ｍ−２１５）：２０重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（モノマー系光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (6))
Pentaerythritol triacrylate (polymerizable compound, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: PET-30): 20 parts by weight Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (polymerizable compound, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: M -215): 20 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (monomer-based photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Geigy Japan, Inc., trade name: Irgacure 184): 2 parts by weight

［比較例３］
実施例１において、重合性化合物と光重合開始剤を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（７）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例３のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 3]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer) was used in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable compound and the photopolymerization initiator were changed and the ultraviolet ray curable resin layer ink (7) having the following composition was used. 3 ′) / PEN film (polyester resin substrate 1) / UV curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) Obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（７）の組成）
・ポリウレタンオリゴマー（重合性化合物、日本合成化学株式会社製、商品名：紫光）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（モノマー系光重合開始剤、日本チバガイギー株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (7))
・ Polyurethane oligomer (polymerizable compound, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: purple light): 38 parts by weight ・ Toluene (solvent): 60 parts by weight ・ 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (monomer-based photopolymerization initiator) Product name: Irgacure 184): 2 parts by weight

［比較例４］
実施例１において、重合性化合物を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（８）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例４のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 4]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (8) having the following composition in which the polymerizable compound was changed was used. A gas barrier film of Comparative Example 4 having a layer structure of film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（８）の組成）
・エポキシ系シリコーン樹脂（重合性化合物、信越化学株式会社製、商品名：Ｘ−４０−２６７０）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (8))
Epoxy silicone resin (polymerizable compound, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-40-2670): 38 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [ 1- (4-Methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［比較例５］
実施例１において、重合性化合物を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（９）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例５のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 5]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (9) having the following composition in which the polymerizable compound was changed was used. A gas barrier film of Comparative Example 5 having a layer structure of film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（９）の組成）
・エポキシアクリレート（重合性化合物、大日本インキ株式会社製、商品名：Ｖ−５５０２）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (9))
Epoxy acrylate (polymerizable compound, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., trade name: V-5502): 38 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- ( 4-methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［比較例６］
実施例１において、重合性化合物を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（１０）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例６のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 6]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (10) having the following composition in which the polymerizable compound was changed was used. A gas barrier film of Comparative Example 6 having a layer structure of film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（１０）の組成）
・エポキシアクリレート（重合性化合物、大日本インキ株式会社製、商品名：Ｖ−４２６０）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (10))
-Epoxy acrylate (polymerizable compound, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., trade name: V-4260): 38 parts by weight-Toluene (solvent): 60 parts by weight-Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- ( 4-methylvinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［比較例７］
実施例１において、重合性化合物を変更した下記組成の紫外線硬化樹脂層用インキ（１１）を用いた他は、実施例１と同様にして、酸化窒化珪素層（無機化合物層３’）／ＰＥＮフィルム（ポリエステル系樹脂基材１）／紫外線硬化樹脂層（有機化合物層２）／酸化窒化珪素層（無機化合物層３）、の層構成からなる比較例７のガスバリア性フィルムを得た。 [Comparative Example 7]
In Example 1, a silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3 ′) / PEN was used in the same manner as in Example 1 except that the ultraviolet curable resin layer ink (11) having the following composition in which the polymerizable compound was changed was used. A gas barrier film of Comparative Example 7 having a layer structure of film (polyester resin substrate 1) / ultraviolet curable resin layer (organic compound layer 2) / silicon oxynitride layer (inorganic compound layer 3) was obtained.

（紫外線硬化樹脂層用インキ（１１）の組成）
・シリコーンアクリレート（重合性化合物、ＡＤＥＫＡ製、商品名：：Ｖ−５４０）：３８重量部
・トルエン（溶剤）：６０重量部
・オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］（光重合開始剤、ｌａｍｂｅｒｔｉ社製、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ）：２重量部 (Composition of UV curable resin layer ink (11))
Silicone acrylate (polymerizable compound, manufactured by ADEKA, trade name: V-540): 38 parts by weight Toluene (solvent): 60 parts by weight Oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methyl) Vinyl) phenyl] propanone] (photopolymerization initiator, manufactured by Lamberti, trade name: ESACURE ONE): 2 parts by weight

［評価と結果］
（ガスバリア性の測定方法）
実施例１〜７及び比較例１〜７のガスバリア性フィルムについて、作製直後の水蒸気透過率（初期水蒸気ガスバリア性）の測定を行った。測定は、温度３７．８℃、湿度１００％ＲＨの条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、商品名：ＡＱＵＡＴＲＡＮ）を用いて行った。その結果を表１に示す。 [Evaluation and results]
(Measurement method of gas barrier properties)
About the gas-barrier film of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7, the water-vapor-permeation rate (initial water vapor gas barrier property) immediately after preparation was measured. The measurement was performed using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by MOCON, trade name: AQUATRAN) under conditions of a temperature of 37.8 ° C. and a humidity of 100% RH. The results are shown in Table 1.

（保存試験）
実施例１〜７及び比較例１〜７のガスバリア性フィルムについて、初期水蒸気ガスバリア性が０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満のものに対して保存試験を行った。保存試験の条件は、温度４０℃、湿度９０％の恒温恒湿層にて、２００時間、４００時間、１０００時間それぞれ保存し、各時間経過後のガスバリア性を前記測定方法で評価した。その結果を表１に示す。なお、ガスバリア性が０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上となった時点で、それ以後の保存試験は中止した。 (Preservation test)
About the gas-barrier film of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-7, the preservation | save test was done with respect to the thing whose initial water vapor | steam gas-barrier property is less than 0.01 g / m < 2 > * day. The conditions of the storage test were as follows: 200 hours, 400 hours, and 1000 hours, respectively, in a constant temperature and humidity layer having a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90%, and the gas barrier properties after each time elapsed were evaluated by the measurement method. The results are shown in Table 1. In addition, when the gas barrier property became 0.01 g / m 2 · day or more, the subsequent storage test was stopped.

Figure 0005554051
Figure 0005554051

（結果）
表１に示すように、実施例１〜７は、作製直後の初期水蒸気ガスバリア性が０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、しかも４００時間保存した後の水蒸気ガスバリア性も０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、長期間の経時安定性を示した。また、実施例３を除いては１０００時間保存した後の水蒸気ガスバリア性も０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であり、極めて長期間の経時安定性を示した。こうした良好な長期間の経時安定性は、ポリエステル系樹脂基材１と有機化合物層２の重合性化合物とが同種のポリエステル成分であるため、有機化合物層形成時に親和性が増して両者の密着性が向上し、ガスバリア性の長期間の経時安定性の確保に寄与するものと推察され、さらには、モノマーよりも構造の大きいオリゴマー成分を用いることにより有機化合物層２中に残存する成分が有機化合物層２中で拘束されると推察され、その結果、保存試験後であっても、ガスバリア性を低下させる内部応力の増大やマイクロクラックの発生が起こりにくいためであろうと推察される。 (result)
As shown in Table 1, in Examples 1 to 7, the initial water vapor gas barrier property immediately after production is less than 0.01 g / m 2 · day, and the water vapor gas barrier property after storage for 400 hours is also 0.01 g / m. It was less than 2 · day and showed long-term stability over time. Except for Example 3, the water vapor gas barrier property after storage for 1000 hours was also less than 0.01 g / m 2 · day, indicating extremely long-term stability over time. Such good long-term stability over time is that, since the polyester resin substrate 1 and the polymerizable compound of the organic compound layer 2 are the same kind of polyester component, the affinity is increased during the formation of the organic compound layer, and the adhesion between the two is increased. It is surmised that this contributes to ensuring the long-term stability of gas barrier properties, and further, by using an oligomer component having a structure larger than that of the monomer, the component remaining in the organic compound layer 2 is an organic compound. It is presumed that it is constrained in the layer 2, and as a result, it is presumed that even after the storage test, an increase in internal stress and a generation of microcracks that lower the gas barrier property are unlikely to occur.

一方、本発明の構成要件を満たさない比較例１〜７、すなわち比較例１ではオリゴマー系光重合開始剤以外のモノマー系光重合開始剤を用い、比較例２ではポリエステル系オリゴマー以外の光重合系アクリレートを重合性化合物として用いるとともにオリゴマー系光重合開始剤以外のモノマー系光重合開始剤を用い、比較例３ではポリエステル系オリゴマー以外のポリウレタンオリゴマーを重合性化合物を用いるとともにオリゴマー系光重合開始剤以外のモノマー系光重合開始剤を用い、比較例４ではポリエステル系オリゴマー以外のエポキシ系シリコーン樹脂を重合性化合物を用い、比較例５ではポリエステル系オリゴマー以外のエポキシアクリレートを重合性化合物を用い、比較例６ではポリエステル系オリゴマー以外のエポキシアクリレートを重合性化合物を用い、比較例７ではポリエステル系オリゴマー以外のシリコーンアクリレート重合性化合物を用いたものは、上記実施例１〜７に比較して、長期間の経時安定性はいずれも不十分であった。   On the other hand, Comparative Examples 1 to 7 that do not satisfy the constituent requirements of the present invention, that is, Comparative Example 1 uses a monomer photopolymerization initiator other than the oligomer photopolymerization initiator, and Comparative Example 2 uses a photopolymerization system other than the polyester oligomer. Acrylate is used as a polymerizable compound and a monomer photopolymerization initiator other than an oligomer photopolymerization initiator is used. In Comparative Example 3, a polyurethane oligomer other than a polyester oligomer is used as a polymerizable compound and other than an oligomer photopolymerization initiator. In Comparative Example 4, an epoxy silicone resin other than a polyester oligomer was used as a polymerizable compound, and in Comparative Example 5, an epoxy acrylate other than a polyester oligomer was used as a polymerizable compound. 6 is an epoxy acrylic other than polyester oligomers. In Comparative Example 7, those using a silicone acrylate polymerizable compound other than the polyester oligomer in Comparative Example 7 have no long-term stability over time as compared with Examples 1-7. It was enough.

１ ポリエステル系樹脂基材
２，２’ 有機化合物層
３，３’ 無機化合物層
４，４’ ガスバリア層
１０，１０Ａ，１０Ｂ ガスバリア性フィルム
Ｓ１ ポリエステル系樹脂基材の片面
Ｓ２ ポリエステル系樹脂基材の他の面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polyester-type resin base material 2,2 'Organic compound layer 3,3' Inorganic compound layer 4,4 'Gas barrier layer 10, 10A, 10B Gas barrier film S1 One side of polyester-type resin base material S2 Other than polyester-type resin base material Face of

Claims (5)

ポリエステル系樹脂基材と、該ポリエステル系樹脂基材上に設けられた有機化合物層と、該有機化合物層上に設けられた無機化合物層とを有し、かつ前記ポリエステル系樹脂基材の他方の面にも前記無機化合物層を有するガスバリア性フィルムであって、
前記ポリエステル系樹脂基材が、ポリエチレンナフタレートフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであり、
前記有機化合物層が、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］からなる重合開始剤とで重合した層であり、
前記無機化合物層が、酸化珪素、窒化珪素、及び酸化窒化珪素から選ばれる１種又は２種以上からなる層であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 A polyester resin substrate; an organic compound layer provided on the polyester resin substrate; an inorganic compound layer provided on the organic compound layer; and the other of the polyester resin substrates. A gas barrier film having the inorganic compound layer on the surface,
The polyester resin substrate is a polyethylene naphthalate film or a polyethylene terephthalate film,
The organic compound layer is a layer obtained by polymerizing a polymerizable compound having a polyester-based oligomer and a polymerization initiator made of oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone]. Oh it is,
The gas barrier film, wherein the inorganic compound layer is a layer composed of one or more selected from silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride . 前記ポリエステル系樹脂基材の他方の面に、さらに前記有機化合物層を有する、請求項１に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1 , further comprising the organic compound layer on the other surface of the polyester resin substrate. 前記ポリエステル系オリゴマーは、分子量が３００〜４０００であり、前記重合性化合物中に６０％（重量比）以上含まれる、請求項１又は２に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1 or 2, wherein the polyester-based oligomer has a molecular weight of 300 to 4000 and is contained in the polymerizable compound by 60% (weight ratio) or more. 請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスバリア性フィルムを用いる表示装置又は発電装置であることを特徴とする装置。 Device which is a display device or a power generator are use a gas barrier fill beam according to any one of claims 1 to 3. ポリエチレンナフタレートフィルム又はポリエチレンテレフタレートフィルムであるポリエステル系樹脂基材上に、ポリエステル系オリゴマーを有する重合性化合物と、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（４−メチルビニル）フェニル］プロパノン］からなる重合開始剤とで重合した有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層上に酸化珪素、窒化珪素、及び酸化窒化珪素から選ばれる１種又は２種以上からなる無機化合物層を形成する工程と、前記ポリエステル系樹脂基材の他方の面にも前記無機化合物層を設けることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。
A polymerizable compound having a polyester oligomer on a polyester resin substrate which is a polyethylene naphthalate film or a polyethylene terephthalate film, and oligo [2-hydroxy-2-methyl- [1- (4-methylvinyl) phenyl] propanone A step of forming an organic compound layer polymerized with a polymerization initiator comprising: an inorganic compound layer comprising one or more selected from silicon oxide, silicon nitride, and silicon oxynitride on the organic compound layer; A method for producing a gas barrier film, comprising: forming the inorganic compound layer on the other surface of the polyester-based resin substrate .
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