JP5448494B2 - 偏光計測装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
により算出される。
式(2)において、f0は、瞳結像レンズ708の焦点距離、より詳細には、瞳結像レンズ708を構成するレンズのうちハーフミラー706a、706b側に配置されたレンズの焦点距離を表している。
式(3)において、J_r−1は、計測部70の復路光学系の複屈折を表すジョーンズ行列J_rの逆行列を表している。
このように、本実施例では、計測部70の往路光学系の複屈折及び復路光学径の複屈折を2回の測定で得ることが可能であり、また、計測部70と投影光学系40との全体の複屈折からシステムエラーを分離することができる。従って、本実施例の露光装置1は、投影光学系40の複屈折を露光装置内で計測することが可能となる。
これは、偏光子703の角度を検光子710の透過軸の角度に一致させた場合、実際のλ/4板709の位相差量と計算パラメータとしてのλ/4板709の位相差量とが異なることにより、偏光度Pが最も敏感に1からずれるためである。一方、検光子710の透過軸とλ/4板709の進相軸(あるいは遅相軸)とが一致してない場合、偏光度Pは最も鈍感に1からずれる。
60 制御部
70 計測部
80 校正部
90 リレー部
709 λ/4板
710 検光子
711 撮像素子
Claims (6)
- 光の偏光状態を計測する偏光計測装置であって、
光軸回りに回転して光の偏光状態を変化させる位相子と、
前記位相子を通過した光の所定の偏光成分のみを通過させる第一の偏光子と、
前記第一の偏光子を通過した光を検出する検出器と、
前記位相子の位相差量をパラメータとして前記検出器の検出結果を用いて偏光度を算出し、算出される偏光度が1となる前記位相差量のパラメータの値を求め、求められた位相差量のパラメータの値を用いて前記偏光状態を算出する制御部と、を有し、
前記偏光度をP、ストークスパラメータをS 0 、S 1 、S 2 、S 3 とする場合、該偏光度Pは、
により算出されることを特徴とする偏光計測装置。 - 光の所定の偏光成分のみを通過させる第二の偏光子を有し、
前記第二の偏光子を通過した既知の偏光光は、前記位相子に入射し、
前記制御部は、前記位相子に入射した前記既知の偏光光に基づいて前記位相差量のパラメータの値を求めることを特徴とする請求項1に記載の偏光計測装置。 - 前記第二の偏光子は、前記既知の偏光光を被検光学系に入射し、
前記制御部は、前記被検光学系の複屈折を算出することを特徴とする請求項2記載の偏光計測装置。 - 前記第二の偏光子と前記第一の偏光子との透過軸が一致した状態で前記位相子を回転させて前記検出器が前記第一の偏光子を通過した光を検出した結果を用いて前記偏光度を算出し、算出される偏光度が1となる前記位相差量のパラメータの値を求めることを特徴とする請求項2記載の偏光計測装置。
- 原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
光源からの光を用いて前記原版を照明する照明光学系と、
前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
前記原版を照明する露光光の偏光状態、及び、前記投影光学系の複屈折の少なくとも一方を計測する請求項1乃至4のいずれか一に記載の偏光計測装置と、を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項5記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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