JP5512357B2 - Pure water production method and apparatus - Google Patents
Pure water production method and apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP5512357B2 JP5512357B2 JP2010086899A JP2010086899A JP5512357B2 JP 5512357 B2 JP5512357 B2 JP 5512357B2 JP 2010086899 A JP2010086899 A JP 2010086899A JP 2010086899 A JP2010086899 A JP 2010086899A JP 5512357 B2 JP5512357 B2 JP 5512357B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- treated
- toc
- ultraviolet
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 196
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 31
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 35
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 35
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 23
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 17
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 14
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 6
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710191900 Actin-depolymerizing factor 4 Proteins 0.000 description 1
- 101100435119 Arabidopsis thaliana APRR1 gene Proteins 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFFPYJTVNSSLBQ-UHFFFAOYSA-N Phenolphthalin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 FFFPYJTVNSSLBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical group [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100481792 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) toc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000010000 carbonizing Methods 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000002081 peroxide group Chemical group 0.000 description 1
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Description
本発明は、紫外線酸化処理により純水を製造する方法及び装置に関する。 The present invention relates to a method and apparatus for producing pure water by ultraviolet oxidation treatment.
従来より、半導体装置の製造工程や液晶表示装置の製造工程における洗浄水等の用途として、有機物、イオン成分、微粒子、細菌等が高度に除去された超純水等の純水が使用されている。特に、半導体装置を含む電子部品を製造する際には、その洗浄工程において多量の純水が使用されており、その水質に対する要求も年々高まっている。電子部品製造の洗浄工程等において使用される純水では、純水中に含まれる有機物がその後の熱処理工程において炭化して絶縁不良等を引き起こすことを防止するため、水質管理項目の一つである全有機炭素(TOC;Total Organic Carbon)濃度を極めて低いレベルとすることが求められるようになってきている。 Conventionally, pure water such as ultrapure water from which organic substances, ionic components, fine particles, bacteria, and the like have been highly removed has been used as an application for washing water and the like in the manufacturing process of a semiconductor device and the manufacturing process of a liquid crystal display device. . In particular, when manufacturing an electronic component including a semiconductor device, a large amount of pure water is used in the cleaning process, and the demand for the water quality is increasing year by year. Pure water used in the cleaning process of electronic component manufacturing is one of the water quality management items in order to prevent the organic matter contained in the pure water from carbonizing in the subsequent heat treatment process and causing poor insulation. There is a growing demand for extremely low levels of total organic carbon (TOC).
このような純水水質への高度な要求が顕在化するに伴って、近年、純水中に含まれる微量の有機物を分解し除去する様々な方法の検討がなされている。そのような方法の代表的なものとして、紫外線酸化処理による有機物の分解除去工程が導入されるようになってきている。 As such high demands for pure water quality become apparent, various methods for decomposing and removing trace amounts of organic substances contained in pure water have been studied in recent years. As a representative example of such a method, a process for decomposing and removing organic substances by ultraviolet oxidation treatment has been introduced.
一般的には、紫外線酸化処理によって有機物の分解除去を行う場合には、例えばステンレス製の反応槽とその反応槽内に設置された管状の紫外線ランプとを備える紫外線酸化装置を用い、反応槽内に被処理水を導入して被処理水に紫外線を照射する。紫外線ランプとしては、例えば、254nmと185nmの各波長を有する紫外線を発生する低圧紫外線ランプ、あるいは、254nmと194nmと185nmの各波長を有する紫外線を発生する低圧紫外線ランプが使用される。被処理水に185nmの波長を含む紫外線が照射されると、被処理水内にヒドロキシルラジカル(・OH)等の酸化種が生成し、この酸化種の酸化力により被処理水中の微量有機物が二酸化炭素や有機酸に分解する。被処理水に対してこのように紫外線酸化分解処理を施して得られた処理水は、次に、後段に配置されているイオン交換装置に送られ、二酸化炭素や有機酸が除去される。 In general, when organic substances are decomposed and removed by ultraviolet oxidation treatment, for example, an ultraviolet oxidation apparatus including a stainless steel reaction tank and a tubular ultraviolet lamp installed in the reaction tank is used. The water to be treated is introduced into the water and irradiated with ultraviolet rays. As the ultraviolet lamp, for example, a low-pressure ultraviolet lamp that generates ultraviolet rays having wavelengths of 254 nm and 185 nm, or a low-pressure ultraviolet lamp that generates ultraviolet rays having wavelengths of 254 nm, 194 nm, and 185 nm is used. When the water to be treated is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 185 nm, oxidizing species such as hydroxyl radicals (.OH) are generated in the water to be treated, and trace organic substances in the water to be treated are oxidized by the oxidizing power of the oxidizing species. Decomposes into carbon and organic acids. The treated water obtained by subjecting the water to be treated in this way to the ultraviolet oxidative decomposition treatment is then sent to an ion exchange device disposed in the subsequent stage to remove carbon dioxide and organic acid.
しかしながら、一般的な紫外線酸化装置による有機物の酸化分解方法では、紫外線ランプを使用するが、紫外線ランプは非常に高価であるにもかかわらず、使用期間の経過とともに紫外線強度が低下するために、例えば1年に1回程度の交換が必要である。また、紫外線酸化装置における有機物の分解効率は、被処理水中の有機物濃度が低いほど低下するため、純水製造のように、TOC濃度がもともと低い被処理水を対象としてその被処理水中の有機物をさらに酸化分解するためには、被処理水におけるTOC濃度あたりの必要電力量が非常に大きくなる。したがって、純水製造のために一般的な紫外線酸化装置を用いる有機物の酸化分解は、装置のランニングコストが極めて大きくなるという問題点を有する。 However, in the method of oxidative decomposition of organic matter using a general ultraviolet oxidizer, an ultraviolet lamp is used. However, although the ultraviolet lamp is very expensive, the ultraviolet intensity decreases with the passage of time of use. It is necessary to exchange about once a year. In addition, since the decomposition efficiency of organic matter in the UV oxidation device decreases as the concentration of organic matter in the treated water decreases, the organic matter in the treated water is targeted for treated water with a low TOC concentration as in pure water production. Furthermore, in order to oxidatively decompose, the required power amount per TOC concentration in the water to be treated becomes very large. Therefore, the oxidative decomposition of organic substances using a general ultraviolet oxidation apparatus for producing pure water has a problem that the running cost of the apparatus becomes extremely high.
ところで、有機物濃度が比較的高い被処理水におけるTOCを処理する技術として、例えば、ユースポイントで使用した後のTOC成分を含む排水を処理しさらには回収したりするための技術(排水処理技術、排水回収処理技術)として、被処理水に対して過酸化水素(H2O2)やオゾン(O3)等の酸化剤を添加し、紫外線照射によってTOC成分を酸化分解する技術がある。この場合、被処理水におけるTOC濃度は、ppmオーダーであることが想定されており、また、もともと各種の不純物を多く含んでいる被処理水を対象としていることから、一般的に開放系の反応容器を使用して紫外線照射を行っている。そして、紫外線源としては、254nmの波長を発生する高圧紫外線ランプが一般に使用され、照射量は数kWh/m3、反応容器内の被処理水の滞留時間は数十分から1時間程度が目安とされる。 By the way, as a technology for treating TOC in water to be treated with a relatively high concentration of organic matter, for example, a technology for treating and further collecting wastewater containing TOC components after use at a use point (drainage treatment technology, As a wastewater recovery treatment technology, there is a technology in which an oxidant such as hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) or ozone (O 3 ) is added to the water to be treated, and the TOC component is oxidatively decomposed by ultraviolet irradiation. In this case, it is assumed that the TOC concentration in the water to be treated is on the order of ppm, and since the water to be treated originally contains a large amount of various impurities, it is generally an open reaction. The container is used for UV irradiation. As the ultraviolet light source, a high-pressure ultraviolet lamp that generates a wavelength of 254 nm is generally used, the irradiation amount is several kWh / m 3 , and the residence time of the water to be treated in the reaction vessel is a few tens of minutes to one hour as a guide. It is said.
以下、有機物濃度が比較的高い被処理水においてTOCを分解除去する技術の例を説明する。 Hereinafter, an example of a technique for decomposing and removing TOC in water to be treated having a relatively high organic matter concentration will be described.
特許文献1には、有機物を含有する酸性排水を処理する技術として、TOC濃度が2ppmである原水を逆浸透膜分離装置(RO)に通して得られた透過水に対し、H2O2を30ppm添加してから高圧紫外線ランプ(高圧水銀ランプ)により紫外線照射処理を行い、TOC成分を分解除去する例が記載されている。逆浸透膜によりTOC成分がどの程度除去されるについての具体的な記載はないが、仮にTOC成分の90%が逆浸透膜によって除去されたとすると、紫外線照射処理に際し、TOC成分に対して物質量比で53倍もの大過剰のH2O2を加えていることになる。 In Patent Document 1, as a technique for treating acidic wastewater containing organic matter, H 2 O 2 is added to permeate obtained by passing raw water having a TOC concentration of 2 ppm through a reverse osmosis membrane separation device (RO). An example is described in which 30 ppm of addition is followed by ultraviolet irradiation with a high-pressure ultraviolet lamp (high-pressure mercury lamp) to decompose and remove the TOC component. Although there is no specific description of how much TOC component is removed by the reverse osmosis membrane, if 90% of the TOC component is removed by the reverse osmosis membrane, the amount of substance relative to the TOC component during the ultraviolet irradiation treatment This means that a large excess of H 2 O 2 as much as 53 times is added.
なお本明細書において、TOC成分とH2O2との物質量比を計算しているが、ここでの物質量比は、単位体積あたりのTOC成分とH2O2の物質量(すなわちモル数)の比のことである。TOCは、有機物の量をその中の炭素の量で表したものであるので、TOCに関する値に対応する分子量として、炭素の原子量である12.011を用いることにより、TOC成分とH2O2との物質量比を計算することができる。 In this specification, the substance amount ratio between the TOC component and H 2 O 2 is calculated. The substance amount ratio here is the amount of substance of the TOC component and H 2 O 2 per unit volume (that is, molarity). Number). Since TOC expresses the amount of organic matter by the amount of carbon in the TOC, by using 12.011, which is the atomic weight of carbon, as the molecular weight corresponding to the value related to TOC, the TOC component and H 2 O 2 are used. It is possible to calculate the mass ratio of
特許文献2には、排水回収などにおいて被処理水中の有機物を分解除去するものとして、TOC濃度が1ppmである原水に対してH2O2を30ppm添加し、高圧紫外線ランプにより、照射量1kWh/m3、滞留時間1時間の条件で紫外線照射処理を行う例が記載されている。この場合、TOCに対して物質量比で11倍のH2O2を添加していることになる。 In Patent Document 2, 30 ppm of H 2 O 2 is added to raw water having a TOC concentration of 1 ppm as an organic substance in the treated water for the purpose of decomposing and removing wastewater in the recovery of wastewater and the like. An example is described in which ultraviolet irradiation treatment is performed under the conditions of m 3 and a residence time of 1 hour. In this case, 11 times the amount of H 2 O 2 is added to the TOC.
特許文献3には、ペルオキシド基を含むイオウ化合物(例えばペルオキシ二硫酸ナトリウム)を用いて被処理水中の有機物を分解除去する際に、あらかじめ有機物量を低減させる前処理工程として、TOC濃度が6ppmである被処理水に対し、H2O2を60ppm添加し、紫外線を照射する例が記載されている。紫外線の照射量は記載されていないが、反応容器の容積は50リットル(L)、流量は100リットル/時とされている。 Patent Document 3 discloses that a TOC concentration is 6 ppm as a pretreatment step for reducing the amount of organic matter in advance when decomposing and removing organic matter in water to be treated using a sulfur compound containing a peroxide group (for example, sodium peroxydisulfate). An example is described in which 60 ppm of H 2 O 2 is added to a certain water to be treated and irradiated with ultraviolet rays. Although the irradiation amount of ultraviolet rays is not described, the volume of the reaction vessel is 50 liters (L), and the flow rate is 100 liters / hour.
特許文献4には、TOC濃度が20ppmである被処理水に対し、H2O2を71ppm添加し、開放式の反応槽内で滞留時間25分で紫外線を照射することが記載されている。 Patent Document 4 describes that 71 ppm of H 2 O 2 is added to water to be treated having a TOC concentration of 20 ppm, and ultraviolet rays are irradiated in an open reaction tank with a residence time of 25 minutes.
特許文献5には、水道水(市水)から純水を製造するために純水製造装置の前段に配置される前処理装置として、生物反応槽と紫外線酸化処理槽とを組み合わせ、両方の槽の被処理水を循環させながら、紫外線酸化処理槽では被処理水にH2O2を添加するように構成したものが開示されている。一例として、原水(水道水)に対して3倍当量である5ppmのH2O2を被処理水に加えることが記載されている。しかしながら、H2O2が添加される被処理水は、実際には生物反応槽によって原水よりもTOC濃度が既に低減されている水であり、生物反応槽でのTOC除去率が9割程度であるとすると、被処理水のTOC濃度に比べて物質量比で60倍のH2O2が添加されていると考えられる。 Patent Document 5 discloses a combination of a biological reaction tank and an ultraviolet oxidation treatment tank as a pretreatment device arranged in front of a pure water production device for producing pure water from tap water (city water). In the ultraviolet oxidation treatment tank, H 2 O 2 is added to the treated water while circulating the treated water. As an example, it is described that 5 ppm of H 2 O 2 , which is 3 times equivalent to raw water (tap water), is added to the water to be treated. However, the water to be treated to which H 2 O 2 is added is actually water in which the TOC concentration is already reduced by the biological reaction tank as compared to the raw water, and the TOC removal rate in the biological reaction tank is about 90%. If there is, it is considered that 60 times as much H 2 O 2 is added as the mass ratio compared to the TOC concentration of the water to be treated.
純水の製造のために、純水に要求されるレベルまで被処理水中のTOC濃度を高度に低減することを考えると、そもそもの被処理水中のTOC濃度自体が比較的低いために、例えば100ppb以下であるために、上述したように、被処理水におけるTOC濃度あたりの必要電力量が非常に大きくなり、装置のランニングコストが極めて大きくなる。 Considering that the TOC concentration in the treated water is highly reduced to the level required for pure water for the production of pure water, the TOC concentration itself in the treated water itself is relatively low. Since it is below, as above-mentioned, the required electric energy per TOC density | concentration in to-be-processed water becomes very large, and the running cost of an apparatus becomes very large.
TOC濃度が低い純水系の被処理水からさらにTOC濃度を低減させる際の有機物分解効率を向上させ、装置コストを低減するために、そのような被処理水に対してH2O2の添加と紫外線照射とを併用することも考えられる。しかしながら、特許文献1〜5に示されるように、H2O2の添加と紫外線照射とを併用するこれまでの技術は、排水処理や排水回収などのためにppmオーダーかそれよりも高濃度のTOCを含む被処理水を対象とするものであり、TOC濃度が100ppb以下であるような被処理水を対象とするものではない。また、これらの従来の技術では、紫外線照射に一般的に高圧紫外線ランプあるいは高圧水銀ランプを使用してその照射量の目安も数kWh/m3と大きく、かつ反応容器として開放系のものを使用して被処理水の滞留時間も数十分から1時間と長く、これらの諸条件も、装置コスト、ランニングコストを低減し、高速処理を可能にしつつ、純水製造のためにTOC濃度を極限にまで減らすという用途には適切とは言えないものである。したがって、特許文献1〜5に記載された事項から、TOC濃度が例えば100ppb以下であるような被処理水からさらにTOCを除去する場合に、H2O2の添加と紫外線酸化処理とを併用した場合の効果や、H2O2の添加条件、紫外線酸化の処理条件などを見積もることはできない。 In order to further improve the organic matter decomposition efficiency when reducing the TOC concentration from pure water-type treated water having a low TOC concentration, and to reduce the equipment cost, the addition of H 2 O 2 to such treated water; A combination with ultraviolet irradiation is also conceivable. However, as shown in Patent Documents 1 to 5, the conventional technology using both the addition of H 2 O 2 and ultraviolet irradiation has a ppm order or higher concentration for waste water treatment and waste water recovery. It is intended for water to be treated containing TOC, and is not intended for water to be treated having a TOC concentration of 100 ppb or less. In addition, these conventional techniques generally use a high-pressure ultraviolet lamp or a high-pressure mercury lamp for ultraviolet irradiation, and the irradiation amount is as large as several kWh / m 3 , and an open reaction vessel is used. As a result, the retention time of the water to be treated is as long as several tens of minutes to 1 hour. These conditions also reduce the equipment cost and running cost, enable high-speed treatment, and limit the TOC concentration for pure water production. It is not appropriate for the purpose of reducing to a minimum. Therefore, from the matters described in Patent Documents 1 to 5, when TOC is further removed from the water to be treated whose TOC concentration is, for example, 100 ppb or less, the addition of H 2 O 2 and the ultraviolet oxidation treatment are used in combination. It is impossible to estimate the effect of the case, the addition conditions of H 2 O 2 , the treatment conditions for ultraviolet oxidation, and the like.
純水の用途では、水質管理項目として、処理後の水における各種の成分の濃度が厳しく制限されている。純水にとってはH2O2自体も不純物であるから、H2O2を添加することは不純物を添加することでもあり、そのこともあって、純水系の処理においては、H2O2を添加して紫外線酸化処理を行うことは、一般的には考えられてこられなかった。なお、特許文献6には、純水の製造のために、TOC濃度が18ppbである被処理水に対してO3を添加し、紫外線酸化処理を行う例が示されている。特許文献6に記載のものでは、余剰のO3を除去するために、紫外線酸化処理後に水素(H2)を添加して紫外線を照射することにより、O3を還元して水としている。特許文献6では、O3の代わりにH2O2も使用できると記載されているが、H2O2を添加した実施例やH2O2添加の具体的な条件については一切記載されていない。 In the use of pure water, the concentration of various components in the treated water is strictly limited as a water quality management item. Since H 2 O 2 itself is an impurity for pure water, adding H 2 O 2 also means adding an impurity. For this reason, H 2 O 2 is used in pure water treatment. It has not been generally considered to add and perform an ultraviolet oxidation treatment. Note that Patent Document 6 shows an example in which O 3 is added to water to be treated having a TOC concentration of 18 ppb for the production of pure water, and an ultraviolet oxidation treatment is performed. In the device described in Patent Document 6, in order to remove excess O 3 , O 3 is reduced to water by adding hydrogen (H 2 ) and irradiating ultraviolet rays after the ultraviolet oxidation treatment. Patent Document 6, H 2 O 2 instead of O 3 has also been described as usable, but for specific conditions of the added embodiment and H 2 O 2 added H 2 O 2 have been described at all Absent.
低圧紫外線ランプを用いた紫外線酸化処理による有機物の分解除去の反応機構は、一般に、波長185nmの光が水を分解して生成したヒドロキシラジカル(OHラジカル)が、被処理水中のTOC成分と反応してこのTOC成分を酸化分解するものであると考えられている。波長185nmの光は、水に非常によく吸収されるので、ほとんど透過しない。低圧紫外線ランプからは、波長185nmの光の他に、波長254nmの光が放出されるが、波長254nmの光は、水に吸収されずに透過することができる。 In general, the reaction mechanism of decomposition and removal of organic substances by UV oxidation using a low-pressure UV lamp is that the hydroxyl radicals (OH radicals) generated by the decomposition of water with light having a wavelength of 185 nm react with the TOC component in the water to be treated. It is considered that the TOC component is oxidatively decomposed. Light having a wavelength of 185 nm is very well absorbed by water and therefore hardly transmits. The low-pressure ultraviolet lamp emits light having a wavelength of 254 nm in addition to light having a wavelength of 185 nm. However, light having a wavelength of 254 nm can be transmitted without being absorbed by water.
この波長254nmの光は、H2O2と反応してOHラジカルを生成する。また、波長185nmの光は、波長254nmの光よりも高エネルギーであるので、式(1)に示すように、H2O2と反応してOHラジカルを生成することができる。 This light with a wavelength of 254 nm reacts with H 2 O 2 to generate OH radicals. In addition, since light having a wavelength of 185 nm has higher energy than light having a wavelength of 254 nm, it can react with H 2 O 2 to generate OH radicals as shown in formula (1).
生成したOHラジカルは、TOC成分を酸化分解することができるが、寿命が短い。TOC成分分子すなわち有機物分子と遭遇することができず、TOC成分と反応できなかったOHラジカルは、逆反応によって、式(2)に示すようにH2O2に戻る。 The generated OH radical can oxidatively decompose the TOC component, but has a short lifetime. The OH radical that cannot be encountered with the TOC component molecule, that is, the organic molecule, and could not react with the TOC component returns to H 2 O 2 by the reverse reaction as shown in the formula (2).
有機物の分解効率を向上するためには、OHラジカルの生成量を増加させればよい。H2O2の変化と紫外線照射とを併用する場合、OHラジカルの生成量を増加させるには、式(1)の反応を右辺側に進めればよく、そのためには、H2O2濃度を高くするか、紫外線照射量を大きくするか、あるいは、その両方を実行する必要がある。しかしながら、OHラジカルの生成量を増加させても、TOC成分と遭遇せずにこれと反応できなかったOHラジカルが式(2)に示した反応でH2O2に戻るだけであるので、エネルギーが無駄に使用されて高コストとなる可能性がある。また、TOC濃度が低い純水系では、H2O2添加と紫外線照射とを併用して式(1)に基づきOHラジカルの生成量を増加させたとしても、TOC濃度が低いために、式(2)の反応ばかりが起きて、処理効率が上がらない可能性もある。 In order to improve the decomposition efficiency of organic matter, the amount of OH radicals generated should be increased. When used in combination with changes and UV irradiation of H 2 O 2, to increase the production amount of OH radicals, it may be Susumere reaction of formula (1) in right side. For this purpose, H 2 O 2 concentration Must be increased, the amount of UV irradiation should be increased, or both. However, even if the amount of OH radicals generated is increased, the OH radicals that did not encounter the TOC component and could not react with them will only return to H 2 O 2 in the reaction shown in formula (2). May be wasted and costly. Further, in a pure water system having a low TOC concentration, even if the amount of OH radicals generated is increased based on the equation (1) by using both H 2 O 2 addition and ultraviolet irradiation, the formula ( There is a possibility that only the reaction of 2) occurs and the processing efficiency does not increase.
さらに、H2O2も波長185nmの光を吸収するので、波長185nmの光がTOC成分の酸化に直接寄与する反応機構が存在する場合には、H2O2を添加したがために波長185nmの光子量が減って、逆に有機物の分解効率が悪くなることも考えられる。 Furthermore, since H 2 O 2 also absorbs light with a wavelength of 185 nm, when there is a reaction mechanism in which the light with a wavelength of 185 nm directly contributes to the oxidation of the TOC component, H 2 O 2 is added, so the wavelength of 185 nm It is also conceivable that the efficiency of decomposition of the organic matter deteriorates conversely because the amount of photons decreases.
上述したように純水を製造する場合においてH2O2を添加することは、不純物を添加することでもある。したがって、H2O2を添加する場合には、極力少量の添加で最大限の効果を発揮することが求められる。 As described above, when pure water is produced, adding H 2 O 2 also means adding impurities. Therefore, when H 2 O 2 is added, it is required to exhibit the maximum effect with the addition of a small amount as much as possible.
また純水製造においては、装置の小型化と高速処理が要求されるため、紫外線照射時における反応容器内の滞留時間は短い方がよい。純水製造のための従来の一般的な紫外線酸化装置における滞留時間は1分以内であるので、H2O2と紫外線照射とを併用する場合も、滞留時間1分以内での処理が求められる。 In pure water production, downsizing of the apparatus and high-speed processing are required, so that the residence time in the reaction vessel at the time of ultraviolet irradiation should be short. Since the residence time in a conventional general ultraviolet oxidation apparatus for producing pure water is within 1 minute, even when H 2 O 2 and ultraviolet irradiation are used in combination, a treatment within 1 minute is required. .
純水製造では被処理水中のTOC成分を分解除去するために、一般に、紫外線酸化処理が行われるが、被処理水中のTOC濃度が低い場合には、必要電力量が大きくなって装置のランニングコストが大きくなる。有機物分解効率の向上のために、H2O2の添加と紫外線照射とを併用することも考えられるが、先行技術では、被処理水中のTOC濃度が低い場合にH2O2の添加と紫外線照射とを併用する際の処理条件や効果などについては示されていない。 In pure water production, in order to decompose and remove the TOC component in the water to be treated, an ultraviolet oxidation treatment is generally performed. However, when the TOC concentration in the water to be treated is low, the required power becomes large and the running cost of the apparatus is increased. Becomes larger. In order to improve the decomposition efficiency of organic matter, it is conceivable to use both H 2 O 2 addition and ultraviolet irradiation. However, in the prior art, when the TOC concentration in the water to be treated is low, addition of H 2 O 2 and ultraviolet irradiation It does not show the processing conditions and effects when combined with irradiation.
本発明の目的は、被処理水中のTOC濃度が低い場合であっても、装置の小型化と高速処理が可能であって、ランニングコストを抑えることができ、有機物分解効率が向上した純水製造方法及び装置を提供することにある。 The object of the present invention is to produce pure water that can reduce the size and speed of the apparatus even when the TOC concentration in the water to be treated is low, reduce the running cost, and improve the decomposition efficiency of organic matter. It is to provide a method and apparatus.
本発明の純水製造方法は、TOC(全有機炭素)が10ppb以上100ppb以下である被処理水に対し、過酸化水素(H2O2)をTOCに対して物質量比で1以上10以下となるように添加し、紫外線を照射する工程を少なくとも含むことを特徴とする。 In the pure water production method of the present invention, hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) is 1 to 10 in terms of the amount of hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) with respect to TOC with respect to water to be treated having a TOC (total organic carbon) of 10 ppb to 100 ppb. And at least a step of irradiating with ultraviolet rays.
本発明の純水製造装置は、TOCが10ppb以上100ppb以下である被処理水に対し、過酸化水素をTOCに対して物質量比で1以上10以下となるように添加する添加手段と、添加手段により過酸化水素が添加された被処理水に対し、紫外線を照射して紫外線酸化処理を実行する紫外線酸化装置と、を少なくとも備えることを特徴とする。 An apparatus for producing pure water according to the present invention includes an addition means for adding hydrogen peroxide to a to-be-treated water having a TOC of 10 ppb or more and 100 ppb or less so that the amount of hydrogen peroxide is 1 or more and 10 or less with respect to the TOC. It comprises at least an ultraviolet oxidation device that performs ultraviolet oxidation treatment by irradiating ultraviolet rays to the water to be treated to which hydrogen peroxide has been added by the means.
TOC濃度が低い場合にH2O2を多量に添加しても、OHラジカルが無駄に生成し、式(2)に示す反応が起こって、効率的な処理を行うことができない。H2O2の添加量を物質量比でTOCの10以下とすることで、無駄にOHラジカルを生成させることなく、効率的に有機物の分解処理を実行できるようになる。 Even if H 2 O 2 is added in a large amount when the TOC concentration is low, OH radicals are generated wastefully, and the reaction shown in Formula (2) occurs, so that efficient treatment cannot be performed. By setting the amount of H 2 O 2 added to be 10 or less of the TOC in terms of the amount of substances, the organic substance can be efficiently decomposed without generating OH radicals in vain.
本発明によれば、TOCが10ppb以上100ppb以下である被処理水に対し、H2O2をTOCに対して物質比で1以上10以下となるように添加することで、無駄にOHラジカルを生成することなく、少量のH2O2の添加量で、TOCの除去効率を大幅に向上させることができるようになる。これにより、紫外線酸化装置の装置規模を小さくし、また、必要な紫外線ランプの本数と消費電力コストとを大幅に削減できるようになる。 According to the present invention, H 2 O 2 is added to the water to be treated having a TOC of 10 ppb or more and 100 ppb or less so that the substance ratio is 1 or more and 10 or less with respect to the TOC. The generation efficiency of TOC can be greatly improved with a small amount of H 2 O 2 added without being generated. As a result, the scale of the ultraviolet oxidation apparatus can be reduced, and the number of necessary ultraviolet lamps and the power consumption cost can be greatly reduced.
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明に基づく純水製造方法は、例えば、純水の製造の過程において、被処理水中のTOC成分の分解除去を行うことを目的とするものである。被処理水としては、少なくとも脱塩処理がなされた、純水レベルの水を想定しており、TOC濃度が100ppb以下であるものとしている。したがって本発明に基づく純水製造方法は、TOCが10ppb以上100ppb以下である被処理水に対し、H2O2をTOCに対して物質量比で1以上10以下となるように添加し、紫外線を照射する工程を少なくとも含むことを特徴とする。そのような純水製造方法を実行するために用いられる純水製造装置は、TOCが10ppb以上100ppb以下である被処理水に対し、H2O2をTOCに対して物質量比で1以上10以下となるように添加する添加手段と、添加手段によりH2O2が添加された被処理水に対し、紫外線を照射して紫外線酸化処理を実行する紫外線酸化装置と、を少なくとも備えることを特徴とする。被処理水の抵抗率は、1MΩcm以上であることが好ましい。 The pure water manufacturing method based on this invention aims at performing decomposition | disassembly removal of the TOC component in to-be-processed water, for example in the process of manufacture of pure water. As the water to be treated, at least demineralized water at a pure water level is assumed, and the TOC concentration is 100 ppb or less. Therefore, in the pure water production method according to the present invention, H 2 O 2 is added to the water to be treated having a TOC of 10 ppb or more and 100 ppb or less so that the substance amount ratio is 1 or more and 10 or less with respect to the TOC. It is characterized by including the process of irradiating at least. The water purifying apparatus used to perform such a water purification process, with respect to water to be treated TOC is less than 100ppb least 10 ppb, 1 or more in substance amount ratio H 2 O 2 relative to TOC 10 It is characterized by comprising at least an addition means for adding so as to be as follows, and an ultraviolet oxidation apparatus for performing ultraviolet oxidation treatment by irradiating ultraviolet rays to the water to be treated to which H 2 O 2 has been added by the addition means. And The resistivity of the water to be treated is preferably 1 MΩcm or more.
このような純水製造装置は、一次純水を製造するための純水製造システムに適用できるほか、二次純水製造用のシステム、いわゆるサブシステムにも適用できるものである。以下、本発明をサブシステムに適用した場合を例に挙げて、本発明の実施形態を説明することとする。 Such a pure water production apparatus can be applied not only to a pure water production system for producing primary pure water, but also to a system for producing secondary pure water, a so-called subsystem. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described by taking the case where the present invention is applied to a subsystem as an example.
図1は、本発明の実施の一形態における純水製造システムを示している。 FIG. 1 shows a pure water production system according to an embodiment of the present invention.
このシステムは、純水を貯留するタンク11と、タンク11から純水を送出するポンプ(P)12を備え、ポンプ12に対し、熱交換器15、紫外線酸化装置(UV)16、非再生型混床式イオン交換装置(CP)17、限外濾過装置(UF)19がこの順で接続し、限外濾過装置19からの水がタンク11に戻されるようになっている。非再生型混床式イオン交換装置17と限外濾過装置19との間には、必要に応じて、膜脱気装置(MD)18が挿入されていてもよい。紫外線酸化装置16に供給される水のTOC濃度は、10ppb以上100ppb以下であるものとする。さらにこのシステムは、H2O2を貯えるH2O2貯槽13と、熱交換器15と紫外線酸化装置16とを接続する配管に接続し、この配管中の被処理水に対して、H2O2を被処理水のTOCに対して物質量比で1以上10以下となるように添加するようにH2O2貯槽13からH2O2を供給するポンプ14と、を備えている。
This system includes a
このようなシステムでは、タンク11に貯えられた純水が、被処理水として、ポンプ12により、まず熱交換器12に送られて温度が調整される。その後、H2O2を添加され、紫外線酸化装置16において紫外線を照射される。その結果、被処理水中のTOC成分が分解される。その後、被処理水は非再生型混床式イオン交換装置17に送られるので、紫外線酸化処理によって生成した有機酸及び二酸化炭素(CO2)は、非再生型混床式イオン交換装置17において除去される。さらに、被処理水は、限外濾過装置19に送られ(場合によっては膜脱気装置18を介して限外濾過装置19に送られ)、高度に不純物が除去された水となって、ユースポイントに送られることになる。使用されなかった水は、循環されて、タンク11に戻される。
In such a system, pure water stored in the
この構成において紫外線酸化装置16は、例えば、被処理水と気相との界面が形成されない密閉流通式の反応容器と、反応容器内の被処理水に対して紫外線を照射する紫外線ランプと、を備えるものであることが好ましい。紫外線ランプとしては、例えば、波長185nmの光を少なくとも発生する低圧紫外線ランプを用いることができる。
In this configuration, the
低圧紫外線ランプからの光には、波長185nmの成分のほかに、波長254nmの成分も含まれる。従来技術では、波長185nmの光は効率的にTOC成分の分解に寄与できたものの波長254nmの光はTOC成分の分解への寄与が少なかったが、本実施形態では、H2O2を添加することにより、波長254nmの光もTOC成分の分解に寄与することができるようになる。 The light from the low-pressure ultraviolet lamp includes a component having a wavelength of 254 nm in addition to a component having a wavelength of 185 nm. In the prior art, light with a wavelength of 185 nm can efficiently contribute to the decomposition of the TOC component, while light with a wavelength of 254 nm has little contribution to the decomposition of the TOC component. However, in this embodiment, H 2 O 2 is added. As a result, light having a wavelength of 254 nm can also contribute to the decomposition of the TOC component.
H2O2の添加と主に波長254nmの光を放射する高圧紫外線ランプとの併用によるTOC成分の分解処理も可能であるが、分解効率を高めて反応装置内での被処理水の滞留時間を短くし、装置を小型化するためには、紫外線照射に、(波長185nmの成分を放射する)低圧紫外線ランプを用いることが好ましい。 Although it is possible to decompose the TOC component by using H 2 O 2 in combination with a high-pressure ultraviolet lamp that mainly emits light with a wavelength of 254 nm, the residence time of the water to be treated in the reactor is improved by improving the decomposition efficiency. In order to shorten the size and reduce the size of the apparatus, it is preferable to use a low-pressure ultraviolet lamp (radiating a component having a wavelength of 185 nm) for ultraviolet irradiation.
本実施形態では、紫外線照射における照射量を1kWh/m3以下とすることが好ましい。被処理水中のTOC濃度が低いために、高い照射量で大量にOHラジカルを生成したとしても、式(2)に示す反応でOHラジカルが消費されることとなるから、効率的な処理を行うことができない。照射量を1kWh/m3以下とすることにより、無駄にOHラジカルを生成させることなく、効率的な処理を行うことができるようになる。 In this embodiment, it is preferable that the irradiation amount in ultraviolet irradiation shall be 1 kWh / m < 3 > or less. Since the TOC concentration in the water to be treated is low, even if a large amount of OH radicals are generated with a high irradiation dose, the OH radicals are consumed in the reaction shown in the formula (2), so that efficient treatment is performed. I can't. By setting the irradiation amount to 1 kWh / m 3 or less, an efficient process can be performed without generating OH radicals in vain.
紫外線酸化装置の反応容器として、被処理水と気相との界面が形成されない密閉流通式の反応容器を用いることで、水中を透過した波長254nmの光が気相へ抜けることがなくなって水中に留まり、式(1)に示すOHラジカルの生成反応に有効に用いられるようになる。波長254nmの光の有効利用の観点からは、反応容器の内面は、ステンレス鋼などの金属製で鏡面仕上げされていることが好ましい。 By using a closed flow type reaction vessel in which the interface between the water to be treated and the gas phase is not formed as the reaction vessel of the ultraviolet oxidizer, light having a wavelength of 254 nm that has passed through the water does not escape to the gas phase, so The OH radical is effectively used for the reaction of generating OH radicals represented by the formula (1). From the viewpoint of effective use of light having a wavelength of 254 nm, the inner surface of the reaction vessel is preferably made of a metal such as stainless steel and mirror-finished.
図2は、別の実施形態における純水製造システムを示している。 FIG. 2 shows a pure water production system according to another embodiment.
図2に示すシステムは、図1に示す純水製造システムにおいて、紫外線酸化装置16から流出する処理水から残留H2O2を除去するために、紫外線酸化装置16と非再生型混床式イオン交換装置17の間に、触媒塔20を配置したものである。触媒塔20内には、白金族金属触媒が設けられており、処理水が白金族金属触媒と接触することにより、H2O2の残留分が触媒分解によって除去される。H2O2の分解触媒としては活性炭も知られているが、純水系での適用を考えると、溶出物の少ない白金族金属触媒を用いることが好ましい。ここでいう白金族金属とは、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、白金(Pt)のことであり、これらの一種類を単独で用いてもよいし、二種類以上を組み合わせて使用してもよい。これら白金族金属のうち、PtやPdなどを好ましく使用することができ、コスト等の観点からはPdが好ましい。
The system shown in FIG. 2 is the same as the pure water production system shown in FIG. 1 in order to remove residual H 2 O 2 from the treated water flowing out from the
このような白金族金属触媒は、触媒塔20内において、例えば、アニオン交換体に担持させられている。アニオン交換体は、粒状のアニオン交換樹脂であってもよいし、アニオン交換樹脂が一体のものとして成形されたモノリス状有機多孔質アニオン交換体であってもよい。ここで用いることができるモノリス状有機多孔質アニオン交換体は、例えば、特開2002−306976号公報、特開2009−62512号公報に記載されている。アニオン交換体に白金族金属触媒を担持することにより、高い触媒能力の発揮と、触媒からの溶出物の低減に効果がある。
Such a platinum group metal catalyst is supported on, for example, an anion exchanger in the
白金族金属触媒を有する触媒塔20を設け、被処理水に添加したH2O2及び紫外線酸化装置16で発生したH2O2を白金族金属触媒に接触させることにより、H2O2を極低濃度にまで除去することができる。これにより、酸化性物質であるH2O2によって後段の非再生型混床式イオン交換装置17内のイオン交換樹脂が酸化劣化するなどの悪影響を防ぐことができる。
The
なお、図2に示すシステムにおいては、触媒塔20の後段に、非再生型混床式イオン交換装置(CP)17、膜脱気装置(MD)18、限外濾過装置(UF)19がこの順で接続されているが、膜脱気装置(MD)18、非再生型混床式イオン交換装置(CP)17、限外濾過装置(UF)19の順で接続されていても構わない。
In the system shown in FIG. 2, a non-regenerative mixed bed ion exchanger (CP) 17, a membrane deaerator (MD) 18, and an ultrafiltration device (UF) 19 are provided at the rear stage of the
図3は、さらに別の実施形態における純水製造システムを示している。 FIG. 3 shows a pure water production system in still another embodiment.
図3に示すシステムは、図2に示すシステムにおいて、溶存酸素(DO)の除去のために水素(H2)を添加するようにしたものである。H2添加のために、紫外線酸化装置16と触媒塔20との間にガス溶解膜装置22が設けられ、ガス溶解膜装置22には、H2貯槽21からH2が供給されている。
The system shown in FIG. 3 is obtained by adding hydrogen (H 2 ) to remove dissolved oxygen (DO) in the system shown in FIG. In order to add H 2 , a gas dissolution membrane device 22 is provided between the
この構成では、紫外線酸化装置16からの処理水は、H2を溶解させられた後に、白金族金属触媒と接触させられる。PdあるいはPt等の白金族金属触媒は、溶存水素の存在下で溶存酸素を除去できる。H2溶解後に白金族金属触媒で処理することによって、残留H2O2の除去とDOの除去とを同時に行うことができる。
In this configuration, the treated water from the
本発明者らが行った実施例に基づいて、本発明をさらに詳しく説明する。 The present invention will be described in more detail based on examples performed by the present inventors.
実施例及び比較例の実施のために、図4に示す構成の水処理装置を組み立てた。この装置は、超純水に対して有機物としてメタノール(CH3OH)を添加することにより、TOC濃度が制御された被処理水を生成し、さらに、H2O2を添加して紫外線酸化処理を行うようにしたものである。 For the implementation of the examples and comparative examples, a water treatment apparatus having the configuration shown in FIG. 4 was assembled. This equipment generates water to be treated with controlled TOC concentration by adding methanol (CH 3 OH) as an organic substance to ultrapure water, and further, H 2 O 2 is added to carry out ultraviolet oxidation treatment. Is to do.
超純水が供給される配管に対し、メタノール貯槽31からポンプ(P)を介してメタノールが供給され、H2O2貯槽32からポンプ(P)を介してH2O2が供給され、メタノールとH2O2が加えられた超純水はラインミキサー33に送られ、これらがよく混合される。ここで用いる超純水の水質は、抵抗率が18MΩcm以上、TOCが1ppb(μg/L)以下、H2O2が12〜14ppb(μg/L)、溶存酸素(DO)が5ppb(μg/L)未満であった。ラインミキサー33から流出する水を被処理水とし、その被処理水におけるTOC濃度をTOC計39(シーバース社製のSIEVERS900型TOC計)によってオンライン測定した。被処理水のH2O2濃度は、図示(S)で示すようにサンプリングした後、フェノールフタリン法を用いて吸光光度計で測定した。
To pipe ultrapure water is supplied, the methanol is supplied from the
ラインミキサー33から流出する被処理水の一部を分岐して、流量計34を介して紫外線酸化装置35に供給した。紫外線酸化装置35としては、千代田工販社製のADF−4を使用した。紫外線酸化装置35内には、紫外線ランプとして、波長254nmの光と波長185nmの光の両方を発光する低圧紫外線ランプ(千代田工販社製の200Wの紫外線ランプSV−1500)を4本設置した。紫外線酸化装置35から流出する処理水の一部を分岐し(36L/h)、流量計36を介して、触媒塔37及び非再生型混床式イオン交換装置(CP)38の順で通水し、非再生型混床式イオン交換装置38の処理水のTOC濃度をTOC計40(ANATEL社製のA−1000XP型TOC計)によって測定するともに、この処理水をサンプリングし、残留H2O2濃度をフェノールフタリン法を用いて吸光光度計により測定した。
A part of the water to be treated flowing out from the
触媒塔37としては、アクリル樹脂製の円筒容器(内径25mm、高さ300mm)を有し、この容器内に触媒樹脂を100ml(層高約200mm)充填したものを用いた。触媒樹脂としては、アニオン交換樹脂にPdを担持したものであって、Pdの担持量が100mg−Pd/L−R(ゲル形、OH形:95%以上)のものを用いた。非再生型混床式イオン交換装置38としては、アクリル樹脂製の円筒容器(内径25mm、高さ1000mm)を有し、この容器内に混床のイオン交換樹脂を300ml(層高約600mm)充填したものを用いた。
As the
TOC除去率は、以下の計算式により求めた:
TOC除去率(%)=((TOC0−TOC1)/TOC0)×100
ここでTOC0は、被処理水のTOC濃度、すなわちTOC計39で測定されたTOC濃度であり、TOC1は、非再生型混床式イオン交換装置38からの処理水のTOC濃度、すなわちTOC計40で測定されたTOC濃度である。
The TOC removal rate was determined by the following formula:
TOC removal rate (%) = ((TOC0−TOC1) / TOC0) × 100
Here, TOC0 is the TOC concentration of the water to be treated, that is, the TOC concentration measured by the
[実施例1]
被処理水として、通水流量10.6m3/hに対して、TOC濃度が10ppb及びH2O2濃度が200ppbとなるように、メタノール及びH2O2を超純水で希釈し、ラインミキサー33で混合したものを用いた。そして紫外線酸化装置35において、紫外線照射量が0.075kWh/m3、紫外線酸化装置35内の滞留時間が2.4秒であるように、紫外線酸化処理を行った。このときの被処理水のTOCに対するH2O2の物質量比は7.1である。非再生型混床式イオン交換装置38からの処理水のTOC濃度を求めてTOC除去率を算出した。結果を表1に示す。
[Example 1]
As water to be treated, methanol and H 2 O 2 are diluted with ultrapure water so that the TOC concentration becomes 10 ppb and the H 2 O 2 concentration becomes 200 ppb with respect to a water flow rate of 10.6 m 3 / h. What was mixed with the
表1に示されるように、TOC除去率は92.8%であり、少量のH2O2を添加することで高いTOC除去率が得られることが分かった。また処理水での残留H2O2濃度は1ppb未満であった。 As shown in Table 1, the TOC removal rate was 92.8%, and it was found that a high TOC removal rate was obtained by adding a small amount of H 2 O 2 . The residual H 2 O 2 concentration in the treated water was less than 1 ppb.
[比較例1−1,1−2]
被処理水のH2O2濃度がそれぞれ400ppb、1000ppbであったことを除いて、実施例1と同様の条件で試験を行った。このときの被処理水のTOCに対するH2O2の物質量比は、それぞれ14.1、35.3であった。TOC除去率の結果を表1に示す。
[Comparative Examples 1-1 and 1-2]
The test was performed under the same conditions as in Example 1 except that the H 2 O 2 concentration of the water to be treated was 400 ppb and 1000 ppb, respectively. At this time, the mass ratio of H 2 O 2 to TOC of the water to be treated was 14.1 and 35.3, respectively. Table 1 shows the results of the TOC removal rate.
実施例1と比較してH2O2を過剰に添加してもTOC除去効率は向上せず、物質量比が14.1のときにはTOC除去率が91.4%、物質量比が35.3ではTOC除去率が78.9%であって、むしろH2O2を過剰に加えることでTOC除去率が低下することが分かる。 Even if H 2 O 2 is added excessively as compared with Example 1, the TOC removal efficiency is not improved. When the substance ratio is 14.1, the TOC removal rate is 91.4% and the substance quantity ratio is 35. In FIG. 3, the TOC removal rate is 78.9%, but it can be seen that the TOC removal rate is lowered by adding H 2 O 2 excessively.
[比較例1−3]
被処理水にH2O2を添加しなかったことを除いては実施例1と同様の条件で試験を行った。結果を表1に示す。TOC除去率は82.6%であり、実施例1の結果を比較すると、少量のH2O2を添加することで、TOC濃度が低い純水系であってもTOC除去効率が大幅に向上することが分かった。
[Comparative Example 1-3]
The test was performed under the same conditions as in Example 1 except that H 2 O 2 was not added to the water to be treated. The results are shown in Table 1. The TOC removal rate is 82.6%. Comparing the results of Example 1, the addition of a small amount of H 2 O 2 greatly improves the TOC removal efficiency even in a pure water system having a low TOC concentration. I understood that.
[実施例2−1,2−2]
被処理水のTOC濃度が20ppbであること、また、H2O2濃度がそれぞれ200ppb、400ppbであることを除いては、実施例1と同様の条件で試験を行った。被処理水のTOCに対するH2O2の物質量比はそれぞれ3.5、7.1であった。結果を表2に示す。
[Examples 2-1 and 2-2]
The test was performed under the same conditions as in Example 1 except that the TOC concentration of the water to be treated was 20 ppb and the H 2 O 2 concentrations were 200 ppb and 400 ppb, respectively. The mass ratio of H 2 O 2 to TOC of the water to be treated was 3.5 and 7.1, respectively. The results are shown in Table 2.
表2に示されるように、H2O2のTOCに対する物質量比が3.5のときにTOC除去率が85.5%、物質量比が7.1のときに89.4%であり、少量のH2O2を添加することでTOC除去率が向上することが分かる。また、いずれの場合も、非再生型混床式イオン交換装置38からの処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。
As shown in Table 2, the TOC removal rate is 85.5% when the mass ratio of H 2 O 2 to TOC is 3.5, and 89.4% when the mass ratio is 7.1. It can be seen that the TOC removal rate is improved by adding a small amount of H 2 O 2 . In any case, the residual H 2 O 2 concentration of the treated water from the non-regenerative mixed
[比較例2−1]
被処理水でのH2O2濃度を1000ppbとしたことを除いては、実施例2−1,2−2と同様の試験を行った。結果を表2に示す。実施例2−1,2−2と比較すると、TOCに対し物質量比で17.6となるH2O2を加えた場合、TOC除去率が低下する傾向が見られた。処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。
[Comparative Example 2-1]
The same tests as in Examples 2-1 and 2-2 were performed except that the H 2 O 2 concentration in the water to be treated was 1000 ppb. The results are shown in Table 2. In comparison with Examples 2-1 and 2-2, when H 2 O 2 having a substance amount ratio of 17.6 with respect to TOC was added, the TOC removal rate tended to decrease. The residual H 2 O 2 concentration of the treated water was less than 1 ppb.
[比較例2−2]
被処理水にH2O2を添加しなかったことを除いては実施例2−1,2−2と同様の条件で試験を行った。結果を表2に示す。TOC除去率は60.6%と低い値となった。
[Comparative Example 2-2]
The test was performed under the same conditions as in Examples 2-1 and 2-2 except that H 2 O 2 was not added to the water to be treated. The results are shown in Table 2. The TOC removal rate was a low value of 60.6%.
[実施例3−1,3−2,3−3]
被処理水のTOC濃度を50ppbとし、H2O2濃度をそれぞれ200ppb、400ppb、1000ppbとした。このときのTOCに対するH2O2の物質量比は、それぞれ、1.4、2.8、7.1であった。また、被処理水の通水流量を4m3/hとし、紫外線照射量を0.2kWh/m3とし、紫外線酸化装置35内での被処理水の滞留時間を6.3秒とした。その他の実験条件は実施例1と同様にして、試験を行った。結果を表3に示す。
[Examples 3-1, 3-2, 3-3]
The TOC concentration of the water to be treated was 50 ppb, and the H 2 O 2 concentrations were 200 ppb, 400 ppb, and 1000 ppb, respectively. At this time, the mass ratio of H 2 O 2 to TOC was 1.4, 2.8, and 7.1, respectively. Further, the flow rate of the water to be treated was 4 m 3 / h, the amount of ultraviolet irradiation was 0.2 kWh / m 3, and the residence time of the water to be treated in the
表3に示されるように、H2O2のTOCに対する物質量比が1.4のときにTOC除去率が84.1%、物質量比が2.8のときに91.8%、物質量比が7.1のときに97.4%であり、物質量比が10程度までの領域では、H2O2の添加量を大きくすることでTOC除去率が向上する結果となった。また、いずれの場合も、処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。 As shown in Table 3, the TOC removal rate is 84.1% when the mass ratio of H 2 O 2 to TOC is 1.4, and 91.8% when the mass ratio is 2.8. When the amount ratio was 7.1, it was 97.4%, and in the region where the substance amount ratio was up to about 10, the TOC removal rate was improved by increasing the amount of H 2 O 2 added. In any case, the residual H 2 O 2 concentration of the treated water was less than 1 ppb.
[比較例3−1,3−2]
被処理水でのH2O2濃度をそれぞれ3000ppb、5000ppbとしたことを除いては、実施例3−1〜3−3と同様の試験を行った。結果を表3に示す。H2O2のTOCに対する物質量比が21.2の場合にTOC除去率が90.4%、物質量比が35.3の場合に88.4%であり、H2O2を過剰に加えた場合には、TOC除去率が低下する傾向が見られた。処理水の残留H2O2濃度はいずれも1ppb未満であった。
[Comparative Examples 3-1 and 3-2]
The same tests as in Examples 3-1 to 3-3 were performed except that the H 2 O 2 concentration in the water to be treated was 3000 ppb and 5000 ppb, respectively. The results are shown in Table 3. H 2 O material weight ratio TOC of 2 is TOC removal rate in the case of 21.2 90.4%, and 88.4% if substance amount ratio of 35.3, over-the H 2 O 2 When added, the tendency for the TOC removal rate to decrease was observed. The residual H 2 O 2 concentration in the treated water was less than 1 ppb.
[比較例3−3]
被処理水にH2O2を添加しなかったことを除いては実施例3−1〜3−3と同様の条件で試験を行った。結果を表3に示す。TOC除去率は50.4%と低い値となった。
[Comparative Example 3-3]
The test was performed under the same conditions as in Examples 3-1 to 3-3 except that H 2 O 2 was not added to the water to be treated. The results are shown in Table 3. The TOC removal rate was a low value of 50.4%.
[実施例4−1,4−2]
被処理水のTOC濃度を100ppbとし、H2O2濃度をそれぞれ1000ppb、2800ppbとした。このときのTOCに対するH2O2の物質量比は、それぞれ、3.5、9.9であった。また、被処理水の通水流量を2.7m3/hとし、紫外線照射量を0.3kWh/m3とし、紫外線酸化装置35内での被処理水の滞留時間を9.3秒とした。その他の実験条件は実施例1と同様にして、試験を行った。結果を表4に示す。
[Examples 4-1 and 4-2]
The TOC concentration of the water to be treated was 100 ppb, and the H 2 O 2 concentrations were 1000 ppb and 2800 ppb, respectively. At this time, the mass ratio of H 2 O 2 to TOC was 3.5 and 9.9, respectively. Further, the flow rate of the water to be treated was set to 2.7 m 3 / h, the amount of ultraviolet irradiation was set to 0.3 kWh / m 3, and the residence time of the water to be treated in the
表4に示されるように、H2O2のTOCに対する物質量比が3.5のときにTOC除去率が92.5%、物質量比が9.9のときに95.2%であり、物質量比が10以下の領域では、H2O2の添加量を大きくすることでTOC除去率が向上する結果となった。また、いずれの場合も、処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。 As shown in Table 4, the TOC removal rate is 92.5% when the mass ratio of H 2 O 2 to TOC is 3.5, and 95.2% when the mass ratio is 9.9. In the region where the substance ratio is 10 or less, the TOC removal rate was improved by increasing the amount of H 2 O 2 added. In any case, the residual H 2 O 2 concentration of the treated water was less than 1 ppb.
[比較例4−1]
被処理水でのH2O2濃度を200ppbとしたことを除いては、実施例4−1,4−2と同様の試験を行った。結果を表4に示す。H2O2のTOCに対する物質量比が0.7の場合にはTOC除去率が53.1%であり、実施例4−1,4−2に比べてかなり小さな値となった。このことから、被処理水のTOCに対するH2O2が物質量比で1以下となるように極端にH2O2の添加量が少ない場合には、H2O2を添加したことによる十分な効果が得られないことが分かった。処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。
[Comparative Example 4-1]
The same tests as in Examples 4-1 and 4-2 were performed except that the H 2 O 2 concentration in the water to be treated was 200 ppb. The results are shown in Table 4. When the mass ratio of H 2 O 2 to TOC was 0.7, the TOC removal rate was 53.1%, which was a considerably smaller value than Examples 4-1 and 4-2. Therefore, when the amount of H 2 O 2 added is extremely small so that the amount of H 2 O 2 with respect to the TOC of the water to be treated is 1 or less, it is sufficient that H 2 O 2 is added. It was found that the effect is not obtained. The residual H 2 O 2 concentration of the treated water was less than 1 ppb.
[比較例4−2]
被処理水でのH2O2濃度を5000ppbとしたことを除いては、実施例4−1,4−2と同様の試験を行った。結果を表4に示す。H2O2のTOCに対する物質量比が17.6の場合にTOC除去率が94.5%であり、H2O2を過剰に加えてもTOC除去率が向上しない結果が得られた。処理水の残留H2O2濃度は1ppb未満であった。
[Comparative Example 4-2]
The same tests as in Examples 4-1 and 4-2 were performed except that the H 2 O 2 concentration in the water to be treated was set to 5000 ppb. The results are shown in Table 4. When the mass ratio of H 2 O 2 to TOC was 17.6, the TOC removal rate was 94.5%, and even when H 2 O 2 was added excessively, the TOC removal rate was not improved. The residual H 2 O 2 concentration of the treated water was less than 1 ppb.
[比較例4−3]
被処理水にH2O2を添加しなかったことを除いては実施例4−1,4−2と同様の条件で試験を行った。結果を表4に示す。TOC除去率は29.2%と低い値となった。
[Comparative Example 4-3]
The test was performed under the same conditions as in Examples 4-1 and 4-2, except that H 2 O 2 was not added to the water to be treated. The results are shown in Table 4. The TOC removal rate was as low as 29.2%.
11 タンク
12,13 ポンプ(P)
14,32 H2O2貯槽
15 熱交換器
16,35 紫外線酸化装置(UV)
17,38 非再生型混床式イオン交換装置(CP)
18 膜脱気装置(MD)
19 限外濾過装置(UF)
20,37 触媒塔
21 H2貯槽
22 ガス溶解膜装置
31 メタノール貯槽
33 ラインミキサー
34,36 流量計
39,40 TOC計
11
14, 32 H 2 O 2 storage tank 15
17,38 Non-regenerative mixed bed ion exchanger (CP)
18 Membrane deaerator (MD)
19 Ultrafiltration equipment (UF)
20, 37 Catalyst tower 21 H 2 storage tank 22 Gas
Claims (6)
前記紫外線は、波長185nmの光を含み、低圧紫外線ランプによって発生されるものであり、
前記被処理水に対する前記紫外線の照射量は1kWh/m 3 未満であることを特徴とする純水製造方法。 To treated water TOC is less than 100ppb above 10 ppb, was added to a 1 to 10 with a substance weight ratio of hydrogen peroxide relative to the TOC, at least viewed including the step of irradiating ultraviolet rays,
The ultraviolet ray includes light having a wavelength of 185 nm and is generated by a low-pressure ultraviolet lamp,
The method for producing pure water, wherein an irradiation amount of the ultraviolet rays to the water to be treated is less than 1 kWh / m 3 .
前記添加手段により前記過酸化水素が添加された被処理水に対し、紫外線を照射して紫外線酸化処理を実行する紫外線酸化装置と、
を少なくとも備え、
前記紫外線酸化装置は、前記被処理水と気相との界面が形成されない密閉流通式の反応容器と、波長185nmの光を少なくとも発生して前記反応容器内の前記被処理水に対して紫外線を照射する低圧紫外線ランプと、を備え、
前記被処理水に対する前記紫外線の照射量は1kWh/m 3 未満であることを特徴とする純水製造装置。 An addition means for adding hydrogen peroxide to the water to be treated having a TOC of 10 ppb or more and 100 ppb or less so that the amount of hydrogen peroxide is 1 or more and 10 or less with respect to TOC;
An ultraviolet oxidation apparatus that performs ultraviolet oxidation treatment by irradiating ultraviolet rays to the water to be treated to which the hydrogen peroxide has been added by the adding means;
With at least,
The ultraviolet oxidation apparatus includes a sealed flow type reaction vessel in which an interface between the water to be treated and a gas phase is not formed, and generates at least light having a wavelength of 185 nm to emit ultraviolet rays to the water to be treated in the reaction vessel. A low-pressure ultraviolet lamp for irradiation,
An apparatus for producing pure water, wherein an irradiation amount of the ultraviolet rays to the water to be treated is less than 1 kWh / m 3 .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010086899A JP5512357B2 (en) | 2010-04-05 | 2010-04-05 | Pure water production method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010086899A JP5512357B2 (en) | 2010-04-05 | 2010-04-05 | Pure water production method and apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011218248A JP2011218248A (en) | 2011-11-04 |
JP5512357B2 true JP5512357B2 (en) | 2014-06-04 |
Family
ID=45035911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010086899A Active JP5512357B2 (en) | 2010-04-05 | 2010-04-05 | Pure water production method and apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5512357B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012061443A (en) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | Apparatus of manufacturing pure water or ultrapure water, and method of manufacturing the same |
JP2018089587A (en) * | 2016-12-05 | 2018-06-14 | 栗田工業株式会社 | Apparatus for producing ultrapure water and method for operating the same |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6752693B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-09-09 | オルガノ株式会社 | Water treatment method and equipment |
JP6752692B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-09-09 | オルガノ株式会社 | Water treatment method and equipment |
JP7125850B2 (en) * | 2018-03-29 | 2022-08-25 | オルガノ株式会社 | Gas-dissolved water supply system and gas-dissolved water supply method |
JP2022138429A (en) | 2021-03-10 | 2022-09-26 | オルガノ株式会社 | Water treatment method and device |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5086159A (en) * | 1973-12-03 | 1975-07-11 | ||
JPS61101292A (en) * | 1984-10-24 | 1986-05-20 | Kurita Water Ind Ltd | Apparatus for making pure water |
JP3110034B2 (en) * | 1990-06-06 | 2000-11-20 | 中野 浩二 | Method to remove organic matter and dissolved oxygen simultaneously |
WO1997030939A1 (en) * | 1996-02-20 | 1997-08-28 | Nomura Micro Science Co., Ltd. | Method and apparatus for producing ultrapure water |
JP4552327B2 (en) * | 2001-01-18 | 2010-09-29 | 栗田工業株式会社 | Ultrapure water production equipment |
JP2008136914A (en) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Nomura Micro Sci Co Ltd | Apparatus for producing ultrapure water |
JP5454468B2 (en) * | 2008-03-31 | 2014-03-26 | 栗田工業株式会社 | Pure water production method and pure water production apparatus |
-
2010
- 2010-04-05 JP JP2010086899A patent/JP5512357B2/en active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012061443A (en) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | Apparatus of manufacturing pure water or ultrapure water, and method of manufacturing the same |
JP2018089587A (en) * | 2016-12-05 | 2018-06-14 | 栗田工業株式会社 | Apparatus for producing ultrapure water and method for operating the same |
WO2018105188A1 (en) * | 2016-12-05 | 2018-06-14 | 栗田工業株式会社 | Ultrapure water production apparatus and operation method for ultrapure water production apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011218248A (en) | 2011-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5512357B2 (en) | Pure water production method and apparatus | |
CN109906206B (en) | Water treatment method and apparatus | |
TWI732969B (en) | Water treatment method and apparatus | |
JP2007185587A (en) | Method and device for removing hydrogen peroxide | |
JP5750236B2 (en) | Pure water production method and apparatus | |
JPH1199395A (en) | Treatment of organic matter containing water | |
CN111183118B (en) | Method and device for removing hydrogen peroxide | |
JP5512358B2 (en) | Pure water production method and apparatus | |
JP4978275B2 (en) | Primary pure water production process water treatment method and apparatus | |
JPH1199394A (en) | Method for removing organic matter in water | |
JP4835498B2 (en) | Water treatment apparatus for ultrapure water production and water treatment system for ultrapure water production | |
JP2022002830A (en) | Pure water production device and pure water production method | |
JP2008173617A (en) | Water treatment apparatus and water treating method | |
TWI773374B (en) | Water treatment device, water treatment method, and regeneration-type ion exchange tower | |
JP2011240344A (en) | Water treatment apparatus for manufacturing ultrapure water | |
WO2022190608A1 (en) | Method and apparatus for treating water | |
JP2003145177A (en) | Deoxidation treatment method and deoxidation treatment apparatus | |
TW202216609A (en) | Water treatment device and water treatment method | |
JP2022002831A (en) | Pure water production device and pure water production method | |
JPH10180243A (en) | Ultrapure water production device | |
JPH09276858A (en) | Ultraviolet toc decomposing apparatus | |
JP2010227886A (en) | Apparatus for producing pure water | |
JPH10174804A (en) | Ultrapure water production device | |
JPH07290071A (en) | Method for removing organic matter and device therefor | |
JPH09206740A (en) | Superpure water production plant |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140318 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140326 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5512357 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |