JP5524055B2 - 測定セル構造を較正する方法、および作動させる方法 - Google Patents
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Description
の内容を本件明細書の不可分の構成要素とする。
同時に較正レポートを作成しながら試験体を較正する。
所望の温度まで加熱され、真空圧力測定のための測定セル接続部が熱容器を貫いて案内され、当該領域で熱容器は、熱源が中に配置された発熱体として構成されている。熱容器は絶縁外套で取り囲まれており、それにより、加熱された発熱体を周囲に対して断熱し、それによって熱容器で生じる可能性がある最小の温度勾配を少ない熱損失で保証する。それにより、測定セルにおける均一な温度分布が、コンパクトな設計形態で可能となる。
ート65の内部で進行する。較正進行制御部11は、較正データ記憶装置13と、たとえばプロセッサを含む較正制御部14と、測定セル構造1が信号回線20で接続された較正インターフェース15とを含んでいる。
a)測定セル構造1を好ましくは加熱室63に配置することによって較正装置10と接続し、測定接続部5を真空容積部58に接続するとともに信号回線20を介して測定セルインターフェース8を較正進行制御部11に接続して、測定セル構造1のスイッチを入れる。
b)測定セル構造部で設定可能な一定の値に合わせて第1の加熱温度を調整する。
c)少なくとも1つ、好ましくは少なくとも2つの異なる所定の圧力を真空容積部58で生成し、それと同時に測定セル構造1および少なくとも1つの参照測定セル6の真空信号を検出することによって測定セル構造1の第1の較正ステップを実行し、検出された圧力値を較正データ記憶装置13に保存する。
d)測定セル構造1と参照測定セル6の判定された相違値から較正プロセッサ14で補正値を算定し、これらの相違値を較正進行制御部11の較正データ記憶装置13に中間保存する。
e)さまざまな所定の作業点で判定された参照測定セル60に対する圧力と温度の相違する値について、算定された補正値を測定セルデータ記憶装置6へ伝送することによって測定セル構造1を調節する。
テップc)の少なくとも2つの異なる所定の真空圧力が、測定セル構造1のスケール最終値およびスケール開始値に設定されると好都合である。2つを超える圧力点で測定値を検出することは、較正されるべき測定セル構造1,61の精度を調節後に高めるが、それに伴って較正コストも増える。ステップc)を実行するときに少なくとも2つから5つ、好ましくは5つから10の所定の圧力値が検出され、これらが所望の検出されるべき測定セル構造1の測定範囲内で設定されると、好都合な条件が得られる。
−測定セル構造を真空プロセス設備の真空容積部30と接続し、
−真空測定セル2の温度を加熱部3により所定の一定の値に合わせて調整し、
−真空測定セル2から出される圧力信号を測定セル電子装置4で処理し、それにより、以前に較正プロセスで算定されて測定セルデータ記憶装置6に保存されている参照測定セル60に対する補正値が、測定セル制御部7による圧力信号の修正のために利用されるようにし、
−こうして修正された圧力信号を、測定セルインターフェース8を介して周辺機器21,22へ以後の利用のために転送する。
Claims (18)
- 複数の測定セル構造(1)を較正する方法において、各々の前記測定セル構造は独立した部品を構成しており、各々の測定セル構造は、
測定セルデータ記憶装置(6)と、測定セル制御部(7)と、周辺機器とデータを交換するための測定セルインターフェース(8)とを有する測定電子装置(4)と接続された、測定接続部(5)を備える真空隔膜測定セル(2)と、
前記真空隔膜測定セル(2)を取り囲み、使用時において測定環境に曝されて測定セル内に凝縮物が堆積することを抑制するように、測定されるプロセスに応じて選択された予め設定可能な一定の温度まで加熱するための、付加的に測定セル構造を較正するのに用いられるプログラミング可能な第1の加熱部(3)と、
第1の加熱部および真空隔膜測定セルを取り囲む断熱材料と、
を備え、
前記較正方法は、
a)前記測定セル構造(1)の少なくとも2つを較正装置(10)と接続し、真空隔膜測定セルと真空容積部との間の封止された経路の一部を構成する測定接続部を介して各々の測定セル構造の真空隔膜測定セルを較正装置内の真空容積部(58)に接続し、少なくとも2つの測定セル構造は各々同じ真空容積部に接続されており、各々の測定セルは真空容積部には曝されない外表面を有しており、
各々の測定セルインターフェース(8)を較正進行制御部(11)に接続し、
少なくとも2つの測定セル構造は較正装置内の1つの加熱室内に配置されており、加熱室は少なくとも1つの加熱室加熱手段(64)を含んでいる、ステップと、
b)測定セル構造のスイッチを入れ、各々の測定セル構造を第1の加熱温度に各々の測定セル構造の第1の加熱部を用いて設定するステップと、
c)加熱室加熱手段(64)を用いて較正装置内の加熱室(63)を加熱し、加熱室加熱手段は較正装置の一部ではあるが測定セル構造の一部ではない、ステップと、
d)少なくとも1つの所定の圧力を前記真空容積部(58)で生成し、それと同時に前記複数の測定セル構造(1)および少なくとも1つの参照測定セル(6)から真空測定信号を検出することによって前記複数の測定セル構造(1)の第1の較正ステップを実行し
、真空測定信号を較正データ記憶装置(13)に保存するステップと、
e)前記測定セル構造(1)の真空測定信号と前記参照測定セル(6)の真空測定信号との間の判定された相違から較正プロセッサ(14)で補正値を算定するステップと、
f)算定された温度および圧力の補正値を較正装置から測定セル構造内の対応する前記測定セルデータ記憶装置(6)へ伝送することによって前記測定セル構造(1)を調節するステップと、
g)各々の測定セル構造において少なくとも第2の加熱温度を用いて測定セル構造を較正するためにステップa)からe)を繰り返すステップ、を含んでいる方法。 - 前記測定セル構造(1)は少なくとも2桁から4桁の真空圧力測定範囲を検出することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 真空容積部における少なくとも2つの異なる所定の真空圧力を用いてステップd)が繰り返され、少なくとも2つの異なる所定の真空圧力で測定された真空測定信号を用いて補正値が算定される、請求項1または2に記載の方法。
- 少なくとも1つの別の圧力について、前記ステップd)に準じて、少なくとも1つの別の較正ステップh)が実行され、該ステップは確認ステップとしての役目を果たし、前回の測定に対して前記測定セル構造(1)の値と前記参照測定セル(60)の値のあいだで算定される値の差異が以後の評価のために記憶装置に記録されることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記較正装置(10)で少なくとも2つの測定セル構造(1)が同時に較正され、少なくとも2つの参照測定セル(60)が較正において使用され、参照測定セルおよび測定セル構造は別々の部品である、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 測定セル構造を較正および動作させる方法であって、該方法は、
a)真空隔膜測定セルと真空隔膜測定セルに導く測定接続部とを備えた少なくとも1つの測定セル構造を提供するステップであって、
測定セル構造はさらに、測定セルデータ記憶装置と測定セル制御部と測定セルインターフェースとを含む測定電子装置を有し真空隔膜測定セルに接続された測定電子装置を備えており、
測定セル構造はさらに、真空隔膜測定セルを設定可能な一定の温度まで加熱し、設定可能な一定の温度に保つための真空隔膜測定セルに隣接する第1の加熱部を備えており、
測定セル構造はさらに、真空隔膜測定セルおよび第1の加熱部を取り囲み、第1の加熱部と測定電子装置との間に配置された断熱材料を備えている、ステップと、
b)較正装置を提供するステップであって、較正装置は較正装置内の加熱室を備え、較正装置は選択的に加熱室を加熱するための少なくとも1つの加熱室加熱素子を含み、加熱室加熱素子は較正装置の一部であるが測定セル構造の一部ではなく、
較正装置はさらに較正真空室を備え、較正真空室は真空容積部を含んでおり、較正真空室は加熱室の一部を占めるとともに較正真空室の外側の加熱室の一部から真空容積部を区画し、較正真空室は真空を選択的に作り出す真空ポンプと連通しており、
較正装置はさらに較正電子装置を備え、較正電子装置は較正データ記憶装置を備え、
較正装置およびそのすべての部品は、測定セル構造およびその部品とは別個のものでありかつ区別されたものである、ステップと、
c)少なくとも1つの参照測定セルを較正装置の加熱室内に提供するステップであって、参照測定セルは較正真空室内の真空容積部と連通し、参照測定セルは真空容積部の圧力値を得るように適合されており、
参照測定セルは、較正される測定セル構造とは区別された部品でありかつ較正される測定セル構造の一部ではない、ステップと、
d)較正される測定セル構造の少なくとも1つを較正装置に接続するステップであって、測定セル構造は較正のために加熱室内に配置されており、
測定セル構造の真空隔膜測定セルは測定接続部を介して真空容積部に接続されており、測定接続部は真空隔膜測定セルと真空容積部との間の気密な経路の少なくとも一部を規定しており、
真空容積部は加熱室内の較正真空室の外側のある領域から密封されており、該領域は、測定セル構造の外側の部分が真空容積部に曝されないように、測定セル構造の外表面を含む、加熱室の較正真空室の外側の領域から密封されており、
測定セル構造が較正電子装置に接続されている、ステップと、
e)加熱室加熱素子を用いて較正装置内の加熱室を加熱するステップと、
f)少なくとも1つの測定セル構造の真空隔膜測定セルを同じ測定セル構造内の第1の加熱部を用いて一定の第1の温度まで加熱するステップであって、
真空隔膜測定セルの第1の加熱温度は、加熱室の温度とは別個に制御されている、ステップと、
g)真空隔膜測定セルが第1の加熱温度まで加熱され、少なくとも1つの測定セル構造のための第1の較正ステップが実行されるステップであって、該第1の較正ステップは、
少なくとも1つの所定の圧力を真空容積部内で生成すると同時に、少なくとも1つの測定セル構造の真空隔膜測定セルおよび少なくとも1つの参照測定セルから真空測定信号を得る工程であって、真空隔膜測定セルおよび参照測定セルの両方が同じ真空容積部を実質的に同時に測定する工程と、
得られた真空測定信号を較正電子装置に保存する工程と、を含むステップと、
h)第1の加熱温度とは異なる一定の第2の加熱温度を真空隔膜測定セルに対して用いて、ステップe)からg)を少なくとも2回繰り返すステップと、
i)少なくとも1つの測定セル構造に対して、測定セル構造からの保存された真空測定信号と少なくとも1つの参照測定セルからの保存された真空測定信号との間の違いを比較するために較正電子装置を用いて補正値を算定し、該比較には少なくとも2つの異なる温度において測定セル構造から得られた保存された測定信号が含まれており、
較正電子装置に補正値を保存するステップと、
j)補正値を対応する測定セル構造に伝送し、測定セルデータ記憶装置に補正値を保存するステップと、
k)補正値が測定セル構造に保存された後、測定セル構造を較正装置から取り外すステップと、
l)測定セル構造が較正され較正装置から取り外された後、正確に真空度を測定するために測定セル構造を使用するステップであって、該使用においては、
真空隔膜測定セルを測定されるべき真空空間に曝す工程と、
真空隔膜測定セルを用いて真空値を取得し、その値を測定セル構造の測定電子装置に伝送する工程と、
値が取得された場所の測定温度を算定する工程と、
測定温度に基づいて測定セルデータ記憶装置に以前に保存されている補正値を用いて、値を修正する工程と、を含むステップ、を含んでいる方法。 - 真空隔膜測定セルは容量型の隔膜測定セルである、請求項6に記載の方法。
- 真空隔膜測定セルは光学式に読取可能な隔膜測定セルである、請求項6に記載の方法。
- ステップl)において、凝縮を避けるために測定セル構造の第1の加熱部の温度が測定される真空空間の温度よりも高い温度に調節される、請求項6に記載の方法。
- 真空容積部に対して少なくとも2つの異なる所定の圧力が用いられて、ステップe)からh)が繰り返される、請求項6に記載の方法。
- ステップe)からh)が3回から6回繰り返され、各々の回において同じ真空隔膜測定セルに対して異なる温度が用いられ、該温度は第1の加熱部により制御されている、請求項6に記載の方法。
- 加熱室加熱素子はペルチェ素子である、請求項6に記載の方法。
- 加熱室は断熱部を有する、請求項6に記載の方法。
- 2以上の測定セル構造が同時に較正される、請求項6に記載の方法。
- 2以上の参照測定セルがステップc)において提供され、ステップg)において使用される、請求項6に記載の方法。
- 2以上の参照測定セルがステップc)において提供され、ステップg)において使用される、請求項14に記載の方法。
- 真空隔膜測定セルおよび第1の加熱部が集合的に発熱体を形成し、断熱材料が実質的に発熱体を取り囲み、断熱材料は発熱体と測定電子装置との間に位置し、断熱材料は発熱体からの熱の伝達を減少させる、請求項6に記載の方法。
- 測定セル構造の発熱体の温度は、加熱室の温度から独立して制御可能である、請求項17に記載の方法。
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US8862420B2 (en) | 2013-02-05 | 2014-10-14 | Reno Sub-Sustems Canada Incorporated | Multi-axis tilt sensor for correcting gravitational effects on the measurement of pressure by a capacitance diaphragm gauge |
US8965725B2 (en) * | 2013-02-05 | 2015-02-24 | Reno Technologies, Inc. | Automatic calibration adjustment of capacitance diaphragm gauges to compensate for errors due to changes in atmospheric pressure |
US8997575B2 (en) | 2013-02-13 | 2015-04-07 | Reno Technologies, Inc. | Method and apparatus for damping diaphragm vibration in capacitance diaphragm gauges |
CN103557991B (zh) * | 2013-11-11 | 2015-12-30 | 姚文利 | 一种用于压力测量的真空计校准方法及其装置 |
US9285289B2 (en) * | 2013-12-06 | 2016-03-15 | Freescale Semiconductor, Inc. | Pressure sensor with built-in calibration capability |
CN103808457B (zh) * | 2013-12-24 | 2016-01-13 | 兰州空间技术物理研究所 | 低温下真空校准装置及方法 |
CN104316260B (zh) * | 2014-11-14 | 2017-02-22 | 陕西电器研究所 | 适用于高温环境微压力传感器的校准*** |
US20170097181A1 (en) * | 2015-10-05 | 2017-04-06 | Dunan Microstaq, Inc. | Method and Apparatus For Calibrating And Testing Multiple Superheat Controllers |
KR102010498B1 (ko) * | 2017-02-14 | 2019-08-27 | 연세대학교 원주산학협력단 | 압력 센서 교정 관리 시스템 |
CN107560786B (zh) * | 2017-09-08 | 2019-12-31 | 成都倍特科技有限责任公司 | 真空度在线检测及其补偿*** |
DE102018203419A1 (de) * | 2018-03-07 | 2019-09-12 | Infineon Technologies Ag | Vorrichtung und verfahren zum kalibrieren einer druckerfassungseinrichtung |
CN114544104A (zh) * | 2022-02-22 | 2022-05-27 | 佛山市美的清湖净水设备有限公司 | 真空气检设备及其膜元件检测方法、装置及存储介质 |
CN114486062B (zh) * | 2022-03-31 | 2022-07-15 | 季华实验室 | 一种消除薄膜应力的电容薄膜真空计 |
CN115060414B (zh) * | 2022-08-17 | 2022-11-25 | 成都凯天电子股份有限公司 | 一种提供高精度压力标准的装置及方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2617305A (en) * | 1947-12-16 | 1952-11-11 | Socony Vacuum Oil Co Inc | Barometer preheater |
US4866640A (en) * | 1987-08-20 | 1989-09-12 | Granville-Phillips Company | Temperature compensation for pressure gauge |
JP2951718B2 (ja) * | 1990-11-28 | 1999-09-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 圧力ゲージ出力の零点調整装置 |
US5307683A (en) * | 1992-08-05 | 1994-05-03 | Marathon Oil Company | Transient temperature compensation for pressure gauges |
JPH0687841U (ja) * | 1993-06-04 | 1994-12-22 | 石川島播磨重工業株式会社 | 圧力計測センサ用較正装置 |
DE19533505A1 (de) * | 1995-09-04 | 1997-03-06 | Siemens Ag | Verfahren zum Kompensieren des durch eine äußere Einflußgröße verursachten Fehlverhaltes von Meßeinrichtungen |
US6910381B2 (en) * | 2002-05-31 | 2005-06-28 | Mykrolis Corporation | System and method of operation of an embedded system for a digital capacitance diaphragm gauge |
JP2004273682A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Sharp Corp | 処理装置 |
KR100739821B1 (ko) * | 2005-06-24 | 2007-07-13 | 한국표준과학연구원 | 1토르, 10토르, 100토르 겸용 진공게이지 교정장치 |
JP5143736B2 (ja) * | 2005-08-12 | 2013-02-13 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 測定セルおよびその製造方法 |
KR100724092B1 (ko) * | 2005-10-27 | 2007-06-04 | 한국표준과학연구원 | In ―situ법에 의한 진공게이지의 절대교정 및 비교교정 장치 및 방법 |
US7577539B2 (en) * | 2006-01-12 | 2009-08-18 | Zmd America Inc. | Sensor interface and sensor calibration technique |
US8001055B2 (en) * | 2006-02-21 | 2011-08-16 | Weiss Kenneth P | Method, system and apparatus for secure access, payment and identification |
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