JP5524539B2 - Clean stocker - Google Patents
Clean stocker Download PDFInfo
- Publication number
- JP5524539B2 JP5524539B2 JP2009195907A JP2009195907A JP5524539B2 JP 5524539 B2 JP5524539 B2 JP 5524539B2 JP 2009195907 A JP2009195907 A JP 2009195907A JP 2009195907 A JP2009195907 A JP 2009195907A JP 5524539 B2 JP5524539 B2 JP 5524539B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- air
- outside air
- wind speed
- clean stocker
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 67
- 230000004087 circulation Effects 0.000 claims description 42
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 30
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 12
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 claims description 8
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 9
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 8
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 5
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000873785 Homo sapiens mRNA-decapping enzyme 1A Proteins 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 102100035856 mRNA-decapping enzyme 1A Human genes 0.000 description 1
- 230000008531 maintenance mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は、ケミカルフィルタを内蔵したクリーンストッカの改良に関する。 The present invention relates to an improvement of a clean stocker incorporating a chemical filter.
半導体やLCDパネル等の製造プロセスにおいては、微粒子や化学物質の除去を行うための清浄装置が広く使用されている。
このような清浄空間(クリーンルーム)内において、たとえば、半導体、例えば鏡面ウェハから高集積4〜16G(ギガ)DRAMチップを製造するまでに至る半導体製造ラインは約200程度の工程がある。同様に液晶パネルの製造ラインにおいても80行程程度のステップがあり、これらの製造ラインにおいて,ウェハやガラス基板について、全行程を連続的に全て一度に実行することは難しい。
そこで、途中の行程まで加工が済んだ半製品は、後工程に移送されるまでに数時間〜数十時間を保管庫(クリーンストッカ)内にて,清浄装置雰囲気に曝しながら待機させている。
In manufacturing processes for semiconductors, LCD panels, and the like, cleaning devices for removing fine particles and chemical substances are widely used.
In such a clean space (clean room), for example, a semiconductor production line from a semiconductor, for example, a mirror wafer to a highly integrated 4-16G (giga) DRAM chip, has about 200 steps. Similarly, there are about 80 steps in the liquid crystal panel production line, and in these production lines, it is difficult to execute all the steps continuously for a wafer and a glass substrate all at once.
Therefore, the semi-finished product that has been processed up to the middle of the process is kept waiting for several hours to several tens of hours in the storage (clean stocker) while being exposed to the purifier atmosphere before being transferred to the subsequent process.
このような保管庫として、従来から利用されているものの一例として、特許文献1に記載のものがある。
このウエハストッカは、循環風路が送風手段を有しつつ、実質的に密閉状態とされるか又は一部が外気すなわち、ストッカ設置環境空気と置換されるものであり、外部への気体の排出量が少ないため、クリーンルーム内に置かれた場合に、その内部の気流を乱して、外部に悪影響を与えることが少ない。また、循環気体中の微粒子を除去する微粒子除去部と、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染物質除去部とが介在する循環風路にウェハの収納部を設けてあるため、微粒子除去と化学汚染物質除去とを行うことができるというものである。
As an example of such a storage that has been conventionally used, there is one described in
In this wafer stocker, the circulation air passage has air blowing means and is substantially sealed or partially replaced with outside air, that is, stocker installation environment air, and discharge of gas to the outside. Since the amount is small, when it is placed in a clean room, it disturbs the airflow inside and rarely adversely affects the outside. In addition, since the wafer storage section is provided in the circulation air passage where the particulate removal section for removing particulates in the circulating gas and the chemical contaminant removal section for removing chemical contaminants in the circulating gas are provided, the particulate removal is performed. And chemical contaminant removal.
特に、特許文献1のウエハストッカは、小容積の実質的に密封とされた空間内に循環風路を形成したものであることから、循環風量を小さくして(循環風速を従来クリーンルーム内のHEPA、ULPAフィルタの標準である0.5m/sに対し0.2m/s以下)として、フィルタとの接触時間を長くすることを特徴としており、このため、汚染物の除去効果は極めて大きいものとされている。
さらに、外気と庫内空気との置換を、制限された容量だけにとどめ、循環路内の冷却装置により循環気体の温度上昇を抑制する温度維持機構を備えるため、活性炭フィルタに対する有機物の吸着能力は安定する。このことにより、吸着除去能力に低下をきたすことがない。その結果、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性を良好にすることができるというものである。
In particular, since the wafer stocker disclosed in
Furthermore, the ability to adsorb organic matter to the activated carbon filter is provided because it has a temperature maintenance mechanism that suppresses the increase in the temperature of the circulating gas by the cooling device in the circulation path while limiting the replacement of the outside air with the air inside the cabinet. Stabilize. As a result, the adsorption / removal ability is not lowered. As a result, there is little turbulence in the air current in the clean room, and it is possible to effectively prevent internal chemical contamination and improve the device characteristics of the product.
しかしながら、半導体製品や液晶等の高密度化、高精度化に伴い、その製造プロセスにおいて、いままでの粒子状汚染物質や金属イオン物質の他に、ガス状(分子状)汚染物質の制御管理が重要となってきた。
とりわけ、ガス状(分子状)汚染物質の汚染に関しては、外気に混入しているものだけでなく、特に、ストッカ庫内の保管物に由来するものが特に問題とされる。
However, along with higher density and higher precision of semiconductor products and liquid crystals, in addition to the conventional particulate pollutants and metal ion substances, the control management of gaseous (molecular) pollutants has become possible. It has become important.
In particular, regarding contamination with gaseous (molecular) contaminants, not only those contaminated with the outside air, but particularly those originating from the stored items in the stocker cabinet are particularly problematic.
すなわち、ストッカ内に収納保管するものの種類によって、様々な化学物質が庫内に発生し、これを効率的に除去する必要がある。
たとえば、レチクルを収納保管する場合レチクル単体保存と搬送システムと連動したレチクル専用の保存容器(RSP:Reticle SMIF Pod)を収納する方法があり、現在は大半が後者のRSPを用いている。RSPは樹脂成形したものであり、庫内に入れるとRSP自体から有機系ガス成分が生成され、これらの濃縮化で内部ガス状(分子状)汚染の弊害がある。その他、ウエハキャリア又はキャリアボックス等を収納する場合においても、レチクルの場合と同様に自らの構成物から有機系等のガス成分が生成され、ガス状(分子状)汚染の弊害が生じる。
That is, various chemical substances are generated in the warehouse depending on the type of materials stored and stored in the stocker, and it is necessary to efficiently remove them.
For example, when storing and storing a reticle, there is a method of storing a reticle storage container (RSP: Reticle SMIF Pod) linked with a single reticle storage and a transport system, and most of them currently use the latter RSP. The RSP is a resin-molded product, and when it is put in the cabinet, an organic gas component is generated from the RSP itself, and the concentration of these components has the adverse effect of internal gaseous (molecular) contamination. In addition, when a wafer carrier, a carrier box, or the like is stored, gas components such as organic substances are generated from its own constituents as in the case of the reticle, which causes a harmful effect of gaseous (molecular) contamination.
この場合、特許文献1のように化学物質汚染除去部を設けて、ケミカルフィルタを配置しても、導入空気の汚染を除去するのと異なり、庫内にて発生する化学物質を除去しなければならないため、従来構造では効率よく除去して、収納物を清浄に保持することが難しい。
In this case, even if a chemical substance decontamination section is provided as in
本発明は、コンパクトなストッカ庫内に収納した保管物の種類にかかわらず、該収納物を確実に清浄に保管できるようにしたクリーンストッカを提供することを目的としている。 An object of the present invention is to provide a clean stocker capable of reliably storing a stored item regardless of the type of stored item stored in a compact stocker warehouse.
上記目的を達成するため、本発明は、外気導入部からの外気導入量を調整して実質的に陽圧の密閉空間となるように閉鎖された空間内に、加工前もしくは加工後の精密加工材料である保管物を収納する収納部を有するクリーンストッカであって、送風手段と、該送風手段により送られる空気により形成される循環風路と、該循環風路中に配置される前記収納部と、塵埃除去フィルタおよび化学物質除去フィルタを含む汚染除去部とを備えており、前記化学物質除去フィルタの汚染除去効率が高い範囲で、前記送風手段により生成される風速がもっとも高くなるように構成したことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention provides a precision machining before or after machining in a closed space so as to be a substantially positive pressure sealed space by adjusting the amount of outside air introduced from the outside air introduction part. A clean stocker having a storage portion for storing stored material as a material, wherein a blowing means, a circulating air passage formed by air sent by the blowing means, and the storage portion arranged in the circulating air passage And a decontamination unit including a dust removal filter and a chemical substance removal filter, and configured so that the wind speed generated by the blowing means is highest in a range where the decontamination efficiency of the chemical substance removal filter is high. It is characterized by that.
上記構成によれば、空間内(庫内)を陽圧に維持しているので、外部の汚染された空気の侵入を防止できる。
収納部に保管されたレチクル等の精密加工材料は、塵埃除去フィルタを通って細かいチリや埃が除かれるだけでなく、化学物質除去フィルタによって、汚染源となる化学物質も除去される。
しかも庫内で循環風路を形成する前記送風手段は、前記化学物質除去フィルタの汚染除去効率が高い範囲で、風速がもっとも高くなるようにされているので、単位時間当たり多数の循環回数で庫内空気がフィルタを通過することになる。この点が本発明の最も大きな特徴であり、通常は風速(面風速=空間速度=Line Velocity=LV=単位:m/s)を下げるほど、空気のフィルタに対する接触時間が長くなり、汚染物の除去量が多くなると考えられる。
しかしながら、本発明者らの知見によれば、保管収容物自体が化学物質の汚染源となる場合には、風速が遅いと、庫内における新たに生成された汚染物の除去が間に合わなくなり、一方、化学物質除去用フィルタにおいては、所定の面風速を超えると汚染物の除去効率が目立って向上しなくなることが見出された。このことから、庫内に収容保管物質自体から汚染源となる化学物質が生成される場合には、むしろ、フィルタの汚染部除去効率が極端に低くならない程度であれば、できだけ速い面風速となるように循環風路の風速を決定すべきであるという従来の常識(上記特許文献1の記載参照)を覆す手法を見出すことができたものである。
すなわち、風速を早くして、これにより、庫内で新しく生成される化学物質は、生成されると同時にフィルタにより除去されるようにして庫内を清浄に保つことが実現される。
ここで、言うまでもなく、保管される物の種類により生成される化学物質は異なるし、使用されるフィルタの組成や厚みにより除去効率と面風速の関係が変化するのは当然であるから、使用フィルタ等の条件に適合させて面風速を決定する。要するに、フィルタの除去効率の許容範囲で、従来の常識に反して、速い面風速を選択して、循環風路におけるフィルタ通過回数を多くするようにすることが重要である。
According to the said structure, since the inside of space (inside of a store | warehouse | chamber) is maintained at the positive pressure, the penetration | invasion of the outside contaminated air can be prevented.
The precision processing material such as a reticle stored in the storage portion not only removes fine dust and dust through the dust removal filter, but also removes a chemical substance that becomes a contamination source by the chemical substance removal filter.
In addition, the air blowing means that forms the circulation air passage in the warehouse is designed to have the highest wind speed in the range where the decontamination efficiency of the chemical substance removal filter is high. The internal air passes through the filter. This point is the most significant feature of the present invention. Normally, the lower the wind speed (surface wind speed = space velocity = Line Velocity = LV = unit: m / s), the longer the contact time of air with the filter, It is thought that the removal amount increases.
However, according to the knowledge of the present inventors, when the storage container itself becomes a contamination source of chemical substances, if the wind speed is slow, removal of newly generated contaminants in the warehouse will not be in time, In the chemical substance removal filter, it has been found that the removal efficiency of contaminants is not remarkably improved when a predetermined surface wind speed is exceeded. From this, when chemical substances that are the source of contamination are generated from the stored material itself in the warehouse, rather, the surface wind speed is as fast as possible if the contaminated part removal efficiency of the filter does not become extremely low. Thus, it was possible to find a technique that overturns the conventional common sense that the wind speed of the circulation air passage should be determined (see the description in Patent Document 1).
That is, by increasing the wind speed, it is possible to keep the inside of the warehouse clean so that newly generated chemical substances in the warehouse are generated and simultaneously removed by the filter.
Here, it goes without saying that the chemical substances produced differ depending on the type of the stored item, and it is natural that the relationship between the removal efficiency and the surface wind speed changes depending on the composition and thickness of the filter used. The surface wind speed is determined according to the above conditions. In short, it is important to select a fast surface wind speed and increase the number of times the filter passes through the circulation air path in the allowable range of the filter removal efficiency, contrary to conventional common sense.
好ましくは、前記送風手段の最大風速が秒速0.2mを超え、0.7m未満となるように構成したことを特徴とする。
上記構成によれば、最大風速を秒速0.2m以下としても、ほとんどの化学物質除去フィルタにおいて、除去効率は目立って向上しないことが見出されている。一方、風速をそれより早くして、循環風路における循環回数を増やす構成とすることで、保管物自体から化学物質が生成される場合には、循環風路を通る空気を繰り返し清浄化できるから好ましい。ただし、所定の化学物質除去フィルタでは、風速が0.7m/sを下回ると、フィルタの汚染物除去効率が極端に悪化して好ましく無く、またフィルタ圧力損失も増大して上手な使い方ではない。
Preferably, the maximum air velocity of the air blowing means is configured to exceed 0.2 m / second and less than 0.7 m.
According to the above configuration, it has been found that even when the maximum wind speed is 0.2 m or less per second, the removal efficiency is not significantly improved in most chemical substance removal filters. On the other hand, by making the wind speed faster and increasing the number of circulations in the circulation air path, when chemical substances are generated from the stored material itself, the air passing through the circulation air path can be repeatedly cleaned. preferable. However, in the predetermined chemical substance removal filter, if the wind speed is less than 0.7 m / s, the contaminant removal efficiency of the filter is extremely deteriorated, which is not preferable, and the filter pressure loss increases, which is not a good usage.
好ましくは、前記循環風路の循環回数が、毎時50回ないし60回となるように構成したことを特徴とする。
上記構成によれば、循環回数が毎時50回より少ないと、保管物の種類によっては、庫内の化学物質による汚染が十分に防止できない。循環回数が毎時60回を超えると、送風ファンの回転数増加に伴う熱の発生により保管物の種類によっては悪影響がある。
Preferably, the circulation air passage is configured to be circulated 50 to 60 times per hour.
According to the above configuration, if the number of circulations is less than 50 times per hour, depending on the type of stored items, contamination by chemical substances in the warehouse cannot be sufficiently prevented. If the number of circulations exceeds 60 times per hour, there is an adverse effect depending on the type of stored items due to the generation of heat accompanying the increase in the rotational speed of the blower fan.
好ましくは、前記外気導入部における外気導入量は、庫内圧力が2.5ないし4.5Pa(パスカル)を維持するように調整されることを特徴とする。
上記構成によれば、庫内圧力を2.5Paより小さくすると、外気の進入による汚染を十分に防げない。庫内圧力を4.5Paより高くすると汚染された外気の取込量が増え、ストッカ内のケミカルフィルタの負荷が増えたり、ストッカ内の清浄度維持ができないという不都合がある。
Preferably, the amount of outside air introduced in the outside air introduction section is adjusted so that the internal pressure is maintained at 2.5 to 4.5 Pa (Pascal).
According to the above configuration, if the internal pressure is less than 2.5 Pa, contamination due to the entry of outside air cannot be sufficiently prevented. If the internal pressure is higher than 4.5 Pa, the amount of contaminated outside air taken in increases, increasing the load on the chemical filter in the stocker and maintaining the cleanliness in the stocker.
好ましくは、前記外気導入部における外気導入量は、庫内温度が外気温より高くなってもその差が1.4ないし2.0度(摂氏)以下となるように調整されることを特徴とする。
上記構成によれば、送風ファンの回転数増加に伴う熱の発生により庫内温度が外気温より高くなるが、温度上昇が1.4ないし2.0度を超えると、保管物の種類によっては悪影響がある。
Preferably, the outside air introduction amount in the outside air introduction section is adjusted so that the difference is 1.4 to 2.0 degrees (Celsius) or less even when the inside temperature is higher than the outside temperature. To do.
According to the above configuration, the internal temperature becomes higher than the outside air temperature due to the generation of heat accompanying the increase in the rotational speed of the blower fan, but if the temperature rise exceeds 1.4 to 2.0 degrees, depending on the type of stored items There is an adverse effect.
好ましくは、前記送風手段が、インバータ制御の送風ファンであることを特徴とする。
上記構成によれば、通常の商用交流電源を用いても省電力で自由な回転数制御を実現することができる。
Preferably, the blower means is an inverter-controlled blower fan.
According to the above configuration, it is possible to realize power saving and free rotational speed control even when a normal commercial AC power supply is used.
好ましくは、前記汚染除去部には、酸性、アルカリ性、有機系のガス成分を除去するそれぞれ専用の化学物質除去フィルタを複数多段積層配置したことを特徴とする。
上記構成によれば、多種類のもしくは汚染度の高い化学物質汚染に対応することができる。
Preferably, the decontamination section is provided with a plurality of multi-stage stacked chemical substance removal filters dedicated to removing acidic, alkaline, and organic gas components.
According to the above configuration, it is possible to deal with various types of chemical contamination with high contamination levels.
好ましくは、前記外気導入部には、プレフィルタが設置され、該プレフィルタとして複数の多段積層化学物質除去フィルタを配置したことを特徴とする。
上記構成によれば、外気に多種類の化学物質が存在しても庫内の汚染を有効に防止することができる。
Preferably, a pre-filter is installed in the outside air introduction section, and a plurality of multi-layer stacked chemical substance removal filters are arranged as the pre-filter.
According to the said structure, even if many types of chemical substances exist in external air, the contamination in a store | warehouse | chamber can be prevented effectively.
好ましくは、前記収納部には、前記保管物として板状の部品を上下に開口したオープン棚板により保持する構成としたことを特徴とする。
上記構成によれば、収納されている前記精密加工材料の大部分の表面積に清浄空気を接触させて、より清浄に保持することができる。
Preferably, the storage unit is configured to hold a plate-like component as the stored item by an open shelf plate opened up and down.
According to the above configuration, clean air can be brought into contact with the surface area of the majority of the precision-processed material accommodated so as to be kept more clean.
以上説明したように、本発明によれば、コンパクトなストッカ庫内に収納した保管物の種類にかかわらず、該収納物を確実に清浄に保管できるようにしたクリーンストッカを提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a clean stocker capable of securely storing stored items regardless of the type of stored items stored in a compact stocker cabinet.
以下、本発明の好適な実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms.
図1および図2は、本発明の実施形態に係るクリーンストッカ(以下、「ストッカ」とい)を示しており、図1はその概略正面図、図2はその内部を示す概略断面図である。
図1に示すように、ストッカ10は、例えば、全体として縦長の直方体をなす箱状の収納庫であって、本体11は、例えばステンレス鋼板等によりきわめて高い気密性をそなえるように形成されている。図示されているように、正面には、たとえば観音開きの大きな扉12,12により口述する収納部を開閉できるようにされており、その下部には外気を取り込むための外気導入口13が設けられている。
1 and 2 show a clean stocker (hereinafter referred to as “stocker”) according to an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a schematic front view thereof, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the inside thereof.
As shown in FIG. 1, the
外気導入口13には複数のスリット型開口が形成されており、可動シャッタにより開口面積を調整できるようになっている。扉12,12の情報には、庫内の空気を排出ための空気排出口27が設けられており、可動シャッタにて排出量を調整できるようにされている。
なお、扉12,12は耐震扉とされおり、振動検知センサ(図示せず)により一定の揺れを検知すると、ロックされ開くことがないようにされており、地震発生などにより本体11が激しく振動し、その結果扉12,12が開いて、収納部の保管物が外部に落ちることがないようにされている。
また、扉12,12は図1のように大扉とせずに、収納時に扉12を開けることにより設置環境のクリーンルームの汚染空気が混入しないように複数または多数に分割された収納部を、例えば棚ごとに個別に開閉する扉としてもよい。
A plurality of slit-type openings are formed in the
Note that the
In addition, the
図2に示すように本体11の四隅には支持脚14,14が設けられており、キャスター15と組合わされた自在可変重量キャスターとされている。
また、本体11の内部である庫内には矢印に示すように縦方向に送られ、横方向には広範囲で扉12の方向へ流れる循環風路が形成されている。
この循環風路は、本体11の下部に形成した空間である下部循環部23の奥側に配置された送風ファン34により形成されるようになっている。すなわち、実質的に閉鎖空間とされた気密の空間である本体11の内部において、その下部から送風口を上方に向けて、送風ファン34が配置されている。送風ファンは、インバータ制御されるものが好ましくは、循環風路の風速がフィルタを通過するときに所定の面風速となるように制御されるものである。送風ファン34をインバータ形式にすることにより、電源である通常の商用交流電源からの交流電流を、いわゆるVVVF(Variable Voltage Variable Frequency)制御、すなわち可変電圧可変周波数制御して利用することができる。例えば、本体11の外部電源から導かれた交流電流をトランスで電圧変換(昇圧)し、交流―直流変換し、さらに、直流―交流変換の際に、所定の回転数に適合した三相交流電流を生成して送風ファンの三相モータ(図示せず)に与えることができる(図示せず)。
As shown in FIG. 2, support
In addition, a circulation air passage that is sent in the vertical direction as indicated by an arrow and flows in the horizontal direction in the direction of the
This circulation air path is formed by a
送風ファン34の上方には、本体11の背面部に相当する空間を形成することで背面循環部24が設けられている。送風ファン34から送られる空気は、ストッカ10の内側背面壁の壁面に沿って背面循環部24を上昇し(背面流)ながら、矢印Aに示すように、ストッカ10の扉の方向(前面の方向)へ広範囲に送られる。
ストッカ10の内部にはその背面に近接して、汚染除去部としてのフィルタ部33が設けられており、矢印Aに示す空気は、このフィルタ部33に送られる。フィルタ部33は、塵埃除去フィルタ31と、ケミカルフィルタ(化学物質除去フィルタ)部32とを含んでいる。
Above the
Inside the
このストッカ10では、微細な塵や埃だけでなく循環風路において、化学汚染物質を効率的に除去することを特徴としており、フィルタ部33では、例えば、1段の塵埃除去フィルタ31と、例えば酸性、アルカリ性、有機系の3種の化学物質除去フィルタ32a,32b,32cを組み合わせて形成されている。また、庫内の清浄度の要求度に応じて、例えば同種ケミカルフィルタの複数を使用することも可能である。この実施形態では、フィルタ部33が上下に二組設けられている。
ここで、化学物質除去フィルタは、例えば、酸系ガス除去フィルタ32a、アルカリ性ガス除去フィルタ32b、有機系ガス除去フィルタ32cの3種類のケミカルフィルタを組み合わせることができる。
図5はケミカルフィルタ32aの構成を詳しく示すもので、後述する材質でなる濾材を構成するための濾紙または不織布等をジグザグ状に折り曲げて、限られた空間内でフィルタを通過する空気ができるだけ広い面積の濾材を通過するようにされている。
The
Here, the chemical substance removal filter can be a combination of three types of chemical filters, for example, an acid
FIG. 5 shows the structure of the
空間25はフィルタ部の出口付近に形成される循環部である。フィルタ部33を通過して浄化された空気は、この空間25に出る際にフィルタ部33の出口全体に対応して配置されたイオナイザ(徐電器)29により電荷を調整される。このようにして、塵埃及び化学物質が除去され、電荷が除去された清浄空気は収納部21に送られ、該収納部に保管されている保管物を表面を通ることで微細な塵や埃の付着が無いようになされ、かつ、保管物から生成される化学物質も除去されることになる。
The
この収納部21は、図1で説明した扉12,12に臨んで配置されており、本実施形態では、例えば、縦方向に多段とされた収納棚が設けられている。
収納部21は、例えば、図4に拡大して示すような収納棚41を多段配置している。この収納棚41は、図示するように、上向き段部41aと、上下に抜ける貫通孔ないし開口41bとを有するオープン棚板構成となっている。これにより、図示するような保管物45である全体として板状の、もしくは少なくとも下面または基部が板状の精密加工部品を上記上向き段部41aに載置して保持できるようになっている。
これにより、保管物45は、収納棚41に保持されながら、その外面の大部分を図2の矢印Bに示す清浄空気の気流にさらされる。この際に、空気Bは、保管物45の露出面である外表面の大部分を占める面積に接触し、その表面に塵埃が存在すれば、これを除去するだけでなく、該保管物に自体から生成される化学物質を除去する点が本実施形態の大きな特徴のひとつである。
The
In the
As a result, the stored
次に空気はストッカ10の前面循環部26の空間に導かれる。その気流は扉12に当たって下向きの循環流となる。すなわち、送風ファン34の吸込み側の負圧に引かれて、矢印Cに示すように、扉12の内面に沿って下向きの循環流となる。ここで、ストッカ10の上部では、前面循環部26に到達した一部の空気が空気排出口からの排出空気C1として外部に排出される。
Next, the air is guided to the space of the front circulation part 26 of the
図3は、ストッカの本体11の下部の内部構造を拡大して示している。
前面循環部26から導かれて下降する空気Cは、循環風量制御部51により風量を制御された空気Dとして、下部循環部23に導かれる。
この際、本実施形態では、循環風量制御部51は、例えば、3枚の閉止板51a,51b,51cを全面循環部26と下部循環部23の間の開口55に並列的に載置して構成することができ、該開口55について、これら閉止板の1枚または複数枚を加除することで、開口55の面積を変更することができるようになっている。
FIG. 3 shows an enlarged internal structure of the lower part of the
The air C that is guided and descends from the front circulation unit 26 is guided to the
At this time, in the present embodiment, the circulating air
図3に示すように、下部左端には、外気導入口13が設けられており、既に説明したように、外気導入口13には複数のスリット型開口が形成されており、可動シャッタ(図示せず)により開口面積を調整できるようになっている。このようにして、循環空気に外気を導入量を調整して導くことにより、送風ファン34の駆動による温度上昇を防止することができる。
外気導入口13の内側にはプレフィルタ35が配置されている。プレフィルタ35は好ましくは薄型の化学物質除去フィルタを複数層、この実施形態では3種3層配置して構成されている。
As shown in FIG. 3, an outside
A
以上の構成に基づいて、送風ファン34を以下のように回転制御するように構成した点に本実施形態の特徴がある。
ここで、図6は、送風ファン34の回転数に基づく循環風路において、空気がフィルタ部33を通過する際の面風速LVと、該フィルタ、特に化学物質除去フィルタ32が汚染物を除去する除去効率について示すグラフである。
図示されているように、面風速LVが遅いほど、通過空気がフィルタに触れている時間が長く、このため除去効率が高くなると考えられている。
このため、ストッカ10においても、送風ファンの回転速度を低くして、できるだけ遅い面風速LVとして循環風路を形成するとよいと考えられていた。
Based on the above configuration, the present embodiment is characterized in that it is configured to control the rotation of the
Here, FIG. 6 shows a surface air velocity LV when air passes through the
As shown in the figure, it is considered that the slower the surface wind speed LV, the longer the time during which the passing air is in contact with the filter, and the higher the removal efficiency.
For this reason, it has been considered that in the
このことは、上記特許文献1の明細書段落0013に、次のように述べられていることからもわかる。
「・・・しかも、循環風路が小容積の独立空間であるために、循環風量を小さくして接触時間を大きくすることができ、前記の除去効果は極めて大きいものとなる。例えば、循環風速を従来クリーンルーム内のHEPA、ULPAフィルタの標準である0.5m/sに対し0.2m/s以下であるために、上述の化学汚染物質を対象としたフィルタに対する気体の接触時間は倍以上とすることができる。更に、循環気体の温度上昇を抑制する温度維持機構を備えるため、活性炭フィルタに対する有機物の吸着能力は安定する。このことに40より、吸着除去能力に低下をきたすことがない。その結果、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、内部の化学物質による汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性を良好にすることができるウェハストッカを提供することができた。」
しかしながら、本発明者らの知見によれば、同様に、実質的に密閉空間としながらも、保管中に保管物自体から化学物質を生成するものを対象とすることを考慮すると、このような従前の常識を適用することは好ましくない。
例えば、ストッカ10に半導体製造用のフォトマスクに用いるレチクルを保管する場合、保管物であるレチクル保存容器からは有機系ガス成分等の化学物質が放出される。同様にウエハの場合には、ウエハキャリア等を保管する場合には有機系ガス成分等が放出され循環風路を汚染する。
This can also be understood from the fact that it is stated as follows in the paragraph 0013 of the specification of
“... Moreover, since the circulation air passage is an independent space having a small volume, the circulation air volume can be reduced and the contact time can be increased, and the removal effect is extremely large. Is 0.2 m / s or less compared to 0.5 m / s, which is the standard for HEPA and ULPA filters in conventional clean rooms, the gas contact time for the above-mentioned filter for chemical pollutants is more than doubled. Furthermore, since the temperature maintaining mechanism for suppressing the temperature rise of the circulating gas is provided, the adsorption ability of the organic matter to the activated carbon filter is stabilized. As a result, there is little turbulence in the clean room, and it is possible to effectively prevent contamination by internal chemical substances and improve the device characteristics of the product. That Wehasutokka were able to provide. "
However, according to the knowledge of the present inventors, in the same way, considering that the target is a substance that generates a chemical substance from the stored material itself during storage, although it is substantially a sealed space, It is not preferable to apply the common sense.
For example, when storing a reticle used for a photomask for semiconductor manufacturing in the
したがって、例えば、通風路中にフィルタを設置し、該フィルタを一度だけ通して空気を浄化する場合には、面風速LVは遅くてよいが、本実施形態のストッカ10のように、フィルタ部33を通過した後の空気が、保管物45自体から生成される化学物質に汚染されることを考えると、面風速LVが遅いほど循環風路の空気にこのような汚染の度合いが強くなる。
他方、図6のケミカルフィルタ、具体的には、例えば、酸系ガス処理フィルタのフィルタ汚染除去効率は、たしかに面風速LVが遅い程向上するが、面風速LVが0.2m/sを下回るとフィルタ効率のそれ以上の向上は殆ど望めない。この現象は、アルカリ性、有機系ガス除去フィルタの場合も同様の傾向を示す。
Therefore, for example, when a filter is installed in the ventilation path and the air is purified by passing the filter only once, the surface wind speed LV may be low, but the
On the other hand, the filter contamination removal efficiency of the chemical filter of FIG. 6, specifically, for example, an acid gas treatment filter is improved as the surface wind speed LV is lower, but when the surface wind speed LV is less than 0.2 m / s. Further improvement in filter efficiency can hardly be expected. This phenomenon shows the same tendency in the case of alkaline and organic gas removal filters.
面風速LVが0.2m/sから0.7m/sまでの間は、フィルタ効率の減少率はほぼ一定であるが、面風速LVが0.7m/sを超えると、急激にフィルタ効率は悪化する。
このことから、フィルタ効率の比較的良い範囲、すなわち、面風速LV0.20m/sを超えて、0.7m/sの範囲(aの範囲)になるように、送風ファン34を制御することにより、循環風路が繰り返しフィルタ部33を通過し、保管物45から新たに生じる化学物質を除去することが可能となり、フィルタ効率も上記ワンパス(一回通過、もしくは一回接触)と比べて、接触回数の積としてフィルタ効率の向上を実現できるものである。ここで、接触回数と通過回数は同義である。
そして、保管物による新たな化学物質生成量が比較的少ない場合には、bの範囲、すなわち、面風速LVが0.2m/sを超え0.35m/sの範囲を、保管物による新たな化学物質の生成量が比較的多い場合には、Cの範囲、すなわち、面風速LVが0.35m/sを超え0.7m/sの範囲を選択することが好ましい。
なお、図6の面風速LV数値0.35m/sの意義については以下で説明する。
When the surface wind speed LV is between 0.2 m / s and 0.7 m / s, the reduction rate of the filter efficiency is substantially constant. However, when the surface wind speed LV exceeds 0.7 m / s, the filter efficiency rapidly increases. Getting worse.
Therefore, by controlling the
When the amount of new chemical substances generated by the stored item is relatively small, the range of b, that is, the range where the surface wind speed LV exceeds 0.2 m / s and 0.35 m / s is newly set by the stored item. When the amount of chemical substances generated is relatively large, it is preferable to select the range of C, that is, the range where the surface wind speed LV exceeds 0.35 m / s and is 0.7 m / s.
The significance of the surface wind speed LV value of 0.35 m / s in FIG. 6 will be described below.
庫内の化学物質による汚染を抑制し、清浄度を向上させるためには、面風速LVを速くして接触回数を増加すればよいが、面風速LVを速くするために送風ファン34の回転を上げるとその分、モータの回転数増加に起因して、庫内温度が高くなる。送風ファン34の回転を高めても、庫内温度の過度な上昇を防止するためには、外気を導入する必要がある。外気導入は、庫内を陽圧に保持するためにも必要である。
そこで、図7、図8を用いてこれらの関係を説明し、適切な面風速、接触回数を検討する。
In order to suppress contamination by chemical substances in the chamber and improve the cleanliness, the surface wind speed LV may be increased to increase the number of contacts. However, in order to increase the surface wind speed LV, the
Therefore, these relationships will be described with reference to FIG. 7 and FIG. 8, and appropriate surface wind speeds and contact counts will be examined.
なお、ここでは、化学汚染の原因となるガス成分として、酸性、アルカリ性、有機系の各ガス成分が考えられるが。本実施形態では、このうちの有機系ガス成分によるストッカ庫内汚染を対象として庫内総有機系ガス量=TOC(単位:μg/m3)を用いるものとする。
図7のグラフはストッカ設置方法や内部発ガスが比較的高いケースの場合にて算出した例で、左縦軸に上記したTOC、右縦軸にフィルタユニット面風速LV、横軸に接触(通過)回数(回/時間)と、それに対応した風量(m3/分)を表したもので、一点鎖線が(最大)除去効率90パーセントのフィルタを用いた場合、△の曲線が(最大)除去効率70パーセントのフィルタを用いた場合、直線Wは面風速(LV)を示している。図示されているように、面風速LVの増加に比例して接触回数も増加していることが理解される。
図8は左縦軸に温度上昇、すなわち温度差(摂氏)を、右縦軸に庫内圧力(単位:Pa=パスカル)を表し、横軸は外気導入量(m3/分)示したものである。
Here, acidic, alkaline, and organic gas components can be considered as gas components that cause chemical contamination. In this embodiment, the total organic gas amount in the warehouse = TOC (unit: μg / m 3 ) is used for the contamination in the stocker due to the organic gas components.
The graph in FIG. 7 is an example calculated in the case of a stocker installation method or a case where the internal gas generation is relatively high. The TOC described above is on the left vertical axis, the wind speed LV of the filter unit surface on the right vertical axis, and the contact (passage) on the horizontal axis. ) Expresses the number of times (times / hour) and the corresponding air volume (m 3 / min). When using a filter with a dash-dot (maximum) removal efficiency of 90 percent, the Δ curve is (maximum) removed. When a filter with an efficiency of 70 percent is used, the straight line W indicates the surface wind speed (LV). As shown in the figure, it is understood that the number of times of contact increases in proportion to the increase in the surface wind speed LV.
In FIG. 8, the left vertical axis represents the temperature rise, that is, the temperature difference (degrees Celsius), the right vertical axis represents the internal pressure (unit: Pa = Pascal), and the horizontal axis represents the outside air introduction amount (m 3 / min). It is.
ここで、庫内総有機系ガス量=TOC(単位:μg/m3)(以下、「TОC」という)の許容レベルを約1000ないし2000程度に設定する。
勿論、面風速LVを早くして、接触回数を多くした方がその分清浄度は向上するが、後述するようにその分だけモータの回転数増加に起因する庫内温度上昇の問題があるだけでなく、フィルタの寿命が早くなり、頻繁な交換が必要となってしまう。
Here, the allowable level of the total organic gas amount in the warehouse = TOC (unit: μg / m 3) (hereinafter referred to as “TOC”) is set to about 1000 to 2000.
Of course, if the surface wind speed LV is increased and the number of contacts is increased, the degree of cleanliness is improved accordingly. However, as will be described later, there is a problem of an increase in the internal temperature due to an increase in the number of rotations of the motor. In addition, the filter life is shortened and frequent replacement is required.
これらを考慮すると、図7はでは、面風速LVは、図6で説明した0.2m/sよりも遅いだけでなく、好ましくは、0.3m/s程度を下限とする(S1)。この条件で、フォルタとの接触回数を、毎時50ないし60回(プラスマイナス1,2回程度)であると、この場合、(最大)除去効率90パーセントのフィルタを用いた場合(K2)に、TОCは約1000程度ときわめて低く、たとえば(最大)除去効率70パーセントのフィルタを用いた場合(K1)にもTОCは、約2000程度と十分に低い値を確保できる。
そして、面風速LV0.3m/sで、(最大)除去効率90パーセントフィルタの用いた場合(K2)には、TОCは1000をやや超えた程度と低くなる。
なお、接触回数の50ないし60回/時間は、この技術の性質上、1回ないし2回程度の相違が、作用効果との相関に直接影響を及ぼすものではないことは常識的に理解されるものである。
In consideration of these, in FIG. 7, the surface wind speed LV is not only slower than 0.2 m / s described in FIG. 6, but preferably has a lower limit of about 0.3 m / s (S1). Under this condition, when the number of contact with the filter is 50 to 60 times per hour (about plus or
When the surface wind speed is LV 0.3 m / s and the (maximum) removal efficiency 90% filter is used (K2), TOC is as low as slightly exceeding 1000.
It should be noted that the contact frequency of 50 to 60 times / hour does not directly affect the correlation between the effect and the effect because of the nature of this technique. Is.
また、面風速LVを可能な範囲で理想的に低くした値としては、0.35m/s程度である(S2)。この時、(最大)除去効率70パーセントのフィルタを用いた場合(K1)で、TОCは1500をやや上回る程度である。(最大)除去効率90パーセントのフィルタ(K2)では、TОCが1000未満と、きわめて清浄な庫内環境を実現することができる。 Moreover, the value which made surface wind speed LV ideally low in the possible range is about 0.35 m / s (S2). At this time, when a filter with a (maximum) removal efficiency of 70% is used (K1), TOC is slightly higher than 1500. With the filter (K2) having a (maximum) removal efficiency of 90 percent, a very clean internal environment with TOC of less than 1000 can be realized.
図8に示すように、外気導入による庫内温度上昇Tと庫内圧力Qについては、負の相関がある。つまり、外気導入量が増加するほど、庫内温度は上記したようにモータ回転数の増加に起因して上昇し、温度差としてのTは下がる。そして庫内の圧力Qは上昇する。
ここで、外気導入量は、外気導入口13からの外部空気導入量AI−空気排出口27の空気排出量AOにより求められる(図2参照)。
図8において、外気導入量が2,0(m3/分)程度から、2.7(m3/分)程度に調整される範囲ARで、庫内温度上昇Tは、2.0度(T1)から1.4度程度(T2)まで変化し、同時に、庫内圧力Qは、2.5Pa程度(Q1)から4,5Pa(Q2)程度まで変化する。
As shown in FIG. 8, the internal temperature rise T and the internal pressure Q due to the introduction of outside air have a negative correlation. That is, as the outside air introduction amount increases, the internal temperature rises due to the increase in the motor rotation number as described above, and T as the temperature difference decreases. And the pressure Q in a store | warehouse | chamber rises.
Here, the outside air introduction amount is obtained from the outside air introduction amount AI from the outside air introduction port 13-the air discharge amount AO of the air discharge port 27 (see FIG. 2).
In FIG. 8, the inside temperature rise T is 2.0 degrees (T1) in the range AR in which the outside air introduction amount is adjusted from about 2,0 (m3 / min) to about 2.7 (m3 / min). The internal pressure Q changes from about 2.5 Pa (Q1) to about 4,5 Pa (Q2).
したがって、ストッカ10においては、保管物等の種類により、あるいは選定できるフィルタの種類(最大除去効率)等について図6ないし図8で明らかにされた原理に基づいて、接触回数その他の条件を選定することにより、当該ストッカ10の最適保管条件を選定することができる。
Therefore, in the
次に、本発明を実施するための最良の一形態ついて使用材料を説明する。本発明は、使用材料に特徴があるわけではないので、記載していないものでも使用することができる。
化学物質除去フィルタ、すなわち、ケミカルフィルタは、活性炭粒状、活性炭素繊維などの物理吸着による有機系ガス除去フィルタ、添着活性炭粒状、強酸性陽イオン交換樹脂の粒状、繊維状などの化学吸着による酸性ガス除去フィルタ、添着活性炭粒状、弱塩基性陰イオン交換樹脂の粒状、繊維状などの化学吸着によるアルカリ性ガス除去フィルタの一種あるいはその複数を積層したり、平面分割したりした組合せで使用することができる。
Next, the materials used will be described for the best mode for carrying out the present invention. Since the present invention does not have a feature in the material used, it can be used even if not described.
Chemical substance removal filter, that is, chemical filter is an organic gas removal filter by physical adsorption such as activated carbon granules and activated carbon fiber, impregnated activated carbon granules, granular of strongly acidic cation exchange resin, acidic gas by chemical adsorption such as fibers It can be used in combination with one or a plurality of alkaline gas removal filters by chemical adsorption such as removal filters, impregnated activated carbon granules, weak basic anion exchange resin granules, fibers, etc. .
特に、薄型低圧損という観点からすると、活性炭粒状あるいはイオン交換樹脂を不織布でサンドイッチした構造の濾材をジグザグ状に折り畳んだものが好ましい。
プレフィルタは、活性炭粒状、活性炭素繊維などの物理吸着による有機系ガス除去フィルタ、添着活性炭粒状・添着樹脂粒状、強酸性陽イオン交換樹脂の粒状、繊維状などの化学吸着による酸性ガス除去フィルタ、添着活性炭粒状・添着樹脂粒状、弱塩基性陰イオン交換樹脂の粒状、繊維状などの化学吸着によるアルカリ性ガス除去フィルタの一種あるいはその複数を積層したり、平面分割したりした組合せで使用することができる。
In particular, from the viewpoint of thin and low pressure loss, a filter medium having a structure in which activated carbon granules or an ion exchange resin is sandwiched between nonwoven fabrics is folded in a zigzag shape.
The pre-filter is an organic gas removal filter by physical adsorption of activated carbon granules, activated carbon fibers, etc., an impregnated activated carbon granule / impregnated resin granules, a strongly acidic cation exchange resin granule, an acid gas removal filter by chemical adsorption such as fibers, It is possible to use a combination of one or more alkaline gas removal filters by chemical adsorption, such as impregnated activated carbon granules, impregnated resin granules, weakly basic anion exchange resin granules, and fibrous forms, or a combination of them divided into planes. it can.
特に、薄型低圧損という観点からすると、活性炭粒状あるいは第4級アンモニウム基添着ポリスチレン樹脂、スルホン酸基添着ポリスチレン樹脂を不織布でサンドイッチした構造の濾材をジグザグ状に折り畳んだものが好ましい。
塵埃除去フィルタは、ガラス繊維不織布、エレクトレット不織布、PTFE膜等からなる濾材をジグザグ状に折り畳み、セパレータあるいは樹脂リボンで間隔保持したフィルタパックをフィルタ枠にウレタン樹脂等のシール剤でシール固化した高性能フィルタを使用することができる。
特に、ボロン、有機ガス等の発生が少ない低発ガスのという観点からするとボロンガス発生の少ないローボロンガラス繊維からなる濾材をリンガスの発生の少ないウレタン樹脂しシール固化した低発ガスフィルタが好ましい。
ファンは、軸流ファン、斜流ファン、遠心ファン、シロッコファンなどを使用することができる。
特に、上記したように、インバータ制御できる観点からすると、シロッコファンが好ましい。
In particular, from the viewpoint of thin and low pressure loss, a filter medium having a structure in which activated carbon particles or a quaternary ammonium group-added polystyrene resin or a sulfonic acid group-added polystyrene resin is sandwiched between non-woven fabrics is preferably zigzag folded.
The dust removal filter is a high-performance filter with a filter pack made of glass fiber non-woven fabric, electret non-woven fabric, PTFE membrane, etc. folded in zigzag form, and a filter pack that is held at intervals by a separator or resin ribbon. A filter can be used.
In particular, from the viewpoint of low gas generation with less generation of boron, organic gas, etc., a low gas generation filter in which a filter medium made of low boron glass fiber with less generation of boron gas is made of urethane resin with less phosphorus gas generation and solidified is preferable.
As the fan, an axial fan, a mixed fan, a centrifugal fan, a sirocco fan, or the like can be used.
In particular, as described above, a sirocco fan is preferable from the viewpoint of inverter control.
フィルタを配置する際などに使用するガスケット(図示せず)は、クロロプレン樹脂、EPDM樹脂などを使用することができる。特に、発ガス性、などの観点からすると、EPDM樹脂が好ましい。
本体11のケーシングは、ステンレス鋼板、亜鉛メッキ鋼板、ガルバ鋼板などを使用することができる。
特に、耐食性、耐薬品性、価格などの観点からすると、上述したステンレス鋼板が好ましい。
A chloroprene resin, an EPDM resin, or the like can be used as a gasket (not shown) used when arranging the filter. In particular, EPDM resin is preferable from the viewpoint of gas generation.
A stainless steel plate, a galvanized steel plate, a galva steel plate, etc. can be used for the casing of the
In particular, the above-described stainless steel plate is preferable from the viewpoint of corrosion resistance, chemical resistance, price, and the like.
ところで本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。
実施形態で説明した各構成はその一部を省略することができるし、さらに、説明しない他の構成と組み合わせることができる。
By the way, the present invention is not limited to the above embodiment.
A part of each configuration described in the embodiment can be omitted, and further, other configurations not described can be combined.
10・・・クリーンストッカ、11・・・本体、13・・・外気導入部、21・・・収納部、23・・・株循環部、24・・・背面循環部、26・・・前面循環部、27・・・空気排出部、33・・・フィルタ部、34・・・送風ファン、45・・・保管物
DESCRIPTION OF
Claims (6)
た空間内に、加工前もしくは加工後の精密加工材料である保管物を収納する収納部を有す
るクリーンストッカであって、
送風手段と、
該送風手段により送られる空気により形成される循環風路と、
該循環風路中に配置される前記収納部と、塵埃除去フィルタおよび化学物質除去フィルタ
を含む汚染除去部と
を備えており、
前記化学物質除去フィルタの汚染除去効率が高い範囲として、前記送風手段の最大風速が秒速0.2mを超え、0.7m未満とすることを条件に、内部に保管される前記保管物の種類と、使用フィルタの条件に応じて前記送風手段により生成される風速がもっとも高くなるようにされ、
しかも、前記循環風路の循環回数が、毎時50回ないし60回となるように構成した
ことを特徴とするクリーンストッカ。 A storage unit for storing stored materials, which are precision processed materials before or after processing, in a closed space so as to be a substantially positive pressure sealed space by adjusting the amount of outside air introduced from the outside air introduction unit A clean stocker having
Air blowing means;
A circulating air passage formed by air sent by the blowing means;
The storage unit disposed in the circulation air passage, and a decontamination unit including a dust removal filter and a chemical substance removal filter,
As a range in which the decontamination efficiency of the chemical substance removal filter is high , the type of the stored items stored inside, provided that the maximum wind speed of the blowing means exceeds 0.2 m per second and less than 0.7 m The wind speed generated by the air blowing means is made highest according to the conditions of the filter used,
Moreover, the clean stocker circulation number of the air circulation duct, characterized by being configured such that per hour 50 times to 60 times.
The clean stocker according to any one of claims 1 to 5, wherein the storage unit is configured to hold a plate-like component as the stored item by an open shelf plate opened up and down.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009195907A JP5524539B2 (en) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | Clean stocker |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009195907A JP5524539B2 (en) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | Clean stocker |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011049319A JP2011049319A (en) | 2011-03-10 |
JP5524539B2 true JP5524539B2 (en) | 2014-06-18 |
Family
ID=43835380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009195907A Active JP5524539B2 (en) | 2009-08-26 | 2009-08-26 | Clean stocker |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5524539B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101634578B1 (en) * | 2015-02-24 | 2016-06-29 | 주식회사 다산파마텍 | Cart of movement type |
JP6358143B2 (en) * | 2015-03-26 | 2018-07-18 | 株式会社ダイフク | Semiconductor container storage equipment |
WO2017060278A1 (en) * | 2015-10-05 | 2017-04-13 | Brooks Ccs Gmbh | Humidity control in semiconductor systems |
CN116344413B (en) * | 2023-03-28 | 2024-03-22 | 上海广川科技有限公司 | Wafer temporary storage unit structure for semiconductor wafer transmission system |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11238787A (en) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Nec Kansai Ltd | Wafer stocker |
JP2001244322A (en) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | Wafer storage and storing method |
JP4511773B2 (en) * | 2001-09-25 | 2010-07-28 | パナソニック環境エンジニアリング株式会社 | Clean stocker |
-
2009
- 2009-08-26 JP JP2009195907A patent/JP5524539B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011049319A (en) | 2011-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10340157B2 (en) | Mini-environment apparatus | |
EP3040110B1 (en) | Exhaust processing device and containing device | |
US7065898B2 (en) | Module for transferring a substrate | |
KR101433068B1 (en) | Substrate storing device | |
US6547953B2 (en) | Substrate container and method of dehumidifying substrate container | |
JP5524539B2 (en) | Clean stocker | |
JP3693315B2 (en) | Gas cleaning method and apparatus in clean room | |
JP6599599B2 (en) | EFEM system | |
JPH08285342A (en) | Module type clean room conduit and usage thereof | |
JPH02126912A (en) | Air cleaner and clean room using it | |
TWI763906B (en) | Drying room for gas replacement | |
JP2004116987A (en) | Air cleaner and treatment device | |
JP4123824B2 (en) | Wafer pod cleaning system, wafer pod | |
JPH11314703A (en) | Substrate storage device | |
JP5307507B2 (en) | Locally sealed cleaning device | |
JP4432035B2 (en) | Mini-environment device | |
JP4166909B2 (en) | Advanced cleaning device, local cleaning system, ozonolysis filter and manufacturing method thereof | |
JP2001244322A (en) | Wafer storage and storing method | |
JP2002170874A (en) | Substrate transport container | |
JPH11238787A (en) | Wafer stocker | |
CN101825118A (en) | Blower fan filtering unit, semiconductor-fabricating device, flat panel display manufacturing apparatus and the manufacture method that purifies air | |
JPH10230461A (en) | Polishing device equipped with chemical filter | |
WO2023007983A1 (en) | Clean room | |
JP2015075239A (en) | Air cleaner | |
JP2003210926A (en) | Chemical filter unit and air cleaning system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120824 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130827 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5524539 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |