JP5541818B2 - 断面試料作製装置 - Google Patents
断面試料作製装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5541818B2 JP5541818B2 JP2012273525A JP2012273525A JP5541818B2 JP 5541818 B2 JP5541818 B2 JP 5541818B2 JP 2012273525 A JP2012273525 A JP 2012273525A JP 2012273525 A JP2012273525 A JP 2012273525A JP 5541818 B2 JP5541818 B2 JP 5541818B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- shielding plate
- ion beam
- cross
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
次に、イオン研磨部30の構成は以下のとおりである。イオン研磨部30は、前記微小焦点X線発生装置10の上に乗るような形で一体化して形成されている。前記X線管球11に一体化されて形成されている壁部材31により囲まれた試料加工室32は、真空排気装置26により微小焦点X線発生装置10側とは独立に真空排気されており、その上部には、イオンビーム発生装置33を有している。イオンビーム発生装置33は、放電ガス(例えば、Arガス)導入部34および高圧が印加される放電電極33a等を有しており、放電によりArガスをイオン化してArイオンを発生させる機能を有している。なお、イオンビーム発生装置で使用する放電ガスとしてはネオン、窒素等を採用することが可能である。
Claims (3)
- 試料を保持する試料保持部と、
前記試料を削るために試料面上に照射されるイオンビームを発生するイオン源と、
前記試料上に配置される遮蔽板であって端縁部を有し、その端縁部が前記イオン源により発生され試料面上に照射されるイオンビームの照射領域内に配置され、その結果、当該端縁部を境界として試料上にイオンビーム照射領域と非照射領域を画定するための遮蔽板と、
前記試料に対し前記イオンビームと異なる方向から照射される観察用X線を発生するX線発生部と、
前記試料及び当該試料上に配置される遮蔽板に前記観察用X線が照射されその結果当該試料を透過したX線を検出することにより試料及び遮蔽板のX線画像を撮像する撮像素子と、
前記撮像素子によって撮像されたX線画像を表示する表示部とを備え、
前記試料のX線画像に基づき前記試料と前記遮蔽板との相対的位置合わせを行い得るように構成した断面試料作製装置であって、
前記撮像素子は、前記イオン源と前記試料保持部との間に配置され、前記イオンビーム通路から退避可能に設けられていることを特徴とする断面試料作製装置。 - 前記X線発生部は、電子線が集束されて照射されたターゲットからX線を発生することを特徴とする請求項1記載の断面試料作製装置。
- 前記試料保持部と前記X線発生部との間に、前記イオンビームの前記X線発生部への進入を防ぐ開閉自在のシャッタ機構が配置されることを特徴とする請求項1又は2記載の断面試料作製装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012273525A JP5541818B2 (ja) | 2012-12-14 | 2012-12-14 | 断面試料作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012273525A JP5541818B2 (ja) | 2012-12-14 | 2012-12-14 | 断面試料作製装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007281577A Division JP5161537B2 (ja) | 2007-10-30 | 2007-10-30 | 断面試料作製装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013127967A JP2013127967A (ja) | 2013-06-27 |
JP5541818B2 true JP5541818B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=48778373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012273525A Expired - Fee Related JP5541818B2 (ja) | 2012-12-14 | 2012-12-14 | 断面試料作製装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5541818B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0773834A (ja) * | 1993-08-31 | 1995-03-17 | Nippon Steel Corp | 透過電子顕微鏡用薄膜試料作製方法 |
JP2001307669A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Shimadzu Corp | 軟x線発生装置及びx線検査装置 |
JP4208658B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2009-01-14 | 日本電子株式会社 | 試料作製装置 |
JP2006047206A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Shimadzu Corp | 複合型顕微鏡 |
JP5161537B2 (ja) * | 2007-10-30 | 2013-03-13 | ソニー株式会社 | 断面試料作製装置 |
-
2012
- 2012-12-14 JP JP2012273525A patent/JP5541818B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013127967A (ja) | 2013-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9048060B2 (en) | Beam pulsing device for use in charged-particle microscopy | |
JP5908964B2 (ja) | 複合集束イオンビーム装置 | |
EP2899744A1 (en) | Method for preparing and analyzing an object as well as particle beam device for performing the method | |
US10483084B2 (en) | Object preparation device and particle beam device having an object preparation device and method for operating the particle beam device | |
TWI768001B (zh) | 帶電粒子束裝置以及試樣加工方法 | |
US10622187B2 (en) | Charged particle beam apparatus and sample processing observation method | |
JP5362236B2 (ja) | 試料加工・観察装置及び断面加工・観察方法 | |
JP5161537B2 (ja) | 断面試料作製装置 | |
US10319561B2 (en) | Object preparation device and particle beam device with an object preparation device and method for operating the particle beam device | |
JP2006047206A (ja) | 複合型顕微鏡 | |
JP5541818B2 (ja) | 断面試料作製装置 | |
JP2015185511A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP7152757B2 (ja) | 試料加工観察方法 | |
JP3926208B2 (ja) | X線顕微鏡試料室 | |
JP7214262B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 | |
JP6450153B2 (ja) | X線像撮像用ユニット、電子顕微鏡及び試料像取得方法 | |
JP2005044570A (ja) | 半導体の加工観察装置 | |
JP2012146417A (ja) | 荷電粒子線装置及びそれを用いた試料への荷電粒子照射方法 | |
EP3223297A1 (en) | Dual-beam charged particle apparatus with anti-contamination shield | |
JP4365438B2 (ja) | 加工観察装置および加工観察方法 | |
JP2012112770A (ja) | 試料保持方法及び試料保持体 | |
JP4995802B2 (ja) | 半導体の加工観察装置、および半導体の加工観察装置の操作方法 | |
KR20150034844A (ko) | 주사 전자 현미경 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20140107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140430 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5541818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |