JP5531663B2 - High frequency switch module - Google Patents

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Description

この発明は、高周波信号の導通および遮断をスイッチング制御する高周波スイッチモジュールに関する。   The present invention relates to a high frequency switch module that performs switching control of conduction and cutoff of a high frequency signal.

従来、1個のアンテナで、異なる周波数仕様からなる複数の高周波信号を送受信する高周波モジュールが各種考案されている。この高周波モジュールでは、周波数仕様毎に送信回路や受信回路等のRF回路を備えている。そして、複数のRF回路を1個のアンテナで共有するので、当該アンテナと各RF回路との間に、各RF回路とアンテナとの接続を切り替える高周波スイッチモジュールが必要となる。   Conventionally, various high-frequency modules that transmit and receive a plurality of high-frequency signals having different frequency specifications with a single antenna have been devised. This high-frequency module includes an RF circuit such as a transmission circuit or a reception circuit for each frequency specification. Since a plurality of RF circuits are shared by one antenna, a high-frequency switch module that switches connection between each RF circuit and the antenna is required between the antenna and each RF circuit.

高周波スイッチモジュールとしては、FETやダイオードなどの半導体素子を用いたものが一般的であるが、これら半導体素子のスイッチよりも高周波伝送特性上に優位な点もあることから、特許文献1に示すようにMEMS機構を用いたものが、多く実用化されようとしている。   As a high-frequency switch module, a module using a semiconductor element such as an FET or a diode is generally used. However, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-133260, there is a point in terms of high-frequency transmission characteristics over switches of these semiconductor elements. Many devices using the MEMS mechanism are being put to practical use.

MEMS機構のスイッチは、概略して、固定電極と所定のバネ定数を有する可動電極とを備え、当該固定電極と可動電極とを所定間隔で配置する。また、固定電極と可動電極との間に所定のスイッチング用電圧を印加する回路を備える。スイッチング用電圧を印加していなければ、固定電極と可動電極とは離間している。この場合、スイッチとしてはOFF状態となる。一方、スイッチング用電圧が印加されれば、固定電極と可動電極とがクーロン力により引き合い、例えば、固定電極と可動電極とが接触する。この場合、スイッチとしてはON状態となる。そして、スイッチング用電圧の印加を停止すると、可動電極は、バネ定数に基づく反発力により、スイッチング用電圧の印加前のように、固定電極に対して所定間隔をなす位置まで戻る。この場合、スイッチとしてはOFF状態となる。   The switch of the MEMS mechanism generally includes a fixed electrode and a movable electrode having a predetermined spring constant, and the fixed electrode and the movable electrode are arranged at a predetermined interval. A circuit for applying a predetermined switching voltage is provided between the fixed electrode and the movable electrode. If the switching voltage is not applied, the fixed electrode and the movable electrode are separated from each other. In this case, the switch is turned off. On the other hand, when the switching voltage is applied, the fixed electrode and the movable electrode are attracted by the Coulomb force, and, for example, the fixed electrode and the movable electrode are in contact with each other. In this case, the switch is turned on. Then, when the application of the switching voltage is stopped, the movable electrode returns to a position at a predetermined interval with respect to the fixed electrode, as before the application of the switching voltage, due to the repulsive force based on the spring constant. In this case, the switch is turned off.

特開2005−142982号公報JP 2005-142982 A

しかしながら、上述の特許文献1に示した高周波スイッチは、高周波信号の入力端子と出力端子とが1個ずつの所謂SPST型である。したがって、上述のように、複数のRF回路に対して切替を行う場合には、RF回路数分だけ、MEMS機構部を設けなければならない。このため、回路規模が大型化し、高周波スイッチモジュールを小型化することが容易ではない。   However, the high-frequency switch shown in Patent Document 1 is a so-called SPST type in which one input terminal and one output terminal for high-frequency signals are provided. Therefore, as described above, when switching a plurality of RF circuits, it is necessary to provide as many MEMS mechanism units as the number of RF circuits. For this reason, the circuit scale increases and it is not easy to reduce the size of the high-frequency switch module.

また、上述の特許文献1に示したMEMS機構部は、例えば高周波モジュールの表面等の実装面に実装して使用するため、このままの構造では、MEMS機構部が外部へ露出してしまう。このため、耐環境性が悪く、外的要因により可動電極へ力が加わり誤動作してしまう可能性や、可動電極の破損の可能性があった。   Moreover, since the MEMS mechanism part shown in the above-mentioned patent document 1 is mounted and used on a mounting surface such as the surface of a high-frequency module, for example, the MEMS mechanism part is exposed to the outside in the structure as it is. For this reason, the environment resistance is poor, and there is a possibility that a force is applied to the movable electrode due to an external factor to cause a malfunction, or the movable electrode may be damaged.

このような課題を鑑み、この発明の目的は、MEMS機構を用いながらも、より小型化が容易であり、且つ信頼性の高い高周波スイッチモジュールを実現することにある。   In view of such problems, an object of the present invention is to realize a high-frequency switch module that is easy to downsize and has high reliability while using a MEMS mechanism.

この発明は、高周波スイッチモジュールに関する。この高周波スイッチモジュールは、可動電極、第1、第2の固定電極、接地用電極、およびスイッチング電圧印加用回路電極を備える。   The present invention relates to a high frequency switch module. The high-frequency switch module includes a movable electrode, first and second fixed electrodes, a ground electrode, and a switching voltage application circuit electrode.

可動電極は、平板状であり、絶縁性を有する枠体の内側の空間に、枠体の開口面と平板面とが略平行になるように該枠体に対して梁によって保持されている。   The movable electrode has a flat plate shape and is held by a beam with respect to the frame body so that the opening surface of the frame body and the flat plate surface are substantially parallel to each other in a space inside the insulating frame body.

第1、第2の固定電極は、枠体の対向する開口面のそれぞれを覆う各絶縁層の枠体側の面に、可動電極を挟んで対向するように形成されている。   The first and second fixed electrodes are formed so as to be opposed to the frame-side surface of each insulating layer covering each of the opposed opening surfaces of the frame with the movable electrode interposed therebetween.

接地用電極は、可動電極へ接続し、枠体および絶縁層を備える積層体に形成されている。   The grounding electrode is connected to the movable electrode and is formed in a laminate including a frame and an insulating layer.

スイッチング電圧印加用回路電極は、可動電極と第1の固定電極との間、または可動電極と第2の固定電極との間に直流のスイッチング電圧を与えるための回路である。可動電極、第1の固定電極、および第2の固定電極は、高周波信号伝送用の電極と、スイッチング電圧印加用の電極とを兼用している。 The switching voltage application circuit electrode is a circuit for applying a DC switching voltage between the movable electrode and the first fixed electrode, or between the movable electrode and the second fixed electrode. The movable electrode, the first fixed electrode, and the second fixed electrode serve both as an electrode for high-frequency signal transmission and an electrode for applying a switching voltage.

この構成では、スイッチング電圧印加用回路電極を介して可動電極と第1の固定電極との間に「0」ではない所定電圧が印加されると、可動電極が第1の固定電極側へ変位する。したがって、可動電極と第1の固定電極との間隔が極狭くなり、可動電極と第2の固定電極との間隔が広くなる。可動電極は、接地用電極を介してグランドへ接続されているので、第1の固定電極側は、第1の固定電極と可動電極とからなるキャパシタを介するか、直接的に、接地される。このため、第1の固定電極側を高周波的に接地状態にすることができる。一方、第2の固定電極は、可動電極から離間しているため、当該第2の固定電極側は、接地されない。このため、第2の固定電極側は通常の伝送線路として機能させることができる。   In this configuration, when a predetermined voltage other than “0” is applied between the movable electrode and the first fixed electrode via the switching voltage application circuit electrode, the movable electrode is displaced toward the first fixed electrode. . Therefore, the interval between the movable electrode and the first fixed electrode is extremely narrow, and the interval between the movable electrode and the second fixed electrode is increased. Since the movable electrode is connected to the ground via the grounding electrode, the first fixed electrode side is grounded via a capacitor composed of the first fixed electrode and the movable electrode or directly. For this reason, the first fixed electrode side can be grounded in a high frequency manner. On the other hand, since the second fixed electrode is separated from the movable electrode, the second fixed electrode side is not grounded. For this reason, the 2nd fixed electrode side can be functioned as a normal transmission line.

一方、スイッチング電圧印加用回路電極を介して可動電極と第2の固定電極との間に「0」ではない所定電圧が印加されると、第2の固定電極側を高周波的に接地状態にすることができ、第1の固定電極側を伝送線路として機能させることができる。これにより、MEMS機構を用いて、一つの可動電極の制御により、二つのスイッチ制御状態が同時に実現される。   On the other hand, when a predetermined voltage other than “0” is applied between the movable electrode and the second fixed electrode via the switching voltage applying circuit electrode, the second fixed electrode side is grounded in a high frequency manner. The first fixed electrode side can function as a transmission line. Thereby, two switch control states are realized simultaneously by controlling one movable electrode using the MEMS mechanism.

また、この発明は、高周波スイッチモジュールに関する。この高周波スイッチモジュールは、可動電極、第1、第2の固定電極、およびスイッチング電圧印加用回路電極を備える。   The present invention also relates to a high frequency switch module. The high-frequency switch module includes a movable electrode, first and second fixed electrodes, and a circuit electrode for switching voltage application.

可動電極は、平板状であり、絶縁性を有する枠体の内側の空間に、枠体の開口面と平板面とが略平行になるように該枠体に対して梁によって保持されている。   The movable electrode has a flat plate shape and is held by a beam with respect to the frame body so that the opening surface of the frame body and the flat plate surface are substantially parallel to each other in a space inside the insulating frame body.

第1、第2の固定電極は、枠体の対向する開口面のそれぞれを覆う各絶縁層の枠体側の面に、可動電極を挟んで対向するように形成されている。さらに、第1、第2の固定電極は、それぞれが互いに電気的に接続しない形状で形成された複数の固定部分電極によって構成されている。   The first and second fixed electrodes are formed so as to be opposed to the frame-side surface of each insulating layer covering each of the opposed opening surfaces of the frame with the movable electrode interposed therebetween. Further, each of the first and second fixed electrodes includes a plurality of fixed partial electrodes formed in a shape that is not electrically connected to each other.

スイッチング電圧印加用回路電極は、可動電極と第1の固定電極との間、または可動電極と第2の固定電極との間に直流のスイッチング電圧を与えるための回路である。   The switching voltage application circuit electrode is a circuit for applying a DC switching voltage between the movable electrode and the first fixed electrode, or between the movable electrode and the second fixed electrode.

この構成では、第1の固定電極と第2の固定電極とが、それぞれに、分離された複数の電極群からなる場合を示している。この構成において、スイッチング電圧印加用回路電極を介して可動電極と第1の固定電極との間に「0」ではない所定電圧が印加されると、可動電極が第1の固定電極側へ変位する。したがって、可動電極と第1の固定電極との間隔が極狭くなり、可動電極と第2の固定電極との間隔が広くなる。この状態では、第1の固定電極を構成する各固定部分電極は、可動電極に対してそれぞれ所定のキャパシタンスで結合するか、もしくは同可動電極により導通される。ここで、導通されれば、単に短絡状態となる。一方、可動電極とそれぞれの固定部分電極とが所定のキャパシタンスで結合するのであれば、可動電極とそれぞれの固定部分電極とからなる複数のキャパシタの直列回路が構成される。これは、高周波的には、直流成分を通過させないハイパスフィルタを備えた伝送回路として機能する。   In this configuration, the first fixed electrode and the second fixed electrode are each composed of a plurality of separated electrode groups. In this configuration, when a predetermined voltage other than “0” is applied between the movable electrode and the first fixed electrode via the switching voltage application circuit electrode, the movable electrode is displaced toward the first fixed electrode. . Therefore, the interval between the movable electrode and the first fixed electrode is extremely narrow, and the interval between the movable electrode and the second fixed electrode is increased. In this state, each fixed partial electrode constituting the first fixed electrode is coupled to the movable electrode with a predetermined capacitance, or is conducted by the movable electrode. Here, if it is conducted, it is simply short-circuited. On the other hand, if the movable electrode and each fixed partial electrode are coupled with a predetermined capacitance, a series circuit of a plurality of capacitors including the movable electrode and each fixed partial electrode is configured. This functions as a transmission circuit including a high-pass filter that does not pass a DC component in terms of high frequency.

一方、第2の固定電極の各固定部分電極は、可動電極から離間しているため、可動電極に対して所望のキャパシタンスを得られない。このため、第2の固定電極を構成する複数の部分固定電極間は、導通状態にならず、開放状態となる。   On the other hand, since each fixed partial electrode of the second fixed electrode is separated from the movable electrode, a desired capacitance cannot be obtained for the movable electrode. Therefore, the plurality of partial fixed electrodes constituting the second fixed electrode are not in a conductive state but are in an open state.

逆に、スイッチング電圧印加用回路電極を介して可動電極と第2の固定電極との間に「0」ではない所定電圧が印加されると、第2の固定電極側を短絡状態にすることができ、第1の固定電極側を開放状態にすることができる。これにより、MEMS機構を用いて、一つの可動電極の制御により、二つのスイッチ制御状態が同時に実現される。   Conversely, when a predetermined voltage other than “0” is applied between the movable electrode and the second fixed electrode via the switching voltage application circuit electrode, the second fixed electrode side may be short-circuited. The first fixed electrode side can be opened. Thereby, two switch control states are realized simultaneously by controlling one movable electrode using the MEMS mechanism.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、第1の伝送用電極と第2の伝送用電極とを備える。第1の伝送用電極および第2の伝送用電極は、枠体および絶縁層を備える積層体に形成されている。第1の伝送用電極は、第1の固定電極に接続し、少なくとも第1の固定電極を介して、高周波信号を伝送するための回路電極である。第2の伝送用電極は、第2の固定電極に接続し、少なくとも第2の固定電極を介して、高周波信号を伝送するための回路電極である。   The high-frequency switch module of the present invention includes a first transmission electrode and a second transmission electrode. The first transmission electrode and the second transmission electrode are formed in a laminate including a frame and an insulating layer. The first transmission electrode is a circuit electrode that is connected to the first fixed electrode and transmits a high-frequency signal through at least the first fixed electrode. The second transmission electrode is a circuit electrode that is connected to the second fixed electrode and transmits a high-frequency signal through at least the second fixed electrode.

また、この発明の高周波スイッチモジュールでは、第1の伝送用電極と第2の伝送用電極で異なる周波数の信号が伝送する。   In the high frequency switch module of the present invention, signals having different frequencies are transmitted between the first transmission electrode and the second transmission electrode.

この構成では、高周波スイッチモジュールとしてのより具体的な構成を示し、第1の固定電極に第1の伝送用電極を接続し、第2の固定電極に第2の伝送用電極を接続する。これにより、MEMS機構に接続する他の回路構成を積層体内に実現することができる。例えば、MEMS機構に接続するフィルタを構成するインダクタやキャパシタを積層体内で形成することができる。   In this configuration, a more specific configuration as a high-frequency switch module is shown, in which the first transmission electrode is connected to the first fixed electrode, and the second transmission electrode is connected to the second fixed electrode. Thereby, another circuit configuration connected to the MEMS mechanism can be realized in the stacked body. For example, an inductor or a capacitor constituting a filter connected to the MEMS mechanism can be formed in the multilayer body.

さらには、上述の可動電極が接地する構成では、第1の固定電極側の第1の伝送用電極を用いて、積層体の第1の高周波信号の入出力ポートと接地点との距離が、第1の高周波信号の波長λの1/4の線路長となるように形成すれば、第1の高周波信号に対して、より高精度に第1の入力ポート側を開放にすることができる。この際、第1の高周波信号と異なる第2の高周波信号に対しては短絡となる。一方、第2の固定電極側の第2の伝送用電極を用いて、積層体の第2の高周波信号の入出力ポートと接地点との距離が、第2の高周波信号の波長λの1/4の線路長となるように形成すれば、より高精度に第2の入出力ポート側を開放にすることができる。この際、第1の高周波信号に対しては短絡となる。すなわち、第1の固定電極側を第2の高周波信号を通過させ、第1の高周波信号を遮断する伝送回路とし、第2の固定電極側を第1の高周波信号を通過させ、第2の高周波信号を遮断する伝送回路として、機能させることができる。 Further, in the configuration in which the movable electrode is grounded, the distance between the input / output port of the first high-frequency signal of the laminate and the ground point is set using the first transmission electrode on the first fixed electrode side. If the line length is ¼ of the wavelength λ 1 of the first high-frequency signal, the first input port side can be opened more accurately with respect to the first high-frequency signal. . At this time, a second high frequency signal different from the first high frequency signal is short-circuited. On the other hand, using the second transmission electrode on the second fixed electrode side, the distance between the input / output port of the second high-frequency signal of the laminate and the ground point is 1 of the wavelength λ 2 of the second high-frequency signal. If it is formed to have a line length of / 4, the second input / output port side can be opened with higher accuracy. At this time, the first high-frequency signal is short-circuited. That is, a transmission circuit that passes the second high-frequency signal through the first fixed electrode side and blocks the first high-frequency signal is used, and passes through the first high-frequency signal through the second fixed electrode side. It can function as a transmission circuit that cuts off a signal.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、可動電極の少なくとも一方の平板面に絶縁体膜を備える。   The high-frequency switch module of the present invention includes an insulator film on at least one flat surface of the movable electrode.

この構成では、絶縁体層を形成することで、可動電極と第1の固定電極との間のキャパシタンスや、可動電極と第2の固定電極との間のキャパシタンスを適宜設定することができる。すなわち、スイッチング制御時に利用する第1の固定電極側のキャパシタンスや第2の固定電極側のキャパシタンスを、所望値に実現しやすくなる。   In this configuration, by forming the insulator layer, the capacitance between the movable electrode and the first fixed electrode and the capacitance between the movable electrode and the second fixed electrode can be appropriately set. That is, it becomes easy to realize the capacitance on the first fixed electrode side and the capacitance on the second fixed electrode side used during switching control to a desired value.

なお、この際、絶縁体層は、可動電極の全面に形成する必要はなく、上述の複数の固定部分電極を用いる場合であれば、固定部分電極に対応する部分毎に絶縁体層を適宜形成することもできる。これにより、上述のキャパシタの直列回路を実現する際に、異なるキャパシタンスのキャパシタを直列接続する構造が、容易に実現できる。また、可動電極の質量増加を最小にでき、印加電圧を低減できる。   In this case, the insulator layer does not need to be formed on the entire surface of the movable electrode. If the above-described plurality of fixed partial electrodes are used, the insulator layer is appropriately formed for each portion corresponding to the fixed partial electrode. You can also Thereby, when realizing the above-described series circuit of capacitors, a structure in which capacitors having different capacitances are connected in series can be easily realized. Further, the increase in mass of the movable electrode can be minimized, and the applied voltage can be reduced.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、可動電極の両方の平板面にそれぞれ絶縁体膜を備え、該両面の平板面の絶縁体膜の形状が異なる。   The high-frequency switch module according to the present invention includes an insulator film on each of the flat plate surfaces of the movable electrode, and the shape of the insulator film on the flat plate surface on both sides is different.

この構成では、可動電極の両面の絶縁体膜の形状が異なることで、第1の固定電極側と第2の固定電極側とで、キャパシタンスを異ならせることができる。これにより、第1の固定電極側の高周波特性と第2の固定電極側の高周波特性とを異ならせることができる。例えば、上述のように、第1の固定電極側で遮断する周波数と第2の固定電極側で遮断する周波数とを、異ならせることができる。   In this configuration, since the shapes of the insulator films on both surfaces of the movable electrode are different, the capacitance can be made different between the first fixed electrode side and the second fixed electrode side. As a result, the high frequency characteristics on the first fixed electrode side and the high frequency characteristics on the second fixed electrode side can be made different. For example, as described above, the frequency cut off on the first fixed electrode side and the frequency cut off on the second fixed electrode side can be made different.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、第1の固定電極および第2の固定電極の少なくとも一方に絶縁体膜を備える。   The high-frequency switch module of the present invention includes an insulator film on at least one of the first fixed electrode and the second fixed electrode.

この構成では、第1、第2の固定電極に絶縁体膜を形成している。この構成であっても、上述の可動電極に絶縁体膜を形成した場合と同様の作用効果が得られる。さらに、固定電極に絶縁体膜を形成することで、可動電極の絶縁体膜を省略もしくは、薄膜化することができる。これにより、可動電極の重さを軽減でき、より反応性が良く高速なスイッチングや、よりスイッチング制御電圧を低電圧化したスイッチングが可能となる。   In this configuration, an insulator film is formed on the first and second fixed electrodes. Even with this configuration, the same operational effects as those obtained when the insulator film is formed on the movable electrode described above can be obtained. Furthermore, by forming an insulator film on the fixed electrode, the insulator film of the movable electrode can be omitted or made thinner. As a result, the weight of the movable electrode can be reduced, and more responsive and faster switching and switching with a lower switching control voltage can be realized.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、第1の固定電極と第2の固定電極の形状が異なる。   In the high frequency switch module of the present invention, the shapes of the first fixed electrode and the second fixed electrode are different.

この構成でも、上述の固定電極に絶縁体膜を形成したり、第1、第2の固定電極に絶縁体膜を形成した場合と同様の作用効果が得られる。   Even in this configuration, the same effects can be obtained as in the case where the insulator film is formed on the above-described fixed electrode or the insulator film is formed on the first and second fixed electrodes.

また、この発明の高周波スイッチモジュールは、第1の伝送用電極、第2の伝送用電極、および接地用電極が積層体に形成されている。そして、接地用電極は第1の伝送用電極と第2の伝送用電極との間に配置されている。   In the high frequency switch module of the present invention, the first transmission electrode, the second transmission electrode, and the ground electrode are formed in a laminate. The grounding electrode is disposed between the first transmission electrode and the second transmission electrode.

この構成では、接地用電極が、第1の伝送用電極と第2の伝送用電極との間に介することで、第1の伝送用電極と第2の伝送用電極との間のアイソレーションを向上させることができる。これにより、MEMS機構部のみでなく、高周波スイッチモジュール全体としてのスイッチング特性が向上する。   In this configuration, the grounding electrode is interposed between the first transmission electrode and the second transmission electrode, so that the isolation between the first transmission electrode and the second transmission electrode is achieved. Can be improved. Thereby, not only the MEMS mechanism unit but also the switching characteristics of the high frequency switch module as a whole are improved.

また、この発明の高周波スイッチモジュールでは、第1の伝送用電極と第2の伝送用電極とが積層体の同層に形成されている。枠体および絶縁層には、第1の固定電極と第2の固定電極を第1の伝送用電極と第2の伝送用電極が形成された層まで引き回す引き回し電極が形成されている。   In the high frequency switch module of the present invention, the first transmission electrode and the second transmission electrode are formed in the same layer of the laminate. The frame body and the insulating layer are formed with routing electrodes that route the first fixed electrode and the second fixed electrode to the layer where the first transmission electrode and the second transmission electrode are formed.

この構成では、上述のMEMS機構部が、高周波スイッチモジュールを構成する第1の伝送用電極と第2の伝送用電極および接地用電極を含む積層体とは別体に形成される場合に有効である。このように、MEMS機構部を別体形成した場合、当該MEMS機構部を積層体に実装しなければならない。この際、第1の固定電極および第2の固定電極に接続する引き回し電極を形成し、同層の外部接続電極を設ければ、MEMS機構部の実装が容易になる。   This configuration is effective when the above-mentioned MEMS mechanism is formed separately from the first transmission electrode and the laminate including the second transmission electrode and the grounding electrode that constitute the high-frequency switch module. is there. Thus, when the MEMS mechanism part is formed separately, the MEMS mechanism part must be mounted on the laminate. At this time, if the routing electrode connected to the first fixed electrode and the second fixed electrode is formed and the external connection electrode in the same layer is provided, the MEMS mechanism part can be easily mounted.

この発明によれば、1個の可動電極で、複数のスイッチング制御が可能であるので、1対複数の高周波スイッチモジュールを、より小型に形成することができる。また、可動電極が絶縁層の積層体に囲まれた空間内に存在するため、耐環境性に優れ、外力の影響も受け難く、高周波スイッチモジュールの信頼性を高くすることができる。   According to the present invention, since a plurality of switching controls can be performed with one movable electrode, the one-to-a plurality of high-frequency switch modules can be formed more compactly. In addition, since the movable electrode is present in the space surrounded by the laminated body of the insulating layers, it has excellent environmental resistance and is hardly affected by external force, and the reliability of the high-frequency switch module can be increased.

第1の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。It is the block diagram of the side cross section for demonstrating the structure of the high frequency switch module which concerns on 1st Embodiment, and a partial see-through | perspective plane block diagram. MEMS機構部10の構成を示す側面断面図および積層図である。FIG. 2 is a side cross-sectional view and a stacked view showing the configuration of the MEMS mechanism unit 10. 第1の実施形態に係る高周波スイッチモジュールのスイッチング制御を説明する為の図である。It is a figure for demonstrating switching control of the high frequency switch module which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る高周波スイッチモジュールのMEMS機構部の各種バリエーションを示す側断面から見た構成図である。It is the block diagram seen from the side cross section which shows the various variations of the MEMS mechanism part of the high frequency switch module which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る高周波スイッチモジュールのMEMS機構部の各種バリエーションを示す側断面から見た構成図である。It is the block diagram seen from the side cross section which shows the various variations of the MEMS mechanism part of the high frequency switch module which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。It is the block diagram of the side cross section for demonstrating the structure of the high frequency switch module which concerns on 3rd Embodiment, and a partial see-through | perspective plane block diagram. 第3の実施形態に係る高周波スイッチモジュールのスイッチング制御を説明する為の図である。It is a figure for demonstrating switching control of the high frequency switch module which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。It is the side cross-section block diagram for demonstrating the structure of the high frequency switch module which concerns on 4th Embodiment, and a partial see-through | perspective plane block diagram. 第4の実施形態に係る高周波スイッチモジュールのスイッチング制御を説明する為の図である。It is a figure for demonstrating switching control of the high frequency switch module which concerns on 4th Embodiment. 第5の実施形態の高周波スイッチモジュール1Cに含まれるMEMS機構部10Gの構造を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure of the MEMS mechanism part 10G contained in the high frequency switch module 1C of 5th Embodiment. 第5の実施形態の高周波スイッチモジュール1Cの構成を説明する為の側断面の構成図、およびMEMS機構部10Gの実装される層の電極パターンを示す図である。It is a block diagram of the side cross section for demonstrating the structure of the high frequency switch module 1C of 5th Embodiment, and the figure which shows the electrode pattern of the layer in which the MEMS mechanism part 10G is mounted. 第6の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。It is the block diagram of the side cross section for demonstrating the structure of the high frequency switch module which concerns on 6th Embodiment, and a partial see-through | perspective plane block diagram. 第6の実施形態の高周波スイッチモジュールの積層図である。It is a lamination figure of the high frequency switch module of a 6th embodiment.

本発明の第1の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成について、図を参照して説明する。図1(A)は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1の構造を説明するための側断面で見た構成図である。図1(B)は、高周波スイッチモジュール1を積層方向から見て所定層だけ透視した状態での平面視した構成図である。   The configuration of the high-frequency switch module according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a configuration diagram seen in a side cross-section for explaining the structure of the high-frequency switch module 1 of the present embodiment. FIG. 1B is a configuration diagram viewed from above in a state in which the high-frequency switch module 1 is seen through only a predetermined layer when viewed from the stacking direction.

高周波スイッチモジュール1は、複数の絶縁体層900を積層してなる積層体からなる。なお、以下では絶縁体層900を8層積層してなる積層体を例に示しているが、層数はこれに限るものではない。   The high-frequency switch module 1 is composed of a laminated body in which a plurality of insulator layers 900 are laminated. In the following, a stacked body formed by stacking eight insulating layers 900 is shown as an example, but the number of layers is not limited to this.

積層体を構成する最上層と最下層を除く所定数の絶縁体層900には、貫通穴が連続的に形成されている。これにより、MEMS機構部10が収容される空間が形成されている。具体的に、図1(A)の場合であれば、積層体を8層の誘電体層900から構成しており、最下層と最上層を除く6層の絶縁体層900に連続する貫通穴が形成されており、当該貫通穴による空間15内にMEMS機構部10が収容されている。   Through holes are continuously formed in a predetermined number of insulator layers 900 excluding the uppermost layer and the lowermost layer constituting the laminated body. Thereby, the space in which the MEMS mechanism part 10 is accommodated is formed. Specifically, in the case of FIG. 1A, the laminated body is composed of eight dielectric layers 900, and the through holes are continuous to the six insulating layers 900 excluding the lowermost layer and the uppermost layer. Is formed, and the MEMS mechanism unit 10 is accommodated in the space 15 formed by the through hole.

また、積層体の所定の絶縁体層900には電極パターンが形成されている。具体的に、図1(A)の場合であれば、最下層の絶縁体層900の上面には、伝送用電極300A,300Bが所定のパターン形状で形成されている。これら伝送用電極300A,300Bは、具体的構造を後述するMEMS機構部10の接続用電極30A,30Bに、一方端が当接するような形状で形成されている。なお、他方端は、図示しないが、積層体内のビアホールや積層体側面に形成した電極などを介して積層体の下面等に設けられた所定の外部接続ランドに接続している。   An electrode pattern is formed on a predetermined insulator layer 900 of the laminate. Specifically, in the case of FIG. 1A, transmission electrodes 300A and 300B are formed in a predetermined pattern shape on the upper surface of the lowermost insulator layer 900. These transmission electrodes 300A and 300B are formed in such a shape that one end abuts on connection electrodes 30A and 30B of the MEMS mechanism section 10 whose specific structure will be described later. Although not shown, the other end is connected to a predetermined external connection land provided on the lower surface of the multilayer body through via holes in the multilayer body and electrodes formed on the side surfaces of the multilayer body.

最上層の絶縁体層900の下面には、伝送用電極400A,400Bが所定のパターン形状で形成されている。これら伝送用電極400A,400Bは、MEMS機構部10の接続用電極40A,40Bに、一方端が当接するような形状で形成されている。なお、他方端は、伝送用電極300A,300Bと同様に、図示しないが、積層体の下面等に設けられた所定の外部接続ランドに接続している。   Transmission electrodes 400A and 400B are formed in a predetermined pattern shape on the lower surface of the uppermost insulator layer 900. These transmission electrodes 400 </ b> A and 400 </ b> B are formed in such a shape that one end is in contact with the connection electrodes 40 </ b> A and 40 </ b> B of the MEMS mechanism unit 10. The other end, like the transmission electrodes 300A and 300B, is connected to a predetermined external connection land provided on the lower surface of the multilayer body, although not shown.

積層体の中間層である最下層から4層目の絶縁体層900の上面には、接地用電極500が形成されている。接地用電極500は、積層体を平面視して、積層体内のMEMS機構部10の配置空間を除く略全面に形成されている。接地用電極は、図示しないが、積層体内のビアホール等を介して積層体の下面等に設けられた所定のグランド接続用ランドに電気的に接続している。   A grounding electrode 500 is formed on the upper surface of the fourth insulator layer 900 from the lowest layer, which is the intermediate layer of the laminate. The grounding electrode 500 is formed on substantially the entire surface of the multilayer body excluding the arrangement space of the MEMS mechanism unit 10 in plan view of the multilayer body. Although not shown, the grounding electrode is electrically connected to a predetermined ground connection land provided on the lower surface of the multilayer body through via holes in the multilayer body.

このような周囲の構成に対して、積層体空間内に形成されるMEMS機構部10は、具体的に次に示す構成からなる。図2はMEMS機構部10の構成を説明する為の図であり、図2(A)は側断面から見た構成図、図2(B)〜(F)は積層構成図である。なお、以下では、MEMS機構部10を6層の絶縁体層90で構成する例を示しているが、層構成はこれに限るものではなく、可動電極11と固定電極13A,13B,14A,14Bとの構成が、後述する関係であればよい。また、MEMS機構部10を構成する絶縁体層90と、積層体を構成する絶縁体層900とは、同じ材料でもよく、絶縁体層900としてセラミックあるは樹脂等を用い、絶縁体層90としてガラス等を用いるように、異なる材料であってもよい。   With respect to such a surrounding configuration, the MEMS mechanism unit 10 formed in the stacked body space is specifically configured as follows. 2A and 2B are diagrams for explaining the configuration of the MEMS mechanism unit 10, in which FIG. 2A is a configuration diagram viewed from a side cross section, and FIGS. 2B to 2F are stacked configuration diagrams. In the following, an example in which the MEMS mechanism unit 10 is configured with six insulating layers 90 is shown, but the layer configuration is not limited to this, and the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B are not limited thereto. The configuration may be the relationship described later. The insulator layer 90 constituting the MEMS mechanism unit 10 and the insulator layer 900 constituting the laminate may be made of the same material. The insulator layer 900 is made of ceramic or resin, and the insulator layer 90 is used as the insulator layer 90. Different materials may be used, such as glass.

MEMS機構部10は、絶縁体層90を所定数積層した構造からなる。最下層の絶縁体層90の下面には、図2(A),(F)に示すように、伝送用電極300A,300Bにそれぞれ接続するための外部接続用電極30A,30Bが形成されている。最下層から2層目の絶縁体層90の上面には、図2(A),(E)に示すように、固定電極13A,13Bが所定の間隔をおき、所定面積で形成されている。この際、固定電極13Aは、外部接続用電極30Aと平面視して部分的に重なるように形成されている。そして、固定電極13Aと外部接続用電極30Aとは、積層方向へ延びる形状からなる導電性のビアホール31Aにより接続されている。また、固定電極13Bは、外部接続用電極30Bと平面視して部分的に重なるように形成されている。そして、固定電極13Bと外部接続用電極30Bとは、積層方向へ延びる形状からなる導電性のビアホール31Bにより接続されている。   The MEMS mechanism unit 10 has a structure in which a predetermined number of insulator layers 90 are stacked. As shown in FIGS. 2A and 2F, external connection electrodes 30A and 30B for connection to the transmission electrodes 300A and 300B are formed on the lower surface of the lowermost insulator layer 90, respectively. . As shown in FIGS. 2A and 2E, fixed electrodes 13A and 13B are formed on the upper surface of the second insulator layer 90 from the lowest layer with a predetermined area at a predetermined interval. At this time, the fixed electrode 13A is formed so as to partially overlap the external connection electrode 30A in plan view. The fixed electrode 13A and the external connection electrode 30A are connected by a conductive via hole 31A having a shape extending in the stacking direction. The fixed electrode 13B is formed so as to partially overlap the external connection electrode 30B in plan view. The fixed electrode 13B and the external connection electrode 30B are connected by a conductive via hole 31B having a shape extending in the stacking direction.

最下層から3層目と4層目の絶縁体層90は、図2(A),(D)に示すように、積層方向へ開口した空間を有する枠体形状からなる。これら3層目と4層目の絶縁体層90の境界面で、枠体の内側の空間内には、可動電極11が所定面積で形成されている。可動電極11は所定厚みの平板状からなり、その主面(平板面)は、固定電極13A,13Bの表面および後述する固定電極14A,14Bの表面と略平行になるように配置されている。また、可動電極11の主面は、固定電極13A,13B,14A,14Bのそれぞれと、所定面積で対向するように配置されている。このように配置されている可動電極11は、絶縁体層90に対して、梁12によって支持されている。これにより、可動電極11は、積層方向に沿って変位可能な形状となる。そして、この変位により、固定電極13A,13Bや固定電極14A,14Bと可動電極11との間隔を変化させることができる。   As shown in FIGS. 2A and 2D, the third and fourth insulator layers 90 from the bottom layer have a frame shape having a space opened in the stacking direction. The movable electrode 11 is formed in a predetermined area in the space inside the frame at the boundary surface between the third and fourth insulator layers 90. The movable electrode 11 has a flat plate shape with a predetermined thickness, and its main surface (flat plate surface) is disposed so as to be substantially parallel to the surfaces of the fixed electrodes 13A and 13B and the surfaces of fixed electrodes 14A and 14B described later. The main surface of the movable electrode 11 is disposed so as to face each of the fixed electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B with a predetermined area. The movable electrode 11 arranged in this way is supported by the beam 12 with respect to the insulator layer 90. Thereby, the movable electrode 11 becomes a shape which can be displaced along a lamination direction. The distance between the fixed electrodes 13A and 13B or the fixed electrodes 14A and 14B and the movable electrode 11 can be changed by this displacement.

なお、可動電極11は、絶縁体層90上に配置された金属板をエッチング等により加工した後、絶縁体層90を除去して形成したり、絶縁体層90上に真空蒸着等の薄膜形成方法により形成した後、絶縁体層90を除去して形成してもよい。   The movable electrode 11 is formed by processing a metal plate disposed on the insulator layer 90 by etching or the like and then removing the insulator layer 90, or forming a thin film such as vacuum deposition on the insulator layer 90. After the formation by the method, the insulator layer 90 may be removed to form.

最下層から5層目、逆に最上層から2層目の絶縁体層90の下面には、図2(A),(C)に示すように、固定電極14A,14Bが所定の間隔をおき、所定面積で形成されている。この際、これら固定電極14A,14Bは、その表面が、上述のように可動電極11の主面に対して所定面積で対向するように、形成されている。   As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (C), fixed electrodes 14A and 14B are placed at predetermined intervals on the lower surface of the insulator layer 90, which is the fifth layer from the bottom layer and conversely the second layer from the top layer. , With a predetermined area. At this time, the fixed electrodes 14A and 14B are formed so that the surfaces thereof face the main surface of the movable electrode 11 with a predetermined area as described above.

最上層の絶縁体層90の上面には、図2(A),(B)に示すように、伝送用電極400A,400Bにそれぞれ接続するための外部接続用電極40A,40Bが形成されている。この際、外部接続用電極40Aは、固定電極14Aと平面視して重なるように形成されている。そして、外部接続用電極40Aと固定電極14Aとは、積層方向へ延びる形状からなる導電性のビアホール41Aにより接続されている。外部接続用電極40Bは、固定電極14Bと平面視して重なるように形成されている。そして、外部接続用電極40Bと固定電極14Bとは、積層方向へ延びる形状からなる導電性のビアホール41Bにより接続されている。   As shown in FIGS. 2A and 2B, external connection electrodes 40A and 40B for connection to the transmission electrodes 400A and 400B are formed on the upper surface of the uppermost insulator layer 90, respectively. . At this time, the external connection electrode 40A is formed so as to overlap the fixed electrode 14A in plan view. The external connection electrode 40A and the fixed electrode 14A are connected by a conductive via hole 41A having a shape extending in the stacking direction. The external connection electrode 40B is formed to overlap the fixed electrode 14B in plan view. The external connection electrode 40B and the fixed electrode 14B are connected by a conductive via hole 41B having a shape extending in the stacking direction.

なお、図示していないが、固定用電極13A,13B,14A,14Bには、直流のスイッチング用制御電圧を印加するための制御用回路パターンが接続されている。当該制御用回路パターンは、絶縁体層90および絶縁体層900に適宜形成されている。また、可動電極11には、梁12を介して、直流のスイッチング用制御電圧を印加するための制御用回路パターンが接続されている。当該制御用回路パターンも、絶縁体層90および絶縁体層900に適宜形成されている。そして、これらの制御用回路パターンを用いることで、可動電極11と固定用電極13A,13B,14A,14Bとの間に、所定のスイッチング用制御電圧を与えることで、可動電極11を変位させる。そして、このように可動電極11を変位させることで、次に示すようなスイッチング制御が可能になる。   Although not shown, a control circuit pattern for applying a DC switching control voltage is connected to the fixing electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B. The control circuit pattern is appropriately formed on the insulator layer 90 and the insulator layer 900. Further, a control circuit pattern for applying a DC switching control voltage is connected to the movable electrode 11 via a beam 12. The control circuit pattern is also appropriately formed in the insulator layer 90 and the insulator layer 900. By using these control circuit patterns, the movable electrode 11 is displaced by applying a predetermined switching control voltage between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B. Then, by displacing the movable electrode 11 in this way, the following switching control becomes possible.

図3は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1のスイッチング制御を説明する為の図である。図3(A),(C),(E)は、スイッチング制御電圧と可動電極11の変位とを簡略的に表す図であり、図3(A)はスイッチング制御電圧V1,V2が「0」の場合、図3(C)はスイッチング制御電圧V1が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V2が「0」の場合、図3(E)はスイッチング制御電圧V2が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V1が「0」の場合を示す。図3(B),(D),(F)は、図3(A),(C),(E)のスイッチング制御の状態での高周波スイッチングモジュール1を高周波的観点から見た回路構成図である。   FIG. 3 is a diagram for explaining switching control of the high-frequency switch module 1 of the present embodiment. 3A, 3C, and 3E are diagrams simply showing the switching control voltage and the displacement of the movable electrode 11, and FIG. 3A shows that the switching control voltages V1 and V2 are “0”. 3 (C), the switching control voltage V1 is a positive predetermined value. When the switching control voltage V2 is “0”, FIG. 3 (E) is the switching control voltage V2 is a positive predetermined value. The case where the switching control voltage V1 is “0” is shown. 3B, 3D, and 3F are circuit configuration diagrams of the high-frequency switching module 1 in the switching control state of FIGS. 3A, 3C, and 3E viewed from a high-frequency viewpoint. is there.

なお、このような制御系の回路では、固定電極13A,13B間にインダクタL2と抵抗R2との直列回路が接続されており、固定電極14A,14B間にインダクタL1と抵抗R1との直列回路が接続されている。これらの直列回路を介して、直流の制御電圧v1,V2が固定電極に印加されるが、可動電極11を介して通過する高周波信号は、当該高周波信号の周波数において、これら直列回路を通過しないような高インピーダンスになるように、インダクタL1,L2と抵抗R1,R2は設定されている。   In such a control system circuit, a series circuit of an inductor L2 and a resistor R2 is connected between the fixed electrodes 13A and 13B, and a series circuit of the inductor L1 and the resistor R1 is connected between the fixed electrodes 14A and 14B. It is connected. DC control voltages v1 and V2 are applied to the fixed electrode through these series circuits, but the high frequency signal passing through the movable electrode 11 does not pass through these series circuits at the frequency of the high frequency signal. The inductors L1 and L2 and the resistors R1 and R2 are set so as to obtain a high impedance.

図3(A)に示すように、スイッチング制御電圧V1,V2が印加されていない状態、すなわちV1=V2=「0」の場合、可動電極11はデフォルトの位置にあり、変位しない。したがって、固定電極13A,13Bとも固定電極14A,14Bとも所定の距離を置く位置に可動電極11が存在する。このため、高周波回路としては、図3(B)に示すように、伝送用電極400A(実質的には外部接続用電極40Aやビアホール41Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極400B(実質的には外部接続用電極40Bやビアホール41Bを含む)からなる伝送線路とが、固定電極14Aと可動電極11とによるキャパシタと固定電極14Bと可動電極11とによるキャパシタにより接続された構成(図3(B)のキャパシタンスCn1に対応)となる。ただし、可動電極11と固定電極14A,14Bとの距離が離間しているため、実質的には殆ど結合することなく、これらの伝送線路間は略開放となる。 As shown in FIG. 3A, when the switching control voltages V1 and V2 are not applied, that is, when V1 = V2 = “0”, the movable electrode 11 is in the default position and is not displaced. Therefore, the movable electrode 11 exists at a position where the fixed electrodes 13A and 13B and the fixed electrodes 14A and 14B are placed at a predetermined distance. For this reason, as shown in FIG. 3B, the high-frequency circuit includes a transmission line composed of a transmission electrode 400A (substantially including the external connection electrode 40A and the via hole 41A), and a transmission electrode 400B (substantially Specifically, the transmission line including the external connection electrode 40B and the via hole 41B is connected by a capacitor formed by the fixed electrode 14A and the movable electrode 11 and a capacitor formed by the fixed electrode 14B and the movable electrode 11 (FIG. 3). (Corresponding to the capacitance C n1 in (B)). However, since the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B is separated, the transmission lines are substantially open with substantially no coupling.

同様に、伝送用電極300A(実質的には外部接続用電極30Aやビアホール31Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極300B(実質的には外部接続用電極30Bやビアホール31Bを含む)からなる伝送線路とが、固定電極13Aと可動電極11とによるキャパシタと固定電極13Bと可動電極11とによるキャパシタにより接続された構成(図3(B)のキャパシタンスCn2に対応)となる。ただし、可動電極11と固定電極13A,13Bとの距離が離間しているため、実質的には殆ど結合することなく、これらの伝送線路間は略開放となる。 Similarly, from a transmission line including the transmission electrode 300A (substantially including the external connection electrode 30A and the via hole 31A) and the transmission electrode 300B (substantially including the external connection electrode 30B and the via hole 31B). The transmission line is configured to be connected by a capacitor composed of the fixed electrode 13A and the movable electrode 11 and a capacitor composed of the fixed electrode 13B and the movable electrode 11 (corresponding to the capacitance C n2 in FIG. 3B). However, since the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B is separated, the transmission lines are substantially open with substantially no coupling.

次に、図3(C)に示すように、可動電極11と固定電極14A,14Bとの間に、所定の「0」でない電圧レベルVd1からなる直流のスイッチング制御電圧V1を印加する。この際、スイッチング制御電圧V2は「0」とする。   Next, as shown in FIG. 3C, a DC switching control voltage V1 having a voltage level Vd1 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B. At this time, the switching control voltage V2 is set to “0”.

このようなスイッチング制御電圧V1を印加すると、可動電極11と固定電極14A,14Bとの間にクーロン力が生じる。可動電極11は、作用するクーロン力と可動電極11自身や梁12の弾性率とに応じて、変形し、図3(C)に示すように、全体として固定電極14A,14B側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極14A,14Bとが当接する。   When such a switching control voltage V1 is applied, a Coulomb force is generated between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B. The movable electrode 11 is deformed in accordance with the acting Coulomb force and the elastic modulus of the movable electrode 11 itself and the beam 12, and is displaced toward the fixed electrodes 14A and 14B as a whole, as shown in FIG. Finally, the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B come into contact with each other.

このように、可動電極11と固定電極14A,14Bとが当接すると、高周波回路としては、図3(D)に示すように、伝送用電極400Aからなる伝送線路と、伝送用電極400Bからなる伝送線路とが、固定電極14A、可動電極11、および固定電極14Bを介して導通し、短絡された状態となる。これにより、伝送用電極400Aの固定電極14Aと反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP12とが導通する。これにより、入出力ポートP11,P12間で高周波信号を伝送することができる。   As described above, when the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B come into contact with each other, the high-frequency circuit includes a transmission line composed of a transmission electrode 400A and a transmission electrode 400B as shown in FIG. The transmission line becomes conductive through the fixed electrode 14A, the movable electrode 11, and the fixed electrode 14B, and is short-circuited. As a result, the input / output port P11 at the end of the transmission electrode 400A opposite to the fixed electrode 14A is electrically connected to the input / output port P12 at the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14B. Thereby, a high frequency signal can be transmitted between the input / output ports P11 and P12.

一方、可動電極11が固定電極14A,14Bに近づくもしくは当接すると、可動電極11と固定電極13A,13Bとの間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極300Aからなる伝送線路と、伝送用電極300Bからなる伝送線路との間は開放となる。これにより、図3(D)に示すように、伝送用電極300Aの固定電極13Aと反対側の端部にある入出力ポートP21と、伝送用電極300Bの固定電極13Bと反対側の端部にある入出力ポートP22との間が分断される。これにより、入出力ポートP21,P22間では高周波信号は伝送されない。   On the other hand, when the movable electrode 11 approaches or contacts the fixed electrodes 14A and 14B, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B further increases. For this reason, the transmission line made of the transmission electrode 300A and the transmission line made of the transmission electrode 300B are open. As a result, as shown in FIG. 3D, the input / output port P21 at the end opposite to the fixed electrode 13A of the transmission electrode 300A and the end of the transmission electrode 300B opposite to the fixed electrode 13B are connected. A certain input / output port P22 is disconnected. Thereby, a high frequency signal is not transmitted between the input / output ports P21 and P22.

次に、図3(E)に示すように、可動電極11と固定電極13A,13Bとの間に、所定の「0」でない電圧レベルVd2からなる直流のスイッチング制御電圧V2を印加する。この際、スイッチング制御電圧V1は「0」とする。なお、可動電極11に対して固定電極14A,14Bと、固定電極13A,13Bとが対称に配置されていれば、スイッチング制御電圧V2の電圧レベルVd2は、上述の電圧Vd1と同じにすればよい。   Next, as shown in FIG. 3E, a DC switching control voltage V2 having a voltage level Vd2 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B. At this time, the switching control voltage V1 is set to “0”. If the fixed electrodes 14A and 14B and the fixed electrodes 13A and 13B are arranged symmetrically with respect to the movable electrode 11, the voltage level Vd2 of the switching control voltage V2 may be the same as the voltage Vd1 described above. .

このようなスイッチング制御電圧V2を印加すると、可動電極11と固定電極13A,13Bとの間にクーロン力が生じる。可動電極11は、作用するクーロン力と可動電極11自身や梁12の弾性率とに応じて、変形し、図3(E)に示すように、全体として固定電極13A,13B側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極13A,13Bとが当接する。   When such a switching control voltage V2 is applied, a Coulomb force is generated between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B. The movable electrode 11 is deformed in accordance with the acting Coulomb force and the elastic modulus of the movable electrode 11 itself and the beam 12, and is displaced to the fixed electrodes 13A and 13B as a whole as shown in FIG. Finally, the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B come into contact with each other.

このように、可動電極11と固定電極13A,13Bとが当接すると、高周波回路としては、図3(F)に示すように、伝送用電極300Aからなる伝送線路と、伝送用電極300Bからなる伝送線路とが、固定電極13A、可動電極11、および固定電極13Bを介して導通し、短絡された状態となる。これにより、伝送用電極300Aの固定電極13Aと反対側の端部にある入出力ポートP21と、伝送用電極300Bの固定電極13Bと反対側の端部にある入出力ポートP22とが導通する。これにより、入出力ポートP21,P22間で高周波信号を伝送することができる。   As described above, when the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B come into contact with each other, as shown in FIG. 3F, the high-frequency circuit includes a transmission line including the transmission electrode 300A and a transmission electrode 300B. The transmission line is conducted through the fixed electrode 13A, the movable electrode 11, and the fixed electrode 13B, and is short-circuited. As a result, the input / output port P21 at the end of the transmission electrode 300A opposite to the fixed electrode 13A is electrically connected to the input / output port P22 at the end of the transmission electrode 300B opposite to the fixed electrode 13B. Thereby, a high frequency signal can be transmitted between the input / output ports P21 and P22.

一方、可動電極11が固定電極13A,13Bに近づくもしくは当接すると、可動電極11と固定電極14A,14Bとの間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極400Aからなる伝送線路と、伝送用電極400Bからなる伝送線路との間は開放となる。これにより、図3(F)に示すように、伝送用電極400Aの固定電極14Aと反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP12との間が分断される。これにより、入出力ポートP11,P12間では高周波信号は伝送されない。   On the other hand, when the movable electrode 11 approaches or contacts the fixed electrodes 13A and 13B, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B further increases. For this reason, the transmission line made of the transmission electrode 400A and the transmission line made of the transmission electrode 400B are open. Accordingly, as shown in FIG. 3F, the input / output port P11 at the end of the transmission electrode 400A opposite to the fixed electrode 14A and the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14B are connected to each other. A certain input / output port P12 is disconnected. Thereby, a high frequency signal is not transmitted between the input / output ports P11 and P12.

以上のように、本実施形態の構成を用いることで、MEMS機構部10へ二種類のスイッチング制御電圧を印加することで、二つの高周波伝送回路のいずれか一方を短絡、他方を開放をする制御を、同時に実現することができる。すなわち、所謂DPDTスイッチを実現できる。そして、このような実質的に二つのスイッチ素子を実現するために、一つの可動電極11を用いればよいので、MEMS機構部10、ひいては高周波スイッチモジュール1を小型に形成することができる。さらには、可動電極11が高周波スイッチモジュール1の外方へ露出していないので、可動電極11に対する外力の影響も受け難い。特に、MEMS機構部10の周囲が絶縁体膜による積層体で保護されていることで、当該積層体に外力が加わっても、積層体領域で緩和され、MEMS機構部10には、殆ど影響しない。また、MEMS機構部10が外部環境に曝されないので、耐環境性も高い。したがって、MEMS機構部10および高周波スイッチモジュール1の信頼性を高くすることができる。   As described above, by using the configuration of the present embodiment, by applying two kinds of switching control voltages to the MEMS mechanism unit 10, one of the two high-frequency transmission circuits is short-circuited and the other is opened. Can be realized simultaneously. That is, a so-called DPDT switch can be realized. In order to realize such substantially two switch elements, one movable electrode 11 may be used, so that the MEMS mechanism section 10, and thus the high-frequency switch module 1, can be formed in a small size. Furthermore, since the movable electrode 11 is not exposed to the outside of the high frequency switch module 1, it is difficult to be affected by an external force applied to the movable electrode 11. In particular, since the periphery of the MEMS mechanism portion 10 is protected by a laminated body made of an insulator film, even if an external force is applied to the laminated body, it is relaxed in the laminated body region, and the MEMS mechanism portion 10 is hardly affected. . Further, since the MEMS mechanism unit 10 is not exposed to the external environment, the environment resistance is also high. Therefore, the reliability of the MEMS mechanism unit 10 and the high frequency switch module 1 can be increased.

次に、第2の実施形態に係る高周波スイッチモジュールについて、図を参照して説明する。図4、図5は、本実施形態に係る高周波スイッチモジュールのMEMS機構部の各種バリエーションを示す側断面から見た構成図である。   Next, a high frequency switch module according to a second embodiment will be described with reference to the drawings. 4 and 5 are configuration diagrams viewed from a side cross-section showing various variations of the MEMS mechanism portion of the high-frequency switch module according to the present embodiment.

上述の第1の実施形態では、可動電極11、固定電極13A,13B、固定電極14A,14Bの表面には、なにも形成していない。しかしながら、本実施形態では、可動電極11、固定電極13A,13B、および固定電極14A,14Bの少なくともいずれかに誘電体層を形成している。   In the first embodiment described above, nothing is formed on the surfaces of the movable electrode 11, the fixed electrodes 13A and 13B, and the fixed electrodes 14A and 14B. However, in this embodiment, a dielectric layer is formed on at least one of the movable electrode 11, the fixed electrodes 13A and 13B, and the fixed electrodes 14A and 14B.

図4(A)に示すMEMS機構部10Aでは、可動電極11の両主面に誘電体層60を形成し、固定電極13A,13Bの表面に誘電体層61A,61Bをそれぞれ形成し、固定電極14A,14Bの表面に誘電体層62A,62Bをそれぞれ形成している。   In the MEMS mechanism portion 10A shown in FIG. 4A, dielectric layers 60 are formed on both main surfaces of the movable electrode 11, and dielectric layers 61A and 61B are formed on the surfaces of the fixed electrodes 13A and 13B, respectively. Dielectric layers 62A and 62B are formed on the surfaces of 14A and 14B, respectively.

このような構成では、上述のスイッチング制御電圧V1=Vd1を印加して、可動電極11が固定電極14A,14Bに近接すると、誘電体層60と誘電体層62A,62Bとが当接する。これにより、可動電極11と固定電極14Aとの間に誘電体層60,62Aが配された所定のキャパシタンスを有するキャパシタが構成される。また、可動電極11と固定電極14Bとの間に誘電体層60,62Bが配された所定のキャパシタンスを有するキャパシタが構成される。そして、これらキャパシタを介して、伝送用電極400Aからなる伝送線路と伝送用電極400Bからなる伝送線路とが導通して、短絡された状態となる。したがって、伝送用電極400Aからなる伝送線路と伝送用電極400Bからなる伝送線路との間にハイパスフィルタを備える伝送回路を形成できる。   In such a configuration, when the above-described switching control voltage V1 = Vd1 is applied and the movable electrode 11 approaches the fixed electrodes 14A and 14B, the dielectric layer 60 and the dielectric layers 62A and 62B come into contact with each other. Thus, a capacitor having a predetermined capacitance in which the dielectric layers 60 and 62A are arranged between the movable electrode 11 and the fixed electrode 14A is configured. In addition, a capacitor having a predetermined capacitance in which the dielectric layers 60 and 62B are disposed between the movable electrode 11 and the fixed electrode 14B is configured. Then, the transmission line composed of the transmission electrode 400A and the transmission line composed of the transmission electrode 400B are brought into conduction through these capacitors and are short-circuited. Therefore, a transmission circuit including a high-pass filter can be formed between the transmission line made of the transmission electrode 400A and the transmission line made of the transmission electrode 400B.

一方、上述のスイッチング制御電圧V2=Vd2を印加して、可動電極11が固定電極13A,13Bに近接すると、誘電体層60と誘電体層61A,61Bとが当接する。これにより、可動電極11と固定電極13Aとの間に誘電体層60,61Aが配された所定のキャパシタンスを有するキャパシタが構成される。また、可動電極11と固定電極13Bとの間に誘電体層60,61Bが配された所定のキャパシタンスを有するキャパシタが構成される。そして、これらキャパシタを介して、伝送用電極300Aからなる伝送線路と伝送用電極300Bからなる伝送線路とが導通して、短絡された状態となる。したがって、伝送用電極300Aからなる伝送線路と伝送用電極300Bからなる伝送線路との間にハイパスフィルタを備える伝送回路を形成できる。   On the other hand, when the switching control voltage V2 = Vd2 is applied and the movable electrode 11 comes close to the fixed electrodes 13A and 13B, the dielectric layer 60 and the dielectric layers 61A and 61B come into contact with each other. Thus, a capacitor having a predetermined capacitance in which the dielectric layers 60 and 61A are arranged between the movable electrode 11 and the fixed electrode 13A is configured. Further, a capacitor having a predetermined capacitance in which the dielectric layers 60 and 61B are arranged between the movable electrode 11 and the fixed electrode 13B is configured. Then, the transmission line made up of the transmission electrode 300A and the transmission line made up of the transmission electrode 300B are conducted through these capacitors and are short-circuited. Therefore, a transmission circuit including a high-pass filter can be formed between the transmission line made of the transmission electrode 300A and the transmission line made of the transmission electrode 300B.

以上のように、本実施形態の構成を用いれば、単なるスイッチング機能のみではなく、導通した側の伝送線路に対してフィルタ機能を備えることができる。   As described above, if the configuration of the present embodiment is used, not only a simple switching function but also a filter function can be provided for the transmission line on the conductive side.

なお、図4(B),(C)、図5(A),(B),(C)のMEMS機構部10B〜10Fは、図4(A)のMEMS機構部10Aに類似する構成であり、相違部分のみを以下に説明する。   Note that the MEMS mechanism units 10B to 10F in FIGS. 4B, 5C, 5A, 5B, and 5C are similar to the MEMS mechanism unit 10A in FIG. Only the differences will be described below.

図4(B)のMEMS機構部10Bは、図4(A)のMEMS機構部10Aに対して、固定電極13A,13Bの表面の誘電体層61A,61B、固定電極14A,14Bの表面の誘電体層62A,62Bを省略した構成を備える。   4B is different from the MEMS mechanism 10A in FIG. 4A in the dielectric layers 61A and 61B on the surfaces of the fixed electrodes 13A and 13B and the dielectrics on the surfaces of the fixed electrodes 14A and 14B. The body layers 62A and 62B are omitted.

図4(C)のMEMS機構部10Cは、図4(A)のMEMS機構部10Aに対して、可動電極11の両主面の誘電体層60を省略した構成を備える。このような可動電極11の表面の誘電体層60を省略した構成の場合、可動する部材を、誘電体層60を備えた場合よりも軽量化することができる。したがって、より応答性の良いスイッチ制御が可能であったり、より低電圧でのスイッチ制御が可能になる。   4C is provided with a configuration in which the dielectric layers 60 on both main surfaces of the movable electrode 11 are omitted from the MEMS mechanism 10A in FIG. In the case of the configuration in which the dielectric layer 60 on the surface of the movable electrode 11 is omitted, the movable member can be made lighter than the case where the dielectric layer 60 is provided. Therefore, switch control with better responsiveness is possible, and switch control with a lower voltage is possible.

図5(A)のMEMS機構部10Dは、図4(A)のMEMS機構部10Aに対して、可動電極11の固定電極13A,13B側の誘電体層60のみを省略した構成を備える。なお、可動電極11の固定電極14A,14B側の誘電体層60のみを省略することもできる。   5A has a configuration in which only the dielectric layer 60 on the fixed electrodes 13A and 13B side of the movable electrode 11 is omitted from the MEMS mechanism 10A in FIG. 4A. Only the dielectric layer 60 on the fixed electrodes 14A and 14B side of the movable electrode 11 may be omitted.

図5(B)のMEMS機構部10Eは、図4(A)のMEMS機構部10Aに対して、固定電極13A,13Bの表面の誘電体層61A,61Bのみを省略した構成を備える。なお、固定電極14A,14Bの表面の誘電体層62A,62Bのみを省略することもできる。   The MEMS mechanism unit 10E in FIG. 5B has a configuration in which only the dielectric layers 61A and 61B on the surfaces of the fixed electrodes 13A and 13B are omitted from the MEMS mechanism unit 10A in FIG. Only the dielectric layers 62A and 62B on the surfaces of the fixed electrodes 14A and 14B may be omitted.

また、上述の図4(B),(C)、図5(A),(B)は一例であり、可動電極11、固定電極13A,13B、固定電極14A,14Bに形成する誘電体層は、必要とする仕様に応じて、適宜選択的に形成すればよい。また、上述の説明では、固定電極13A,13Bに対して、ともに誘電体層を形成するか、誘電体層を形成しない構成を示している。また、固定電極14A,14Bに対して、ともに誘電体層を形成するか、誘電体層を形成しない構成を示している。しかしながら、固定電極13Aの誘電体層61Aのみを形成し、固定電極13Bには誘電体層を形成しない構成や、固定電極14Aには誘電体層を形成せず、固定電極14Bの誘電体層62Bのみを形成する構成にしてもよい。   4 (B), 4 (C), 5 (A), and 5 (B) are examples, and the dielectric layers formed on the movable electrode 11, the fixed electrodes 13A and 13B, and the fixed electrodes 14A and 14B are as follows. Depending on the required specifications, it may be selectively formed as appropriate. In the above description, a configuration in which a dielectric layer is formed on the fixed electrodes 13A and 13B or no dielectric layer is formed is shown. Further, a configuration is shown in which a dielectric layer is formed on the fixed electrodes 14A and 14B, or no dielectric layer is formed. However, only the dielectric layer 61A of the fixed electrode 13A is formed and the dielectric layer is not formed on the fixed electrode 13B, or the dielectric layer is not formed on the fixed electrode 14A, and the dielectric layer 62B of the fixed electrode 14B is formed. It may be configured to form only.

図5(C)のMEMS機構部10Fは、図4(A)のMEMS機構部10Aに対して、可動電極11の固定電極13A,13B側の誘電体層60Aの厚みと、可動電極11の固定電極14A,13B側の誘電体層60Bの厚みとを異ならせた構成を備える。このような構成とすることで、固定電極13A,13B側、すなわち伝送用電極300Aからなる伝送線路と伝送用電極300Bからなる伝送線路側、図3であれば入出力ポートP21,P22間の伝送特性と、伝送用電極400Aからなる伝送線路と伝送用電極400Bからなる伝送線路側、図3であれば入出力ポートP11,P12間の伝送特性と、を適宜異ならせることができる。すなわち、スイッチング機能を実現しながら、それぞれの伝送線路に応じた伝送特性の伝送線路を実現できる。   The MEMS mechanism portion 10F in FIG. 5C is different from the MEMS mechanism portion 10A in FIG. 4A in that the thickness of the dielectric layer 60A on the fixed electrodes 13A and 13B side of the movable electrode 11 and the fixing of the movable electrode 11 are fixed. The dielectric layer 60B on the electrode 14A, 13B side has a different thickness. With such a configuration, the fixed electrodes 13A and 13B side, that is, the transmission line side consisting of the transmission electrode 300A and the transmission line side consisting of the transmission electrode 300B, the transmission between the input / output ports P21 and P22 in FIG. The characteristics and the transmission characteristics between the transmission electrode 400A and the transmission electrode 400B, that is, the transmission characteristics between the input / output ports P11 and P12 in FIG. That is, it is possible to realize a transmission line having a transmission characteristic corresponding to each transmission line while realizing a switching function.

なお、誘電体層の厚みを変えて固定電極と可動電極との間で発生する容量を調整できるが、誘電体層の厚み以外に、誘電体層を点状、線状あるいは格子状等のように、電極表面に対して部分的に形成することで、容量調整を容易に行うことができる。   The capacitance generated between the fixed electrode and the movable electrode can be adjusted by changing the thickness of the dielectric layer. However, in addition to the thickness of the dielectric layer, the dielectric layer may have a dot shape, a linear shape, a lattice shape, or the like. In addition, the capacitance can be easily adjusted by forming a part of the electrode surface.

次に、第3の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成について、図を参照して説明する。図6は、本実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。   Next, the configuration of the high-frequency switch module according to the third embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a side cross-sectional configuration diagram and a partial perspective plan configuration diagram for describing the configuration of the high-frequency switch module according to the present embodiment.

本実施形態の高周波スイッチモジュール1Aは、第1の実施形態の図1に示した高周波スイッチモジュール1に対して、MEMS機構部10の外部接続用電極30Aに当接する伝送用電極300Aに代わり、伝送用電極301Aを用いる。   The high-frequency switch module 1A of the present embodiment is different from the high-frequency switch module 1 shown in FIG. 1 of the first embodiment in place of the transmission electrode 300A that abuts on the external connection electrode 30A of the MEMS mechanism unit 10 instead of the transmission electrode 300A. The electrode 301A is used.

伝送用電極301Aの一方端は、MEMS機構部10の外部接続用電極30Aに当接する。伝送用電極301Aの他方端は、積層体に形成されたビアホール302Aにより、伝送用電極400Aの所定点に接続されている。このような構成とすれば、上述の第1の実施形態に示したDPDTの高周波スイッチモジュールに代えて、SPDTの高周波スイッチモジュールを実現することができる。   One end of the transmission electrode 301 </ b> A is in contact with the external connection electrode 30 </ b> A of the MEMS mechanism unit 10. The other end of the transmission electrode 301A is connected to a predetermined point of the transmission electrode 400A by a via hole 302A formed in the laminate. With such a configuration, a high-frequency switch module of SPDT can be realized instead of the high-frequency switch module of DPDT shown in the first embodiment.

具体的には、次に示す制御により、高周波スイッチモジュール1AはSPDTとして機能する。図7は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1のスイッチング制御を説明する為の図である。図7(A),(C),(E)は、スイッチング制御電圧と可動電極11の変位とを簡略的に表す図であり、図7(A)はスイッチング制御電圧V1,V2が「0」の場合、図7(C)はスイッチング制御電圧V1が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V2が「0」の場合、図7(E)はスイッチング制御電圧V2が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V1が「0」の場合を示す。図7(B),(D),(F)は、図7(A),(C),(E)のスイッチング制御の状態での高周波スイッチングモジュール1を高周波的観点から見た回路構成図である。   Specifically, the high frequency switch module 1A functions as an SPDT by the following control. FIG. 7 is a diagram for explaining switching control of the high-frequency switch module 1 of the present embodiment. 7A, 7C, and 7E are diagrams schematically showing the switching control voltage and the displacement of the movable electrode 11, and FIG. 7A shows that the switching control voltages V1 and V2 are “0”. 7 (C), the switching control voltage V1 is a positive predetermined value, and when the switching control voltage V2 is “0”, FIG. 7 (E) is the switching control voltage V2 is a positive predetermined value. The case where the switching control voltage V1 is “0” is shown. FIGS. 7B, 7D, and 7F are circuit configuration diagrams of the high-frequency switching module 1 in the switching control state of FIGS. 7A, 7C, and 7E viewed from a high-frequency viewpoint. is there.

図7(A)に示すように、スイッチング制御電圧V1,V2が印加されていない状態、すなわちV1=V2=「0」の場合、可動電極11はデフォルトの位置にあり、変位しない。したがって、固定電極13A,13Bとも固定電極14A,14Bとも所定の距離を置く位置に可動電極11が存在する。このため、高周波回路としては、図7(B)に示すように、伝送用電極400A(実質的には外部接続用電極40Aやビアホール41Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極400B(実質的には外部接続用電極40Bやビアホール41Bを含む)からなる伝送線路とが、固定電極14Aと可動電極11とによるキャパシタと固定電極14Bと可動電極11とによるキャパシタにより接続された構成(図7(B)のキャパシタンスCn1に対応)となる。ただし、可動電極11と固定電極14A,14Bとの距離が離間しているため、実質的には殆ど結合することなく、これらの伝送線路間は略開放となる。 As shown in FIG. 7A, when the switching control voltages V1 and V2 are not applied, that is, when V1 = V2 = “0”, the movable electrode 11 is in the default position and does not move. Therefore, the movable electrode 11 exists at a position where the fixed electrodes 13A and 13B and the fixed electrodes 14A and 14B are placed at a predetermined distance. For this reason, as shown in FIG. 7B, the high-frequency circuit includes a transmission line composed of a transmission electrode 400A (substantially including the external connection electrode 40A and the via hole 41A) and a transmission electrode 400B (substantially Specifically, the transmission line including the external connection electrode 40B and the via hole 41B is connected by a capacitor formed by the fixed electrode 14A and the movable electrode 11 and a capacitor formed by the fixed electrode 14B and the movable electrode 11 (FIG. 7). (Corresponding to the capacitance C n1 in (B)). However, since the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B is separated, the transmission lines are substantially open with substantially no coupling.

同様に、伝送用電極301A(実質的には外部接続用電極30Aやビアホール31Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極300B(実質的には外部接続用電極30Bやビアホール31Bを含む)からなる伝送線路とが、固定電極13Aと可動電極11とによるキャパシタと固定電極13Bと可動電極11とによるキャパシタにより接続された構成(図7(B)のキャパシタンスCn2に対応)となる。ただし、可動電極11と固定電極13A,13Bとの距離が離間しているため、実質的には殆ど結合することなく、これらの伝送線路間は略開放となる。 Similarly, from a transmission line composed of the transmission electrode 301A (substantially including the external connection electrode 30A and the via hole 31A) and the transmission electrode 300B (substantially including the external connection electrode 30B and the via hole 31B). The transmission line is a configuration in which a capacitor composed of the fixed electrode 13A and the movable electrode 11 and a capacitor composed of the fixed electrode 13B and the movable electrode 11 are connected (corresponding to the capacitance Cn2 in FIG. 7B). However, since the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B is separated, the transmission lines are substantially open with substantially no coupling.

これにより、伝送用電極400Aの固定電極14Aと反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP12、および伝送用電極300Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP22とは、ともに分断された状態となる。   Thus, the input / output port P11 at the end of the transmission electrode 400A opposite to the fixed electrode 14A, the input / output port P12 at the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14B, and the transmission electrode Both the input / output port P22 at the end opposite to the fixed electrode 14B of 300B are separated.

次に、図7(C)に示すように、可動電極11と固定電極14A,14Bとの間に、所定の「0」でない電圧レベルVd1からなる直流のスイッチング制御電圧V1を印加する。この際、スイッチング制御電圧V2は「0」とする。   Next, as shown in FIG. 7C, a DC switching control voltage V1 having a voltage level Vd1 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B. At this time, the switching control voltage V2 is set to “0”.

このようなスイッチング制御電圧V1を印加すると、図7(C)に示すように、全体として固定電極14A,14B側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極14A,14Bとが当接する。   When such a switching control voltage V1 is applied, as shown in FIG. 7C, the whole is displaced toward the fixed electrodes 14A and 14B, and finally the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B come into contact with each other.

このように、可動電極11と固定電極14A,14Bとが当接すると、高周波回路としては、図7(D)に示すように、伝送用電極400Aからなる伝送線路と、伝送用電極400Bからなる伝送線路とが、固定電極14A、可動電極11、および固定電極14Bを介して導通し、短絡した状態になる。これにより、伝送用電極400Aの固定電極14Aと反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP12とが導通する。これにより、入出力ポートP11,P12間で高周波信号を伝送することができる。   Thus, when the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B come into contact with each other, as shown in FIG. 7D, the high-frequency circuit includes a transmission line composed of the transmission electrode 400A and a transmission electrode 400B. The transmission line is conducted through the fixed electrode 14A, the movable electrode 11, and the fixed electrode 14B, and is short-circuited. As a result, the input / output port P11 at the end of the transmission electrode 400A opposite to the fixed electrode 14A is electrically connected to the input / output port P12 at the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14B. Thereby, a high frequency signal can be transmitted between the input / output ports P11 and P12.

一方、可動電極11が固定電極14A,14Bに近づくもしくは当接すると、可動電極11と固定電極13A,13Bとの間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極301Aからなる伝送線路と、伝送用電極300Bからなる伝送線路との間は開放となる。これにより、図7(D)に示すように、伝送用電極300Aが接続する伝送用電極400Aの上記入出力ポートP11と、伝送用電極300Bの固定電極13Bと反対側の端部にある入出力ポートP22との間が分断される。これにより、入出力ポートP11,P22間では高周波信号は伝送されない。   On the other hand, when the movable electrode 11 approaches or contacts the fixed electrodes 14A and 14B, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B further increases. For this reason, the transmission line made of the transmission electrode 301A and the transmission line made of the transmission electrode 300B are open. Accordingly, as shown in FIG. 7D, the input / output port P11 of the transmission electrode 400A to which the transmission electrode 300A is connected and the input / output at the end of the transmission electrode 300B opposite to the fixed electrode 13B. The connection with the port P22 is divided. Thereby, a high frequency signal is not transmitted between the input / output ports P11 and P22.

次に、図7(E)に示すように、可動電極11と固定電極13A,13Bとの間に、所定の「0」でない電圧レベルVd2からなる直流のスイッチング制御電圧V2を印加する。この際、スイッチング制御電圧V1は「0」とする。   Next, as shown in FIG. 7E, a DC switching control voltage V2 having a voltage level Vd2 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B. At this time, the switching control voltage V1 is set to “0”.

このようなスイッチング制御電圧V2を印加すると、図7(E)に示すように、全体として固定電極13A,13B側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極13A,13Bとが当接する。   When such a switching control voltage V2 is applied, as shown in FIG. 7E, as a whole, it is displaced toward the fixed electrodes 13A and 13B, and finally the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B come into contact with each other.

このように、可動電極11と固定電極13A,13Bとが当接すると、高周波回路としては、図7(F)に示すように、伝送用電極300Aからなる伝送線路と、伝送用電極300Bからなる伝送線路とが、固定電極13A、可動電極11、および固定電極13Bを介して導通し、短絡した状態になる。これにより、伝送用電極300Aが接続する伝送用電極400Aの上記入出力ポートP11と、伝送用電極300Bの固定電極13Bと反対側の端部にある入出力ポートP22とが導通する。これにより、入出力ポートP11,P22間で高周波信号を伝送することができる。   As described above, when the movable electrode 11 and the fixed electrodes 13A and 13B come into contact with each other, as shown in FIG. 7F, the high-frequency circuit includes a transmission line including the transmission electrode 300A and a transmission electrode 300B. The transmission line is conducted through the fixed electrode 13A, the movable electrode 11, and the fixed electrode 13B, and is short-circuited. Thereby, the input / output port P11 of the transmission electrode 400A to which the transmission electrode 300A is connected is electrically connected to the input / output port P22 at the end of the transmission electrode 300B opposite to the fixed electrode 13B. Thereby, a high frequency signal can be transmitted between the input / output ports P11 and P22.

一方、可動電極11が固定電極13A,13Bに近づくもしくは当接すると、可動電極11と固定電極14A,14Bとの間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極400Aからなる伝送線路と、伝送用電極400Bからなる伝送線路との間は開放となる。これにより、図7(F)に示すように、伝送用電極400Aの固定電極14Aと反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14Bと反対側の端部にある入出力ポートP12との間が分断される。これにより、入出力ポートP11,P12間では高周波信号は伝送されない。   On the other hand, when the movable electrode 11 approaches or contacts the fixed electrodes 13A and 13B, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrodes 14A and 14B further increases. For this reason, the transmission line made of the transmission electrode 400A and the transmission line made of the transmission electrode 400B are open. Accordingly, as shown in FIG. 7F, the input / output port P11 at the end of the transmission electrode 400A opposite to the fixed electrode 14A and the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14B are connected to each other. A certain input / output port P12 is disconnected. Thereby, a high frequency signal is not transmitted between the input / output ports P11 and P12.

このような構成とすることで、共通のポートに対して2個の個別ポートを有し、共通のポートと一方の個別ポートとの間を導通し、共通ポートと他方の個別ポートとの間を開放するSPDTの高周波スイッチモジュールを、容易な構造で小型に構成することができる。   With this configuration, there are two individual ports for a common port, electrical connection is made between the common port and one individual port, and between the common port and the other individual port. The high-frequency switch module of SPDT to be opened can be made compact with an easy structure.

次に、第4の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成について、図を参照して説明する。図8は本実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成を説明する為の側断面の構成図、および部分透視平面構成図である。   Next, the configuration of the high-frequency switch module according to the fourth embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a side cross-sectional configuration diagram and a partially transparent plan configuration diagram for describing the configuration of the high-frequency switch module according to the present embodiment.

本実施形態の高周波スイッチモジュール1Bは、第1の実施形態の図1に示した高周波スイッチモジュール1に対して、固定電極の構造が異なる。具体的には、本実施形態の高周波スイッチモジュール1Bは、第1の実施形態の高周波スイッチモジュール1の固定電極13A,13Bが繋がった1個の固定電極13を備える。また、高周波スイッチモジュール1Bは、第1の実施形態の高周波スイッチモジュール1の固定電極14A,14Bが繋がった1個の固定電極14を備える。固定電極13の表面には、誘電体層61が形成され、固定電極14の表面には、誘電体層62が形成されている。   The high frequency switch module 1B of the present embodiment is different from the high frequency switch module 1 shown in FIG. 1 of the first embodiment in the structure of the fixed electrode. Specifically, the high-frequency switch module 1B according to the present embodiment includes one fixed electrode 13 connected to the fixed electrodes 13A and 13B of the high-frequency switch module 1 according to the first embodiment. The high-frequency switch module 1B includes one fixed electrode 14 connected to the fixed electrodes 14A and 14B of the high-frequency switch module 1 of the first embodiment. A dielectric layer 61 is formed on the surface of the fixed electrode 13, and a dielectric layer 62 is formed on the surface of the fixed electrode 14.

また、可動電極11は、梁12を介して接地用電極500に電気的に接続している。すなわち、可動電極11は実質的に接地されている。   The movable electrode 11 is electrically connected to the grounding electrode 500 through the beam 12. That is, the movable electrode 11 is substantially grounded.

このような構成の高周波スイッチモジュール1Bは、次に示すスイッチング制御により、DPDTのスイッチとして機能する。図9は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1のスイッチング制御を説明する為の図である。図9(A),(C),(E)は、スイッチング制御電圧と可動電極11の変位とを簡略的に表す図であり、図9(A)はスイッチング制御電圧V1,V2が「0」の場合、図9(C)はスイッチング制御電圧V1が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V2が「0」の場合、図9(E)はスイッチング制御電圧V2が正の所定値であり、スイッチング制御電圧V1が「0」の場合を示す。図9(B),(D),(F)は、図9(A),(C),(E)のスイッチング制御の状態での高周波スイッチングモジュール1を高周波的観点から見た回路構成図である。   The high-frequency switch module 1B having such a configuration functions as a DPDT switch by the following switching control. FIG. 9 is a diagram for explaining switching control of the high-frequency switch module 1 of the present embodiment. 9A, 9C, and 9E are diagrams simply showing the switching control voltage and the displacement of the movable electrode 11, and FIG. 9A shows that the switching control voltages V1 and V2 are "0". 9 (C), the switching control voltage V1 is a positive predetermined value, and when the switching control voltage V2 is “0”, FIG. 9 (E) is the switching control voltage V2 is a positive predetermined value. The case where the switching control voltage V1 is “0” is shown. FIGS. 9B, 9D, and 9F are circuit configuration diagrams of the high-frequency switching module 1 in the switching control state of FIGS. 9A, 9C, and 9E viewed from a high-frequency viewpoint. is there.

図9(A)に示すように、スイッチング制御電圧V1,V2が印加されていない状態、すなわちV1=V2=「0」の場合、可動電極11はデフォルトの位置にあり、変位しない。したがって、固定電極13とも固定電極14とも所定の距離を置く位置に可動電極11が存在する。   As shown in FIG. 9A, when the switching control voltages V1 and V2 are not applied, that is, when V1 = V2 = “0”, the movable electrode 11 is in the default position and does not move. Therefore, the movable electrode 11 exists at a position where the fixed electrode 13 and the fixed electrode 14 are at a predetermined distance.

このため、高周波回路としては、図9(B)に示すように、伝送用電極400A(実質的には外部接続用電極40Aやビアホール41Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極400B(実質的には外部接続用電極40Bやビアホール41Bを含む)からなる伝送線路とが導通し、これらの接続点が固定電極14と可動電極11とによるキャパシタ(図9(B)のキャパシタンスCn1に対応)により高周波的に接地された状態となる。 Therefore, as a high-frequency circuit, as shown in FIG. 9B, a transmission line composed of a transmission electrode 400A (substantially including an external connection electrode 40A and a via hole 41A) and a transmission electrode 400B (substantially manner to consists includes an electrode 40B and via holes 41B for external connection) a transmission line become conductive, corresponding to the capacitance C n1 of the capacitor by these connection points and the fixed electrode 14 and the movable electrode 11 (FIG. 9 (B), ) Is grounded at a high frequency.

同様に、図9(B)に示すように、伝送用電極300A(実質的には外部接続用電極30Aやビアホール31Aを含む)からなる伝送線路と、伝送用電極300B(実質的には外部接続用電極30Bやビアホール31Bを含む)からなる伝送線路とが導通し、これらの接続点が固定電極13と可動電極11とによるキャパシタ(図9(B)のキャパシタンスCn2に対応)により高周波的に接地された状態となる。 Similarly, as shown in FIG. 9B, a transmission line composed of a transmission electrode 300A (substantially including the external connection electrode 30A and the via hole 31A) and a transmission electrode 300B (substantially external connection). Transmission line consisting of the electrode 30B for use and the via hole 31B), and the connection point thereof is high-frequency by a capacitor (corresponding to the capacitance Cn2 of FIG. 9B) by the fixed electrode 13 and the movable electrode 11. It is in a grounded state.

次に、図9(C)に示すように、可動電極11と固定電極14との間に、所定の「0」でない電圧レベルVd1からなる直流のスイッチング制御電圧V1を印加する。この際、スイッチング制御電圧V2は「0」とする。   Next, as shown in FIG. 9C, a DC switching control voltage V1 having a voltage level Vd1 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrode. At this time, the switching control voltage V2 is set to “0”.

このようなスイッチング制御電圧V1を印加すると、可動電極11は、図9(C)に示すように、全体として固定電極14側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極14とが誘電体層62を介して当接する。   When such a switching control voltage V1 is applied, the movable electrode 11 is displaced toward the fixed electrode 14 as a whole as shown in FIG. 9C, and finally the movable electrode 11 and the fixed electrode 14 are made of dielectric. It abuts through the layer 62.

可動電極11と固定電極14とが誘電体層62を介して当接すると、キャパシタが形成される。そして、伝送用電極400Aの固定電極14と反対側の端部の入出力ポートP11から可動電極11までの電極長として、当該入出力ポートP11に入力される第1の高周波信号の波長λの1/4となるように設定する。これにより、第1の高周波信号に対して、入出力ポートP11から見れば、伝送用電極400Aと伝送用電極400Bとの接続点は開放になり、第1の高周波信号は、入出力ポートP11から、伝送用電極400Bの固定電極14と反対側の端部の入出力ポートP12へ伝送されない。なお、第1の高周波信号と異なる周波数の第2の高周波信号は、入出力ポートP11から入出力ポートP12へ伝送させることができる。特に、第2の高周波信号の周波数が第1の高周波信号の周波数よりも低い場合は、伝送用電極400A,400Bの影響が小さくなり、伝送損失を小さくできる。 When the movable electrode 11 and the fixed electrode 14 come into contact with each other through the dielectric layer 62, a capacitor is formed. Then, as the electrode length from the input / output port P11 to the movable electrode 11 at the end opposite to the fixed electrode 14 of the transmission electrode 400A, the wavelength λ 1 of the first high-frequency signal input to the input / output port P11 is set. Set to 1/4. Thereby, when viewed from the input / output port P11 with respect to the first high-frequency signal, the connection point between the transmission electrode 400A and the transmission electrode 400B is opened, and the first high-frequency signal is transmitted from the input / output port P11. The transmission electrode 400B is not transmitted to the input / output port P12 at the end opposite to the fixed electrode 14. A second high frequency signal having a frequency different from that of the first high frequency signal can be transmitted from the input / output port P11 to the input / output port P12. In particular, when the frequency of the second high-frequency signal is lower than the frequency of the first high-frequency signal, the influence of the transmission electrodes 400A and 400B is reduced, and the transmission loss can be reduced.

一方、可動電極11が固定電極14に誘電体層62を介して当接すると、可動電極11と固定電極13との間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極300Aからなる伝送線路と、伝送用電極300Bからなる伝送線路との間は、上述の固定電極14側と異なり、第1の高周波信号に対して影響を与えない。これにより、図9(D)に示すように、伝送用電極300Aの固定電極13と反対側の端部にある入出力ポートP21と、伝送用電極300Bの固定電極13と反対側の端部にある入出力ポートP22との間で、第1の高周波信号は伝送される。   On the other hand, when the movable electrode 11 comes into contact with the fixed electrode 14 via the dielectric layer 62, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrode 13 is further separated. For this reason, unlike the above-mentioned fixed electrode 14 side, the transmission line composed of the transmission electrode 300A and the transmission line composed of the transmission electrode 300B do not affect the first high-frequency signal. As a result, as shown in FIG. 9D, the input / output port P21 at the end opposite to the fixed electrode 13 of the transmission electrode 300A and the end of the transmission electrode 300B opposite to the fixed electrode 13 are connected. The first high frequency signal is transmitted to / from a certain input / output port P22.

次に、図9(E)に示すように、可動電極11と固定電極13との間に、所定の「0」でない電圧レベルVd2からなる直流のスイッチング制御電圧V2を印加する。この際、スイッチング制御電圧V1は「0」とする。   Next, as shown in FIG. 9E, a DC switching control voltage V2 having a voltage level Vd2 other than a predetermined “0” is applied between the movable electrode 11 and the fixed electrode 13. At this time, the switching control voltage V1 is set to “0”.

このようなスイッチング制御電圧V2を印加すると、図9(C)に示すように、可動電極11は、全体として固定電極13側へ変位し、最終的に可動電極11と固定電極13とが誘電体層61を介して当接する。   When such a switching control voltage V2 is applied, the movable electrode 11 is displaced to the fixed electrode 13 as a whole as shown in FIG. 9C, and finally the movable electrode 11 and the fixed electrode 13 are made of a dielectric. It abuts through the layer 61.

可動電極11と固定電極13とが誘電体層61を介して当接すると、キャパシタが形成される。そして、伝送用電極300Aの固定電極13と反対側の端部の入出力ポートP21から可動電極11までの電極長として、当該入出力ポートP21に入力される第2の高周波信号の波長λの1/4となるように設定する。これにより、第2の高周波信号に対して、入出力ポートP21から見れば、伝送用電極300Aと伝送用電極300Bとの接続点は開放になり、第2の高周波信号は、入出力ポートP21から、伝送用電極300Bの固定電極13と反対側の端部の入出力ポートP22へ伝送されない。なお、第2の高周波信号と異なる周波数の第1の高周波信号は、入出力ポートP21から入出力ポートP22へ伝送させることができる。 When the movable electrode 11 and the fixed electrode 13 abut via the dielectric layer 61, a capacitor is formed. Then, as the electrode length from the input / output port P21 to the movable electrode 11 at the end opposite to the fixed electrode 13 of the transmission electrode 300A, the wavelength λ 2 of the second high-frequency signal input to the input / output port P21 is set. Set to 1/4. Thereby, when viewed from the input / output port P21 with respect to the second high-frequency signal, the connection point between the transmission electrode 300A and the transmission electrode 300B is opened, and the second high-frequency signal is transmitted from the input / output port P21. The transmission electrode 300B is not transmitted to the input / output port P22 at the end opposite to the fixed electrode 13. The first high frequency signal having a frequency different from the second high frequency signal can be transmitted from the input / output port P21 to the input / output port P22.

一方、可動電極11が固定電極13に誘電体層61を介して当接すると、可動電極11と固定電極14との間隔は、さらに離間する。このため、伝送用電極400Aからなる伝送線路と、伝送用電極400Bからなる伝送線路との間は、上述の固定電極13側と異なり、第2の高周波信号に対して影響を与えない。これにより、図9(D)に示すように、伝送用電極400Aの固定電極14と反対側の端部にある入出力ポートP11と、伝送用電極400Bの固定電極14と反対側の端部にある入出力ポートP12との間で、第2の高周波信号は伝送される。   On the other hand, when the movable electrode 11 contacts the fixed electrode 13 via the dielectric layer 61, the distance between the movable electrode 11 and the fixed electrode 14 is further separated. For this reason, unlike the above-mentioned fixed electrode 13 side, the transmission line composed of the transmission electrode 400A and the transmission line composed of the transmission electrode 400B do not affect the second high-frequency signal. As a result, as shown in FIG. 9D, the input / output port P11 at the end opposite to the fixed electrode 14 of the transmission electrode 400A and the end of the transmission electrode 400B opposite to the fixed electrode 14 are connected. The second high frequency signal is transmitted to / from a certain input / output port P12.

このような構成であっても、所定の周波数の高周波信号に対して、一方の伝送線路では導通して、他方の伝送線路では遮断する高周波スイッチモジュールを構成することができる。   Even with such a configuration, it is possible to configure a high-frequency switch module that conducts on one transmission line and blocks on the other transmission line with respect to a high-frequency signal having a predetermined frequency.

なお、上述の説明では、入出力ポートP11や入出力ポートP21から高周波信号が入力される場合を示したが、伝送用電極300B,400Bを適宜設定することで、入出力ポートP12や入出力ポートP22から高周波信号が入力される場合にも、同様のスイッチング制御を行うことができる。   In the above description, the case where a high-frequency signal is input from the input / output port P11 or the input / output port P21 has been described. However, by appropriately setting the transmission electrodes 300B and 400B, the input / output port P12 and the input / output port are set. Similar switching control can be performed when a high-frequency signal is input from P22.

また、本実施形態ではDPDTを例に説明したが、本実施形態の構成を、上述の第3実施形態のSPDTに適用することもできる。これにより、共通の入出力ポートP11に対して、個別の入出力ポートP12,P22にそれぞれ異なる所望周波数の高周波信号のみを伝送し、当該所望の周波数とは異なる特定周波数の高周波信号を選択的に遮断することができる。   In the present embodiment, the DPDT has been described as an example. However, the configuration of the present embodiment can be applied to the SPDT of the third embodiment described above. As a result, only high frequency signals having different desired frequencies are transmitted to the individual input / output ports P12 and P22 with respect to the common input / output port P11, and high frequency signals having a specific frequency different from the desired frequency are selectively transmitted. Can be blocked.

次に、第5の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成について、図を参照して説明する。図10は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1Cに含まれるMEMS機構部10Gの構造を説明するための図である。図10(A)はMEMS機構部10Gの側面断面図であり、図10(B)はMEMS機構部10Gの部分透視平面構成図であり、図10(C)はMEMS機構部10Gの底面図の外部接続用電極パターンを示す図である。   Next, the configuration of the high-frequency switch module according to the fifth embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a view for explaining the structure of the MEMS mechanism unit 10G included in the high-frequency switch module 1C of the present embodiment. 10A is a side cross-sectional view of the MEMS mechanism portion 10G, FIG. 10B is a partial perspective plan view of the MEMS mechanism portion 10G, and FIG. 10C is a bottom view of the MEMS mechanism portion 10G. It is a figure which shows the electrode pattern for external connection.

本実施形態のMEMS機構部10Gは、第1の実施形態の図2に示したMEMS機構部10の固定電極14A,14Bの構造および外部接続用電極40A,40Bと異なる固定電極および外部接続用電極の構成を備える。   The MEMS mechanism unit 10G of the present embodiment is different from the structure of the fixed electrodes 14A and 14B and the external connection electrodes 40A and 40B of the MEMS mechanism unit 10 shown in FIG. 2 of the first embodiment. The configuration is provided.

固定電極14A,14Bは、絶縁体層90により形成される枠体まで延びる形状からなる。MEMS機構部10Gの底面には、固定電極13A,13Bにビアホール31A,31Bを介して接続する外部接続用電極30A,30Bとともに、外部接続用電極40C,40Dが形成されている。MEMS機構部10Gを平面して枠体に対応する領域には、ビアホール41C,41Dが形成されている。固定電極14Aはビアホール41Cにより外部接続用電極40Cに接続し、固定電極14Bはビアホール41Dにより外部接続用電極40Dに接続している。これにより、MEMS機構部10Gの外部接続用電極30A,30B,40C,40Dは、全てMEMS機構部10Gの底面に形成される。   The fixed electrodes 14 </ b> A and 14 </ b> B have a shape that extends to the frame formed by the insulator layer 90. On the bottom surface of the MEMS mechanism portion 10G, external connection electrodes 40C and 40D are formed together with the external connection electrodes 30A and 30B connected to the fixed electrodes 13A and 13B via the via holes 31A and 31B. Via holes 41C and 41D are formed in a region corresponding to the frame body when the MEMS mechanism portion 10G is planar. The fixed electrode 14A is connected to the external connection electrode 40C through a via hole 41C, and the fixed electrode 14B is connected to the external connection electrode 40D through a via hole 41D. Thereby, all of the external connection electrodes 30A, 30B, 40C, and 40D of the MEMS mechanism portion 10G are formed on the bottom surface of the MEMS mechanism portion 10G.

MEMS機構部10Gが実装される積層体は、第1の実施形態に示した積層体に対して、伝送用電極400A,400Bの代わりに、伝送用電極400C,400Dを備える。図11(A)は本実施形態の高周波スイッチモジュール1Cの構成を説明する為の側断面の構成図であり、図11(B)はMEMS機構部10Gの実装される層の電極パターンを示す図である。伝送用電極400C,400Dは、伝送用電極300A,300Bと同一層に形成されている。伝送用電極400Cは、MEMS機構部10Gが積層体内に実装された状態で、外部接続用電極40Cが当接する形状のランド電極を一方端に備える。伝送用電極400Dは、MEMS機構部10Gが積層体内に実装された状態で、外部接続用電極40Dが当接する形状のランド電極を一方端に備える。   The stacked body on which the MEMS mechanism unit 10G is mounted includes transmission electrodes 400C and 400D instead of the transmission electrodes 400A and 400B with respect to the stacked body shown in the first embodiment. FIG. 11A is a side sectional view for explaining the configuration of the high-frequency switch module 1C of the present embodiment, and FIG. 11B is a diagram showing an electrode pattern of a layer on which the MEMS mechanism unit 10G is mounted. It is. The transmission electrodes 400C and 400D are formed in the same layer as the transmission electrodes 300A and 300B. The transmission electrode 400C includes, at one end, a land electrode having a shape with which the external connection electrode 40C comes into contact with the MEMS mechanism portion 10G mounted in the stacked body. The transmission electrode 400D includes, at one end, a land electrode having a shape with which the external connection electrode 40D comes into contact with the MEMS mechanism portion 10G mounted in the stacked body.

このような構成を用いることで、MEMS機構部10Gが積層体内の電極に当接する実装面が一面のみとなる。これにより、実装が容易になるとともに、実装の信頼性を向上することができる。   By using such a configuration, there is only one mounting surface on which the MEMS mechanism unit 10G contacts the electrodes in the stack. As a result, the mounting becomes easy and the reliability of the mounting can be improved.

次に、第6の実施形態に係る高周波スイッチモジュールの構成について、図を参照して説明する。上述の各実施形態では、MEMS機構部を個別に形成し、高周波スイッチモジュールを構成する積層体内に実装する構成を示したが、本実施形態では、MEMS機構部を含む高周波スイッチモジュール全体を一体形成する構成を示す。図12(A)は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1Dの構造を説明するための側断面で見た構成図である。図12(B)は、高周波スイッチモジュール1Dを積層方向から見て所定層だけ透視した状態での平面視した構成図である。また、図13は、本実施形態の高周波スイッチモジュール1Dの積層図である。なお、本実施形態では、8層から高周波スイッチモジュール1Dを構成しているが、層数は適宜設定すればよい。   Next, the configuration of the high-frequency switch module according to the sixth embodiment will be described with reference to the drawings. In each of the above-described embodiments, the MEMS mechanism unit is individually formed and mounted in the stacked body constituting the high-frequency switch module. However, in this embodiment, the entire high-frequency switch module including the MEMS mechanism unit is integrally formed. The structure to perform is shown. FIG. 12A is a configuration diagram seen from a side cross-section for explaining the structure of the high-frequency switch module 1D of the present embodiment. FIG. 12B is a configuration diagram viewed from above in a state in which the high-frequency switch module 1D is seen through only a predetermined layer when viewed from the stacking direction. FIG. 13 is a stack diagram of the high-frequency switch module 1D of this embodiment. In the present embodiment, the high-frequency switch module 1D is composed of eight layers, but the number of layers may be set as appropriate.

最下層の絶縁体層900Aの上面には、図12および図13(E)に示すように、伝送用電極300A,300Bが所定のパターン形状で形成されている。伝送用電極300A,300Bの一方端は、積層体を平面視して、それぞれMEMS機構部10の固定電極13A,13Bの形成領域まで達する形状に形成されている。伝送用電極300A,300Bの他方端は、図示しないが、積層体の下面等に設けられた所定の外部接続ランドに接続している。   As shown in FIGS. 12 and 13E, transmission electrodes 300A and 300B are formed in a predetermined pattern on the upper surface of the lowermost insulator layer 900A. One ends of the transmission electrodes 300 </ b> A and 300 </ b> B are formed in shapes that reach the formation regions of the fixed electrodes 13 </ b> A and 13 </ b> B of the MEMS mechanism unit 10 in plan view, respectively. Although not shown, the other ends of the transmission electrodes 300A and 300B are connected to a predetermined external connection land provided on the lower surface of the laminated body.

最下層から3層目の絶縁体層900Cの上面には、図12および図13(D)に示すように、固定電極13A,13Bが所定間隔で離間されて、所定面積で形成されている。固定電極13Aは、2層目と3層目の絶縁体層900B,900Cに形成されたビアホール31Aにより、伝送用電極300Aに接続している。固定電極13Bは、2層目と3層目の絶縁体層900B,900Cに形成されたビアホール31Bにより、伝送用電極300Bに接続している。   As shown in FIGS. 12 and 13D, fixed electrodes 13A and 13B are formed on a top surface of the third insulator layer 900C from the bottom layer with a predetermined area with a predetermined interval therebetween. The fixed electrode 13A is connected to the transmission electrode 300A through a via hole 31A formed in the second and third insulator layers 900B and 900C. The fixed electrode 13B is connected to the transmission electrode 300B through via holes 31B formed in the second and third insulator layers 900B and 900C.

最下層から4層目の絶縁体層900Dおよび5層目の絶縁体層900Eには、平面視して、上述の固定電極13A,13Bの形成領域を含む所定面積範囲が開口される貫通穴が形成されてる。また、誘電体層900D,900Eの境界面の空間領域15には、図12および図13(C)に示すように、可動電極11が配置されている。可動電極11は梁12により、絶縁体層900D,900Eに対して支持されている。また、絶縁体層900D,900Eの枠体部分には、略全面に接地用電極500が形成されている。この際、本実施形態では、接地用電極500が梁12に接続しないように形成する。なお、上述の第4実施形態の構成に適用する場合には、接地用電極500と梁12とを接続して形成する。   In the fourth insulator layer 900D and the fifth insulator layer 900E from the lowest layer, there are through-holes in which a predetermined area range including the above-described formation regions of the fixed electrodes 13A and 13B is opened in plan view. It is formed. Further, as shown in FIGS. 12 and 13C, the movable electrode 11 is disposed in the space region 15 on the boundary surface between the dielectric layers 900D and 900E. The movable electrode 11 is supported by the beam 12 with respect to the insulator layers 900D and 900E. In addition, grounding electrodes 500 are formed on substantially the entire surface of the frame portions of the insulator layers 900D and 900E. At this time, in this embodiment, the grounding electrode 500 is formed so as not to be connected to the beam 12. When applied to the configuration of the above-described fourth embodiment, the ground electrode 500 and the beam 12 are connected and formed.

最下層から6層目の絶縁体層900Fの下面には、図12および図13(B)に示すように、固定電極14A,14Bが所定間隔で離間されて、所定面積で形成されている。この際、固定電極14A,14Bは、可動電極11を基準に、固定電極13A,13Bと対称に形成されている。   As shown in FIGS. 12 and 13B, fixed electrodes 14A and 14B are formed on the lower surface of the sixth insulator layer 900F from the bottom layer with a predetermined area, spaced apart from each other by a predetermined interval. At this time, the fixed electrodes 14A and 14B are formed symmetrically with the fixed electrodes 13A and 13B with respect to the movable electrode 11.

最上層の絶縁体層900Hの下面には、図12および図13(A)に示すように、伝送用電極400A,400Bが所定のパターン形状で形成されている。これら伝送用電極400A,400Bは、固定電極14A,14Bに、一方端が当接するような形状で形成されている。なお、他方端は、伝送用電極300A,300Bと同様に、図示しないが、積層体の下面等に設けられた所定の外部接続ランドに接続している。伝送用電極400Aの一方端は、絶縁体層900F,900Gに形成されたビアホール41Aにより固定電極14Aに接続している。伝送用電極400Bの一方端は、絶縁体層900F,900Gに形成されたビアホール41Bにより固定電極14Aに接続している。   As shown in FIGS. 12 and 13A, transmission electrodes 400A and 400B are formed in a predetermined pattern on the lower surface of the uppermost insulator layer 900H. These transmission electrodes 400A and 400B are formed in such a shape that one end abuts against the fixed electrodes 14A and 14B. The other end, like the transmission electrodes 300A and 300B, is connected to a predetermined external connection land provided on the lower surface of the multilayer body, although not shown. One end of the transmission electrode 400A is connected to the fixed electrode 14A by a via hole 41A formed in the insulator layers 900F and 900G. One end of the transmission electrode 400B is connected to the fixed electrode 14A by a via hole 41B formed in the insulator layers 900F and 900G.

なお、本実施形態でも、図12、図13にはスイッチング制御用電圧の印加用回路は記載していないが、第1の実施形態と同様に、上述の各回路電極パターンとともに積層体内に適宜形成されている。   Also in this embodiment, the circuit for applying the switching control voltage is not shown in FIGS. 12 and 13, but as in the first embodiment, it is appropriately formed in the laminate together with the circuit electrode patterns described above. Has been.

このような構成であっても、第1の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。なお、このような一体形成を、上述の第3の実施形態の高周波スイッチモジュールや、第4の実施形態の高周波スイッチモジュールに対して適用することもできる。   Even if it is such a structure, the effect similar to 1st Embodiment can be acquired. Such an integral formation can also be applied to the above-described high-frequency switch module of the third embodiment and the high-frequency switch module of the fourth embodiment.

なお、上述の説明では、固定電極13A,13B、14A,14Bを同じ形状で形成する場合を示したが、仕様に応じてこれら固定電極13A,13B、14A,14Bの形状、例えば面積をそれぞれ個別に異なる面積等に設定することもできる。これにより、より正確に所望とする伝送特性を得ることができる。なお、固定電極の形状は、固定電極の厚み、可動電極との重なり面積等を変えることでも設定できる。   In the above description, the case where the fixed electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B are formed in the same shape is shown. However, the shapes, for example, areas of these fixed electrodes 13A, 13B, 14A, and 14B are individually set according to the specifications. It is also possible to set different areas. Thereby, desired transmission characteristics can be obtained more accurately. The shape of the fixed electrode can also be set by changing the thickness of the fixed electrode, the overlapping area with the movable electrode, and the like.

また、上述の説明では、可動電極や固定電極の表面に誘電体層を形成する例を示したが、抵抗膜を形成する構成を用いてもよい。   In the above description, the example in which the dielectric layer is formed on the surface of the movable electrode or the fixed electrode has been described. However, a configuration in which a resistance film is formed may be used.

1,1A,1B,1C,1D−高周波スイッチモジュール、10,10A〜10G−MEMS機構部、11−可動電極、12−梁、13,13A,13B,14,14A,14B−固定電極、30A,30B,40A,40B,40C,40D−外部接続用電極、31A,31B,41A,41B,41C,41D−ビアホール、90,900,900A〜900H−絶縁体層、60,61,61A,61B,62,62A,62B−誘電体層、300A,300B,400A,400B,400C,400D−伝送用電極、500−接地用電極   1, 1A, 1B, 1C, 1D-high frequency switch module, 10, 10A to 10G-MEMS mechanical part, 11-movable electrode, 12-beam, 13, 13A, 13B, 14, 14A, 14B-fixed electrode, 30A, 30B, 40A, 40B, 40C, 40D—external connection electrodes, 31A, 31B, 41A, 41B, 41C, 41D—via holes, 90, 900, 900A to 900H—insulator layers, 60, 61, 61A, 61B, 62 62A, 62B—dielectric layer, 300A, 300B, 400A, 400B, 400C, 400D—transmission electrode, 500—ground electrode

Claims (11)

絶縁性を有する枠体の内側の空間に、前記枠体の開口面と平板面とが略平行になるように該枠体に対して梁によって保持された平板状の可動電極と、
前記枠体の対向する開口面のそれぞれを覆う各絶縁層の前記枠体側の面に、前記可動電極を挟んで対向するように形成された第1の固定電極および第2の固定電極と、
前記可動電極へ接続し、前記枠体および前記絶縁層を備える積層体に形成された接地用電極と、
前記可動電極と第1の固定電極との間、または前記可動電極と前記第2の固定電極との間に直流のスイッチング電圧を与えるためのスイッチング電圧印加用回路電極と、
を備え
前記可動電極、前記第1の固定電極、および前記第2の固定電極は、高周波信号伝送用の電極と、スイッチング電圧印加用の電極とを兼用している、
周波スイッチモジュール。
A plate-like movable electrode held by a beam with respect to the frame body so that the opening surface and the flat plate surface of the frame body are substantially parallel to the space inside the frame body having insulation;
A first fixed electrode and a second fixed electrode formed on the surface on the frame side of each insulating layer covering each of the opposed opening surfaces of the frame body so as to face each other with the movable electrode interposed therebetween;
An electrode for grounding connected to the movable electrode and formed in a laminate including the frame and the insulating layer;
A switching voltage applying circuit electrode for applying a DC switching voltage between the movable electrode and the first fixed electrode or between the movable electrode and the second fixed electrode;
Equipped with a,
The movable electrode, the first fixed electrode, and the second fixed electrode both serve as an electrode for high-frequency signal transmission and an electrode for applying a switching voltage.
High-frequency switch module.
絶縁性を有する枠体の内側の空間に、前記枠体の開口面と平板面とが略平行になるように該枠体に対して梁によって保持された平板状の可動電極と、
前記枠体の対向する開口面のそれぞれを覆う各絶縁層の前記枠体側の面に、前記可動電極を挟んで対向するように形成され、それぞれが互いに電気的に接続しない形状で形成された複数の固定部分電極によって構成される第1の固定電極および第2の固定電極と、
前記可動電極と第1の固定電極との間、または前記可動電極と前記第2の固定電極との間に直流のスイッチング電圧を与えるためのスイッチング電圧印加用回路電極と、
を備え
前記可動電極、前記第1の固定電極、および前記第2の固定電極は、高周波信号伝送用の電極と、スイッチング電圧印加用の電極とを兼用している、
周波スイッチモジュール。
A plate-like movable electrode held by a beam with respect to the frame body so that the opening surface and the flat plate surface of the frame body are substantially parallel to the space inside the frame body having insulation;
A plurality of insulating layers that cover each of the opposing opening surfaces of the frame body, are formed so as to face each other with the movable electrode interposed therebetween, and are formed in shapes that are not electrically connected to each other. A first fixed electrode and a second fixed electrode constituted by fixed partial electrodes of
A switching voltage applying circuit electrode for applying a DC switching voltage between the movable electrode and the first fixed electrode or between the movable electrode and the second fixed electrode;
Equipped with a,
The movable electrode, the first fixed electrode, and the second fixed electrode both serve as an electrode for high-frequency signal transmission and an electrode for applying a switching voltage.
High-frequency switch module.
前記第1の固定電極を構成する複数の固定部分電極を接続する、直流を通過し高周波信号を通過しない回路素子と、  Connecting a plurality of fixed partial electrodes constituting the first fixed electrode, a circuit element that passes direct current and does not pass high-frequency signals;
前記第2の固定電極を構成する複数の固定部分電極を接続する、直流を通過し高周波信号を通過しない回路素子と、  Connecting a plurality of fixed partial electrodes constituting the second fixed electrode, a circuit element that passes direct current and does not pass high-frequency signals;
を備える、請求項2に記載の高周波スイッチモジュール。  The high frequency switch module according to claim 2, comprising:
前記枠体および前記絶縁層を備える積層体に形成され、前記第1の固定電極に接続し、少なくとも前記第1の固定電極を介して、高周波信号を伝送するための第1の伝送用電極と、
前記枠体および前記絶縁層を備える積層体に形成され、前記第2の固定電極に接続し、少なくとも前記第2の固定電極を介して、高周波信号を伝送するための第2の伝送用電極と、
を備えた請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。
A first transmission electrode formed in a laminate including the frame and the insulating layer, connected to the first fixed electrode, and for transmitting a high-frequency signal through at least the first fixed electrode; ,
A second transmission electrode formed in a laminate including the frame and the insulating layer, connected to the second fixed electrode, and for transmitting a high-frequency signal through at least the second fixed electrode; ,
A high-frequency switch module according to any one of claims 1 to 3, further comprising:
前記第1の伝送用電極と前記第2の伝送用電極には、異なる周波数の信号が伝送する、請求項4に記載の高周波スイッチモジュール。 The high-frequency switch module according to claim 4 , wherein signals having different frequencies are transmitted to the first transmission electrode and the second transmission electrode. 前記可動電極の少なくとも一方の平板面に絶縁体膜を備える、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。 The high-frequency switch module according to claim 1, further comprising an insulator film on at least one flat plate surface of the movable electrode. 前記可動電極の両方の平板面にそれぞれ絶縁体膜を備え、該両面の平板面の絶縁体膜の形状が異なる、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。 The high-frequency switch module according to any one of claims 1 to 5 , wherein an insulating film is provided on each flat plate surface of the movable electrode, and the shapes of the insulating films on the flat plate surfaces on both sides are different. 前記第1の固定電極および前記第2の固定電極の少なくとも一方に、絶縁体膜を備える、請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。 The high-frequency switch module according to any one of claims 1 to 7 , further comprising an insulator film on at least one of the first fixed electrode and the second fixed electrode. 前記第1の固定電極と前記第2の固定電極の形状が異なる、請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。 The high frequency switch module according to any one of claims 1 to 8 , wherein the first fixed electrode and the second fixed electrode have different shapes. 前記積層体に形成され、前記第1の固定電極に接続し、少なくとも前記第1の固定電極を介して、高周波信号を伝送するための第1の伝送用電極と、
前記積層体に形成され、前記第2の固定電極に接続し、少なくとも前記第2の固定電極を介して、前記第1の固定電極側とは異なる周波数の高周波信号を伝送するための第2の伝送用電極と、を備え
前記接地用電極は前記第1の伝送用電極と前記第2の伝送用電極との間に配置されている、請求項1に記載の高周波スイッチモジュール。
A first transmission electrode formed on the laminate, connected to the first fixed electrode, and for transmitting a high-frequency signal through at least the first fixed electrode;
A second layer formed on the laminate, connected to the second fixed electrode, and for transmitting a high-frequency signal having a frequency different from that of the first fixed electrode through at least the second fixed electrode; The high-frequency switch module according to claim 1, further comprising: a transmission electrode, wherein the grounding electrode is disposed between the first transmission electrode and the second transmission electrode.
前記第1の伝送用電極と前記第2の伝送用電極とは、前記積層体の同層に形成され、
前記枠体および前記絶縁層には、前記第1の固定電極と前記第2の固定電極を、前記第1の伝送用電極と前記第2の伝送用電極が形成された層まで引き回す引き回し電極が形成されている、請求項4乃至請求項10のいずれかに記載の高周波スイッチモジュール。
The first transmission electrode and the second transmission electrode are formed in the same layer of the laminate,
The frame body and the insulating layer have routing electrodes that route the first fixed electrode and the second fixed electrode to the layer where the first transmission electrode and the second transmission electrode are formed. The high frequency switch module according to claim 4 , wherein the high frequency switch module is formed.
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