JP5488101B2 - Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element - Google Patents
Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element Download PDFInfo
- Publication number
- JP5488101B2 JP5488101B2 JP2010069571A JP2010069571A JP5488101B2 JP 5488101 B2 JP5488101 B2 JP 5488101B2 JP 2010069571 A JP2010069571 A JP 2010069571A JP 2010069571 A JP2010069571 A JP 2010069571A JP 5488101 B2 JP5488101 B2 JP 5488101B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing
- organic
- ink
- substrate
- relief
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
本発明は、電子デバイスを凸版印刷法によって作製するために用いられる印刷用凸版、並びに印刷用凸版を用いて有機層を形成する電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子とする）とその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a printing relief plate used for producing an electronic device by a relief printing method, and an electronic device and an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an organic EL element) that form an organic layer using the relief printing plate. It relates to the manufacturing method.
一般的に、有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極基板の間に、有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことにより発光させるものであるが、効率良く発光させるには、有機発光層の膜厚のコントロールが重要であり、例えば膜厚１００ｎｍ程度に極めて薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。 In general, an organic EL element is one in which an organic light-emitting layer made of an organic light-emitting material is formed between two opposing electrode substrates, and light is emitted by passing a current through the organic light-emitting layer. In order to achieve this, it is important to control the film thickness of the organic light emitting layer. For example, it is necessary to form a very thin film with a film thickness of about 100 nm. Further, in order to make this a display, it is necessary to pattern it with high definition.
基板等に形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほど、パターニング精度が出難いという問題がある。 Organic light-emitting materials formed on a substrate or the like include a low molecular material and a polymer material. In general, a low molecular material is formed into a thin film on a substrate by resistance heating vapor deposition (vacuum vapor deposition) or the like. Patterning is performed using a mask, but this method has a problem that patterning accuracy is difficult to obtain as the substrate becomes larger.
一方、高分子系発光材料を用いてフルカラー化するために有機発光層をパターニングする手段としては、主にインキジェット法によるパターン形成方法と、印刷版を用いたパターン形成方法が提案されている。 On the other hand, as a means for patterning an organic light emitting layer in order to obtain a full color using a polymer light emitting material, a pattern forming method mainly using an ink jet method and a pattern forming method using a printing plate have been proposed.
インキジェット法によるパターン形成方法は、インキジェットノズルから溶剤に溶かした発光層形成用材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望のパターンを得る方法である（特許文献１）。しかしながら、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られないという問題点がある。 The pattern formation method by the ink jet method is a method for obtaining a desired pattern by ejecting a light emitting layer forming material dissolved in a solvent from an ink jet nozzle onto a substrate and drying it on the substrate (Patent Document 1). However, since the ink droplets ejected from the nozzle are spherical, the ink spreads in a circular shape when landing on the substrate, and the shape of the formed pattern lacks linearity or the landing accuracy is poor. Therefore, there is a problem that the linearity of the pattern cannot be obtained.
これに対し、例えば予め基板上にフォトリソグラフィなどにより撥インキ性のある材料でバンクを形成し、そこにインキ液滴を着弾させることで、バンクの部分でインキをはじかせ、直線性のパターンを得られるようにした方法が開示されている（特許文献２）。しかし、バンクの部分ではじかれたインキが画素内に戻るときに画素内部で盛り上がり、画素内の有機発光層の膜厚にバラツキができてしまうという問題がある。 On the other hand, for example, a bank is formed in advance on a substrate with a material having ink repellency by photolithography and the like, and ink droplets are landed on the bank, thereby causing ink to repel in the bank portion and creating a linear pattern. A method that can be obtained is disclosed (Patent Document 2). However, when the ink repelled in the bank portion returns to the inside of the pixel, there is a problem that the thickness of the organic light emitting layer in the pixel varies due to the rise inside the pixel.
そこで、有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、このインキを用い、凸版印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法によりパターニングする方法が提案されている。 Therefore, a method has been proposed in which an organic light emitting material is dissolved or dispersed in a solvent to form an ink, and this ink is used to perform patterning by a printing method such as a relief printing method, a reverse printing method, or a screen printing method.
さらに、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、各種印刷法の中でも、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。そのために、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等を適切な印刷法として採用することができる。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷によるパターン印刷方法、凸版印刷によるパターン印刷方法などが提唱されており、特に凸版印刷による方法はパターン形成精度、膜厚均一性などに優れ、印刷による有機ＥＬ素子の製造方法として適している（特許文献３、４）。 Furthermore, since a glass substrate is often used as the substrate in organic EL elements and displays, among various printing methods, a method using a hard plate such as a metal printing plate such as a gravure printing method is not suitable. For this purpose, printing methods using elastic rubber printing plates, offset printing methods using rubber printing blankets, and photosensitive resin plates based on elastic rubber and other resins are used. The letterpress printing method to be used can be adopted as an appropriate printing method. In fact, as a trial of these printing methods, a pattern printing method by offset printing, a pattern printing method by letterpress printing, etc. have been proposed. Particularly, the method by letterpress printing is excellent in pattern formation accuracy, film thickness uniformity, etc. It is suitable as a method for producing an organic EL element by the above (Patent Documents 3 and 4).
凸版印刷法では、インキは凸版上に均一になるように供給されているが、版から基板への転写時にインキが印刷方向へ向かって押し出され、転写が進むにつれて版上のインキ量が増大するため、被印刷領域の印刷開始側より終了側の膜厚が厚くなる傾向があった。この傾向は一般的な印刷物では問題とはならないが、凸版印刷法により有機ＥＬ素子の有機発光層を形成する場合には、導電性の低い有機発光層は膜厚が厚くなると導電率が低下して発光輝度が低下するため、有機発光層の膜厚が薄い印刷開始側と該膜厚が厚い終了側との輝度に差が生じるといった問題があった。 In the relief printing method, the ink is supplied uniformly on the relief plate, but the ink is pushed out in the printing direction when transferring from the plate to the substrate, and the amount of ink on the plate increases as the transfer proceeds. Therefore, there is a tendency that the film thickness on the end side is larger than the print start side in the printing area. This tendency is not a problem for general printed matter, but when the organic light emitting layer of the organic EL element is formed by letterpress printing, the conductivity of the organic light emitting layer with low conductivity decreases as the film thickness increases. As a result, there is a problem that a difference occurs in luminance between the printing start side where the thickness of the organic light emitting layer is thin and the end side where the thickness is thick.
本発明は上記の問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、凸版印刷法による有機層の成膜において均一な膜形成ができる印刷用凸版、並びにそれを用いた発光輝度ムラのない有機ＥＬ素子及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the problem is that a printing relief plate capable of forming a uniform film in the formation of an organic layer by the relief printing method, and the use thereof are used. It is to provide a method for producing an organic EL element and an electronic device having no uneven luminance.
上記の課題を解決するために本発明の趣旨は、基材上に複数の凸部よりなる印刷方向に平行なストライプパターンを有し、前記各凸部の先端が有機電子材料を主成分として含むインキを受領する面として形成され、前記インキ受領面に塗布されたインキを凸版印刷法によって被印刷基板に転写することで基板上に印刷パターンを形成する印刷用凸版であって、前記インキ受領面である凸部の幅が印刷開始側から終了側に向かって細幅化した凸部よりなるストライプパターンを備えている印刷用凸版を用いて有機層を形成する有機ＥＬ素子の製造方法とした。 In order to solve the above problems, the gist of the present invention is that the substrate has a stripe pattern parallel to the printing direction composed of a plurality of protrusions, and the tip of each protrusion includes an organic electronic material as a main component. A printing relief plate formed as a surface for receiving ink and forming a printing pattern on a substrate by transferring the ink applied to the ink reception surface to a printing substrate by a relief printing method, wherein the ink receiving surface A method for producing an organic EL element in which an organic layer is formed using a printing relief plate having a stripe pattern composed of convex portions whose widths are convex from the printing start side toward the end side.
即ち、請求項１にかかる発明としては、印刷方向と平行な方向に長いストライプ状の凸部が基材上に１つ以上形成された凸部パターンからなり、前記ストライプ状の凸部は少なくとも被印刷基板と最初に接触する印刷開始側から被印刷基板と最後に接触する印刷終了側を有し、インキ供給手段によって前記凸部上に供給されたインキを被印刷基板に転写する凸版印刷法に用いられる印刷用凸版であって、前記ストライプ状の凸部の幅は前記印刷開始側から前記印刷終了側にかけて一様に細くなっていることを特徴とする印刷用凸版とした。
また、請求項２にかかる発明としては、前記ストライプ状の凸部は、少なくとも対向する二つの長辺を有し、前記長辺が直線であることを特徴とする請求項１に記載の印刷用凸版とした。
また、請求項３にかかる発明としては、前記ストライプ状の凸部は、少なくとも対向する二つの長辺を有し、前記長辺が曲線であることを特徴とする請求項１に記載の印刷用凸版とした。
また、請求項４にかかる発明としては、少なくとも有機材料と溶媒からなる有機材料インキを基板上に凸版印刷法により塗布して形成する工程を含む電子デバイスの製造方法であって、基板上に凸版印刷法により塗布して形成する工程は、請求項１乃至３の何れか１項に記載の印刷用凸版に前記有機材料インキを供給する工程と、前記有機材料インキを被転写体に転写する工程と、からなることを特徴とする電子デバイスの製造方法とした。
また、請求項５にかかる発明としては、少なくとも基板上に形成された画素電極と、前記画素電極を格子状に区画する隔壁と、対向電極と、前記画素電極と前記対向電極との間に形成される有機発光層と、からなる有機ＥＬ素子であり、少なくとも有機発光材料と溶媒からなる有機発光インキを前記画素電極上に塗工する工程により前記有機発光層が形成される有機ＥＬ素子の製造方法において、前記有機発光インキを塗工する工程は、請求項１乃至３の何れか１項に記載の印刷用凸版に前記有機発光インキを供給する工程と、前記印刷用凸版上に供給されたインキを前記画素電極上に塗工する工程と、からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とした。
また、請求項６にかかる発明としては、前記画素電極の幅をＬ、前記隔壁の幅をＲとしたときに、前記印刷用凸版の凸部の幅ｗが０＜ｗ＜Ｌ＋２・Ｒの範囲であることを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とした。
That is, the invention according to claim 1 includes a convex pattern in which one or more stripe-shaped convex portions that are long in a direction parallel to the printing direction are formed on a substrate, and the stripe-shaped convex portions are at least covered. A relief printing method that has a printing end side that comes into contact with a substrate to be printed last from a printing start side that comes in contact with the printing substrate first, and transfers ink supplied onto the convex portion by an ink supply means to the printing substrate. A printing relief plate used, wherein the width of the stripe-shaped projection is uniformly narrowed from the printing start side to the printing end side.
The invention according to
The invention according to claim 3 is characterized in that the stripe-shaped convex portion has at least two opposing long sides, and the long sides are curved. A letterpress was used.
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an electronic device manufacturing method including a step of applying and forming an organic material ink comprising at least an organic material and a solvent on a substrate by a relief printing method. The step of applying and forming by a printing method includes a step of supplying the organic material ink to the relief printing plate according to any one of claims 1 to 3, and a step of transferring the organic material ink to a transfer object. An electronic device manufacturing method characterized by comprising:
According to a fifth aspect of the present invention, at least a pixel electrode formed on a substrate, a partition partitioning the pixel electrode in a lattice shape, a counter electrode, and formed between the pixel electrode and the counter electrode. An organic EL device comprising an organic light emitting layer, wherein the organic light emitting layer is formed by a step of applying an organic light emitting ink comprising at least an organic light emitting material and a solvent on the pixel electrode. In the method, the step of applying the organic light-emitting ink is supplied onto the printing relief plate according to any one of claims 1 to 3, and the organic light-emitting ink is supplied onto the printing relief plate. And a step of applying ink onto the pixel electrode. A method for producing an organic electroluminescent element, comprising:
According to a sixth aspect of the present invention, when the width of the pixel electrode is L and the width of the partition wall is R, the width w of the convex portion of the printing relief plate is in the range of 0 <w <L + 2 · R. The method for producing an organic electroluminescence element according to claim 5, wherein:
本発明の通り、印刷用凸版におけるストライプパターンの凸部の幅を、印刷開始側から印刷終了側に向かって細幅化することにより、従来印刷法では厚膜傾向にある印刷終了側の厚膜化を軽減し、有機層の被印刷基板の画素パターン部における面内バラツキを低減させ、発光輝度ムラのない有機ＥＬ素子の製造が可能となった。 According to the present invention, the width of the convex portion of the stripe pattern in the printing relief printing plate is narrowed from the printing start side to the printing end side, so that the thick film on the printing end side tends to be thick in the conventional printing method. The organic EL device can be manufactured without unevenness in light emission luminance by reducing in-plane variation in the pixel pattern portion of the substrate to be printed of the organic layer.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to this.
まず、本発明に係る印刷用凸版の製造方法について説明する。 First, a method for producing a relief printing plate according to the present invention will be described.
図３に本発明の前提となる印刷用凸版の一例の説明断面図を示した。図３（ａ）、図３（ｂ）ともに基材２００上に反射防止層２０２、樹脂層により形成される複数の凸部からなる凸部パターン領域２０１が形成されている。図３（ａ）では、凸部パターン領域２０１は、複数の凸部が連続して基材２００上に形成されることで構成されている。図３（ｂ）では、凸部パターン領域２０１は、複数の凸部がそれぞれ切り離されて独立して基材２００上に形成されることで構成されている。本発明では、図３（ａ）、図３（ｂ）どちらの印刷用凸版を用いても構わない。なお、必要に応じて凸部パターン領域２０１と基材２００との間に紫外線反射防止効果、耐水性、耐油性、発水性、接着性などを付与するための層を加えても良い。
FIG. 3 shows an explanatory sectional view of an example of a relief printing plate as a premise of the present invention. In both FIG. 3A and FIG. 3B, a
本発明の印刷用凸版に用いられる版材において、凸部パターン領域２０１が形成される基材２００としては、印刷に対する機械的強度を有していれば良く、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂、鉄や銅、アルミニウムといった公知の金属、またはそれらの積層体を用いることができる。
In the plate material used for the printing relief plate of the present invention, the
なお、本発明に使用する印刷用凸版を構成する基材２００としては、高い寸法安定性を保持するものが望ましい。従って、基材２００として用いられる材料としては金属が好適に使用される。基材２００として用いられる金属としては鉄、アルミニウム、銅、亜鉛、ニッケル、チタン、クロム、金、銀やそれらの合金、積層体などが挙げられるが、特に、加工性、経済性から鉄を主成分とするスチール基材やアルミ基材を好適に用いることができる。
In addition, as the
本発明における樹脂層による凸部パターン領域２０１の凸部は、ポジ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、ネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法、射出成型、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、レーザーアブレーション法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましく、また、要求精度の凸版を形成可能なネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が最も望ましい。
The convex portion of the
感光光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法を凸部パターン形成法として適用する場合、基材２００、反射防止層２０２、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版の凸部を形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、射出成型法、突出成型法、ラミネート法、バーコート法、スリットコート法、カンマコート法などの公知の方法を用いることができる。
When applying a photolithographic method using a photosensitive resin as a convex pattern forming method, the
図４に本発明における板状感光性樹脂積層体の成型方法を示した。まず基材２００にバーコート法、スリットコート法、スプレーコート法、フレキソ印刷、グラビア印刷などのウェットコーティング法もしくはスパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ法などのドライコーティング法により反射防止層２０２を成膜し、積層体２０３とする（図４（ａ）、（ｂ））。次に積層体２０３に感光性樹脂層２０１´を射出成型法、突出成型法、ラミネート法、バーコート法、スリットコート法、カンマコート法などの公知の方法で成膜し積層体２０４とする（図４（ｃ））。この積層体２０４に対し、公知の露光、現像の工程を経て、目的とするパターン形成用凸版を形成する（図４（ｄ））。
FIG. 4 shows a method for molding a plate-like photosensitive resin laminate in the present invention. First, the
凸部パターン領域２０１の凸部を形成する樹脂の一成分となるポリマーは、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子などから一種類以上を選択することができるが、有機発光材料などといった塗工液を塗布する場合、有機溶剤に対する耐溶剤性の観点から、フッ素系エラストマーやポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンやそれらの共重合体といったフッ素系樹脂が望ましい。
The polymer that is one component of the resin that forms the convex part of the convex
また、凸部を形成する樹脂の一成分となるポリマーとして、ポリアミド、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、酢酸セルロースコハク酸エステル、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、カチオン型ピペラジン含有ポリアミドやこれらの誘導体といった水溶性溶剤に可溶なものを一種類以上含有することにより水を用いた現像が可能となるため、これらの内から一つ以上を選択し用いることが最も望ましい。 In addition, as a polymer that is one component of the resin that forms the convex portion, water-soluble solvents such as polyamide, polyurethane, polyvinyl alcohol, cellulose acetate succinate, partially saponified polyvinyl acetate, cationic piperazine-containing polyamide and derivatives thereof are used. Since the development using water becomes possible by containing one or more soluble materials, it is most desirable to select and use one or more of these.
露光光の照射によってラジカルを発生させる光重合開始剤としては、この用途に適するものであれば特に制限は無く、各種文献に報告されているものを用いることができる。前記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタノール、２−クロロチオキサントン、２−エチルアントラキノン、ジエチルチオキサントン（カヤキュアＤＥＴＸ：日本化薬製）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン（イルガキュア３６９：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュア６５１：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド（イルガキュア８１９：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）又はビイミダゾール化合物などがあり、これらに限定されるものではないが、本発明では露光光源に２００〜４５０ｎｍの波長領域に輝線スペクトルを持つものを用いるため、この範囲の光の照射によってラジカルを発生させるものが好ましい。また、これらの光重合開始剤は、必要に応じて適宜に複数のものを混合して使用しても良い。 The photopolymerization initiator that generates radicals by irradiation with exposure light is not particularly limited as long as it is suitable for this application, and those reported in various literatures can be used. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, benzyldimethylketanol, 2-chlorothioxanthone, 2-ethylanthraquinone, diethylthioxanthone (Kayacure DETX: manufactured by Nippon Kayaku), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184). : Ciba Specialty Chemicals), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone (Irgacure 369: Ciba Specialty Chemicals), 2,2-dimethoxy-1,2- Diphenylethane-1-one (Irgacure 651: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (Irgacure 819: Ciba Specialty Chemicals) Mikals), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (Irgacure 907: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) or biimidazole compounds, and the like. Although not intended, in the present invention, since an exposure light source having an emission line spectrum in the wavelength region of 200 to 450 nm is used, it is preferable to generate radicals by irradiation of light in this range. Further, these photopolymerization initiators may be used by appropriately mixing a plurality of them as necessary.
感光性樹脂層は、上記のラジカル重合性モノマー及び光重合開始剤を主成分とするものであるが、これらのほかにバインダー樹脂や樹脂層を基材２００の上に塗布する際に塗布しやすくするために可塑剤を添加することも可能であるし、また、適切な溶剤を加えてもよい。
The photosensitive resin layer is mainly composed of the above-mentioned radical polymerizable monomer and photopolymerization initiator, but in addition to these, it is easy to apply when applying a binder resin or a resin layer on the
反射抑制層２０２としては、測定装置の一般的な観察光である波長領域が４００ｎｍから８００ｎｍ付近の白色光に対する反射抑制効果があれば良く、光の拡散・乱反射による方法と光吸収による方法のどちらを用いても良い。反射抑制層２０２の材料としては、一般的な感光性樹脂や熱硬化性樹脂等が用いられ、これらの樹脂に光を吸収する材料や光を拡散する材料、例えばカーボンブラックや酸化チタンを分散したものを用いることができる。
The
次に、本発明の印刷用凸版の形状について述べる。 Next, the shape of the relief printing plate of the present invention will be described.
凸版印刷法では版から被印刷基板への転写時には印刷のために版と被印刷基板に印圧がかかり、ストライプ形状の凸部上のインキが印刷方向へ向かって押し出されるため、被印刷領域に形成される有機発光層の膜厚が印刷開始側より印刷終了側の方で厚くなる傾向がある（厚膜化）。そのため、有機ＥＬ素子のパネルにした時の印刷開始側と終了側で輝度差が生じるといった問題がある。なお、印刷開始側とはストライプ状凸部のうち、凸部と被印刷基板とが最初に接触する部分をいい、印刷終了側とはストライプ状凸部のうち、凸部と被印刷基板とが最後に接触する部分をいう。また、ストライプ状の凸部の末端が印刷開始側又は印刷終了側であっても、ストライプ状の凸部の途中から印刷開始側又は印刷終了側であっても良い。ここで、ストライプ形状またはストライプ状とは直線状の平面形状やそのような状態をいい、少なくとも対向する２つの長辺と、対向する２つの短辺とで囲まれる長方形や、少なくとも対向する２つの長辺と一つの短辺を持つ三角形などの形状やそのような状態を含む。また、長辺や短辺自体は曲線であっても不連続な線分であっても良い。 In the relief printing method, when transferring from the plate to the printing substrate, printing pressure is applied to the plate and the printing substrate, and the ink on the stripe-shaped projections is pushed out in the printing direction. The film thickness of the formed organic light emitting layer tends to be thicker on the printing end side than on the printing start side (thickening). Therefore, there is a problem that a difference in brightness occurs between the printing start side and the end side when the organic EL element panel is formed. The printing start side refers to the portion of the stripe-shaped convex portion where the convex portion and the substrate to be printed first contact, and the printing end side refers to the stripe-shaped convex portion of the convex portion and the substrate to be printed. The last part to contact. Further, the end of the stripe-shaped convex portion may be the print start side or the print end side, or may be the print start side or the print end side from the middle of the stripe-shaped convex portion. Here, the stripe shape or stripe shape means a straight planar shape or such a state, and is a rectangle surrounded by at least two opposing long sides and two opposing short sides, or at least two opposing sides. This includes shapes such as triangles with long sides and one short side, and such states. Further, the long side or the short side itself may be a curved line or a discontinuous line segment.
ここで、有機発光層の膜厚、被印刷基板へ転写されるインキの量、凸部上のインキの量、凸部の幅の関係について述べると、有機発光層の膜厚は転写されるインキの量に対して正比例し、転写されるインキの量は凸部上のインキの量に対して正比例し、凸部上のインキの量は凸部の幅に対して正比例する。即ち、有機発光層の膜厚は凸部の幅に対し正比例する。なお、ここで凸部の幅とは、ストライプ状の凸部の被印刷基板と接する面のうち、印刷方向と直交する方向についての長さのことをいう。 Here, the relationship between the thickness of the organic light emitting layer, the amount of ink transferred to the substrate to be printed, the amount of ink on the convex portion, and the width of the convex portion is described. The amount of ink transferred is directly proportional to the amount of ink on the convex portion, and the amount of ink on the convex portion is directly proportional to the width of the convex portion. That is, the thickness of the organic light emitting layer is directly proportional to the width of the convex portion. In addition, the width | variety of a convex part means the length about the direction orthogonal to a printing direction among the surfaces which contact the to-be-printed substrate of a stripe-shaped convex part here.
本発明では、印刷用凸版の凸部の幅が印刷開始側から印刷終了側に向かって細くなっている（細幅化）。印刷が進むにつれて印刷終了側にインキが押し出されるが、上記のように有機発光層の膜厚は凸部の幅に対し正比例するため、細幅化した凸部からなるストライプパターンを有する印刷用凸版を用いることにより、上記のような印刷終了側の有機発光層の膜厚が厚くなるという問題を抑えることができる。これにより凸版印刷法で形成される有機発光層の膜厚の均一性が向上し、発光輝度ムラのない有機ＥＬ素子を作製することができる。 In the present invention, the width of the convex portion of the printing relief plate is narrowed from the printing start side to the printing end side (thinning). As printing progresses, ink is pushed out to the printing end side, but as described above, the thickness of the organic light emitting layer is directly proportional to the width of the convex portion, and therefore the printing relief plate having a stripe pattern composed of narrowed convex portions. By using this, the problem that the film thickness of the organic light emitting layer on the printing end side as described above becomes thick can be suppressed. Thereby, the uniformity of the film thickness of the organic light emitting layer formed by the relief printing method can be improved, and an organic EL element free from light emission luminance unevenness can be produced.
上記の様に、有機発光層の膜厚は凸部の幅に対し正比例するため、凸部の幅ｗ（単位：μｍ）と有機発光層の膜厚ｔ（単位：μｍ）の間にはｔ=α・ｗのような比例関係が成り立ち、αは用いるインキの固形分濃度、インキの溶媒の種類、インキの粘度、印圧、形成する画素幅などの要素によって変化する。本発明ではこれらの要素と幅ｗを調整し、所望の有機発光層の膜厚ｔが印刷開始側と印刷終了側で均一になるように、凸部の幅ｗを細幅化する。そのため、本発明の印刷用凸版は、凸部の幅が印刷開始側から印刷終了側に向かって細幅化するストライプパターンを有する図５に示すような形状となっている。 As described above, since the thickness of the organic light emitting layer is directly proportional to the width of the convex portion, the thickness t between the convex portion width w (unit: μm) and the organic light emitting layer thickness t (unit: μm) is t. = α · w is established, and α varies depending on factors such as the solid content concentration of the ink used, the type of ink solvent, the viscosity of the ink, the printing pressure, and the pixel width to be formed. In the present invention, these elements and the width w are adjusted, and the width w of the convex portion is narrowed so that the desired film thickness t of the organic light emitting layer is uniform on the printing start side and the printing end side. Therefore, the relief printing plate of the present invention has a shape as shown in FIG. 5 having a stripe pattern in which the width of the convex portion becomes narrower from the printing start side toward the printing end side.
本発明の一実施形態である図５に示す印刷用凸版は、凸部の幅が印刷開始側から印刷終了側に向かって一様に細幅化するストライプパターンを有し、凸部幅が細幅化する割合は有機発光層が印刷開始側から印刷終了側に亘って均一な厚さで形成されるように調整され、用いるインキの固形分濃度、インキの溶媒の種類、インキの粘度、印圧、及び形成する画素幅などの要素によって変化させることが望ましい。そのため、印刷開始側から印刷終了側への細幅化の割合は、一定割合であっても、印刷方向に進むにつれて変化しても良く、凸部の幅が印刷開始側から印刷終了側に向かって細幅化して有機発光層の膜厚が所望の厚さに形成できればよい。
The printing relief plate shown in FIG. 5, which is an embodiment of the present invention, has a stripe pattern in which the width of the convex portion is uniformly narrowed from the printing start side to the printing end side, and the convex portion width is narrow. The proportion of width is adjusted so that the organic light emitting layer is formed with a uniform thickness from the printing start side to the printing end side. The solid content concentration of the ink used, the type of ink solvent, the viscosity of the ink, the mark It is desirable to change according to factors such as the pressure and the pixel width to be formed. For this reason, the rate of narrowing from the print start side to the print end side may be a constant rate or may change as the print direction progresses, and the width of the convex portion moves from the print start side to the print end side. It is sufficient that the organic light emitting layer can be formed to a desired thickness by reducing the width.
具体的な凸部形状の例としては、細幅化の割合が一定割合である場合とは、凸部の幅が一次関数的に減少していく場合であり、凸部のストライプ形状は図６（ａ）及び（ｂ）のような印刷開始側を底辺とした台形又は三角形状等のストライプ形状の二つの長辺が直線である場合が挙げられ、二つの長辺の長さが等しい形状、例えば等脚台形や二等辺三角形でも良く、２つの長辺のうち一方の長さが他方よりも短い形状、例えば直角を含む台形や直角三角形でも良い。このような形状の凸版を用いることで、従来の凸版では有機発光層の膜厚が一定の割合で厚膜化する場合でも均一な膜厚を形成することができる。 As a specific example of the convex shape, the case where the ratio of the narrowing is a constant ratio is a case where the width of the convex portion decreases linearly, and the stripe shape of the convex portion is shown in FIG. (A) and a case where the two long sides of the stripe shape such as a trapezoidal shape or a triangular shape having a base on the printing start side as shown in (b) are straight lines, a shape in which the lengths of the two long sides are equal, For example, an isosceles trapezoid or an isosceles triangle may be used, and one of the two long sides may be shorter than the other, for example, a trapezoid including a right angle or a right triangle. By using a relief having such a shape, a uniform relief can be formed even when the thickness of the organic light emitting layer is increased at a constant rate in the conventional relief.
また、細幅化の割合が印刷が進むにつれて変化する場合とは、凸部の幅が二次関数や指数関数、対数関数的に減少する場合であり、凸部のストライプ形状は図６（ｃ）のようにストライプ形状の長辺が曲線である形状等が挙げられ、一方は直線で他方は曲線であっても、両方が曲線であっても良い。このような形状の凸版を用いることで、従来の凸版では有機発光層の膜厚が厚膜化し、その厚膜化の割合が一定でない場合でも、均一な膜厚を形成することができる。
さらに、ストライプ形状が不連続な線分で構成され、凸部の幅が不連続に細幅化しても良いし、二つの長辺のうち一方が直線で他方が曲線でも良いし、以上の形状のストライプ形状の凸部を複数組合せて本発明の印刷用凸版としても良い。
以上の形状の版を用いることで、均一な膜厚の有機発光層を形成することができる。
Further, the case where the ratio of narrowing changes as printing progresses is the case where the width of the convex portion decreases in a quadratic function, exponential function, or logarithmic function, and the stripe shape of the convex portion is shown in FIG. ) And the like in which the long side of the stripe shape is a curve. One may be a straight line and the other may be a curve, or both may be a curve. By using a relief plate having such a shape, a uniform thickness can be formed even when the thickness of the organic light emitting layer is increased in the conventional relief plate and the ratio of the increase in thickness is not constant.
Furthermore, the stripe shape may be composed of discontinuous line segments, and the width of the convex portion may be discontinuously narrowed, or one of the two long sides may be a straight line and the other may be a curved line. A plurality of stripe-shaped convex portions may be combined to form the relief printing plate of the present invention.
By using the plate having the above shape, an organic light emitting layer having a uniform film thickness can be formed.
なお、上記のようにストライプ状の凸部の途中から印刷開始又は印刷終了しても良いため、このような場合の印刷開始側及び／又は印刷終了側の前後のストライプ状の凸部は、印刷開始側から印刷終了側までの範囲が上記の何れかの形状であれば、どのような形状でも良い。 As described above, printing may be started or finished in the middle of the stripe-shaped convex portion, and in this case, the stripe-shaped convex portions before and after the print start side and / or the print end side are printed. Any shape may be used as long as the range from the start side to the print end side is any of the above shapes.
凸部の幅ｗについては、ｗが画素幅と比較して小さ過ぎる場合には、インキのレベリングが不十分となり、均一な膜を形成できない。一方、ｗが画素幅と比較して大き過ぎる場合には、被印刷基板の隣接画素へインキが流れ込み、異なる発光画素の混色が発生する。よって、画素の幅をＬ（単位：μｍ）、隔壁の幅をＲ（単位：μｍ）として、少なくとも０＜ｗ＜Ｌ＋２・Ｒの範囲においてｗを使用する。ただし、画素及び隔壁の幅とは、印刷方向と直交する画素及び隔壁の辺の長さをいう。ｗ≧Ｌ＋２・Ｒの場合、ｗがＬに対して大きすぎ、隣接する他色の発光画素にまでインキを塗布してしまう。異なる発光色を有する有機発光材料を溶媒に溶解または分散させた有機発光インキを用いて画素ごとに塗り分けをおこなう場合、隣接する画素との混色の発生を防止するためにｗ＜Ｌ＋２・Ｒであることが望ましい。
よって、実際の画素の幅と隔壁の幅を考慮した具体的なｗの範囲としては、１５μｍ≦ｗ≦１００μｍであることが望ましく、上記の様に印刷開始側から印刷終了側に亘って細幅化させるストライプ状凸部の幅はこの範囲内にあることが望ましい。
As for the width w of the convex portion, when w is too small compared to the pixel width, the leveling of the ink becomes insufficient and a uniform film cannot be formed. On the other hand, when w is too large compared to the pixel width, ink flows into adjacent pixels on the substrate to be printed, and color mixture of different light emitting pixels occurs. Therefore, w is used in the range of at least 0 <w <L + 2 · R, where L is the width of the pixel (unit: μm) and R is the width of the partition wall (unit: μm). However, the width of the pixel and the partition refers to the length of the side of the pixel and the partition perpendicular to the printing direction. When w ≧ L + 2 · R, w is too large with respect to L, and ink is applied to the adjacent light emitting pixels of other colors. In order to prevent color mixture with adjacent pixels when using an organic light-emitting ink in which organic light-emitting materials having different luminescent colors are dissolved or dispersed in a solvent, w <L + 2 · R. It is desirable to be.
Therefore, the specific range of w in consideration of the actual pixel width and partition wall width is preferably 15 μm ≦ w ≦ 100 μm, and the narrow width from the print start side to the print end side as described above. The width of the stripe-shaped convex portion to be converted is desirably within this range.
次に、本発明の印刷用凸版を用いた凸版印刷装置について説明する。 Next, a relief printing apparatus using the relief printing plate of the present invention will be described.
有機発光層の形成に用いる印刷装置は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用可能であるが、以下に示すような印刷装置が望ましい。図２に本発明でのインターレイヤ５および有機発光層６の形成に用いる印刷装置の模式図を示した。凸版印刷装置は、インキタンクとインキチャンバーとアニロックスロール１３と本発明の樹脂凸版１２を取り付けした版胴１１を有している。インキタンクには、溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、インキチャンバーにはインキタンクより有機発光インキがアニロックスロール上にインキ供給部を介して送り込まれるようになっており、インキ供給部はアニロックスロール上にインキを直接押出て供給するダイコーターや、インキが溜まったインキ溜りにアニロックスロールを浸漬させてインキを供給するものであってもよい。アニロックスロール１３は、インキチャンバーのインキ供給部及び版胴１１に接して回転するようになっており、アニロックスロール上のインキ量を均一にするためのドクターブレードやドクターロールを有していることが好ましい。
The printing device used for forming the organic light emitting layer can be any relief printing press that prints on a flat plate, but the following printing device is desirable. FIG. 2 shows a schematic diagram of a printing apparatus used for forming the interlayer 5 and the organic
アニロックスロール１３の回転にともない、インキチャンバーから供給された有機発光インキはアニロックスロール１３表面に均一に保持されたあと、版胴１１に取り付けされた樹脂凸版１２の凸部パターン領域２０１の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板１０（ＴＦＴ基板）は摺動可能な基板固定台上に固定され樹脂凸版１２の凸部パターン領域２０１と被印刷基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴１１の回転に合わせて樹脂凸版１２の凸部パターン領域２０１が被印刷基板１０に接しながらさらに移動し、ステージ上にある被印刷基板１０の所定位置（画素のライン）にパターニングして有機発光インキを転移する。その際、版胴１１の転動方向と凸部パターン領域２０１のストライプ方向、また、画素の長辺方向は、平行であっても直行であっても構わない。
With the rotation of the
次に、本発明の印刷用凸版を用いた凸版印刷法により作製される有機ＥＬ素子について説明する。 Next, the organic EL element produced by the relief printing method using the relief printing plate of the present invention will be described.
図１に本発明の印刷用凸版を用いて作製される有機ＥＬ素子の断面模式図を示した。図１の有機ＥＬ素子においては基板１上に、画素電極２、正孔輸送層４、インターレイヤ５、有機発光層６、対向電極７を備える。画素電極２、対向電極７間には有機発光層６が設けられ、画素電極２と有機発光層５の間に正孔輸送層４とインターレイヤ５が設けられる。また、画素電極２パターン間には、隔壁３が設けられる。基板１上に、画素電極２、隔壁３、正孔輸送層４、インターレイヤ５、有機発光層６、対向電極７が設けられた有機ＥＬ構成体は、電極や有機発光層を外部の環境から保護するための封止体８が設けられる。封止体８は、封止キャップ８ａ、接着剤８ｂ、乾燥剤８ｃを備える。
The cross-sectional schematic diagram of the organic EL element produced using the relief printing plate of this invention in FIG. 1 was shown. In the organic EL element of FIG. 1, a
また、本発明の印刷用凸版を用いて作製される有機ＥＬ素子にあっては、画素電極２と対向電極７の間には有機発光層６の他に発光補助層を備える。発光補助層としては、図１に示した正孔輸送層やインターレイヤの他に、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。これらの発光補助層は適宜選択されるが、複数選択してもよい。正孔輸送層４、インターレイヤ５は画素電極２と有機発光層６の間に設けられる。電子注入層、電子輸送層は有機発光層６、対向電極７間に設けられる。また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、画素電極２、対向電極７、有機発光層６、正孔輸送層４、インターレイヤ５は単層構造ではなく、多層構造としてもよい。
以上の有機ＥＬ素子の構成のうち、本発明の印刷用凸版は少なくとも有機発光層６の形成に用いられるが、印刷法により形成することができるものであれば上記のいずれの層も本発明により形成することができる。
Moreover, in the organic EL element produced using the relief printing plate of the present invention, a light emission auxiliary layer is provided between the
Of the constitution of the above organic EL element, the printing relief plate of the present invention is used for forming the organic
正孔輸送層４と有機発光層６の間にバッファー層として形成されるインターレイヤ５は、正孔の輸送性を高める効果と、対向電極７を陰極として用いた場合に対向電極側から移動してきた電子をブロックする効果が期待される層であり、実際にインターレイヤ５を設けることで、有機ＥＬ素子の効率や寿命が向上することが確認されている。
The interlayer 5 formed as a buffer layer between the hole transport layer 4 and the organic
なお本発明の有機ＥＬ素子にあっては、パッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子のどちらにも適用可能である。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の画素電極及び対向電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成した、いわゆるＴＦＴ基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。アクティブマトリックス方式有機ＥＬ素子の場合、画素電極、対向電極の一方の電極はＴＦＴ基板上に画素毎に設けられ、もう一方の電極は画素全体に設けられる。 Note that the organic EL element of the present invention can be applied to both a passive matrix type organic EL element and an active matrix type organic EL element. The passive matrix method is a method in which stripe-shaped pixel electrodes and counter electrodes are opposed to each other so as to be orthogonal to each other, and light is emitted from the intersection. By using a substrate, light is emitted independently for each pixel. In the case of an active matrix organic EL element, one of the pixel electrode and the counter electrode is provided for each pixel on the TFT substrate, and the other electrode is provided for the entire pixel.
また、本発明の有機ＥＬ素子にあっては、発光した光を基板側から取り出すボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子、発光した光を基板と反対側から取り出すトップエミッション方式の有機ＥＬ素子のどちらでもかまわない。ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子とする場合には、基板及び画素電極が光透過性を有する必要があり、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子とするためには、対向電極及び封止体が光透過性を有する必要がある。 The organic EL element of the present invention may be either a bottom emission type organic EL element that extracts emitted light from the substrate side or a top emission type organic EL element that extracts emitted light from the opposite side of the substrate. Absent. In the case of a bottom emission type organic EL element, the substrate and the pixel electrode need to be light transmissive, and in order to obtain a top emission type organic EL element, the counter electrode and the sealing body are light transmissive. It is necessary to have.
次に、図１に示した有機ＥＬ素子を本発明の図２に示す樹脂凸版１２を用いて製造する方法について説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
Next, a method for manufacturing the organic EL element shown in FIG. 1 using the
本発明にかかる基板１としては、絶縁性を有する基板であればいかなる基板も使用することができる。この基板側から光を出射するボトムエミッション素子の場合には、基板として透明なものを使用する必要がある。 As the substrate 1 according to the present invention, any substrate can be used as long as it is an insulating substrate. In the case of a bottom emission element that emits light from the substrate side, it is necessary to use a transparent substrate.
例えば、このような基板としては、ガラス基板や石英基板が使用できる。また、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートであっても良い。これら、プラスチックフィルムやシートに、金属酸化物薄膜、金属フッ化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを基板として利用してもよい。 For example, a glass substrate or a quartz substrate can be used as such a substrate. Further, it may be a plastic film or sheet such as polypropylene, polyethersulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate. These plastic films and sheets laminated with a metal oxide thin film, a metal fluoride thin film, a metal nitride thin film, a metal oxynitride thin film, or a polymer resin film may be used as the substrate.
前記金属酸化物薄膜としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等が例示できる。前記金属フッ化物薄膜としては、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム等が例示できる。金属窒化物薄膜としては、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等が例示できる。また、前記高分子樹脂膜としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できる。また、トップエミッション素子の場合には、不透明な基板を使用することもできる。 Examples of the metal oxide thin film include silicon oxide and aluminum oxide. Examples of the metal fluoride thin film include aluminum fluoride and magnesium fluoride. Examples of the metal nitride thin film include silicon nitride and aluminum nitride. Examples of the polymer resin film include acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, and polyester resin. In the case of a top emission element, an opaque substrate can also be used.
また、これらの基板は、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。 In addition, it is more preferable to reduce the moisture adsorbed on the inside or the surface of the substrate as much as possible by performing a heat treatment on these substrates in advance. Further, in order to improve the adhesion depending on the material to be laminated on the substrate, it is preferable to use after performing surface treatment such as ultrasonic cleaning treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, UV ozone treatment.
また、前記基板上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成して、駆動用基板としても良い。ＴＦＴの材料としては、ポリチオフェンやポリアニリン、銅フタロシアニンやペリレン誘導体等の材料を用いてもよく、また、アモルファスシリコンやポリシリコンを用いてもよい。また、前記基板のどちらかの面にカラーフィルタ層や光散乱層、光偏光層等を基板に設けてもよい。 Further, a thin film transistor (TFT) may be formed on the substrate to form a driving substrate. As a material for the TFT, a material such as polythiophene, polyaniline, copper phthalocyanine, or perylene derivative may be used, or amorphous silicon or polysilicon may be used. In addition, a color filter layer, a light scattering layer, a light polarizing layer, or the like may be provided on either side of the substrate.
次に、この基板１上に画素電極２を形成する。画素電極を陽極として用いる場合、形成材料としてはＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物が利用できる。被膜形成方法としてはドライコーティング方式が利用できる。例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等である。そして、真空製膜された金属酸化物被膜にフォトレジストを塗布して露光・現像し、ウェットエッチング又はドライエッチングして、パターン状に加工することができる。パッシブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の場合には、画素電極はストライプ状に形成される。アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の場合には、画素電極はドット状にパターン形成される。
Next, the
画素電極２を形成後、隣接する画素電極パターンの間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィ法により隔壁３が形成される。さらに詳しくは、感光性樹脂組成物を基板に塗布する工程と、パターン露光、現像、焼成して隔壁パターンを形成する工程を少なくとも有する。
After the
隔壁３を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。また、ＴＦＴの誤作動により適正な表示ができないことがある。感光性材料としては、具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるがこれに限定するものではない。また、有機ＥＬディスプレイパネルの表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。 The photosensitive material for forming the partition wall 3 may be either a positive resist or a negative resist, and may be a commercially available one, but it needs to have insulating properties. If the partition wall does not have sufficient insulation, a current flows to the adjacent pixel electrode through the partition wall, resulting in a display defect. Also, proper display may not be possible due to TFT malfunction. Specific examples of the photosensitive material include, but are not limited to, polyimide, acrylic resin, novolac resin, and fluorene. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL display panel, a light shielding material may be contained in the photosensitive material.
隔壁３を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の公知の塗布方法を用いて塗布される。次に、パターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程では、従来公知の露光、現像方法により隔壁部のパターンを形成できる。また焼成に関してはオーブン、ホットプレート等での従来公知の方法により焼成を行うことができる。 The photosensitive resin forming the partition walls 3 is applied using a known coating method such as a spin coater, bar coater, roll coater, die coater, or gravure coater. Next, in the step of pattern exposure and development to form the partition wall pattern, the partition wall pattern can be formed by a conventionally known exposure and development method. Regarding firing, firing can be performed by a conventionally known method using an oven, a hot plate or the like.
隔壁３は、厚みが０．５μｍから５．０μｍの範囲にあることが望ましい。隔壁３を隣接する画素電極間に設けることによって、電極パターン上に塗布された正孔輸送インキはレベリングとともに隔壁上の膜厚は薄くなることから隣接画素間のリーク等が発生しにくく、また画素電極端部からのショート発生を防ぐことが出来る。また、異なる発光色を有する有機発光材料を溶媒に溶解または分散させた有機発光インキを用いて画素ごとに塗り分けをおこなう場合、隣接する画素との混色を防止することが出来る。隔壁が低すぎると隣接画素間で正孔輸送層経由でのリーク電流の発生やショートの防止、有機発光インキの混色防止の効果が得られないことがあり注意が必要である。正孔輸送層を無機材料としても良い。 The partition wall 3 desirably has a thickness in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. By providing the partition wall 3 between adjacent pixel electrodes, the hole transport ink applied on the electrode pattern is leveled and the film thickness on the partition wall becomes thin, so that leakage between adjacent pixels is less likely to occur. It is possible to prevent the occurrence of a short circuit from the electrode end. In addition, when the organic light emitting material having different emission colors is dissolved or dispersed in a solvent and is separately applied to each pixel, color mixing with adjacent pixels can be prevented. Note that if the partition walls are too low, the effect of preventing leakage current between adjacent pixels via the hole transport layer, prevention of short-circuiting, and prevention of color mixing of the organic light-emitting ink may not be obtained. The hole transport layer may be an inorganic material.
隔壁３形成後、正孔輸送層４を形成する。正孔輸送層４の形成材料としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化ニッケルなどの金属酸化物等の中から選ぶことができる。正孔輸送層４の形成方法としては、前記高分子正孔輸送材料では、凸版印刷法やスピンコート法、バーコート法を用いることができ、前記金属酸化物では、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。 After the partition wall 3 is formed, the hole transport layer 4 is formed. As a material for forming the hole transport layer 4, polymer hole transport materials such as polyaniline, polythiophene, polyvinyl carbazole, a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid, polythiophene oligomer materials, and others It can be selected from existing metal oxides such as molybdenum oxide, tungsten oxide, and nickel oxide. As a method for forming the hole transport layer 4, a relief printing method, a spin coat method, or a bar coat method can be used for the polymer hole transport material, and resistance heating is performed depending on the material for the metal oxide. Vapor deposition, electron beam vapor deposition, reactive vapor deposition, ion plating, and sputtering can be used.
正孔輸送層４形成後、有機発光層６を形成する。有機発光層６は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層６を形成する有機発光材料は、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノリノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス〔８−（パラ−トシル）アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２，５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光体等、Ｉｒ錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料や、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子発光材料や、これら高分子材料に前記低分子材料の分散または共重合した材料や、その他既存の蛍光発光材料や燐光発光材料を用いることができる。
After the hole transport layer 4 is formed, the organic
また、有機ＥＬ素子における有機発光層６と正孔輸送層４の間に、加熱により正孔輸送層４との密着性を増す材料であるインターレイヤ５を挟んでも良い。このインターレイヤ５により、有機発光層６の発光効率が増し、駆動寿命も長く成ることが知られている。この様な材料としては、ポリ（２，７−（９，９−ジ−オクチルフルオロレン））−ａｌｔ−（１，４−フェニレン−（（４−ｓｅｃ−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン））（ＴＦＢ）等が挙げられる。形成方法としては、高分子材料では、凸版印刷法やスピンコート法、バーコート法を用いることができ、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。
Further, an interlayer 5, which is a material that increases adhesion with the hole transport layer 4 by heating, may be sandwiched between the organic
本発明において有機発光材料は溶媒に溶解または安定に分散され、印刷法に用いるインキとして有機発光インキとして用いられる。上記の低分子系発光材料や高分子発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。又、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。 In the present invention, the organic light-emitting material is dissolved or stably dispersed in a solvent and used as an organic light-emitting ink as an ink used in a printing method. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the low molecular weight light emitting material and the polymer light emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among these, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of solubility of the organic light emitting material. In addition, a surfactant, an antioxidant, a viscosity modifier, an ultraviolet absorber and the like may be added to the organic light emitting ink as necessary.
次に、対向電極７を形成する。対向電極７を陰極として用いる場合、形成材料としては有機発光層６への電子注入効率の高い物質を用いる。具体的には、Ｍｇ、Ａｌ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界面にＬｉや酸化Ｌｉ，ＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いてもよい。または、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数が低いＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系を用いてもよい。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。対向電極７を透光性電極層として利用する場合には、仕事関数が低いＬｉ、Ｃａを薄く設けた後に、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物を積層してもよく、有機発光層６に、仕事関数が低いＬｉＣａなどの金属を少量ドーピングして、ＩＴＯなどの金属酸化物を積層してもよい。
Next, the
対向電極７の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。対向電極７の厚さに特に制限はないが、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が望ましい。対向電極の膜厚が１０ｎｍ未満であると膜のピンホールが十分に埋められずショートの原因となる。また１０００ｎｍより大きいと成膜時間が長くなり生産性が悪くなる。なお、対向電極のパターニングについては、成膜時にマスクを用いることによりパターン形成をおこなうことができる。
The
最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、封止体８を用いて有機ＥＬ構成体を封止する。封止体８としては、凹部を有する封止キャップ８ａを用い、封止キャップ８ａと基板１を接着剤８ｂを介して貼りあわせる方法を用いることができる。また、封止キャップ８ａと基板１で密封させた空間には乾燥剤８ｃを備えることが出来る。
Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, the organic EL constituents are sealed using the sealing body 8. As the sealing body 8, the sealing
封止キャップ８ａとしては、アルミナ、窒化ケイ素、窒化ホウ素等のセラミックス、無アルカリガラス、アルカリガラス等のガラス、石英、アルミニウムやステンレスなどの金属箔、耐湿性フィルムなどを挙げることができる。接着剤８ｂとしては、エステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、アクリル樹脂アクリレート等のアクリレート、ウレタンポリエステル等の樹脂を用いたラジカル系接着剤や、エポキシ、ビニルエーテル等の樹脂を用いたカチオン系接着剤、チオール・エン付加型樹脂系接着剤等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂を用いることが出来る。また、紫外線硬化型エポキシ系接着剤も利用できる。乾燥剤８ｃとしては、酸化バリウムや酸化カルシウムを用いることができる。また、封止キャップではなく、上記の封止キャップ８ａ及び接着剤８ｂと同じ材料を用いて封止材上の全面に接着剤層を設け、封止材と有機ＥＬ構成体とを貼り合わせて作成することもできる。
Examples of the sealing
さらに、この他にも有機ＥＬ構成体にバリア層を形成し、バリア層を封止体とすることも可能である。このとき、バリア層としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素等を用いることができ、これらは、ＣＶＤ法等の真空成膜法により対向電極７上に有機ＥＬ構成体全面を覆うように形成される。また、バリア層が形成された有機ＥＬ素子は接着層を介して封止基板と貼りあわせ、これらを封止体とすることも可能である。
In addition to this, it is possible to form a barrier layer on the organic EL structure and use the barrier layer as a sealing body. At this time, as the barrier layer, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride or the like can be used, and these cover the entire surface of the organic EL structure on the
なお、本発明は凸版印刷法により均一な膜厚の有機発光層を形成することを課題として凸版印刷法により有機発光層を形成した有機ＥＬ素子について説明したが、凸版印刷法で機能性の材料を含むインキを基板に転写することで形成される他の電子デバイスにも応用でき、例えば、有機半導体材料を溶剤に溶解させた有機半導体材料インキを本発明の印刷用凸版を用いて基板に印刷することで均一な膜厚の有機薄膜トランジスタが形成できる。 In addition, although this invention demonstrated the organic EL element which formed the organic light emitting layer by the relief printing method for the purpose of forming the organic light emitting layer of uniform film thickness by the relief printing method, it is a functional material by a relief printing method. It can also be applied to other electronic devices that are formed by transferring an ink containing ink to a substrate. For example, an organic semiconductor material ink in which an organic semiconductor material is dissolved in a solvent is printed on the substrate using the relief printing plate of the present invention. By doing so, an organic thin film transistor having a uniform film thickness can be formed.
次に、本発明の一実施形態を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれに限るものではない。 Next, although one embodiment of the present invention is described based on an example, the present invention is not limited to this.
＜実施例１＞
次に、本発明の実施例を説明する。本実施例においては、既に画素電極（陽極２）、取り出し電極、ＴＦＴ回路を保護するためのＳｉＮｘ膜からなる絶縁層およびポリイミドからなる隔壁を備えたＴＦＴ基板を用い、隔壁は画素を仕切るような格子状に形成され、画素上に正孔輸送層４、凸版印刷法で形成される有機発光層６、対向電極７を順次形成して、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作製した。
<Example 1>
Next, examples of the present invention will be described. In this embodiment, a TFT substrate having a pixel electrode (anode 2), an extraction electrode, an insulating layer made of a SiNx film for protecting the TFT circuit, and a partition made of polyimide is used, and the partition partitions the pixels. An active matrix type organic EL display element panel was formed by sequentially forming a hole transport layer 4, an organic
有機発光層６の形成に用いられた印刷用樹脂凸版１２の凸部パターン領域２０１の上面図は、印刷開始側から印刷終了側に向かって１ｃｍあたり０．４５μｍで細幅化する台形状のストライプパターン２０５となっており、ネガ型感光性樹脂層にフォトリソグラフィー法を用いることによってこのパターンを作製した。このストライプパターンの印刷方向と平行な方向の長さは１０ｃｍであり、印刷開始側の幅は２９．２５μｍであり、印刷終了側の幅は２４．７５μｍであり、厚さは５０μｍであった。
The top view of the
凸版には水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。この版表面に対する発光材料インキの接触角は１０度以下であった。樹脂凸版１２を巻きつけた版胴１１をストライプ状の画像形成部のストライプ方向に転動させて画素長辺と平行に印刷した。
A water-developable photosensitive resin plate was used as the relief plate. The contact angle of the luminescent material ink with respect to the plate surface was 10 degrees or less. The
有機発光層６は、材料としてポリ［２−メトキシ−５−（２'−エチル−ヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨＰＰＶ）を用い、表１に示す膜厚で形成した。
The organic
正孔輸送層４は、ＴＦＴ基板１上に酸化モリブデンをスパッタリング法で成膜して膜厚４０ｎｍの薄膜を得ることで形成した。インターレイヤ５は画素部９のラインに均一に印刷した。発光層６は有機発光材料であるポリフルオレン系の緑色発光材料を濃度２％になるように印刷溶剤Ａに溶解させた有機発光インキを用い、凸版印刷法で画素に印刷をした。
The hole transport layer 4 was formed by depositing molybdenum oxide on the TFT substrate 1 by a sputtering method to obtain a thin film having a thickness of 40 nm. The interlayer 5 was printed uniformly on the line of the pixel portion 9. The
その上にＢａ、Ａｌからなる対向電極７を抵抗加熱蒸着法により真空蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、封止キャップ８ａと接着剤８ｂを用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作製した。
On top of this, a
得られたパネルの表示部の周縁部には、各電極に接続されている陽極側および陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらのドライバーを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、画素内の膜厚について平均膜厚からのズレを測定し、３σを算出したところ表１の様になった。また、パネルの点灯状態を肉眼で観察したところ発光にムラは見られなかった。 At the peripheral part of the display part of the obtained panel, there are the extraction electrodes on the anode side and the cathode side connected to each electrode, and the lighting display confirmation of the panel is confirmed by connecting to the driving device through these drivers Then, the deviation from the average film thickness was measured for the film thickness in the pixel, and 3σ was calculated as shown in Table 1. Further, when the lighting state of the panel was observed with the naked eye, no unevenness was found in the light emission.
＜比較例１＞
比較例１では、印刷開始側から終了側にかけて凸部の幅が均一な通常の印刷用凸版を用いて、インターレイヤおよび有機発光層を印刷した。それ以外は実施例１と同様の工程で有機ＥＬディスプレイ用素子パネルを作製した。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, the interlayer and the organic light emitting layer were printed using a normal printing relief plate having a uniform width of the convex portion from the printing start side to the end side. Other than that produced the element panel for organic EL displays in the same process as Example 1.
実施例１と同様にパネルの点灯表示確認を行い、画素内の膜厚について平均膜厚からのズレを測定し、３σを算出したところ表１の様になった。また、パネルの点灯状態を肉眼で観察したところ発光にムラが生じていた。 The panel lighting display was confirmed in the same manner as in Example 1, the deviation of the film thickness in the pixel from the average film thickness was measured, and 3σ was calculated. Further, when the lighting state of the panel was observed with the naked eye, the light emission was uneven.
次に、表１に実施例１と比較例１のパネル点灯結果を示す。 Next, Table 1 shows the panel lighting results of Example 1 and Comparative Example 1.
表１において、３σの比較から実施例１では比較例１に比べて面内均一性がよく、また実施例１では発光ムラが見られなかったことから、本発明の効果として従来印刷法では厚膜傾向にある印刷終了側の厚膜化を軽減し、有機層の画素パターン部における面内バラツキを低減できることが分かった。即ち、凸部パターンの印刷開始側から終了側にかけて細幅化したストライプパターンを有する本発明の印刷用凸版を用いることにより、発光輝度ムラのない有機ＥＬ素子の製造が可能となった。 In Table 1, from the comparison of 3σ, in-plane uniformity was better in Example 1 than in Comparative Example 1, and no uneven light emission was seen in Example 1. It was found that the increase in thickness on the printing end side, which tends to be a film, can be reduced, and the in-plane variation in the pixel pattern portion of the organic layer can be reduced. That is, by using the printing relief plate of the present invention having a stripe pattern narrowed from the printing start side to the end side of the convex pattern, it becomes possible to produce an organic EL element free from uneven emission luminance.
１：基板
２：画素電極
３：隔壁
４：正孔輸送層
５：インターレイヤ層
６：有機発光層
７：対向電極
８：封止体
８ａ：封止キャップ
８ｂ：接着剤
８ｃ：乾燥剤
９：画素部
１０：隔壁が形成された基板（被印刷基板）
１１：版胴
１２：樹脂凸版
１３：アニロックスロール
１４：版のストライプ
２００：基材
２０１：凸部パターン
２０１'：光性樹脂組成物
２０２：反射防止層
２０３：積層体
２０４：積層体
２０５：版の凸部パターン（凸部の形状を台形にしている例）
２０６：版の凸部パターン（凸部の形状を三角形にしている例）
２０７：版の凸部パターン（凸部の形状を台形にしている例）
２０８：版の凸部パターン（凸部の形状を三角形にしている例）
２０９：版の凸部パターン（凸部の形状を楕円形と線分で囲まれた形状にしている例）
２１０：版の凸部パターン（凸部の形状を双極線と線分で囲まれた形状にしている例）
1: Substrate 2: Pixel electrode 3: Partition wall 4: Hole transport layer 5: Interlayer layer 6: Organic light emitting layer 7: Counter electrode 8:
11: Plate cylinder 12: Resin letterpress 13: Anilox roll 14: Plate stripe 200: Base material 201:
206: Plate convex pattern (example in which the convex shape is triangular)
207: Plate convex pattern (example in which the convex shape is trapezoidal)
208: Plate convex pattern (example in which the convex shape is triangular)
209: Plate convex pattern (example in which the convex shape is surrounded by an ellipse and a line segment)
210: Plate convex pattern (example in which the shape of the convex is surrounded by a bipolar line and a line segment)
Claims (6)
前記ストライプ状の凸部の幅は前記印刷開始側から前記印刷終了側にかけて一様に細くなっていることを特徴とする印刷用凸版。 It consists of a convex pattern in which one or more stripe-shaped convex portions that are long in the direction parallel to the printing direction are formed on the base material, and the stripe-shaped convex portions are at least from the printing start side that first contacts the substrate to be printed. A printing relief plate used in a relief printing method that has a printing end side that comes into contact with the substrate to be printed last, and transfers the ink supplied onto the projection by the ink supply means to the printing substrate,
The relief printing plate according to claim 1, wherein a width of the stripe-shaped convex portion is uniformly narrowed from the printing start side to the printing end side.
基板上に凸版印刷法により塗布して形成する工程は、
請求項１乃至３の何れか１項に記載の印刷用凸版に前記有機材料インキを供給する工程と、
前記有機材料インキを被転写体に転写する工程と、
からなることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 An electronic device manufacturing method comprising a step of applying an organic material ink comprising at least an organic material and a solvent on a substrate by a relief printing method,
The step of applying and forming on a substrate by a relief printing method is as follows:
Supplying the organic material ink to the relief printing plate according to any one of claims 1 to 3,
Transferring the organic material ink to a transfer medium;
An electronic device manufacturing method comprising:
前記有機発光インキを塗工する工程は、
請求項１乃至３の何れか１項に記載の印刷用凸版に前記有機発光インキを供給する工程と、
前記印刷用凸版上に供給されたインキを前記画素電極上に塗工する工程と、
からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 An organic EL comprising at least a pixel electrode formed on a substrate, a partition partitioning the pixel electrode in a lattice shape, a counter electrode, and an organic light emitting layer formed between the pixel electrode and the counter electrode In the method for producing an organic EL element, wherein the organic light-emitting layer is formed by a step of applying an organic light-emitting ink comprising at least an organic light-emitting material and a solvent on the pixel electrode.
The step of applying the organic light-emitting ink includes:
Supplying the organic light-emitting ink to the relief printing plate according to any one of claims 1 to 3,
Coating the ink supplied onto the printing relief plate onto the pixel electrode;
The manufacturing method of the organic electroluminescent element characterized by comprising.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010069571A JP5488101B2 (en) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010069571A JP5488101B2 (en) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011201101A JP2011201101A (en) | 2011-10-13 |
| JP5488101B2 true JP5488101B2 (en) | 2014-05-14 |
Family
ID=44878334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010069571A Expired - Fee Related JP5488101B2 (en) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5488101B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104834130A (en) * | 2015-04-16 | 2015-08-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | Transfer relief printing plate |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0829616A (en) * | 1994-07-19 | 1996-02-02 | Toppan Printing Co Ltd | Production of color filter |
| JPH09309194A (en) * | 1996-05-21 | 1997-12-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Intaglio for intaglio offset printing |
| JP3376908B2 (en) * | 1998-02-09 | 2003-02-17 | 株式会社コムラテック | Resin letterpress with excellent suitability for film printing |
| JP2006068946A (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | Printing plate |
| JP2009099440A (en) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacturing method of organic electroluminescent element |
| JP2009245776A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Method of manufacturing organic electroluminescent element, and organic electroluminescent device, and display |
-
2010
- 2010-03-25 JP JP2010069571A patent/JP5488101B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104834130A (en) * | 2015-04-16 | 2015-08-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | Transfer relief printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011201101A (en) | 2011-10-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006286309A (en) | Organic electroluminescent display device and its manufacturing method | |
| JP4682691B2 (en) | Method for manufacturing organic electroluminescence device | |
| JP5396976B2 (en) | Organic EL device and manufacturing method thereof | |
| JP4706845B2 (en) | Manufacturing method of organic EL element | |
| JP5870926B2 (en) | Letterpress for printing and method for producing organic EL element using the same | |
| JP2008046441A (en) | Letterpress manufacturing method | |
| JP5699511B2 (en) | Letterpress for printing, letterpress printing apparatus using the same, and method for producing organic electroluminescence element | |
| JP4747637B2 (en) | Manufacturing method of organic EL display panel | |
| JP5488101B2 (en) | Letterpress for printing, electronic device using the same, and method for producing organic electroluminescence element | |
| JP2007095520A (en) | Organic electroluminescent element and its manufacturing method | |
| JP2011115973A (en) | Letterpress for printing, method for manufacturing organic electroluminescent element using the same, and organic electroluminescent element | |
| JP5499836B2 (en) | High-definition relief printing plate, plate-shaped photosensitive resin laminate, electronic pattern manufacturing apparatus, and organic EL element manufacturing apparatus | |
| JP2006286241A (en) | Organic el display panel and its manufacturing method | |
| JP2013206822A (en) | Manufacturing method of letterpress for printing, organic electroluminescent element and manufacturing method of electronic device | |
| JP2011187208A (en) | Manufacturing method for organic el element, organic el element using the same and organic el display | |
| JP2008140579A (en) | Organic el element and its manufacturing method, and letterpress | |
| JP2013201046A (en) | Method for correcting recessed defect and method for manufacturing organic el element using the same | |
| JP5593843B2 (en) | Organic electroluminescence device and method for manufacturing the same | |
| JP6079048B2 (en) | Letterpress for printing and method for producing organic EL element using the same | |
| JP6079049B2 (en) | Letterpress for printing and method for producing organic EL element using the same | |
| JP5771906B2 (en) | Method for producing letterpress for printing | |
| JP2008140588A (en) | Organic el element and its manufacturing method, and letterpress | |
| JP2015210925A (en) | Relief printing plate, method of manufacturing organic electroluminescent element and organic electroluminescent element | |
| JP2007253447A (en) | Relief printing plate for printing and printed matter | |
| JP2011110707A (en) | Letterpress printing plate, method for manufacturing electronic device using letterpress printing plate and organic electroluminescence element |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130220 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140123 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140128 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140210 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5488101 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |