JP5478674B2 - ノンマーキング・マットセラミックを製造する方法 - Google Patents
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Description
a)セラミック部品を製造するステップと、
b)セラミック部品に部分的にサンドブラスト加工を施してマットにするステップと、
を含み、この方法は、つぎの最終ステップを含むことを特徴とする。
c)マット部分をラッピング研磨することにより、マット部分の表面を平坦化する。
‐ 該方法は、ステップa)とステップb)の間に、セラミック部品をポリッシングするステップd)を含み、これにより、ステップb)で得られるマット部分の粗度をより良く調節する。
‐ ステップd)は、研磨仕上げにより得られる。
‐ ステップd)で得られる粗度Raは、20nm未満である。
‐ ステップa)は、焼結によって得られる。
‐ ステップb)は、コランダム粒子を吹き付けることにより実現される。
‐ ステップc)は、タンブリングにより得られる。
‐ ステップc)で得られるラッピングは、好ましくは、0.8μmから2μmの間である。
Claims (8)
- マットセラミック部品(13,14,15,17,19)を製造する方法(1)であって、
a)セラミック部品を製造するステップ(2)と、
b)前記セラミック部品に部分的にサンドブラスト加工を施してマットにするステップ(7)と、を含み、
c)前記マット部分をタンブリングすることで、前記マット部分の表面を平坦化する最終ステップ(9)を含むことを特徴とする、方法。 - 前記ステップc)で得られる前記表面の平坦さは、3μmから7μmの間であることを特徴とする、請求項1に記載の方法(1)。
- 前記ステップa)と前記ステップb)の間に、
d)前記セラミック部品をポリッシングするステップ(5)を含み、これにより、前記ステップb)で得られる前記マット部分の粗度をより良く調節することを特徴とする、請求項1に記載の方法(1)。 - 前記ステップc)で得られる前記表面の平坦さは、0.8μmから2μmの間であることを特徴とする、請求項3に記載の方法(1)。
- 前記ステップd)で得られる粗度Raは、20nm未満であることを特徴とする、請求項3または4に記載の方法(1)。
- 前記ステップa)は、焼結によって得られることを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載の方法(1)。
- 前記ステップb)は、コランダム粒子を吹き付けることにより得られることを特徴とする、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法(1)。
- 請求項1ないし7のいずれかに従って得られるマットセラミック部品(13,14,15,17,19)を少なくとも1つ含むことを特徴とする、時計(11)。
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