JP5524954B2 - 有機ｅｌ表示パネルとその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、発光素子を配列した発光表示パネル及びその製造方法に関し、特に、有機電界発光素子（以下「有機ＥＬ素子」と称する）をマトリック状に配列した有機ＥＬ表示パネルに関する。

近年、発光型のディスプレイとして、基板上に行列方向に沿って有機ＥＬ素子を複数配列した有機ＥＬ表示パネルが、小型電子機器のディスプレイとして実用化されている。各有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む発光層が配設された基本構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発生する電流駆動型の発光素子である。

この有機ＥＬ表示パネルは、各有機ＥＬ素子が自己発光を行うので視認性が高く、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れる。
有機ＥＬディスプレイにおいて、一般に発光層は、ＥＬ素子ごとに絶縁材料からなる隔壁（バンク）で仕切られていて、この隔壁によって発光層の形状が規定されている。また、陽極と発光層との間には、ホール注入層、ホール輸送層、ホール注入兼輸送層といった有機層が必要に応じて介挿される。また、陰極と発光層との間にも、必要に応じて電子注入層、電子輸送層または電子注入兼輸送層が介挿される。

フルカラー表示の有機ＥＬディスプレイにおいては、このような有機ＥＬ素子が、ＲＧＢ各色のサブピクセルを形成し、隣り合うＲＧＢのサブピクセルが合わさって一画素が形成されている。

各有機ＥＬ素子の発光層や電荷注入層を形成する上で、隣接する各有機ＥＬ素子同士を仕切る隔壁を基板上に形成しておいて、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を含むインクを、インクジェット等で塗布するウェット方式が多く用いられている。
このウェット方式によれば、大型のパネルにおいても有機層や発光層を比較的容易に形成することができる。

代表的なインクジェット方式では、作業テーブルの上に塗布対象の基板を載置し、当該基板上を行列方向のいずれかの方向に沿って横断するようにインクジェットヘッドを移動させ、基板上の隔壁で区画された各素子形成領域に、有機層、発光層など形成するための有機材料と溶媒を含む溶液（以下、単に「インク」と称する。）の液滴をノズルから吐出させる（特許文献１参照）。

ここで、通常、発光層を形成するのに用いるインクは、色ごとに異なっているが、有機層を形成するインクは全ての色で共通のものを用いる。
このようにして有機ＥＬパネルを製造する上で、基本的に、各有機ＥＬ素子の特性を色ごとに揃えることが必要である。そのため、インクジェット方式でインクを塗布する工程において、ノズルから各画素にインクを液滴単位で供給するときに、各素子に対して吐出するインクの液滴数は同じにして、各素子形成領域に均一的にインクを吐出し、同じ色の各素子形成領域における有機層の膜厚、並びに発光層の膜厚を揃えるようにしている。

特開２００３−２４１６８３号公報

ところで、各有機ＥＬ素子の発光効率を高めるのに適した有機層の膜厚は、発光色の波長に依存する。
すなわち、赤色光と緑色光と青色光では、その波長の違いにより、有機ＥＬ素子内での最適な光路長（共振条件）が異なるので、各色サブピクセルにおいて、発光色の波長に合わせて有機層の膜厚を微調整することが発光効率を高める上で望ましい。

しかし、実際にウェット方式で有機層を形成するときには、サブピクセルの色ごとに有機層の膜厚を微調整することは実際上難しい。
具体的には、上記のように有機層の材料を含むインクは全ての色で共通とし、各サブピクセルに対して供給する有機層形成用のインク量を一定にしている。例えば、インクジェット方式で有機層のインクを塗布する場合、各色有機ＥＬ素子形成領域に対して吐出するインクの液滴数は共通とし、且つノズルから吐出されるインク一滴あたりの体積も一定にしながら行っている。

ここで、インクジェット方式の場合、サブピクセルの色ごとに滴下するインク液滴数を変更することによって有機層の膜厚を調整することも考えられるが、各サブピクセルに供給するインク量は、インク液滴単位でしか変更することはできないので、やはり、サブピクセルの色ごとに有機層の膜厚を微調整することは実際上難しい。

本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、有機ＥＬ表示パネルにおいて、有機層をウェット方式で形成しながら、発光色ごとに有機層の膜厚を容易に微調整できるようにして、発光効率の優れたものを提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルでは、第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、第１隔壁と第２隔壁との間に沿って第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、第２隔壁と第３隔壁との間に沿って第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、第１有機機能層及び第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、を具備した有機ＥＬ表示パネルにおいて、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板に、窪み部を設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きくし、第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込む量が、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、窪み部以外の領域における第２有機機能層の膜厚より薄くした。

あるいは、第１陽極板群に含まれる各第１陽極板に、窪み部を設け、各第１陽極板上の第１有機機能層の体積を、各第２陽極板上の第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１陽極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄くした。

ここで、「各第１電極板上の第１有機機能層の体積が、各第２電極板上の第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内」というのは、第１有機機能層の体積と第２有機機能層の体積が実質的に同一であること、数値的には第１有機機能層の体積と第２有機機能層の体積の差が、第１有機機能層の体積に対して５％以内であることを意味するものとする。

また、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、第１隔壁と第２隔壁との間に沿って第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、第２隔壁と第３隔壁との間に沿って第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、第１有機機能層及び第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、を設け、第１工程には、各第１電極板に窪み部を形成する工程を設け、第２工程には、各第２電極板に窪み部を形成する工程を設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積より大きく、第１電極板群に含まれる各第１陽極板の領域に対応する第１有機機能層の体積を、第２陽極板群に含まれる各第２陽極板の領域に対応する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１陽極板群に含まれる各第１陽極板に形成された窪み部に入り込む第１有機機能層の量が、第２陽極板群に含まれる各第２陽極板に形成された窪み部に入り込む第２有機機能層の量より多いことにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄く形成した。

あるいは、第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を設け、第６工程で形成する第１有機機能層の体積を、第７工程で形成する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄く形成した。

上記態様において、各第１電極板に形成する窪み部の体積を変化させると、各第１電極板の上方に第１有機機能層をウェット法で形成するときに、当該窪み部にインクが入り込む量が変わり、第１電極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚も変化する。また、同様に、各第２電極板に形成する窪み部の体積を変化させると、各第２電極板の上方に第２有機機能層をウェット法で形成するときに、当該窪み部にインクが入り込む量が変わり、第２電極板の窪み部が設けられていない領域上の第２有機機能層の膜厚も変化する。

ここで、各第１電極板及び第２電極板に形成する窪み部の体積は、ノズルから吐出するインク一滴あたりの体積よりも微細な単位で調整が可能である。
従って、第１電極板あるいは第２電極板に形成する窪み部の体積を微調整することによって、第１電極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚、あるいは、第２電極板の窪み部が設けられていない領域上の第２有機機能層の膜厚を容易に微調整することができる。

よって、各色のサブピクセルごとに、有機層の膜厚を、そのサブピクセルの発光色の波長に合わせて、効率よく光を出射させるのに最適な値に容易に微調整できるので、発光効率の優れた発光表示パネルを容易に製造することができる。そして、発光効率を向上させることは低消費電力化にも寄与する。

実施の形態１に係る表示パネル１００の構成を模式的に示す断面図である。 表示パネル１００の概略構成を示す斜視図である。 （ａ）は表示パネル１００の概略構成を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線で切断した断面図、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面図である。 表示パネル１００の全体的な製造方法を説明するための図である。 基板上に有機層形成用のインクを塗布した直後の様子を示す断面模式図である。 実施の形態２にかかる表示パネル１００の構成を模式的に示す平面図及び断面図である。 実施の形態２にかかる窪み部１５ａ、窪み部１５ｂ，１５ｃの形状を示す模式図である。 実施の形態３にかかる表示パネル１００の構成を模式的に示す平面図及び断面図である。 実施の形態４にかかる表示パネル１００及びその製造工程を示す模式的な断面図である。 実施の形態にかかる表示装置２００の全体構成を示す図である。 表示装置２００を用いたテレビシステムの一例を示す外観形状である。

＜発明の態様＞
本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルにおいては、第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、第１隔壁と第２隔壁との間に沿って第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、第２隔壁と第３隔壁との間に沿って第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、第１有機機能層及び第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、を具備した有機ＥＬ表示パネルにおいて、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板に、窪み部を設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きくし、第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込む量が、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、窪み部以外の領域における第２有機機能層の膜厚より薄くした。

上記態様によれば、第１陽極板に形成する窪み部と第２陽極板に形成する窪み部の体積を微調整することによって、第１陽極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚及び第２陽極板の窪み部が設けられていない領域上の第２有機機能層の膜厚を容易に微調整することができるので、色ごとに発光色の発光波長に合わせて有機層の膜厚を微調整することが容易であって、発光特性の優れた発光表示パネルを製造するのに寄与する。

本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１工程には、各第１電極板に窪み部を形成する工程を設け、第２工程には、各第２電極板に窪み部を形成する工程を設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積より大きくし、第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む第１有機機能層の量を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む第２有機機能層の量より多くすることにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄く形成した。

上記態様によっても、第１電極板に形成する窪み部及び第２電極板に形成する窪み部の体積を微調整することによって、第１電極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚、及び第２電極板の窪み部が設けられていない領域上の第２有機機能層の膜厚を容易に微調整することができるので、色ごとに発光色の発光波長に合わせて有機層の膜厚を微調整することが容易であって、発光特性の優れた発光表示パネルを製造するのに寄与する。

ここで、第１電極板群及び第２電極板群の下方にＴＦＴ層を設け、第１電極板群及び第２電極板群とＴＦＴ層との間に層間絶縁膜を設け、層間絶縁膜に、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板とＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクホールを設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられる窪み部を、コンタクトホールに沿って設けるでもよい。

また、第１電極板群に含まれる各第１電極板がコンタクトホールを介してＴＦＴ層に含まれるＳＤ電極と接触する面積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板がコンタクトホールを介してＴＦＴ層に含まれるＳＤ電極と接触する面積と同一（または同一の近傍値）とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む第２有機機能層の体積より多くしてもよい。

第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部及び第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の形状を、上面の径が下面の径より大きい円錐台形形状とする場合、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の上面の径を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の上面の径より大きくすることにより、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積を、第２陽極板群に含まれる各第２陽極板に形成された窪み部の体積より大きくしても良い。

ここで、第１陽極板群に含まれる各第１陽極板に形成された窪み部の下面の径を、第２陽極板群に含まれる各第２陽極板に形成された窪み部の下面の径より大きくしてもよい。
あるいは、第１陽極板群に含まれる各第１陽極板に形成された窪み部の下面の径を、第２陽極板群に含まれる各第２陽極板に形成された窪み部の下面の径と同一又は同一の近傍値の範囲内（両者の径の差が、径に対して５％以内）としてもよい。

第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた窪み部を、第１画素規制層により覆い、当該第１画素規制層の上方に第１有機機能層を形成し、第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部を、第２画素規制層により覆い、当該第２画素規制層の上方に第２有機機能層を形成してもよい。

第１有機機能層を、インクジェット式塗布方法により所定の体積の液滴により、第１電極板群の上方に連続して形成し、第２有機機能層を、インクジェット式塗布方法により上記所定の体積と同一（又は同一の近傍値）体積の液滴により第２電極板群の上方に連続して形成することによって、第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とすることができる。

本態様によれば、インク厚みを、窪み部が無い場合に比べて、ｎ滴（ｎは自然数）の場合のインク厚みとｎ＋１滴の場合のインク厚みとの中間の厚みにすることができる。そのため、インクを乾燥することで形成される有機機能層の膜厚を、ｎ滴の場合のインク厚みとｎ＋１滴の場合のインク厚みとの中間の厚みにすることができる。

上記態様において、第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた窪み部の数を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部の数より多く設定し、第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む第１有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む第２有機機能層の体積より多くしてもよい。

また、上記態様において、第３隔壁を介して第２電極板群に隣接して、第３色用の第３電極板をライン状に複数配列した第３電極板群を形成し、第３電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第４隔壁を形成し、第３隔壁と第４隔壁との間に沿って第３電極板群の上方に連続して第３有機機能層を形成し、第３有機機能層の上方に第３色の光を発光する第３有機発光層を形成し、第１電極板群、第２電極板群及び第３電極板群の下方にＴＦＴ層を設け、第１電極板群、第２電極板群及び第３電極板群と、ＴＦＴ層との間に層間絶縁膜を設け、その層間絶縁膜に、第１電極板群、第２電極板群及び第３電極板群とＴＦＴ層とを接続する配線を配置するコンタクトホールを設け、対向電極は、第２有機機能層の上方に設け、第１電極板群、第２電極板群及び３電極板群に含まれる各電極板に設けられた窪み部をコンタクトホールに沿って設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積及び第３電極板群に含まれる各第３電極に形成された窪み部の体積より大きく設定し、第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する第1有機機能層の体積を、第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する第２有機機能層の体積、及び第３電極板群に含まれる各第３電極の領域に対応する第３有機機能層の体積と、同一又は同一の近傍値の範囲内に設定し、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む第１有機機能層の量を、第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む第２有機機能層の量、及び第３電極板群に含まれる各第３電極に形成された窪み部に入り込む第３有機機能層の量より多くすることにより、第１電極板上の窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、第２電極板上の窪み部以外の領域における第２有機機能層の膜厚、及び第３電極上の窪み部以外の領域における第３有機機能層の膜厚より薄くすることができる。

ここで、第１色は、ＲＧＢ３色の色に対応する光を発光する有機ＥＬ表示パネルの場合では、青色が最も波長が短いため青色とすることが好ましい。
第１有機機能層、第２有機機能層及び第３有機機能層は、電荷注入層あるいは電荷輸送層であってもよいし、有機発光層であってもよい。

電極板（第１電極板、第２電極板、第３電極板）が陽極で、対向電極が陰極であってもよいし、電極板が陰極で、対向電極が陽極であってもよい。
上記態様にかかる有機ＥＬ表示パネルを用いて表示装置を構成することもできる。

また、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルにおいては、第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、第１有機機能層及び第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、を設け、第１陽極板群に含まれる各第１陽極板に、窪み部を設け、各第１陽極板上の第１有機機能層の体積を、各第２陽極板上の第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１陽極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄くした。

上記態様によれば、第１電極板に形成する窪み部の体積を微調整することによって、第１電極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚を容易に微調整することができるので、色ごとに発光色の発光波長に合わせて有機層の膜厚を微調整することが容易であって、発光特性の優れた発光表示パネルを製造するのに寄与する。

また、本発明の一態様における有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、を設け、第１工程には、各第１電極板に窪み部を形成する工程を設け、第６工程で形成する第１有機機能層の体積を、第７工程で形成す第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内とし、第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における第１有機機能層の膜厚を、各第２電極板上の第２有機機能層の膜厚より薄く形成した。

上記態様によっても、第１電極板に形成する窪み部の体積を微調整することによって、第１電極板の窪み部が設けられていない領域上の第１有機機能層の膜厚を容易に微調整することができるので、色ごとに発光色の発光波長に合わせて有機層の膜厚を微調整することが容易であって、発光特性の優れた発光表示パネルを製造するのに寄与する。

ここで、第１電極板群及び第２電極板群の下方にＴＦＴ層を設け、第１電極板群及び第２電極板群とＴＦＴ層との間に層間絶縁膜を設け、層間絶縁膜に、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板とＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクホールを設け、第１電極板群に含まれる各第１電極板及び第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部を、コンタクトホールに沿って設けてもよい。

＜実施の形態１＞
（表示パネル１００の構成）
表示パネル１００は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬパネルである。

図１は、実施の形態１に係る表示パネル１００の構成を模式的に示す断面図である。図２は、表示パネル１００の概略構成を示す斜視図である。
表示パネル１００は、画素（ピクセル）が縦横方向（Ｘ−Ｙ方向）にマトリック状に配列されており、各画素は、隣接するＲＧＢ３色のサブピクセルによって形成されている。図２に示す有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃはＴＦＴ基板４上に配列されたトップエミッション型のＥＬ素子であって、有機ＥＬ素子２０ａは第１色（青色）のサブピクセル、有機ＥＬ素子２０ｂは第２色（緑色）のサブピクセル、有機ＥＬ素子２０ｃは第３色（赤色）のサブピクセルに相当する。

図２に示すように、青色の有機ＥＬ素子２０ａ…が縦方向（Ｙ方向）にライン状に配列され、それに隣接して、緑色の有機ＥＬ素子２０ｂ…が縦方向（Ｙ方向）にライン状に配列され、さらに、それに隣接して、赤色の有機ＥＬ素子２０ｃ…が縦方向（Ｙ方向）にライン状に配列されている。そして、横方向（Ｘ方向）に隣接する３つの有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃで一画素が形成される。

図１は、配列された有機ＥＬ素子２０ａ…を縦方向（Ｙ方向）に切断した断面を示しており、当図に示すように、ＴＦＴ基板４は、基板１の主面上に、ＴＦＴ及びライン配線、層間絶縁膜３が順に形成されて構成されている。そして、ＴＦＴ基板４の上に、陽極板５、ホール注入層６、画素規制層７が順に積層され、さらに、隔壁８（図１では不図示、図２の８ａ〜８ｃ）、有機層９、発光層１０、陰極層１１が形成されて、有機ＥＬ素子２０ａ、２０ｂ、２０ｃが形成されている。なお、図２では、有機層９、発光層１０、陰極層１１は示していない。

基板１は、表示パネル１００のベース部分となる基板であって、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料で形成されている。

基板１の表面に、パネル全体の各有機ＥＬ素子２０ａ〜２０ｃをアクティブマトリクス方式で駆動するためのＴＦＴ及び配線、ＳＤ電極などからなるＴＦＴ層が形成されている。なお図１において、符合２はＴＦＴのＳＤ電極を示している。

層間絶縁膜３は、絶縁性に優れる有機材料、例えばポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂材料からなり、基板１の上記ＴＦＴ層を全体的に被覆している。
この層間絶縁膜３には、各有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃごとに、厚み方向（Ｚ方向）に掘り下げたコンタクトホール１３が形成されている。

このコンタクトホール１３は、円形の下面を持つ孔である。図１に示されたコンタクトホール１３は、その内面が順テーパー状に傾斜して、下面側よりも上面側（開口側）で孔径の大きい円錐台形状となっているが、下面側と上面側の孔径が同等の円柱形状で形成してもよい。また、コンタクトホールの下面の形状は、円形以外にも、楕円形、矩形などの形状も採用できることはいうまでもない。

ここで、青色のサブピクセルにおいて形成されるコンタクトホール１３の体積（容積）は、緑色及び赤色のサブピクセルにおいて形成されるコンタクトホール１３の体積（容積）よりも大きく設定されている。

次に、図３（ａ）〜（ｃ）を参照しながら、上記表示パネル１００の構成を詳細に説明する。図３（ａ）は、表示パネル１００の概略構成を示す平面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ線で切断した断面、図３（ｃ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ線で切断した断面である。なお、図３においても、有機層９、発光層１０、陰極層１１は示していない。

図３に示すように、表示パネル１００において、青色用の陽極板５ａ，ホール注入層６ａが縦方向（Ｙ方向）にライン状に配列されて第１陽極板群が形成され、当該第１陽極板群に隣接して、緑色用の陽極板５ｂ，ホール注入層６ｂが縦方向（Ｙ方向）ライン状に複数配列されて第２陽極板群が形成され、当該第２陽極板群に隣接して赤色用の陽極板５ｃ，ホール注入層６ｃが縦方向（Ｙ方向）ライン状に複数配列されている。

そして、第１陽極板群における第２陽極板群とは反対側の縁に沿って第１隔壁（隔壁８ａ）が縦方向（Ｙ方向）に形成され、第１陽極板群及び第２陽極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁（隔壁８ｂ）が縦方向（Ｙ方向）形成され、第２陽極板群及び第３陽極板群における互いに隣接する縁に沿って第３隔壁（隔壁８ｃ）が縦方向（Ｙ方向）形成され、第３陽極板群における第２陽極板群と反対側の縁に沿って第４隔壁（隔壁８ａ）が縦方向（Ｙ方向）形成されている。

そして、隔壁８ａと隔壁８ｂとの間に沿って第１陽極板群の上方に有機層９ａが形成され、隔壁８ｂと隔壁８ｃとの間に沿って第２陽極板群の上方に有機層９ｂが形成され、隔壁８ｃと隔壁８ａとの間に沿って第３陽極板群の上方に有機層９ｃが形成されている。

有機層９ａの上方に青色の光を発光する発光層１０が形成され、有機層９ｂの上方に緑色の光を発光する発光層１０が形成され、有機層９ｃの上方に赤色の光を発光する発光層１０が形成される。

陽極板５は、層間絶縁膜３上において、各サブピクセルに相当する領域に矩形状に形成され、そのサイズはいずれのサブピクセルでも同等である。
この陽極板５を形成する材料は、光反射性であることが好ましく、Ａｇ（銀）の他、例えば、ＡｌまたはＡｌ合金、銀−パラジウム−銀の合金、銀−ルビジウム−金の合金、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等が用いられる。

ホール注入層６は、モリブデンやタングステンの酸化物で、陽極板５の上に、陽極板５と同様の形状で形成されている。
なお、図３（ｂ），（ｃ）に示すように、陽極板５，ホール注入層６は、コンタクトホール１３の内面に沿って凹入し、陽極板５はコンタクトホール１３の内部にて、ＴＦＴのＳＤ電極２と電気的に接続されている。

画素規制層７は、シリコンオキサイド（ＳｉＯ₂）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮ）など、絶縁性無機膜である。その厚さは１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度である。

画素規制層７は、横方向（Ｘ方向）に伸長するライン状の層であって、縦方向（Ｙ方向）に隣接する有機ＥＬ素子の陽極板５，ホール注入層６同士の間隙並びコンタクトホール１３の内面を覆うように、縦方向（Ｙ方向）に等ピッチ且つ等幅で配されている。

ホール注入層６及び画素規制層７も、陽極板５に沿って形成されるので、ホール注入層６及び画素規制層７の上面にはコンタクトホール１３の内面に沿って窪み部１５が形成されている。そして、上記のように、コンタクトホール１３の体積が青色サブピクセルで大きく設定されているので、青色のサブピクセルに形成される窪み部１５ａの体積は、緑色及び赤色のサブピクセルに形成される窪み部１５ｂ，１５ｃの体積よりも大きくなっている。

なお、図３では、窪み部１５ａの上面及び下面ともに、窪み１５ｂ，１５ｃの上面及び下面よりも大きく形成されているが、下面のサイズ（径）を同等（すなわち、両者の径の差が径に対して５％程度以内）とし、上面のサイズ（径）を、窪み部１５ａの方が窪み１５ｂ，１５ｃよりも大きくすることによって、窪み部１５ａの体積を、窪み１５ｂ，１５ｃの体積よりも大きくしてもよい。

隔壁８（８ａ〜８ｄ）は、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等）からなり、少なくとも表面が撥液性を持つように形成されている。各隔壁８ａ，８ｂ，８ｃは縦方向（Ｙ方向）に長いライン状のパターンであって、隣接する有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃ同士の間を通過するように、横方向（Ｘ方向）に等ピッチで形成されている。各隔壁８ａ，８ｂ，８ｃ、の断面形状は台形であって隔壁幅は均一である。

有機層９は、隣接する隔壁８同士で挟まれた領域に、ホール注入層６、画素規制層７を覆うように形成されている。また、発光層１０は、隣接する隔壁８同士で挟まれた領域に、有機層９の上に形成されている。

そして、各ホール注入層６、各画素規制層７、各有機層９及び各発光層１０は、上記窪み部１５に部分的に入り込んでいる。
有機層９は、発光層１０に対してホール注入効果を有する材料からなるホール輸送層であって、材料の具体例としては、４，４’−ビス［Ｎ−（ナフチル）−Ｎ−フェニル−アミノ］ビフェニル（α−ＮＰＢまたはα−ＮＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）などのトリアリールアミン系化合物を挙げることができる。

なお、陽極板５、ホール注入層６、有機層９は、３色の有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃで共通の材料が用いられているが、発光層１０は、３色の有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃで別々に、青色，緑色，赤色を発光する発光材料で形成されている。

発光層１０の材料としては、例えば、特開平５−１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等を挙げることができる。

陰極層１１は、３色の有機ＥＬ素子２０ａ，２０ｂ，２０ｃの発光層１０を一括して覆うように形成されている。陰極層１１は、光透過性の材料、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等で形成される。

なお、図示はしないが、陰極層１１の上には、封止層が設けられる。この封止層は、例えばＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の光透過性の材料で形成される。

このような表示パネル１００において、上記のように隔壁８のピッチ及び隔壁幅は均等であり、画素規制層７のピッチ及び幅も均等なので、隔壁８及び画素規制層７で囲まれたサブピクセルのサイズは均等である。
（表示装置の構成例）
図１０は、上記表示パネル１００を用いた表示装置２００の構成を示す図である。

表示装置２００は、表示パネル１００と、これに接続された駆動制御部１２０とから構成されている。駆動制御部１２０は、４つの駆動回路１２１〜２４と制御回路１２５とから構成されている。
図１１は、表示装置２００を用いたテレビシステムの一例を示す外観形状である。

（表示パネル１００の製造方法）
まず、表示パネル１００の全体的な製造方法について、図４を参照しながらその一例を説明する。

ＴＦＴ基板４を作製する工程について説明する。
基板１を準備し、スパッタ成膜装置のチャンバー内に載置する。
ＴＦＴ層形成工程：
そしてチャンバー内に所定のスパッタガスを導入し、反応性スパッタ法に基づき、ＴＦＴ及び配線、ＳＤ電極２からなるＴＦＴ層を形成する（図４（ａ））。

層間絶縁膜形成工程：
上記ＴＦＴ層を覆うように、基板１上に厚み約４μｍで層間絶縁膜３を形成する（図４（ｂ））。このとき、層間絶縁膜３には、ＳＤ電極２上にコンタクトホール１３を形成する。このようなコンタクトホール１３を有する層間絶縁膜３は、公知の感光性有機材料（例えばシロキサン共重合型感光性ポリイミド）をスピンコートし、パターンマスクを用いたフォトリソグラフィー法でパターニングすることによって形成できる。

ここで、コントタクトホール１３の開口形状は、パターンマスクに形成された開口形状に基づく形状に形成されるので、パターンマスクの開口形状を調整することによって、コンタクトホール１３の開口形状も調整することができる。またコンタクトホール１３の内周面の傾斜は、パターンマスクとして、ハーフトーンマスクを用いることにより、調整することができる。

この他に、一様な層間絶縁膜を形成した後、コンタクトホールを形成しようとする箇所をエッチングで除去する方法によっても、コンタクトホール１３を形成することもできる。

すなわち、層間絶縁膜上にフォトレジストを重ねて塗布し、その上に、形成しようとするコンタクトホールに合わせたパターンマスクを重ねる。続いてパターンマスクの上からフォトレジストの材料が感光するための所定の波長の光を、フォトレジストに照射し、その後に現像液で現像して、レジストパターンを形成する。その後、余分な層間絶縁膜の材料及び未硬化のフォトレジストを、水系もしくは非水系のエッチング液（剥離剤）で洗い出すことにより、層間絶縁膜にコンタクトホール１３が形成される。その後、フォトレジストの残渣を純水で洗浄して除去することによって、パターニングが完了する。

このように作製したＴＦＴ基板４上に、各色の有機ＥＬ素子を形成する工程について以下に説明する。
陽極板作製工程：
層間絶縁膜３の上に、陽極板５用の金属材料を、スパッタ法で例えば５０ｎｍ〜４００ｎｍの所定の厚みに薄膜成形して、ウェットエッチングでパターニングすることにより陽極板５を形成する。このとき陽極板５は、コンタクトホール１３の内面にも形成されるので、陽極板５はコンタクトホール１３の内面に沿って凹入し、ＳＤ電極２にも接触して電気接続される（図４（ｃ））。この工程で、各陽極板５ａ〜５ｃには窪み部１５ａ〜１５ｃも形成される。

ホール注入層作製工程：次に、陽極板５の上に、モリブデンやタングステン等の金属材料を反応性スパッタ法で成膜し、フォトリソグラフィーとウェットエッチングでパターニングすることにより、ホール注入層６を形成する（図４（ｄ））。

画素規制層形成工程：
次に、ＣＶＤ法によって、ＳｉＯ₂、ＳｉＮ、あるいはＳｉＯＮを成膜し、ドライエッチングでパターニングすることにより、画素規制層７を形成する（図４（ｅ））。

ホール注入層６及び画素規制層７も、陽極板５に沿って部分的に窪み部１５ａ〜１５ｃ内に凹入した形態となる。
隔壁形成工程：
次に、隔壁材料として、例えば感光性のレジスト材料、もしくはフッ素系やアクリル系材料を含有するレジスト材料を、層間絶縁膜３上に塗布し、フォトリソグラフィー法でパターニングすることによって隔壁８ａ，８ｂ、８ｃ、を形成する（図４（ｆ））。

なお、この隔壁形成工程では、次に塗布するインクに対する隔壁８の接触角を調節したり表面に撥液性を付与するために、隔壁８の表面をアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施してもよい。

有機層（ホール輸送層）作製工程：
次に、有機層９を、ウェット方式で形成する（図４（ｇ））。
すなわち、有機層材料である有機材料と溶媒を所定比率で混合して有機層用のインクを作製し、そのインクを、隣り合う隔壁８同士の間に塗布する。すなわち、公知のインクジェット方式によって、第１隔壁である隔壁８ａと第２隔壁である隔壁８ｂとの間、第２隔壁である隔壁８ｂと第３隔壁である隔壁８ｃとの間、第３隔壁である隔壁８ｃと第４隔壁である隔壁８ａとの間に沿って、インクを塗布する。

図５は、ウェット方式で、基板上に有機層形成用のインクを塗布した直後の様子を示す断面模式図である。
当図において各矢印は、ノズルから基板１上に対してインク液滴を吐出する位置を示している。各サブピクセルの陽極板５及びホール注入層６の上に対して、同じ場所に同じ液滴数のインクを滴下する。図５の例では、各サブピクセル形成領域に対して７箇所にインクを滴下している。

塗布されたインクは、ホール注入層６の上を全体的に被覆し、コンタクトホール１３による窪み部１５の中にも入り込む。
ここで、ノズルから吐出する各インク液滴の量は一定であるので、複数の各サブピクセル形成領域に対して、同様の形成で塗布される。各陽極板５上に塗布されるインク量も同等であって、そのバラツキは５％以内である。

なお、有機層９を形成するインクをバンク間に充填する方法として、この他に、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等を用いてもよく、いずれの方法でも、各陽極板５及びホール注入層６の上に塗布するインクの量は、すべての色のサブピクセルで同等である。

このように形成されたインク層を乾燥させることによって有機層９が形成される。
発光層形成工程：
この有機層９の上に、ウェット方式で発光層１０を形成する。この工程は、上記有機層形成工程と同様であって、発光層形成用の材料を溶解させたインクを、隣り合う隔壁８同士の間に塗布し、乾燥することによって形成するが、用いる発光層材料が発光色ごとに異なっている。

なお、有機層９を形成するインクをバンク間に充填する方法として、この他に、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等を用いてもよい。
次に、発光層１０の表面上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の材料を、真空蒸着法で成膜する。これにより陰極層１１を形成する。さらに、陰極層１１の表面上に、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の材料を真空蒸着法で成膜することにより、封止層を形成する。

以上の工程により、全ての有機ＥＬ素子２０ａ〜２０ｃが形成され、表示パネル１００が完成する。
（窪み部１５の体積と有機層９の膜厚について）
表示パネル１００において、第１色である青色用の陽極板５ａに形成された窪み部１５ａの体積は、第２色である緑色用の陽極板５ｂに形成された窪み部１５ｂの体積及び第３色である赤色用の陽極板５ｃに形成された窪み部１５ｃの体積よりも大きく設定されており、各有機層９の一部が、その窪み部１５ａ，１５ｂ，１５ｃに入り込んでいる。窪み部１５ａと窪み部１５ｂ，１５ｃの体積の差によって、青色サブピクセルの有機層９は、緑色サブピクセルの有機層９及び赤色サブピクセルの有機層９よりも、膜厚（窪み部以外の領域での膜厚）が小さく形成されている。

従って、表示パネル１００においては、サブピクセルの色ごとに、有機層９の膜厚を、発光色の波長に合った適値に設定するのが容易である。
以下に、陽極板５に形成された窪み部１５の体積と有機層９の膜厚との関係について詳細に考察する。

１つのサブピクセルで、陽極板５上のインク充填領域（図３（ａ）において符号５，６で示す領域）の面積をＳ、１つのサブピクセルの陽極板５の上に充填されるインク（図５中の斜線領域Ｃ）の充填量Ｖ0。有機層用のインクの溶質濃度をＮ、陽極板５上に形成される窪み部１５の体積をＶ1（青色サブピクセルの窪み部１５ａの体積をＶ1ａ、緑色及び赤色サブピクセルでの窪み部１５ｂ，１５ｃの体積をＶ1ｂ、Ｖ１ｃ）とする。

仮に陽極板５に窪み部がないとすると、陽極板５の上に充填されるインク層の高さは、Ｖ0／Ｓとなり、乾燥後に形成される有機層９の膜厚はＮＶ0／Ｓと見積もられるが、陽極板５上に窪み部１５（体積Ｖ1）が形成されており、充填されたインクの一部がその窪み部１５に埋没する（図５中、斜線領域Ｄのように窪み部の全体にインクが埋没するものとする）ので、陽極板５上の窪み部１５以外の領域に充填されるインクの体積は、その埋没量Ｖ1だけ差し引かれて（Ｖ0−Ｖ1）となる。

従って、インク層の高さ（図５でＨ）は、Ｖ0／Ｓの（Ｖ0−Ｖ1）／Ｖ1倍となり、インク乾燥後の膜厚（図５でｈ）も、ＮＶ0／Ｓの（Ｖ0−Ｖ1）／Ｖ0倍となる。よって、有機層９の膜厚ｈはＮ（Ｖ0−Ｖ1）／Ｓとなる。

ここで、青色のサブピクセルにおける埋没量Ｖ1ａは、緑色及び赤色のサブピクセルにおける埋没量Ｖ1ｂよりも大きいので、青色のサブピクセルにおいて陽極板５の窪み部１５ａ以外の領域上に形成される有機層９の膜厚は、緑色及び赤色のサブピクセルにおいて陽極板５の窪み部１５ｂ，１５ｃ以外の領域上に形成される有機層９の膜厚と比べて、Ｎ（Ｖ1ａ−Ｖ1ｂ）／Ｓだけ小さいことになる。

ここで、各窪み部１５ａ，１５ｂ，１５ｃの大きさは、層間絶縁膜３に形成するコンタクトホールの大きさによって規定されており、後述するように微調整可能である。従って、窪み部の体積Ｖ1ａ、Ｖ1ｂは、インク液滴１滴の体積と比べて、細かい単位で調整することができるので、各有機層９の膜厚を微調整できる。

これに対する比較例として、サブピクセルの色ごとに充填するインク液滴の滴数を変える方法でも膜厚を調整できるが、この比較例と比べて、本実施形態では、Ｖ1ａとＶ1ｂとを僅差とすることができるので、青色のインク厚みと緑色のインク厚みとの差を僅差とすることができる。

次に具体的な数値例を入れて考察する。
例えば、１つのサブピクセルで、陽極板５上のインク充填領域（図３（ａ）の符合５，６で示す領域）のサイズを縦３００μｍ、横７０μｍとすると、陽極板５上のインク充填領域の面積Ｓ＝２．１×１０^-8ｍ²となる。

また、有機層用のインクの溶質濃度Ｎを２ｖｏｌ％とし、インクジェットで吐出される１滴あたりの液滴量が３０ｐＬで、各サブピクセルの陽極板５の上に７滴づつ充填するものとすると、１つのサブピクセルの陽極板５の上に充填されるインクの充填量Ｖ0＝２１０ｐＬ（２．１×１０^-13ｍ³）となる。

陽極板５に窪み部がないとすると、陽極板５の上に充填されるインク層の高さＨは、Ｖ0／Ｓ＝１０μｍとなり、乾燥後に形成される有機層９の膜厚ｈはＮＶ0／Ｓ＝０．２μｍとなるが、ここで、いずれの色のサブピクセルにおいても陽極板５に円柱状の窪み部１５ａ〜１５ｃが形成されているものとする。そして、窪み部１５ａ〜１５ｃの高さは４μｍで一定とし、直径については、緑色及び赤色サブピクセルの窪み部１５ｂ、１５ｃでは直径３０μｍ、青色サブピクセルの窪み部１５ａでは５μｍ増やして直径３５μｍとすると、緑色及び赤色サブピクセルでは、窪み部体積Ｖ1ｂ＝２．８２６ｐＬとなり、青色サブピクセルでは窪み部体積Ｖ1ａ＝３．８４７ｐＬとなる。

従って、緑色及び赤色サブピクセルの有機層９の膜厚ｈはＮ（Ｖ0−Ｖ1ｂ）／Ｓ＝０．１９７３μｍとなり、青色サブピクセルの有機層９の膜厚ｈはＮ（Ｖ0−Ｖ1ａ）／Ｓ＝０．１９６３μｍとなり、その膜厚差はＮ（Ｖ1ｂ−Ｖ1ａ）／Ｓ＝０．００１０μｍ（１ｎｍ）となる。

このようにして、青色サブピクセルにおける有機層９の膜厚を、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルにおける有機層９の膜厚と比べて、微小単位で薄くなるように調整することができる。

一方、比較例では、１つのサブピクセルあたりに充填するインク液滴の滴数を１滴増減させた場合、形成される有機層の膜厚は０．０２８５μｍだけ増減するので、０．０２８５μｍ単位でしか膜厚を調整できない。

以上のように、本実施形態の表示パネル１００製法によれば、各色サブピクセルに形成する窪み部１５ａ，１５ｂ、１５ｃの体積をンク液滴の体積よりも細かく微調整することによって、各色サブピクセルの有機層９の膜厚を比較的容易に微調整できるので、有機層９の膜厚を、サブピクセルの色ごとに、発光色の波長に合った適値に設定して効率よく光を取り出すようにするのが容易である。

＜実施の形態２＞
図６は、実施の形態２にかかる表示パネル１００の構成を模式的に示す平面図及び断面図である。

上記実施の形態１では、青色サブピクセルの窪み部１５ａの体積Ｖ1ａを、緑色及び赤色サブピクセルの窪み部１５ｂ，１５ｃの体積Ｖ1ｂよりも大きく設定したが、本実施形態では、青色の有機ＥＬ素子２０ａにおいて、ＳＤ電極２上にコンタクトホール１３を２個形成することによって、青色サブピクセルでは窪み部１５ａの個数を２個とした。緑色及び赤色サブピクセルでは窪み部１５ｂ，１５ｃの個数は１個のままとした。

そして、青色サブピクセルに形成した２個の窪み部１５ａの合計体積を、緑色サブピクセルに形成した窪み部１５ｂの体積、及び赤色サブピクセルに形成した窪み部１５ｃの体積よりも大きく設定した。

このような実施形態２の表示パネル１００においても、上記実施の形態１で説明したのと同様の理由で、有機層９の膜厚を微調整することができる。
ところで、青色サブピクセルにおける２個の窪み部１５ａの下面（ＳＤ電極２に接触する底面）の合計面積、緑色サブピクセルにおける１個の窪み部１５ｂの下面（ＳＤ電極２に接触する底面）の面積、赤色サブピクセルにおける１個の窪み部１５ｃの下面（ＳＤ電極２に接触する底面）の面積は、同等に設定することが、各色のサブピクセルにおけるコンタクトホールとＳＤ電極との接触抵抗を一定にする上で好ましい。

各窪み部１５ａ，１５ｂ，１５ｃの形状を、下方より上方で径が拡がる順テーパー状に形成すれば、この面積を同等にしながら、２個の窪み部１５ａの合計体積を、窪み部１５ｂの体積及び窪み部１５ｃの体積よりも大きく設定することができる。

この点について、以下に具体的に基づいて説明する。
図７（ａ）は、青色サブピクセルに形成される窪み部１５ａの形状、図７（ｂ）は、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルに形成する窪み部１５ｂ，１５ｃの形状を示す模式図である。

この例では、各窪み部１５ａ及び窪み部１５ｂ，１５ｃの形状は、下方より上方で孔径が拡がる順テーパー状の円錐台形状であって、各窪み部の下面がＳＤ電極２の上面に接している。窪み部１５ａの高さ及び窪み部１５ｂ，１５ｃの高さは層間絶縁膜の厚みＴと同じで、各窪み部１５ａ，１５ｂ，１５ｃの内面がＳＤ電極２の上面となすテーパー角αも一定とする。

窪み部１５ａの下面の直径をｒとし、２個の窪み部１５ａの下面面積の合計と、窪み部１５ｂ（１５ｃ）の下面の面積とが等しいとすると、窪み部１５ｂ（１５ｃ）の下面の直径は√２ｒとなる。

そして、１個の窪み部１５ａの体積は数１で表わされる。

また、１個の窪み部１５ｂの体積は数２で表わされる。

従って、２個の窪み部１５ａの合計体積から、１個の窪み部１５ｂの体積を引いた体積差は、数３で表わされる。

テーパー角αが正数（順テーパー）であれば、数３の値も正数となり、２個の窪み部１５ａの合計体積は、窪み部１５ｂ（１５ｃ）の体積よりも大きくなることがわかる。

また、テーパー角αを大きく設定するほど、数１、数２、数３の値も大きくなるので、窪み部１５ａの体積、窪み部１５ｂの体積、そして、２個の窪み部１５ａの体積から１個の窪み部１５ｂの体積を引いた体積差が大きくなることがわかる。

これより、テーパー角αの設定を調整することによって、当該体積差を調整できるので、青色サブピクセルにおける有機層９の膜厚と、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルにおける有機層９の膜厚の差も微調整できる。

なお、このテーパー角αは、通常２０〜３０°程度であるが、テーパー角αが０の場合（各窪み部が円柱形状の場合）は、数３の値は０であって、２個の窪み部１５ａの合計体積と、窪み部１５ｂ（１５ｃ）の体積は同等となる。

なお、ここでは青色サブピクセルに形成するコンタクトホールの個数を２、緑色及び赤色サブピクセルに形成するコンタクトホールの個数１にしたが、その個数は青色サブピクセルで３個とし、緑色及び赤色サブピクセルで１個または２個にしてもよい。

＜実施の形態３＞
上記実施の形態１，２では、表示パネル１００を製造する工程において、コンタクトホール１３に沿って形成した陽極板５上の窪み部１５に有機層９の一部を埋没させることによって、有機層９の膜厚を調整したが、本実施の形態では、陽極板５上の窪み部１５をコンタクトホールが存在しない場所に設けている。

この場合も、以下に述べるように、実施の形態１，２と同様にして青色サブピクセルにおける有機層９の厚みを、緑色及び赤色サブピクセルの有機層９の厚みよりも小さく微調整することができる。

図８は、実施の形態３にかかる表示パネル１００及びその製造工程を示す模式的な断面図である。
層間絶縁膜３の上面には、陽極板５が形成される領域の中に凹部２３（２３ａ，２３ｂ）が形成されている。青色サブピクセルの凹部２３ａは、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルの凹部２３ｂよりも体積が大きく設定されている。そして、陽極板５が層間絶縁膜３の上面に沿って形成されているが、陽極板５の一部が、当該凹部２３の内面に沿って凹入するように形成されている。

そして、陽極板５に沿って形成されたホール注入層６及び画素規制層７の上面には、凹部２３の内面に沿って窪み部１５が形成され、有機層９の一部が窪み部１５に入り込んでいる。

なお、凹部２３ａ，２３ｂはコンタクトホールではないので、凹部２３ａ，２３ｂの下面にはＴＦＴのＳＤ電極は存在しないが、陽極板５は図示しない箇所でＴＦＴのＳＤ電極と接続されている。

本実施形態でも、有機層９は、ホール注入層６，画素規制層７を覆うようにインクを塗布し、乾燥して形成するが、青色のサブピクセルに形成されている窪み部１５ａの体積は、緑色及び赤色のサブピクセルに形成されている窪み部１５ｂ，１５ｃの体積よりも大きく、且つその体積差は微調整できるので、青色サブピクセルの有機層９の厚みは、緑色及び赤色サブピクセルの有機層９の厚みよりも薄くすることができる。かつ、その厚みを微調整することができる。

従って、Ｒ，Ｇ，Ｂの色ごとに、有機層９の膜厚を、効率よく光を出射させるのに適した値に制御するのが容易である。
＜実施の形態４＞
図９は、実施の形態４にかかる表示パネル１００及びその製造工程を示す模式的な断面図である。

（有機層の膜厚について）
実施の形態１〜３では、いずれの色のサブピクセルにおいても、陽極板５の上に窪み部１５ａ，１５ｂ，１５ｃを形成して、これらの中に有機層９の一部を埋没させたが、本実施形態では、緑色及び赤色のサブピクセルにおいては陽極板５ｂ，５ｃの上に窪み部１５ｂ，１５ｃを形成せず、青色サブピクセルにだけ陽極板５ａの上に窪み部１５ａを形成している。

この場合、実施の形態１で説明した「有機層の膜厚」において、緑色及び赤色サブピクセルには窪み部がないので体積Ｖ1ｂ＝０になるが、同様にして、青色サブピクセルの窪み部体積Ｖ1ａを微調整することによって、青色サブピクセルの有機層９の厚みを、緑色及び赤色サブピクセルの有機層９の厚みよりも微小量だけ小さく調整することができる。

従って、サブピクセルの色ごとに、有機層９の膜厚を、効率よく光を出射させるのに適した値に制御することができる。
＜変形例など＞
上記実施の形態１〜４では、青色サブピクセルにおける有機層９の膜厚を、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルにおける有機層９の膜厚と比べて薄く設定し、緑色サブピクセル及び赤色サブピクセルにおける有機層９の膜厚は同等に設定したが、青色サブピクセルにおいて陽極板５ａに形成する窪み部１５ａの体積Ｖ1ａと比べて、緑色サブピクセルにおいて陽極板５ｂに形成する窪み部１５ｂの体積Ｖ1ｂ、赤色サブピクセルにおいて陽極板５ｃに形成する窪み部１５ｃの体積Ｖ1ｃの順で小さくなるように設定することによって、青色サブピクセル、緑色サブピクセル、赤色サブピクセルの順で有機層９の膜厚が大きくなるように設定することもできる。

上記実施の形態では、１画素が３色のサブピクセルで構成されていたが、１画素が２色のサブピクセルで構成される場合でも、同様に、第１色のサブピクセルだけの陽極板５に窪み部１５を形成することによって、あるいは、第１色のサブピクセル及び第２色用のサブピクセルの両方の陽極板５に窪み部１５を形成して両者の窪み部１５の体積を変えることによって、第１色用の有機層９の膜厚を第２色用の有機層９の膜厚よりも小さくして、サブピクセルの色ごとに、有機層９の膜厚を、効率よく各色光を出射させるのに適した値に制御することができる。

上記実施の形態では、陽極板５の上方に、有機層としてホール輸送層をウェット方式で形成する例を示したが、有機層として、ホール注入層、ホール注入兼輸送層をウェット方式で形成する場合も、同様にして、その有機層の膜厚を微調整して、各発光色の光を効率よくすることができる。

本発明にかかる製造方法は、携帯電話用やテレビなどのディスプレイとして有機ＥＬ表示パネルを製造するのに適しており、発光効率が良好なディスプレイを作製するに有効である。

１ 基板
２ ＴＦＴのＳＤ電極
３ 層間絶縁膜
４ ＴＦＴ基板
５（５ａ〜５ｃ） 陽極板
６（６ａ〜６ｃ） ホール注入層
７ 画素規制層
８ａ，８ｂ，８ｃ 隔壁
９（９ａ〜９ｃ） 有機層
１０ 発光層
１１ 陰極層
１３ コンタクトホール
１５（１５ａ〜１５ｃ） 窪み部
２０ａ〜２０ｃ 有機ＥＬ素子
２３（２３ａ，２３ｂ） 凹部
１００ 表示パネル

Claims (36)

1. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
   前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
   前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
   前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
   前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、
   前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
   前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
   前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
   前記第１電極板群及び前記第２電極板群の下方に設けられたＴＦＴ層と、
   前記第１電極板群及び前記第２電極板群とＴＦＴ層との間に設けられた層間絶縁膜と、
   前記層間絶縁膜に設けられ、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板と前記ＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクトホールと、
   を具備し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板は、窪み部を有し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部は、前記コンタクトホールに沿って設けられており、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込む量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に前記第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、前記窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚は、前記窪み部以外の領域における前記第２有機機能層の膜厚より薄い、
   有機ＥＬ表示パネル。
2. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板が前記コンタクトホールを介して前記ＴＦＴ層に含まれるＳＤ電極と接触する面積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板が前記コンタクトホールを介して前記ＴＦＴ層に含まれるＳＤ電極と接触する面積と同一であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた窪み部の総数に入り込む前記第２有機機能層の体積より多い、
   請求項１記載の有機ＥＬ表示パネル。
3. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
   前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
   前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
   前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
   前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、
   前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
   前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
   前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
   を具備し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板は、窪み部を有し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の形状は、上面の径が下面の径より大きい円錐台形形状であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の上面の径が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の上面の径より大きいことにより、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込む量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に前記第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、前記窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚は、前記窪み部以外の領域における前記第２有機機能層の膜厚より薄い、
   有機ＥＬ表示パネル。
4. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の下面の径は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の下面の径より大きい、
   請求項３記載の有機ＥＬ表示パネル。
5. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の下面の径は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の下面の径と同一又は同一の近傍値の範囲内である、
   請求項３記載の有機ＥＬ表示パネル。
6. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
   前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
   前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
   前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
   前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、
   前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
   前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
   前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
   を具備し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板は、窪み部を有し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた前記窪み部は、第１画素規制層により覆われ、当該第１画素規制層の上方に前記第１有機機能層が形成され、
   前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた前記窪み部は、第２画素規制層により覆われ、当該第２画素規制層の上方に前記第２有機機能層が形成されており、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込む量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に前記第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、前記窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚は、前記窪み部以外の領域における前記第２有機機能層の膜厚より薄い、
   有機ＥＬ表示パネル。
7. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
   前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
   前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
   前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
   前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、
   前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
   前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
   前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
   を具備し、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板は、窪み部を有し、
   前記第１有機機能層は、インクジェット式塗布方法により所定の体積の液滴により前記第１電極板群の上方に連続して形成され、
   前記第２有機機能層は、インクジェット式塗布方法により前記所定の体積と同一体積の液滴により前記第２電極板群の上方に連続して形成され、
   前記第１有機機能層の膜厚又は前記第２有機機能層の膜厚は、
   前記インクジェット式塗布方法により前記所定の体積の液滴が塗布される場合、前記液滴がｎ滴塗布されることにより形成される膜厚と、前記液滴がｎ＋１滴塗布されることにより形成される膜厚との間の膜厚で形成されており、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込む量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に前記第２有機機能層の一部が入り込む量よりも多いことにより、前記窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚は、前記窪み部以外の領域における前記第２有機機能層の膜厚より薄い、
   有機ＥＬ表示パネル。
8. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた前記窪み部の数は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた前記窪み部の数より多く、
   前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた前記窪み部の総数に入り込む前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた前記窪み部の総数に入り込む前記第２有機機能層の体積より多い、
   請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
9. 前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層は、電荷注入層、あるいは電荷輸送層のいずれかである、
   請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
10. 前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層は、有機発光層である、
    請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
11. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
    前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
    前記第２電極板群に隣接して形成され第３色用の第３電極板をライン状に複数含む第３電極板群と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
    前記第２電極板群及び第３電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第３隔壁と、
    前記第３電極板群における前記第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第４隔壁と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
    前記第３隔壁と前記第４隔壁との間に沿って前記第３電極板群の上方に連続して形成された第３有機機能層と、
    前記第１有機機能層、前記第２有機機能層及び前記第３有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
    前記第１電極板群、前記第２電極板群及び前記第３電極板群の下方に設けられたＴＦＴ層と、
    前記第１電極板群、前記第２電極板群及び前記第３電極板群と、前記ＴＦＴ層との間に設けられた層間絶縁膜と、
    前記層間絶縁膜に設けられ、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板と前記ＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクトホールと、
    を具備し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板は、窪み部を有し、前記窪み部は、前記コンタクトホールに沿って設けられており、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積、及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板の領域に対応する前記第３有機機能層の体積と、同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量、及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板に形成された窪み部に入り込む前記第３有機機能層の量より多いことにより、
    前記第１電極板上の前記窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記第２電極板上の前記窪み部以外の領域における前記第２有機機能層の膜厚、及び前記第３電極板上の前記窪み部以外の領域における前記第３有機機能層の膜厚より薄い、
    有機ＥＬ表示パネル。
12. 前記第１色は青色である、
    請求項１〜１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
13. 前記第３有機機能層は、電荷注入層、あるいは電荷輸送層のいずれかである、
    請求項１１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
14. 前記第３有機機能層は、有機発光層である、
    請求項１１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
15. 前記第１電極板及び前記第２電極板は陽極または陰極の一方であり、前記対向電極は陽極または陰極の他方である、
    請求項１〜１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネル。
16. 前記第１電極板、前記第２電極板及び前記第３電極板は陽極または陰極の一方であり、前記対向電極は陽極または陰極の他方である、
    請求項１１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
17. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルを備えた、
    表示装置。
18. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、
    を具備し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第２工程は、前記各第２電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第１工程の前に、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、 前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程と、を含み、
    前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程において、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板と前記ＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクトホールを当該層間絶縁膜に設け、
    前記第１工程で形成する各第１電極板及び前記第２工程で各第２電極板は、その一部が前記コンタクトホールの内面に沿って設けられることによって、各第１電極板及び各第２電極板には窪み部が形成され、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積より大きく、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積を、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量より多いことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄く形成される、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
19. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、
    を具備し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第２工程は、前記各第２電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部及び前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の形状は、上面の径が下面の径より大きい円錐台形形状であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の上面の径が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の上面の径より大きいことにより、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の体積より大きく、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積を、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量より多いことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄く形成される、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
20. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の下面の径は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の下面の径より大きい、
    請求項１９記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
21. 前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部の下面の径は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部の下面の径さ同一又は同一の近傍値の範囲内である、
    請求項１９記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
22. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、
    を具備し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第２工程は、前記各第２電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第１工程の後に、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成した前記窪み部を覆うように、第１画素規制層を形成する工程を設け、
    前記第２工程の後に、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成した前記窪み部を覆うように、第２画素規制層を形成する工程を設け、
    前記第６工程において、前記第１画素規制層の上方に前記第１有機機能層を形成し、
    前記第７工程において、前記第２画素規制層の上方に前記第２有機機能層を形成し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積より大きく、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積を、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量より多いことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄く形成される、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
23. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、
    を具備し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第２工程は、前記各第２電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第６工程において、前記第１有機機能層は、インクジェット式塗布方法により所定の体積の液滴により、前記第１電極板群の上方に連続して形成し、
    前記第７工程において、前記第２有機機能層は、インクジェット式塗布方法により前記所定の体積と同一体積の液滴により前記第２電極板群の上方に連続して形成し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積を、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内に形成し、
    前記第１有機機能層の膜厚又は前記第２有機機能層の膜厚は、前記インクジェット式塗布方法により前記所定の体積の液滴が塗布される場合、前記液滴がｎ滴塗布されることにより形成される膜厚と、前記液滴がｎ＋１滴塗布されることにより形成される膜厚との間の膜厚に形成し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積より大きく、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量より多いことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄く形成される、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
24. 前記第１工程で第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する前記窪み部の数は、前記第２工程で第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する前記窪み部の数より多く、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に設けられた前記窪み部の総数に入り込む前記第１有機機能層の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に設けられた前記窪み部の総数に入り込む前記第２有機機能層の体積より多い、
    請求項１８記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
25. 前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層は、電荷注入層、あるいは電荷輸送層のいずれかである、
    請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
26. 前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層は、有機発光層である、
    請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
27. 前記第１電極板及び前記第２電極板は陽極であり、前記対向電極は陰極である、
    請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
28. 前記第１電極板及び前記第２電極板は陰極であり、前記対向電極は陽極である、
    請求項１８〜２４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
29. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群と隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第２電極板群と隣接して、第３色用の第３電極板をライン状に複数配列して第３電極板群を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第４工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第５工程と、
    前記第２電極板群及び第３電極板群における互いに隣接する縁に沿って第３隔壁を形成する第６工程と、
    前記第３電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第４隔壁を形成する第７工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第８工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第９工程と、
    前記第３隔壁と前記第４隔壁との間に沿って前記第３電極板群の上方に連続して第３有機機能層を形成する第１０工程と、
    前記第１有機機能層、前記第２有機機能層及び前記第３有機機能層の上方に対向電極を形成する第１１工程と、
    を具備し、
    前記第１工程で形成する各第１電極板、前記第２工程で形成する各第２電極板、並びに前記第３工程で形成する各第３電極板は窪み部を有し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第２工程は、前記各第２電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第３工程は、前記各第３電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第１工程の前に、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、 前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程と、を含み、
    前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程において、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板とＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクトホールを当該層間絶縁膜に設け、
    前記第１工程で形成する各第１電極板、前記第２工程で形成する各第２電極板及び前記第３工程で形成する各第３電極板は、その一部が前記コンタクトホールの内面に沿って設けられることによって、各第１電極板、各第２電極板及び下記第３電極板には窪み部が形成され、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成する窪み部の体積は、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成する窪み部の体積及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板に形成する窪み部の体積より大きく形成し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板の領域に対応する前記第１有機機能層の体積を、前記第２電極板群に含まれる各第２電極板の領域に対応する前記第２有機機能層の体積及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板の領域に対応する前記第３有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内に形成し、
    前記第１有機機能層の膜厚を、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に入り込む前記第１有機機能層の量が前記第２電極板群に含まれる各第２電極板に形成された窪み部に入り込む前記第２有機機能層の量及び前記第３電極板群に含まれる各第３電極板に形成された窪み部に入り込む前記第３有機機能層の量より多いことにより、前記窪み部以外の前記第１電極板上の領域において、前記窪み部以外の前記第２電極板上の領域の前記第２有機機能層及び前記第３電極板上の領域の前記第３有機機能層の膜厚より薄く形成する、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
30. 前記第１色は青色である、
    請求項１８〜２９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
31. 前記第１有機機能層、前記第２有機機能層及び前記第３有機機能層は、電荷注入層、あるいは電荷輸送層のいずれかである、
    請求項２９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
32. 前記第１有機機能層、前記第２有機機能層及び前記第３有機機能層は、有機発光層である、
    請求項２９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
33. 前記第１電極板、前記第２電極板及び前記第３電極板は陽極であり、前記対向電極は陰極である、
    請求項２９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
34. 前記第１電極板、前記第２電極板及び前記第３電極板は陰極であり、前記対向電極は陽極である、
    請求項２９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
35. 第１色用の第１電極板をライン状に複数含む第１電極板群と、
    前記第１電極板群に隣接して形成され第２色用の第２電極板をライン状に複数含む第２電極板群と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って形成された第１隔壁と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って形成された第２隔壁と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って形成された第３隔壁と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に形成された第１有機機能層と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に形成された第２有機機能層と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に設けられた対向電極と、
    前記第１電極板群の下方に設けられたＴＦＴ層と、
    前記第１電極板群と前記ＴＦＴ層との間に設けられた層間絶縁膜と、
    前記層間絶縁膜に設けられ、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板と前記ＴＦＴ層とを接続する配線を配置するコンタクトホールと、
    を具備し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板は、窪み部を有し、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板群に設けられた前記窪み部は、前記コンタクトホールに沿って設けられており、
    前記各第１電極板上の前記第１有機機能層の体積は、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚は、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄い、
    有機ＥＬ表示パネル。
36. 第１色用の第１電極板をライン状に複数配列した第１電極板群を形成する第１工程と、
    前記第１電極板群に隣接して、第２色用の第２電極板をライン状に複数配列した第２電極板群を形成する第２工程と、
    前記第１電極板群における第２電極板群と反対側の縁に沿って第１隔壁を形成する第３工程と、
    前記第１電極板群及び第２電極板群における互いに隣接する縁に沿って第２隔壁を形成する第４工程と、
    前記第２電極板群における第１電極板群と反対側の縁に沿って第３隔壁を形成する第５工程と、
    前記第１隔壁と前記第２隔壁との間に沿って前記第１電極板群の上方に連続して第１有機機能層を形成する第６工程と、
    前記第２隔壁と前記第３隔壁との間に沿って前記第２電極板群の上方に連続して第２有機機能層を形成する第７工程と、
    前記第１有機機能層及び前記第２有機機能層の上方に対向電極を形成する第８工程と、を具備し、
    前記第１工程は、前記各第１電極板に窪み部を形成する工程を含み、
    前記第１工程の前に、基板を準備する工程と、前記基板上にＴＦＴ層を形成する工程と、前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程と、を含み、
    前記ＴＦＴ層上に層間絶縁膜を形成する工程において、前記第１電極板群に含まれる各第１電極板と前記ＴＦＴ層とを接続する配線を配置する複数のコンタクトホールを当該層間絶縁膜に設け、
    前記第１工程で形成する各第１電極板は、その一部が前記コンタクトホールの内面に沿って設けられることによって、各第１電極板には窪み部が形成され、
    前記第６工程で形成する前記第１有機機能層の体積は、前記第７工程で形成する前記第２有機機能層の体積と同一又は同一の近傍値の範囲内であり、
    前記第１電極板群に含まれる各第１電極板に形成された窪み部に前記第１有機機能層の一部が入り込むことにより、当該窪み部以外の領域における前記第１有機機能層の膜厚が、前記各第２電極板上の前記第２有機機能層の膜厚より薄く形成される、
    有機ＥＬ表示パネルの製造方法。

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