JP5525765B2 - 超音波洗浄装置及び超音波洗浄処理方法 - Google Patents
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Description
また本発明は目的を達成するために、被洗浄物を超音波洗浄処理する洗浄処理部を少なくとも備えた前記に記載の超音波洗浄装置で実施される超音波洗浄処理方法において、洗浄液に所望の気体を溶解し、前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度を測定し、前記測定された前記気体の濃度に応じて超音波の出力値を算出し、前記洗浄液に供給される前記超音波が前記算出した出力値となるように、前記洗浄液に超音波振動を照射する振動子に接続された発振器を制御することを特徴とする超音波洗浄処理方法を提供する。
本実施形態では、超音波洗浄装置1は、被洗浄物800に対して、超音波振動を照射した例えば水や薬液等の液体を用いて超音波洗浄処理を行う。
このバッチ式洗浄によって超音波洗浄される被洗浄物800には、例えば機械部品等が好適である。
測定センサ540は、まずヒータ530によって加熱された洗浄液700の温度変化の結果を基に、洗浄液700の熱伝導度を測定する。この熱伝導度は、洗浄液700の組成と、気体410の組成と、洗浄液700に溶解している気体410の濃度とに依存する。本実施形態では、洗浄液700の組成と、気体410の組成とは、予め所望に設定されている。そのため洗浄液700の組成と、気体410の組成とが予め所望に設定されていると、測定センサ540は、測定した熱伝導度を基に、洗浄液700に溶解している気体410の濃度を測定できることとなる。このように本実施形態では、予め所望に設定されている洗浄液700の組成と気体410の組成と、測定センサ540によって測定された熱伝導度とを基に、洗浄液700に溶解している気体410の濃度を測定する。
この洗浄性能は、超音波洗浄のための所望の条件と、上述した超音波洗浄処理によって被洗浄物800から除去すべき対象物の種類とに依存する。
まず操作部650によって入力されるデータベースの一例を説明する。この一例は、超音波洗浄のための所望の条件と、被洗浄物800の形状と種類と、超音波洗浄処理によって被洗浄物800から除去する対象物の種類と、超音波洗浄によってダメージを受ける被洗浄物800の主面における素子とである。
発振器300から出力される電気信号の周波数は、例えば1820kHzである。
超音波の出力値は、例えば0W〜1200Wである。
洗浄液700は、例えば温度が摂氏25度の水である。
洗浄液700に溶解する気体410は、例えば濃度が0ppm〜20ppmの窒素である。
被洗浄物800は、例えば直径200mmのシリコンウェハである。
被洗浄物800から除去する対象物は、例えば粒径が200nm〜5000nmのシリコン粒子である。
被洗浄物800の主面における素子は、例えば材質が多結晶シリコンの配線パターンである。配線パターンの配線は、例えば幅50nm、高さ140nmを有し、各配線間の間隙幅は例えば50nmである。
処理槽110は、洗浄液700を貯留し、被洗浄物800を収容する。この状態で超音波洗浄処理が5分間実行される。超音波洗浄処理については、図7を参照して詳細に後述する。超音波洗浄処理後、被洗浄物800は、処理槽110から引き上げられる。そして被洗浄物800に対して、イソプロピルアルコールを用いた置換雰囲気下または窒素雰囲気下での高速スピン回転による乾燥処理が実行される。
振動子200によって洗浄液700に対して超音波振動が照射されると、洗浄液700には、圧力の高い領域と、圧力の低い領域とが周期的に発生する。
洗浄液700において圧力の低い領域では、飽和蒸気圧の低い成分である窒素が容易に気泡群を形成する。気泡群とは、種々の径を持つ気泡によって構成される集団である。気泡群の中には、照射された超音波振動に共振するのに最適な径を持つ気泡(共振気泡)が存在する。
共振気泡が、超音波振動との共振によって運動エネルギーを得て、被洗浄物800の主面を摩擦しながら移動速度Vにて移動することによって、被洗浄物800の主面における粒子を除去する。この粒子とは、上述した被洗浄物800から除去する対象物である、粒径が200nm〜5000nmのシリコン粒子である。
c:窒素を含む洗浄液700の平均音速
η:窒素を含む洗浄液700の平均粘度
ρ:窒素を含む洗浄液700の平均密度
K:窒素を含む洗浄液700の平均弾性率
式(1)乃至式(5)をまとめると式(6)が得られる。
ρH2O:洗浄液700(ここでは、上述した水である)の密度 10000kg/m3
KH2O:洗浄液700(ここでは、上述した水である)の弾性率 2GPa
ηN2:窒素の粘度 18μPa・S
ρN2:窒素の密度 1.25kg/m3
KN2:窒素の弾性率 141kPa
参考文献2 阿座上瑞美, 菊池廣:表面技術, 47, 39 (1996)
参考文献3 実吉純一, 菊池善充, 熊本乙彦 監修:超音波技術便覧, 151 (1991)
図2に示す洗浄性能は、上述したように、超音波洗浄処理前、超音波洗浄処理後及び乾燥処理後に、被洗浄物800に残留している除去すべき対象物の粒子の数を測定することによって求められる。
洗浄性能(%)=100×(N0−N)/N
という式によって、洗浄性能は算出される。
振動子200によって洗浄液700に対して超音波振動が照射されると、洗浄液700の中には、圧力の高い領域と、圧力の低い領域とが周期的に発生する。
急激な圧力の変化に伴い、洗浄液700の慣性力が発生する。慣性力は、式(5)で示される実効音圧Pに比例する。
前述した慣性力が、被洗浄物800の主面に配置する素子に作用し、素子が倒壊する。このように被洗浄物800の主面における素子は、超音波洗浄によってダメージを受ける。
この場合、図6に示すように、最適な超音波の出力範囲は、900W〜1200Wである。よって、制御部600は、超音波の出力値が900W〜1200Wになるように、発振器300を制御する。
この場合、図6に示すように、最適な超音波の出力範囲は存在しない。よって、制御部600は、被洗浄物800に対するダメージ(超音波洗浄によってダメージを受けた被洗浄物800の主面における素子の数)を抑制すべく、超音波の出力値が0Wになるように、発振器300を制御し、超音波洗浄作用を減退させる。次に、表示部660は、窒素の濃度が異常である旨のアラームを表示するとともに、記録装置630はアラームの発生履歴を記録する。
これにより動作が終了する。
この枚葉式洗浄によって超音波洗浄される被洗浄物800には、例えば半導体集積装置用基板、表示装置用ガラス基板、フォトマスク用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、フィルム基板等の基板が好適である。
なお本実施形態では、洗浄液700は、洗浄液準備機構120と、気体溶解部400と、供給配管111と、入口190bとを経由し、振動子192の振動面192aから超音波振動を照射されて、吐出口190aに到達し、保持機構170によって保持されている被洗浄物800の主面に向けて吐出口190aから吐出される。
Claims (7)
- 洗浄液を用いて被洗浄物を超音波洗浄処理する洗浄処理部と、
前記洗浄液に対して超音波振動を照射する振動子と、
前記振動子を圧電効果によって超音波振動させるために、所望の周波数で、且つ所望の振幅の電気信号を前記振動子に付与する発振器と、
前記洗浄液中に所望の気体を溶解する気体溶解部と、
前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度を測定する気体濃度測定部と、
超音波洗浄のための所望の条件と、前記被洗浄物に残留している除去すべき対象物の粒子の数に基づく洗浄性能との関係と、超音波洗浄のための前記所望の条件と、超音波洗浄によってダメージを受けた前記被洗浄物の主面における素子の数を示す前記被洗浄物に対するダメージとの関係とを格納するデータベースを有し、前記データベースに基づいて、前記被洗浄物に対するダメージを所望する値以下に抑制しつつ所望する洗浄性能を発揮するための超音波の出力範囲を算出する制御部と、
を具備し、
前記制御部は、前記気体濃度測定部で測定された前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度と、前記超音波の出力範囲との関係に基づいて、前記発振器が前記振動子へ付与する超音波の出力値を、前記超音波の出力範囲内で駆動するように制御し、前記発振器が前記振動子に付与する電気信号を制御することを特徴とする超音波洗浄装置。 - 前記洗浄処理部は、
前記被洗浄物を収容して前記洗浄液を貯留する処理槽と、
前記処理槽が貯留する前記洗浄液を準備する洗浄液準備機構と、
前記処理槽に貯留された前記洗浄液に対して前記振動子によって照射される超音波振動を伝播する伝播液を貯留する伝播槽と、
前記伝播槽が貯留する前記伝播液を準備する伝播液準備機構と、
を具備することを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 前記洗浄処理部は、
前記洗浄液を準備する洗浄液準備機構と、
前記被洗浄物を保持する保持機構と、
前記保持機構を回転させることによって前記被洗浄物を回転する回転機構と、
前記洗浄液準備機構によって準備され、前記発振器によって超音波振動を伝播された前記洗浄液を、前記被洗浄物の主面に向けて吐出する吐出部と、
を具備することを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 前記制御部は、前記被洗浄物を超音波洗浄処理する工程において、前記気体濃度測定部で測定された前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度と、前記超音波の出力範囲との関係に基づいて、前記発振器が前記振動子へ付与する超音波の出力値を制御し、前記発振器が前記振動子に付与する電気信号を制御することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 前記制御部は、前記被洗浄物を超音波洗浄処理する工程において、前記処理槽に前記被洗浄物を収容して前記洗浄液中に前記気体を溶解した後、前記気体濃度測定部で測定された前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度と、前記超音波の出力範囲との関係に基づいて、前記発振器が前記振動子へ付与する超音波の出力値を制御し、前記発振器が前記振動子に付与する電気信号を制御することを特徴とする請求項2に記載の超音波洗浄装置。
- 前記制御部は、前記気体濃度測定部で測定された前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度に対応する前記超音波の出力範囲が前記データベースに存在しないとき、前記超音波の出力値を低下させることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の超音波洗浄装置。
- 被洗浄物を超音波洗浄処理する洗浄処理部を少なくとも備えた請求項1に記載の超音波洗浄装置で実施される超音波洗浄処理方法において、
洗浄液に所望の気体を溶解し、
前記洗浄液に溶解している前記気体の濃度を測定し、
前記測定された前記気体の濃度に応じて超音波の出力値を算出し、前記洗浄液に供給される前記超音波が前記算出した出力値となるように、前記洗浄液に超音波振動を照射する振動子に接続された発振器を制御することを特徴とする超音波洗浄処理方法。
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