JP5528683B2 - エキシマランプ - Google Patents
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Description
具体的には、エキシマランプの放電容器の内表面に紫外線反射層を形成することが行われており、紫外線反射層が紫外線を透過する微小粒子、例えばシリカのみ、あるいはシリカと他の微小粒子、例えば、アルミナ、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、酸化マグネシウムなどとを積層させることにより形成される技術が開示されている(特許文献1参照)。
また、紫外線反射層を構成するシリカ粒子にOH基を含ませることにより、紫外線反射層に含まれるシリカ粒子に内部欠陥が生成されることを抑制し、紫外線反射層による紫外領域の波長の光の吸収を防止して紫外線反射層の反射率を維持して、エキシマランプの照度低下の程度を小さく抑制し、真空紫外光を効率よく出射することができる。
また、紫外線反射層を構成するシリカ粒子中のOH基濃度を10wtppm以上とすることによって、反射維持率も照度維持率も高いまま保持することができ、長時間点灯するときの照度維持に関して際立って優れた効果を発揮する。
このエキシマランプ10は、両端が気密に封止されて内部に放電空間Sが形成された、断面矩形状の中空長尺状の放電容器20を備えている。この放電容器20は、上壁板21および上壁板21に対向する下壁板22と、上壁板21および下壁板22に連結する一対の側壁板23と、これら上壁板21、下壁板22、および一対の側壁板23よりなる四角筒状体の両端を封止するよう設けられた一対の端壁板24とからなる。放電容器20は、真空紫外光を良好に透過するシリカガラス、例えば、合成石英ガラスにより形成される。
一方、放電容器20における下壁板22の、接地電極12に対応する内表面において紫外線反射層30が形成されていないことによって光出射部が構成されている。
しかしながら、シリカ粒子はエキシマランプ10において発生するプラズマの熱によって溶融し、粒界が消失されて、真空紫外光を拡散反射させることができなくなって反射率が低下することがある。一方、シリカより融点が高い微小粒子は、プラズマによる熱にさらされた場合であっても溶融しない。したがって、紫外線反射層30にシリカより融点が高い微小粒子を混入させることによって、互いに隣接する微小粒子同士で結合されて粒界が消失することを防止し、紫外線反射層30の反射率の低下を抑制することができる。
ここでいう「粒子径」とは、紫外線反射層30の表面に対して垂直方向に破断したときの破断面における、厚み方向のおよその中間位置を観察範囲として、走査型電子顕微鏡(SEM)によって拡大投影像を取得し、この拡大投影像における任意の粒子を一定方向の2本の平行線で挟んだときの当該平行線の間隔であるフェレー(Feret)径をいう。
また、「中心粒径」とは、上記のようにして得られる各粒子の粒子径についての最大値と最小値との粒子径の範囲を、例えば、0.1μmの範囲で、複数の区分例えば、15区分程度に分け、それぞれの区分に属する粒子の個数(度数)が最大となる区分の中心値をいう。
紫外線反射層30を構成するシリカ粒子およびその他の微小粒子が、真空紫外光の波長と同程度の粒子径を有するものであることにより、真空紫外光を効率よく拡散反射させることができる。
そこで、点灯初期のエキシマランプ10の紫外線反射層30の反射強度スペクトルと、長時間点灯後のエキシマランプ10の紫外線反射層30の反射強度スペクトルとを測定し、両者を比較解析した。この結果から、長時間点灯後のエキシマランプ10の紫外線反射層30では、紫外領域に吸収帯が生じており、紫外線の一部が紫外線反射層30に吸収されることにより照度低下が生じていることがわかった。
また、その他の手法として、OH基を含まないシリカ粒子を用いて放電容器形成材料の内表面における所定の領域に付着させた後、水蒸気を供給しながら焼成することにより、シリカ粒子にOH基を含ませることもできる。また、OH基を含まないシリカ粒子を用いて焼成して紫外線反射層30を形成した後、再び水蒸気を供給しながら電気炉加熱することによってもシリカ粒子にOH基を含ませることができる。
なお、購入することによって入手できるシリカ粒子は、その製造方法によりOH基を含む製品もあるが、中にはOH基濃度が少ない製品もあるため、上記方法にて一旦高濃度のOH基を含有させることが望ましい。
<実験例1>
図1(a)、(b)に示す構成に従って、紫外線反射層を備えるエキシマランプを作製した。
[エキシマランプの基本構成]
放電容器は、材質がシリカガラスであって、寸法が15mm×43mm×350mm、肉厚が2.5mmである。
高電圧供給電極及び接地電極の寸法は、30mm×300mmである。
紫外線反射層は、中心粒径1.5μmのシリカ粒子を成分比90重量%、中心粒径1.5μmのアルミナ粒子を成分比10重量%として混合したものより構成され、流下法によってそれぞれ形成し、焼成温度は1000℃とした。
放電用ガスとしてキセノンを放電容器内に40kPaで封入した。
ここで、昇温脱離ガス分析法におけるOH基濃度の測定原理を簡単に説明する。OH基を含むシリカ粒子を高真空中で加熱すると、以下に示す化学式の反応が起こる
連続点灯15分後の照度を初期照度とし、500時間連続点灯させたときの照度を初期照度との相対値として示し、それを照度維持率とした。つまり、「照度維持率」を[(500時間点灯後の照度)/(点灯直後の照度)](%)として算出した。
ランプ1〜10の測定結果を表1に示す。
また、図4は、表1に示す測定結果について、横軸にシリカ粒子中OH基濃度(wtppm)、縦軸に照度維持率(%)とし、ランプ1〜10の値をプロットしたグラフである。
なお、図3及び図4に示すグラフは、横軸が対数目盛となっている片対数グラフとなっている。
紫外線反射層の構成材料であるシリカ粒子とアルミナ粒子との中心粒径や成分比を変更したものについて、実験例1と同様の測定をした。
[エキシマランプの基本構成]
実験例1の仕様において、紫外線反射層の構成材料であるシリカ粒子とアルミナ粒子との中心粒径や成分比を種々に変更したものにより構成としたことのほか、同一の条件で製作されたエキシマランプ。
ランプ11
アルミナ粒子:中心粒径1.5μm、成分比20重量%
シリカ粒子:中心粒径1.5μm、成分比80重量%
ランプ12
アルミナ粒子:中心粒径1.5μm、成分比30重量%
シリカ粒子:中心粒径1.5μm、成分比70重量%
ランプ13
アルミナ粒子:中心粒径0.3μm、成分比10重量%
シリカ粒子:中心粒径0.3μm、成分比90重量%
ランプ14
アルミナ粒子:中心粒径3.5μm、成分比40重量%
シリカ粒子:中心粒径0.3μm、成分比60重量%
ランプ15
アルミナ粒子:中心粒径4.0μm、成分比10重量%
シリカ粒子:中心粒径0.5μm、成分比90重量%
上記構成を有するエキシマランプ(ランプ11〜15)について、実験例1と同様に、シリカ粒子中のOH基濃度、反射維持率、照度維持率を測定した。ランプ11〜15の測定結果を表2に示す。
11 高電圧供給電極
12 接地電極
20 放電容器
21 上壁板
22 下壁板
23 側壁板
24 端壁板
30 紫外線反射層
40 アルミ製容器
41 支持台
42 紫外線照度測定器
S 放電空間
Claims (1)
- 放電空間を有するシリカガラスよりなる放電容器を備え、当該放電容器を形成するシリカガラスが介在する状態で一対の電極が設けられると共に、放電空間内に放電ガスが封入されてなり、前記放電容器の内表面に紫外線反射層が形成されたエキシマランプであって、
前記紫外線反射層はOH基が含まれた中心粒径が0.1〜10μmであるシリカ粒子と、シリカより融点が高い微小粒子とからなり、前記紫外線反射層を構成するシリカ粒子中のOH基濃度は、10wtppm以上502wtppm以下であることを特徴とするエキシマランプ。
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