JP5459895B2 - ガス分流供給ユニット - Google Patents
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Description
基板処理装置100は、耐圧筐体101と処理室102の間の図示しないシャッタが開かれ、複数のウエハ103を収容するボート104を、ボート104の下端部に配置したシールキャップ105でシャッタ開口部を塞ぐように、耐圧筐体101から処理室102内へ移動させるようになっている。処理室102には、長さが異なる第1ノズル106aと、第2ノズル106bと、第3106cが配置されている。第1〜第3ノズル106a,106b,106cは、処理室102内に位置する先端部にガスを吐出する吐出口が設けられている。
上記ガス分流供給ユニット110は、メイン開閉弁112を開くと共に、可変流量制御弁113を全開にしてガスを第1設定流量に制御し、第2及び第3開閉弁114b,114cを閉じた状態で第1開閉弁114aを開く。第1開閉弁114aを開いてから一定時間(例えば5sec)経過したら、第1開閉弁114aを閉じる。第1開閉弁114aを閉じてから所定時間Aが経過したら、第2開閉弁114bを開く。可変流量制御弁113は、第1開閉弁114aが閉じてから第2開閉弁114bが開くまでの間(期間A)内に、弁開度を全開から全開時の2分の1に小さくし、ガス流量を第1設定流量から第2設定流量に変更する。
(1)ガスを分流して複数のノズルに供給するガス分流供給ユニットにおいて、前記ガスの流量を制御する流量制御機器と、前記流量制御機器の二次側に入口側が接続され、出口側が前記複数のノズルに各々接続される複数の開閉弁と、を有し、前記複数の開閉弁の各々の動作周期は、5ms〜500msであること、前記複数の開閉弁に一定の流量のガスが供給され、前記複数の開閉弁の動作周期を1サイクルとして、所定の分流比に応じて、前記複数の開閉弁が前記1サイクルの中で時分割してデューティ制御されることにより、前記分流比を任意に設定できること、前記複数の開閉弁の二次側にタンクをそれぞれ配置することにより、前記複数のノズルの各々の出口から一定流量で前記ガスを出力できる。
<流体分流供給ユニット>
図1は、本発明の第1実施形態に係る流体分流供給ユニット1の回路図である。
流体分流供給ユニット1は、従来技術と同様、基板処理装置に接続される。流体分流供給ユニット1は、手動弁2と、逆止弁3と、フィルタ4と、手動式のレギュレータ5と、圧力計6と、入力側エアオペレイトバルブ7と、「流量制御機器」の一例であるマスフローコントローラ8と、出力側エアオペレイトバルブ9と、第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cと、第1〜第3フィルタ11A,11B,11Cが接続され、「流体」の一例であるプロセスガスを供給するプロセスガスライン15を形成している。プロセスガスライン15は、入力側エアオペレイトバルブ7とマスフローコントローラ8との間に、パージガスライン16が接続している。パージガスライン16は、共通パージライン17から分岐し、逆止弁12とパージバルブ13とが配置されている。
図2は、図1に示す流体分流供給ユニット1を具現化したものの上面図である。図3は、図2に示す流体分流供給ユニット1のA−A断面図であって、図中一点鎖線はガス流路を示す。
流体分流供給ユニットは、上面に開口する2つのポートに接続するようにV字流路25aが形成された流路ブロック25の上に、入力配管26、手動弁2、逆止弁3、フィルタ4、レギュレータ5、圧力計6、共通流路ブロック27、マスフローコントローラ8、出力側エアオペレイトバルブ9、第1〜第3分岐ブロック28A,28B,28C、第1〜第3開閉弁10A,10B,10C、第1〜第3フィルタ11A,11B,11C、第1〜第3出力配管29A,29B,29Cがぞれぞれ載せられ、それぞれ上方から複数本のボルト30で各流路ブロック25にねじ固定されている。
第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cは、同じ構造をなす。よって、ここでは、第1開閉弁10Aの構成を例に挙げて説明し、第2,第3開閉弁10B,10Cの構成の説明を省略する。
図5は、図1に示す分流コントローラ21の電気ブロック図である。
分流コントローラ21は、周知のマイクロコンピュータであって、データの加工演算を行うCPU51に、不揮発性の読み出し専用メモリであるROM52と、揮発性の読み書き可能なメモリであるRAM53と、不揮発性の読み書き可能なNVRAM54と、信号の入出力を制御する入出力インターフェース(以下「I/O」と略記する。)55とが接続されている。
次に、上記流体分流供給ユニット1の動作について説明する。図6は、図1に示す流体分流供給ユニット1のガス供給シーケンスフローを示すタイムチャートである。
流体分流供給ユニット1は、半導体製造装置のガスコントローラ115が入力側エアオペレイトバルブ7やマスフローコントローラ8、出力側エアオペレイトバルブ9、パージバルブ13などの制御を開始して基板処理装置100を起動させると、分流コントローラ21のCPU51がNVRAM54から分流制御プログラム59を読み出してRAM53にコピーし、実行する。
分流コントローラ21は、第1開閉弁10Aを閉じたら直ぐに、第2開閉弁10Bを開く。分流コントローラ21は、第2開閉弁10Bを、1サイクルのうち、b/(a+b+c)秒間だけ弁開させた後、第2開閉弁10Bを閉じる。
更に、分流コントローラ21は、第2開閉弁10Bを閉じたら直ぐに、第3開閉弁10Cを開く。分流コントローラ21は、第3開閉弁10Cを、1サイクルのうち、c/(a+b+c)秒間だけ弁開させた後、第3開閉弁10Cを閉じる。
以上のようにして第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cを1サイクル分制御する。
例えば、処理室102のトップエリアに供給するプロセスガスの流量を20msccm、センタエリアに供給するプロセスガスの流量を50sccm、ボトムエリアに供給するプロセスガスの流量を30sccmとする。この場合には、マスフローコントローラ8の設定流量を、処理室102に供給するプロセスガスの総流量100sccmとする。
以上説明したように、第1実施形態に係る流体分流供給ユニット1及び流体制御プログラム59は、マスフローコントローラ8でプロセスガスを設定流量dsccmに調整した状態で、開閉弁の動作周期を1サイクルとして、分流比a:b:cに応じて1サイクルを時分割して第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cの弁開閉動作をデューティ制御することによって、プロセスガスを異なる流量で処理室102に分流供給する。このとき、流体分流供給ユニット1は、マスフローコントローラ8の設定流量を変えずに、各開閉弁10A,10B,10Cの弁開時間によって、プロセスガスの流量を調整する。このように、第1実施形態の流体分流供給ユニット1及び流体制御プログラム59は、マスフローコントローラ8の設定流量を安定させるために、例えば第1開閉弁10Aを閉じてから次の第2開閉弁10Bを開くまでの間に待ち時間を設ける必要がないので、分流されるプロセスガスの流量を瞬時に管理し、所定の分流比a:b:cでプロセスガスを素早く出力することができる。
次に、本発明の流体分流供給ユニットの第2実施形態について説明する。
図7は、本発明の第2実施形態に係る流体分流供給ユニット1Aの回路図である。
第2実施形態に係る流体分流供給ユニット1Aは、第1〜第3タンク61A,61B,61Cを備える点が第1実施形態と異なり、その他の点は第1実施形態と共通している。よって、ここでは、第1実施形態と相違する点を中心に説明し、第1実施形態と共通する点は、図面に第1実施形態と同一符号を付し、説明を適宜省略する。
図8は、図7に示す流体分流供給ユニット1Aを具現化したものの上面図である。図9は、図8に示す流体分流供給ユニット1AのB−B断面図であって、図中一点鎖線はガス流路を示す。
第1〜第3タンク61A,61B,61Cは、入力ポートが流路ブロック25を介してフィルタ11に連通し、出力ポートが流路ブロック25を介して第1〜第3出力配管29A,29B,29Cにそれぞれ連通している。
流体分流供給ユニット1Aは、第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cが出力したプロセスガスから、第1〜第3フィルタ11A,11B,11Cで不純物の除去しする。流体分流供給ユニット1Aは、流量調整したプロセスガスを第1〜第3タンク61A,61B,61Cに一旦貯めてから、第1〜第3出力配管29A,29B,29Cから第1〜第3ノズル106a,106b,106cを介して処理室102に供給する。
実験では、図8に示す流体分流供給ユニット1Aから第1〜第3タンク61A,61B,61Cを取り除いた実験装置Xと、容積が500ccの第1〜第3タンク61A,61B,61Cを取り付けた実験装置Yと、容積が5Lの第1〜第3タンク61A,61B,61Cを取り付けた実験装置Zとを使用した。そして、各実験装置X,Y,Zは、動作周期が150msecの第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cを使用した。
図10に示すように、第1〜第3タンク61A,61B,61Cがない実験装置Xは、図中実線に示すように、第1〜第3タンク61A,61B,61Cを備える実験装置Y,Zと比べて、開閉弁10の開閉動作に合わせて出力しており、脈動が大きい。そして、第1〜第3タンク61A,61B,61Cは、図中点線及び太線に示すように、容積が大きいほど、ガスの二次側流量変動に脈動を生じにくい。
第2実施形態に係る流体分流供給ユニット1Aは、第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cの二次側に第1〜第3タンク61A,61B,61Cを配置することにより、第1〜第3出力配管29A,29B,29Cから第1〜第3ノズル106a,106b,106cを介して処理室102に供給するガスに脈動を小さくすることができるので、ガスの流量制御をしやすい。この効果は、第1〜第3タンク61A,61B,61Cの容積を大きくする程、得られやすい。
(2)例えば、上記実施の形態では、開閉弁10の駆動方式が電磁式であったが、指示流量を満足できるCV値と応答性を満たせば、開閉弁10の駆動方式をエアオペレイト式にしても良い。
(3)例えば、上記実施の形態では、マスフローコントローラ8を流量制御機器の一例として挙げたが、マスフローコントローラ8の変わりに、マスフローマノメータを使用しても良い。
(4)例えば、上記実施の形態では、手動式のレギュレータ5を使用したが、電子レギュレータを使用しても良い。
(5)例えば、上記実施形態では、分流コントローラ21に分流比を入力できるようにしたが、ガスコントローラ115から分流コントローラ21に分流比の指示を与えるようにしても良い。
(6)上記実施形態では、ガスの分流に流体分流供給ユニットを使用したが、薬液等の液体に流体分流供給ユニットを適用しても良い。
(7)上記実施形態では、分流制御プログラム59を分流コントローラ21に予め記憶させているが、分流コントローラ21を流体分流供給ユニット1に取り付けずに、分流制御プログラム59をガスコントローラ115にコピーし、ガスコントローラ115で第1〜第3開閉弁10A,10B,10Cをデューティ制御するようにしても良い。
8 マスフローコントローラ
10A,10B,10C 第1〜第3開閉弁
21 分流コントローラ(コントローラ)
59 分流制御プログラム
61A,61B,61C 第1〜第3タンク
Claims (2)
- ガスを分流して複数のノズルに供給するガス分流供給ユニットにおいて、
前記ガスの流量を制御する流量制御機器と、
前記流量制御機器の二次側に入口側が接続され、出口側が前記複数のノズルに各々接続される複数の開閉弁と、を有し、
前記複数の開閉弁の各々の動作周期は5ms〜500msであること、
前記複数の開閉弁に一定の流量のガスが供給され、前記複数の開閉弁の動作周期を1サイクルとして、所定の分流比に応じて、前記複数の開閉弁が前記1サイクルの中で時分割してデューティ制御されることにより、前記分流比を任意に設定できること、
前記複数の開閉弁の二次側にタンクをそれぞれ配置することにより、前記複数のノズルの各々の出口から一定流量で前記ガスを出力できること、
を特徴とするガス分流供給ユニット。 - 請求項1に記載するガス分流供給ユニットにおいて、
前記複数の開閉弁の弁開閉動作をデューティ制御するコントローラを有することを特徴とするガス分流供給ユニット。
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