JP5441056B2 - Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 23
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 title claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 111
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 38
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 38
- -1 siloxane structure Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 23
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 20
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 20
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 8
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZIAVRBYAVKYDU-UHFFFAOYSA-N 1-(6-isocyanatohexyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C=NCCCCCCN1C(=O)NC(=O)NC1=O TZIAVRBYAVKYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000474 nursing effect Effects 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKLAAFNAZWIDCJ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CCCCCCN1C(=O)NC(=O)NC1=O YKLAAFNAZWIDCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOCCOC(=O)C=C RWXMAAYKJDQVTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCO MZGMQAMKOBOIDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VETIYACESIPJSO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOCCOCCOC(=O)C=C VETIYACESIPJSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOXYRZQCFVVAOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(O)COC(C)COC(C)CO VOXYRZQCFVVAOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQOGBCBPDVTBFM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(O)COC(C)COC(C)CO NQOGBCBPDVTBFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(C)COC(C)COC(=O)C(C)=C OWDBMKZHFCSOOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHCUUVLMXARGTH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propoxy]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C=C OHCUUVLMXARGTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIVJXJNCTSUKAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propoxy]propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C BIVJXJNCTSUKAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDXRPVSAKWYDH-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(prop-2-enoxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC=C LZDXRPVSAKWYDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZWQIIXJBLUGCX-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid 1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(=C)C(O)=O.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 NZWQIIXJBLUGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCO XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCCCOC(=O)C=C OCIFJWVZZUDMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLSHOACDJOJBKZ-UHFFFAOYSA-N CCC(C)([NH+](C)[O-])OC Chemical compound CCC(C)([NH+](C)[O-])OC NLSHOACDJOJBKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMLMZFCHLPFOEL-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound OC(=O)C=C.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 AMLMZFCHLPFOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- UBLMQJHQMRREBE-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol;propane-1,2,3-triol Chemical compound CCCC(O)O.OCC(O)CO UBLMQJHQMRREBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl methane Chemical class CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical group OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005651 polypropylene glycol dimethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明は、ハードコート層形成用組成物、ハードコートフィルム、光学素子および画像表示装置に関する。 The present invention relates to a composition for forming a hard coat layer, a hard coat film, an optical element, and an image display device.
近年の技術の進歩に伴い、画像表示装置は、従来のＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）に加え、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）およびエレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等が開発され、実用化されている。これらのなかで、ＬＣＤは、高視野角化、高精細化、高速応答性、色再現性などに関する技術革新に伴い、ＬＣＤを利用するアプリケーションもノート型パーソナルコンピュータやモニターからテレビへと拡大し、使用用途は多岐に亘っている。ＬＣＤの基本的な構成は、それぞれ透明電極を備えた平板上のガラス基板を、一定間隔のギャップとなるようにスペーサーを介して対向配置し、前記ガラス基板間に液晶材料を注入し封止して液晶セルとし、さらに一対のガラス基板の外側面にそれぞれ偏光板を設けたという構成である。従来は、液晶セル表面にガラスやプラスチックからなるカバープレートを装着し、液晶セル表面に貼付している偏光板への傷付き防止を図っていた。しかし、カバープレートを装着すると、コストおよび重量の面で不利であり、次第に前記偏光板表面にハードコート処理を行うようになってきた。 Along with the advancement of technology in recent years, in addition to the conventional CRT (Cathode Ray Tube), liquid crystal displays (LCD), plasma displays (PDP), electroluminescent displays (ELD), etc. have been developed and put into practical use. ing. Among these, LCDs have been expanded from notebook personal computers and monitors to televisions due to technological innovations such as high viewing angles, high definition, high speed response, and color reproducibility. There are various uses. The basic structure of an LCD is that a glass substrate on a flat plate, each with a transparent electrode, is placed oppositely through a spacer so as to form a gap with a constant interval, and a liquid crystal material is injected between the glass substrates and sealed. The liquid crystal cell is further provided with polarizing plates on the outer surfaces of the pair of glass substrates. Conventionally, a cover plate made of glass or plastic is attached to the surface of the liquid crystal cell to prevent damage to the polarizing plate attached to the surface of the liquid crystal cell. However, when a cover plate is attached, it is disadvantageous in terms of cost and weight, and a hard coat treatment is gradually applied to the polarizing plate surface.
前記ハードコート処理には、透明プラスチックフィルム基材の片面若しくは両面にハードコート層が形成されたハードコートフィルムが用いられるのが一般的である。前記ハードコート層は、通常、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂等のハードコート層形成用組成物を用いて形成される。 In the hard coat treatment, a hard coat film in which a hard coat layer is formed on one side or both sides of a transparent plastic film substrate is generally used. The hard coat layer is usually formed using a hard coat layer forming composition such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.
ハードコートフィルムに対しては、耐擦傷性および防汚性の向上が求められている。そこで、ハードコート層の耐擦傷性と防汚性とを向上させるために、フッ素原子およびケイ素原子のいずれかの原子を有する化合物を含む硬化性組成物を用いたハードコート層が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、ハードコート層にケイ素系化合物またはフッ素系化合物を添加して、ハードコート層の最表面におけるケイ素原子またはフッ素原子の存在比率を特定範囲とすることも提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかし、ＬＣＤのアプリケーションが多様化することで、表面が傷付いたり汚れが付着する機会の多様化も想定される。前記アプリケーションの多様化に伴い、より高いレベルでの耐擦傷性および防汚性、ならびに、これらの特性の持続が求められている。 Hard coat films are required to have improved scratch resistance and antifouling properties. Therefore, in order to improve the scratch resistance and antifouling property of the hard coat layer, a hard coat layer using a curable composition containing a compound having either a fluorine atom or a silicon atom has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1). It has also been proposed to add a silicon compound or fluorine compound to the hard coat layer so that the abundance ratio of silicon atoms or fluorine atoms on the outermost surface of the hard coat layer is within a specific range (for example, Patent Document 2). reference). However, as LCD applications are diversified, diversification of the chances of scratching or soiling the surface is also envisaged. With the diversification of the applications, there is a need for higher levels of scratch resistance and antifouling properties and to maintain these properties.
そこで、本発明は、十分な硬度を有し、耐擦傷性に優れ、かつ、防汚性にも優れるハードコート層を得ることができるハードコート層形成用組成物を提供することを目的とする。さらに、本発明は、十分な硬度を有し、耐擦傷性に優れ、かつ、防汚性にも優れるハードコートフィルム、それを用いた光学素子および画像表示装置を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a composition for forming a hard coat layer that has a sufficient hardness, is excellent in scratch resistance, and can provide a hard coat layer that is also excellent in antifouling property. . Furthermore, an object of the present invention is to provide a hard coat film having sufficient hardness, excellent scratch resistance, and excellent antifouling properties, an optical element using the hard coat film, and an image display device.
前記目的を達成するために、本発明のハードコート層形成用組成物は、
ハードコート層の形成に用いるハードコート層形成用組成物であって、
下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を含むことを特徴とする。
（Ａ）成分：アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物
（Ｂ）成分：無機酸化物粒子表面が重合性不飽和基を含む有機化合物で修飾され、かつ、重量平均粒径が２００ｎｍ以下である粒子
（Ｃ）成分：反応性フッ素化合物
（Ｄ）成分：反応性ケイ素化合物
In order to achieve the above object, the composition for forming a hard coat layer of the present invention comprises:
A hard coat layer forming composition used for forming a hard coat layer,
The following (A) component, (B) component, (C) component, and (D) component are included, It is characterized by the above-mentioned.
(A) component: curable compound having at least one of acrylate group and methacrylate group (B) component: inorganic oxide particle surface is modified with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group, and the weight average particle size (C) component: reactive fluorine compound (D) component: reactive silicon compound having a particle size of 200 nm or less
本発明のハードコートフィルムは、透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層を有するハードコートフィルムであって、前記ハードコート層が、前記本発明のハードコート層形成用組成物から形成されたものであることを特徴とする。 The hard coat film of the present invention is a hard coat film having a hard coat layer on at least one surface of a transparent plastic film substrate, wherein the hard coat layer is formed from the hard coat layer forming composition of the present invention. It is formed.
本発明の光学素子は、光学部材の少なくとも一方の面に、前記本発明のハードコートフィルムが積層されていることを特徴とする。 The optical element of the present invention is characterized in that the hard coat film of the present invention is laminated on at least one surface of an optical member.
本発明の画像表示装置は、前記本発明のハードコートフィルムまたは前記本発明の光学素子を備えることを特徴とする。 The image display device of the present invention comprises the hard coat film of the present invention or the optical element of the present invention.
本発明のハードコート層形成用組成物から形成された本発明のハードコートフィルムは、前記四つの成分の機能が相俟って、十分な硬度を有し、耐擦傷性に優れ、かつ、防汚性にも優れる。本発明のハードコートフィルムによれば、長期にわたり表面に汚れが付着しにくく、また、汚れが付着した場合であっても、容易にその汚れを拭き取ることができる。本発明のハードコートフィルムは、耐擦傷性に優れているので、前記拭き取りの際にも、傷が付きにくい。したがって、本発明のハードコートフィルムを用いた光学素子および画像表示装置は、良好な特性を維持することが可能となる。 The hard coat film of the present invention formed from the composition for forming a hard coat layer of the present invention combines the functions of the four components, has sufficient hardness, has excellent scratch resistance, and is resistant to damage. Excellent soiling. According to the hard coat film of the present invention, it is difficult for dirt to adhere to the surface over a long period of time, and even if dirt is attached, the dirt can be easily wiped off. Since the hard coat film of the present invention is excellent in scratch resistance, it is difficult to be scratched even during the wiping. Therefore, the optical element and image display apparatus using the hard coat film of the present invention can maintain good characteristics.
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ｃ）成分は、例えば、下記一般式（１）で表される構造を有してもよい。下記一般式（１）において、少なくとも一つのＲが、フルオロアルキル基を有する置換基であり、少なくとも一つのＲが、アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方を有する置換基である。
本発明のハードコート層形成用組成物では、前記一般式（１）のＲにおいて、前記フルオロアルキル基を有する置換基は、例えば、下記一般式（２）で表される構造を有してもよい。下記一般式（２）で表される構造は、その末端に、パーフルオロポリエーテル単位（−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ３）を有している。前記パーフルオロポリエーテル単位において、ｎは、１以上の整数である。
本発明のハードコート層形成用組成物では、前記一般式（１）のＲにおいて、前記アクリレート基を有する置換基は、例えば、下記一般式（３）で表される置換基を有してもよい。
前記（Ｃ）成分が、前記一般式（１）で表され、前記一般式（１）のＲにおいて、前記一般式（２）で表される構造を有するフルオロアルキル基を有する置換基を一つ有し、前記一般式（３）で表される構造を有するアクリレート基を有する置換基を二つ有していることが好ましい。 The component (C) is represented by the general formula (1), and R in the general formula (1) has one substituent having a fluoroalkyl group having a structure represented by the general formula (2). And having two substituents having an acrylate group having a structure represented by the general formula (3).
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ｄ）成分は、例えば、下記一般式（４）で表される構造を有してもよい。下記一般式（４）において、Ｒは、シロキサン構造を有する置換基、アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方を有する置換基、および、活性水素基を有する置換基から選ばれる置換基であり、各Ｒは同一でも異なっていてもよい。
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ｄ）成分は、例えば、下記一般式（９）で表される構造を有してもよい。下記一般式（９）で表される構造を、６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸単位（ａ）とする。
本発明のハードコート層形成用組成物では、前記一般式（４）のＲにおいて、前記シロキサン構造を有する置換基は、例えば、下記一般式（５）で表される構造を有してもよい。下記一般式（５）で表される構造は、その末端に、ポリジメチルシロキサン単位（ｃ）を有し、前記単位（ｃ）は、メチルヒドロキシプロピルシロキサン単位（ｂ）と結合しており、前記単位（ｂ）は、そのヒドロキシ基が、前記単位（ａ）の一部である６−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基とウレタン結合している。前記ポリジメチルシロキサン単位（ｃ）において、ｎは、１以上の整数であり、１〜７が好ましい。
本発明のハードコート層形成用組成物では、前記一般式（４）のＲにおいて、前記活性水素基を有する置換基は、例えば、下記一般式（６）で表される置換基を有してもよい。前記一般式（６)で表される置換基では、前記単位（ａ）の一部である６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基がカルボキシル基となっている。また、前記一般式（６）で表される置換基において、前記カルボキシル基が脱炭酸化してアミノ基になっていてもよい。
本発明のハードコート層形成用組成物では、前記一般式（４）のＲにおいて、前記アクリレート基を有する置換基は、例えば、下記一般式（７）で表される構造を有してもよい。前記一般式（７）で表される構造は、末端にアクリレート基を有する脂肪族ポリエステル単位（ｄ）を有し、前記単位（ｄ）は、前記単位（ａ）の一部である６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸の末端イソシアネート基とウレタン結合している。前記一般式（７）において、ｍおよびｎは、それぞれ、１〜１０の整数であり、同一でも異なっていてもよい。ｌは、１〜５の整数である。
前記（Ｄ）成分が、前記一般式（９）で表される構造である単位（ａ）を含み、かつ前記一般式（５）〜（７）で表される置換基を含む６−イソシアネートへキシルイソシアヌル酸の誘導体の場合、前記単位（ａ）：前記単位（ｂ）：前記単位（ｃ）：前記単位（ｄ）の成分割合（モル比）は、前記単位（ａ）を１００としたとき、前記単位（ｂ）は、例えば、１〜８０の範囲であり、好ましくは、１〜６０の範囲であり、前記単位（ｃ）は、例えば、１０〜４００の範囲であり、好ましくは、１０〜３００の範囲であり、前記単位（ｄ）は、例えば、１〜１００の範囲であり、好ましくは、５〜５０の範囲である。 The 6-isocyanate containing the component (D) containing the unit (a) having the structure represented by the general formula (9) and the substituents represented by the general formulas (5) to (7) In the case of a derivative of xylisocyanuric acid, the component ratio (molar ratio) of the unit (a): the unit (b): the unit (c): the unit (d) is 100 when the unit (a) is 100. The unit (b) is, for example, in the range of 1-80, preferably in the range of 1-60, and the unit (c) is, for example, in the range of 10-400, preferably 10 The unit (d) is, for example, in the range of 1 to 100, and preferably in the range of 5 to 50.
本発明において、前記（Ｄ）成分の各構成成分（単位）の割合（モル比）は、例えば、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの積分曲線から求めることができる。前記（Ｄ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、５００〜１５００００の範囲であり、好ましくは、２０００〜１０００００の範囲である。前記重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定することができる。 In the present invention, the ratio (molar ratio) of each component (unit) of the component (D) can be determined from, for example, an integral curve of 1 H-NMR spectrum. The weight average molecular weight (Mw) of the said (D) component is the range of 500-150,000, for example, Preferably, it is the range of 2000-100000. The weight average molecular weight (Mw) can be measured by, for example, a gel permeation chromatograph (GPC) method.
前記（Ｃ）成分として前記一般式（１）で表される構造を有する化合物を用い、かつ、前記（Ｄ）成分として前記一般式（４）で表される構造を有する化合物を用いることが好ましい。類似の構造を有する化合物を用いることで、それぞれの有する作用が形成されたハードコート層において発現しやすくなることが推測されるが、本発明はこの推測によっては何ら制限されない。 It is preferable to use a compound having a structure represented by the general formula (1) as the component (C) and a compound having a structure represented by the general formula (4) as the component (D). . By using a compound having a similar structure, it is presumed that the respective functions are easily expressed in the hard coat layer formed, but the present invention is not limited by this presumption.
本発明のハードコート層形成用組成物において、光の散乱防止、ハードコート層の透過率低下防止、着色防止および透明性の点等から、前記（Ｂ）成分の重量平均粒径が、１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。前記重量平均粒径は、例えば、後述の実施例に記載の方法により測定できる。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, the weight average particle size of the component (B) is from 1 to 2 in terms of prevention of light scattering, prevention of transmittance reduction of the hard coat layer, prevention of coloring, transparency, and the like. A range of 100 nm is preferable. The said weight average particle diameter can be measured by the method as described in the below-mentioned Example, for example.
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ｂ）成分としては、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化チタン、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, examples of the component (B) include fine particles such as titanium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide. Among these, fine particles of titanium oxide, silicon oxide (silica), aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、前記（Ｂ）成分が、１００〜２００重量部の範囲で配合されていることが好ましい。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, the component (B) is preferably blended in the range of 100 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A).
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、前記（Ｃ）成分が０．０５〜０．４重量部の範囲で配合され、かつ、前記（Ｄ）成分が０．０５〜１重量部の範囲で配合されていることが好ましい。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, the component (C) is blended in the range of 0.05 to 0.4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A), and the component (D). It is preferable that the component is blended in the range of 0.05 to 1 part by weight.
本発明のハードコート層形成用組成物が、さらに、下記（Ｅ）成分を含むことが好ましい。
（Ｅ）成分：下記一般式（８）で表されるグリコール系化合物
(E) Component: Glycol compound represented by the following general formula (8)
本発明のハードコート層形成用組成物において、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、前記（Ｃ）成分が０．０５〜０．４重量部の範囲で配合され、かつ、前記（Ｄ）成分と前記（Ｅ）成分とが、合計で０．１〜１重量部の範囲で配合されていることが好ましい。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, the component (C) is blended in the range of 0.05 to 0.4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A), and the component (D). It is preferable that the component and the component (E) are blended in a range of 0.1 to 1 part by weight in total.
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の最表層が、ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）による分析での、反応性フッ素化合物由来のフッ素原子強度が５〜３０％の範囲内であり、かつ、反応性ケイ素化合物由来のケイ素原子強度が０．２〜１０％の範囲内であることが好ましい。この範囲であると、耐擦傷性と防汚性をより良好に両立させることができる。 In the hard coat film of the present invention, the outermost layer of the hard coat layer has a fluorine atom intensity derived from a reactive fluorine compound in a range of 5 to 30% in an analysis by ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis), And it is preferable that the silicon atom intensity | strength derived from a reactive silicon compound exists in the range of 0.2 to 10%. Within this range, both scratch resistance and antifouling properties can be achieved better.
ところで、反応性フッ素化合物や反応性ケイ素化合物の添加量と、最表層における前記各原子強度とは、必ずしも一致したり比例関係になったりはしない傾向にある。例えば、同一組成のハードコート層形成用組成物を用いてハードコート層を形成した場合であっても、前記ハードコート層の膜厚が異なると、最表層における前記各原子強度は同一にならない場合もある。したがって、本発明のハードコート層形成用組成物を用いて、より良好な特性を有するハードコートフィルムを得ようとする場合、前記各原子強度に着目した特性評価をすることは有効である。 By the way, the addition amount of the reactive fluorine compound or the reactive silicon compound and the respective atomic strengths in the outermost layer tend not to coincide with each other or to have a proportional relationship. For example, even when a hard coat layer is formed using a hard coat layer forming composition having the same composition, when the thickness of the hard coat layer is different, the atomic strengths in the outermost layer are not the same. There is also. Therefore, when trying to obtain a hard coat film having better characteristics using the composition for forming a hard coat layer of the present invention, it is effective to perform characteristic evaluation focusing on each atomic strength.
前記フッ素原子強度は、１０〜３０％の範囲内であることがより好ましく、１５〜３０％の範囲内であることがさらに好ましい。前記ケイ素原子強度は、０．２〜８％の範囲内であることがより好ましく、０．２〜６％の範囲内であることがさらに好ましい。 The fluorine atom intensity is more preferably in the range of 10 to 30%, and still more preferably in the range of 15 to 30%. The silicon atom intensity is more preferably in the range of 0.2 to 8%, and still more preferably in the range of 0.2 to 6%.
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層の厚みは、特に制限されず、前記透明プラスチックフィルム基材の厚み等に応じて最適な厚みを設定することができるが、例えば、１２〜５０μｍの範囲である。前記厚みを前記範囲とすることで、硬度の低下を招くことなく、ハードコートフィルムのカールおよび折れの発生を、より効果的に防止できる。前記厚みは、より好ましくは、１４〜２５μｍの範囲であり、さらに好ましくは、１４〜１８μｍの範囲である。 In the hard coat film of the present invention, the thickness of the hard coat layer is not particularly limited, and an optimum thickness can be set according to the thickness of the transparent plastic film substrate, etc., for example, 12 to 50 μm It is a range. By setting the thickness in the above range, it is possible to more effectively prevent curling and folding of the hard coat film without causing a decrease in hardness. The thickness is more preferably in the range of 14 to 25 μm, and still more preferably in the range of 14 to 18 μm.
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層表面のＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４の規定に準じた加重５００ｇでの鉛筆硬度が、４Ｈ以上であることが好ましい。 In the hard coat film of the present invention, it is preferable that the pencil hardness of the hard coat layer surface with a weight of 500 g according to JIS K 5600-5-4 is 4H or more.
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層表面の表面自由エネルギーが、１５〜２５ｍＪ／ｍ２の範囲であることが好ましい。表面自由エネルギーとは、Ｋａｅｌｂｌｅ Ｕｙ理論の水／ヘキサデカンの２成分の計算により算出された値をいう。前記表面自由エネルギーは、１５〜２２ｍＪ／ｍ２の範囲であることがより好ましく、さらに好ましくは、１５〜２０ｍＪ／ｍ２の範囲である。前記表面自由エネルギー値は、水とヘキサデカンの各々について接触角を測定し、その値から算出するが、協和界面科学（株）製「全自動接触角計ＤＭ７００」等で自動算出することができる。 In the hard coat film of the present invention, the surface free energy on the surface of the hard coat layer is preferably in the range of 15 to 25 mJ / m 2 . The surface free energy refers to a value calculated by calculation of two components of water / hexadecane according to Kaelble Uy theory. The surface free energy is more preferably in the range of 15~22mJ / m 2, further preferably in the range of 15~20mJ / m 2. The surface free energy value is calculated from the contact angle measured for each of water and hexadecane, and can be calculated automatically using the “Fully Automatic Contact Angle Meter DM700” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層が、さらに微粒子を含有していることが好ましい。 In the hard coat film of the present invention, it is preferable that the hard coat layer further contains fine particles.
つぎに、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の記載に限定されない。 Next, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following description.
本発明のハードコートフィルムは、透明プラスチックフィルム基材の片面若しくは両面に、ハードコート層を有するものである。 The hard coat film of the present invention has a hard coat layer on one side or both sides of a transparent plastic film substrate.
前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ（好ましくは光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（好ましくはヘイズ値１％以下のもの）が好ましく、例えば、特開２００８−９０２６３号公報に記載の透明プラスチックフィルム基材があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。本発明のハードコートフィルムは、例えば、保護フィルムとして偏光板に使用することもでき、この場合には、前記透明プラスチックフィルム基材としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン等から形成されたフィルムが好ましい。また、本発明において、前記透明プラスチックフィルム基材は、偏光子自体であってもよい。このような構成であると、ＴＡＣ等からなる保護層を不要とし偏光板の構造を単純化できるので、偏光板若しくは画像表示装置の製造工程数を減少させ、生産効率の向上が図れる。また、このような構成であれば、偏光板を、より薄層化することができる。なお、前記透明プラスチックフィルム基材が偏光子である場合には、前記ハードコート層が、従来の保護層としての役割を果たすことになる。また、このような構成であれば、ハードコートフィルムは、液晶セル表面に装着されるカバープレートとしての機能を兼ねることになる。 The transparent plastic film substrate is not particularly limited, but preferably has a visible light transmittance (preferably a light transmittance of 90% or more) and a transparency (preferably a haze value of 1% or less). For example, the transparent plastic film base material of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-90263 is mention | raise | lifted. As the transparent plastic film substrate, those having a small optical birefringence are preferably used. The hard coat film of the present invention can also be used for a polarizing plate as a protective film, for example. In this case, as the transparent plastic film substrate, triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate, acrylic polymer, cyclic A film formed from a polyolefin having a norbornene structure or the like is preferable. In the present invention, the transparent plastic film substrate may be a polarizer itself. With such a configuration, a protective layer made of TAC or the like is not required, and the structure of the polarizing plate can be simplified. Therefore, the number of manufacturing steps of the polarizing plate or the image display device can be reduced, and the production efficiency can be improved. Moreover, if it is such a structure, a polarizing plate can be made thinner. In addition, when the said transparent plastic film base material is a polarizer, the said hard-coat layer will play the role as the conventional protective layer. Moreover, if it is such a structure, a hard coat film will serve as a cover plate with which the liquid crystal cell surface is mounted | worn.
本発明において、前記透明プラスチックフィルム基材の厚みは、特に制限されない。前記厚みは、例えば、強度、取り扱い性などの作業性および薄層性などの点を考慮すると、１０〜５００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは、２０〜３００μｍの範囲であり、最適には、３０〜２００μｍの範囲である。前記透明プラスチックフィルム基材の屈折率は、特に制限されない。前記屈折率は、例えば、１．３０〜１．８０の範囲であり、好ましくは、１．４０〜１．７０の範囲である。 In the present invention, the thickness of the transparent plastic film substrate is not particularly limited. The thickness is preferably in the range of 10 to 500 μm, more preferably in the range of 20 to 300 μm, and most preferably 30 in consideration of, for example, workability such as strength and handleability and thin layer properties. It is in the range of ~ 200 μm. The refractive index of the transparent plastic film substrate is not particularly limited. The refractive index is, for example, in the range of 1.30 to 1.80, and preferably in the range of 1.40 to 1.70.
前記ハードコート層は、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分および前記（Ｄ）成分を含むハードコート層形成用組成物を用いて形成される。 The hard coat layer is formed using a hard coat layer forming composition containing the component (A), the component (B), the component (C), and the component (D).
前記（Ａ）成分としては、例えば、熱、光（紫外線等）または電子線等により硬化するアクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物が使用できる。前記（Ａ）成分としては、例えば、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のアクリレートやメタクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 As said (A) component, the curable compound which has at least one group of the acrylate group and methacrylate group which harden | cure with a heat | fever, light (ultraviolet rays etc.) or an electron beam can be used, for example. Examples of the component (A) include acrylates of polyfunctional compounds such as silicone resins, polyester resins, polyether resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. And oligomers or prepolymers such as methacrylate and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
前記（Ａ）成分としては、例えば、アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する反応性希釈剤を用いることもできる。前記反応性希釈剤は、例えば、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能アクリレート、多官能メタクリレート等を含む。前記単官能アクリレートは、例えば、エチレンオキサイド変性フェノールのアクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールのアクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールのアクリレート、２−エチルへキシルカルビトールアクリレート、イソボルニルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシヘキシルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、トリエチレングリコールモノアクリレート、トリプロピレングリコールモノアクリレート等を含む。前記単官能メタクリレートは、例えば、エチレンオキサイド変性フェノールのメタクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノールのメタクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノールのメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノールのメタクリレート、２−エチルへキシルカルビトールメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシヘキシルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、トリプロピレングリコールモノメタクリレート等を含む。前記多官能アクリレートは、例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を含む。前記多官能メタクリレートは、例えば、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールのジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジメタクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジメタクリレート、エチレンオキサイド変性水添ビスフェノールＡのジメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパンアリルエーテルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等を含む。前記反応性希釈剤としては、３官能以上のアクリレート、３官能以上のメタクリレートが好ましい。これは、ハードコート層の硬度を、より優れたものにできるからである。前記（Ａ）成分としては、例えば、ブタンジオールグリセリンエーテルジアクリレート、イソシアヌル酸のアクリレート、イソシアヌル酸のメタクリレート等も挙げられる。前記（Ａ）成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 As said (A) component, the reactive diluent which has at least one group of an acrylate group and a methacrylate group can also be used, for example. Examples of the reactive diluent include monofunctional acrylate, monofunctional methacrylate, polyfunctional acrylate, and polyfunctional methacrylate. Examples of the monofunctional acrylate include ethylene oxide-modified phenol acrylate, propylene oxide-modified phenol acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol acrylate, propylene oxide-modified nonylphenol acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, isobornyl acrylate, Tetrahydrofurfuryl acrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, hydroxyhexyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, triethylene glycol monoacrylate, tripropylene glycol monoacrylate and the like are included. Examples of the monofunctional methacrylate include ethylene oxide-modified phenol methacrylate, propylene oxide-modified phenol methacrylate, ethylene oxide-modified nonylphenol methacrylate, propylene oxide-modified nonylphenol methacrylate, 2-ethylhexyl carbitol methacrylate, isobornyl methacrylate, Tetrahydrofurfuryl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxybutyl methacrylate, hydroxyhexyl methacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, triethylene glycol monomethacrylate, tripropylene glycol monomethacrylate and the like are included. Examples of the polyfunctional acrylate include diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, Neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene oxide modified neopentyl glycol diacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, propylene oxide modified bisphenol A diacrylate, ethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A Diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethyl Propane allyl ether diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. Including. Examples of the polyfunctional methacrylate include diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, tetrapropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, Neopentyl glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene oxide modified neopentyl glycol dimethacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A dimethacrylate, propylene oxide modified bisphenol A dimethacrylate, ethylene oxide modified hydrogenated bisphenol A Dimethacrylate, trimethylol pro Dimethacrylate, trimethylolpropane allyl ether dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane trimethacrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexa Including methacrylate. The reactive diluent is preferably a trifunctional or higher acrylate or a trifunctional or higher methacrylate. This is because the hardness of the hard coat layer can be further improved. Examples of the component (A) include butanediol glycerin ether diacrylate, isocyanuric acid acrylate, isocyanuric acid methacrylate, and the like. As the component (A), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
前記（Ｂ）成分は、前述のとおりである。前記（Ｂ）成分において、無機酸化物粒子としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 The component (B) is as described above. In the component (B), examples of the inorganic oxide particles include fine particles such as silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, and zirconium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明のハードコート層形成用組成物において、光の散乱防止、ハードコート層の透過率低下防止、着色防止および透明性の点等から、前記（Ｂ）成分は、重量平均粒径が２００ｎｍ以下の範囲である、いわゆるナノ粒子である。前記重量平均粒径は、例えば、後述の実施例に記載の方法により測定できる。前記重量平均粒径は、好ましくは、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。 In the composition for forming a hard coat layer of the present invention, the component (B) has a weight average particle diameter of 200 nm or less from the viewpoints of preventing light scattering, preventing the transmittance of the hard coat layer from being lowered, preventing coloring, and transparency. These are so-called nanoparticles. The said weight average particle diameter can be measured by the method as described in the below-mentioned Example, for example. The weight average particle diameter is preferably in the range of 1 nm to 100 nm.
前記（Ｂ）成分において、前記無機酸化物粒子は、重合性不飽和基を含む有機化合物と結合（表面修飾）されている。前記重合性不飽和基が前記（Ａ）成分と反応硬化することで、ハードコート層の硬度を向上させる。前記重合性不飽和基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基が好ましい。また、前記重合性不飽和基を含む有機化合物は、分子内にシラノール基を有する化合物あるいは加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。前記重合性不飽和基を含む有機化合物は、光感応性基を有するものであることも好ましい。 In the component (B), the inorganic oxide particles are bonded (surface modified) with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group. The polymerizable unsaturated group is reactively cured with the component (A), thereby improving the hardness of the hard coat layer. As the polymerizable unsaturated group, for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, maleate group, and acrylamide group are preferable. The organic compound containing a polymerizable unsaturated group is preferably a compound having a silanol group in the molecule or a compound that generates a silanol group by hydrolysis. It is also preferable that the organic compound containing a polymerizable unsaturated group has a photosensitive group.
前記（Ｂ）成分の配合量は、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、１００〜２００重量部の範囲であることが好ましい。前記（Ｂ）成分の配合量を１００重量部以上とすることで、ハードコートフィルムのカールおよび折れの発生を、より効果的に防止でき、２００重量部以下とすることで、耐擦傷性や鉛筆硬度を高いものとすることができる。前記（Ｂ）成分の配合量は、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、より好ましくは、１２０〜１８０重量部の範囲である。 The blending amount of the component (B) is preferably in the range of 100 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). By setting the blending amount of the component (B) to 100 parts by weight or more, curling and folding of the hard coat film can be more effectively prevented, and by setting it to 200 parts by weight or less, scratch resistance and pencil Hardness can be made high. The blending amount of the component (B) is more preferably in the range of 120 to 180 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A).
前記（Ｂ）成分の配合量を調整することで、例えば、前記ハードコート層の屈折率を調整することが可能である。前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層界面に生じる干渉縞を防止する点等から、前記透明プラスチックフィルム基材と前記ハードコート層との屈折率差を小さくすることが好ましい。前記干渉縞は、ハードコートフィルムに入光した外光の反射光が虹色の色相を呈する現象である。最近、オフィス等では、明瞭性に優れた三波長蛍光灯が多用されている。前記三波長蛍光灯の下では、前記干渉縞が顕著に現れる。これらの点等から、前記ハードコート層形成用組成物の調製にあたっては、前記屈折率差が小さくなるように、前記（Ｂ）成分の配合量を調整することが好ましい。 By adjusting the blending amount of the component (B), for example, the refractive index of the hard coat layer can be adjusted. From the viewpoint of preventing interference fringes generated at the interface between the transparent plastic film substrate and the hard coat layer, it is preferable to reduce the refractive index difference between the transparent plastic film substrate and the hard coat layer. The interference fringes are a phenomenon in which reflected light of external light incident on the hard coat film exhibits a rainbow hue. Recently, in offices and the like, three-wavelength fluorescent lamps having excellent clarity are frequently used. The interference fringes appear prominently under the three-wavelength fluorescent lamp. From these points, in preparing the hard coat layer-forming composition, it is preferable to adjust the blending amount of the component (B) so that the refractive index difference is small.
前記屈折率差は、０．０４以下が好ましく、より好ましくは、０．０２以下である。具体的には、例えば、前記透明プラスチックフィルム基材として、ＰＥＴフィルム（屈折率：約１．６４）を用いる場合、前記（Ｂ）成分に酸化チタンを用い、これを前記ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分全体に対し、３０〜４０重量％程度配合させることで、前記屈折率差を０．０２以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。また、例えば、前記透明プラスチックフィルム基材として、ＴＡＣフィルム（屈折率：約１．４８）を用いる場合、前記（Ｂ）成分に酸化ケイ素（シリカ）を用い、これを前記ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分全体に対し、３５〜４５重量％程度配合させることで、前記屈折率差を０．０２以下に制御することができ、干渉縞の発生を抑制することができる。 The refractive index difference is preferably 0.04 or less, and more preferably 0.02 or less. Specifically, for example, when a PET film (refractive index: about 1.64) is used as the transparent plastic film substrate, titanium oxide is used as the component (B), which is used as the hard coat layer forming composition. By blending about 30 to 40% by weight with respect to the entire resin component in the product, the refractive index difference can be controlled to 0.02 or less, and the occurrence of interference fringes can be suppressed. For example, when a TAC film (refractive index: about 1.48) is used as the transparent plastic film substrate, silicon oxide (silica) is used as the component (B), and this is used as the composition for forming the hard coat layer. By blending about 35 to 45% by weight with respect to the entire resin component in the product, the refractive index difference can be controlled to 0.02 or less, and the occurrence of interference fringes can be suppressed.
前記（Ｃ）成分および前記（Ｄ）成分は、前述のとおりである。前記（Ｃ）成分の使用により、得られるハードコート層の表面自由エネルギー値が低下し、前記ハードコート層の防汚性が向上する。一方で、前記（Ｃ）成分の配合量が過剰となると、得られるハードコート層の耐擦傷性が低下する傾向にある。また、前記（Ｄ）成分の使用により、例えば、形成されるハードコート層表面構造が剛直になるとともに滑り性が向上し、耐擦傷性に優れるようになる。一方で、前記（Ｄ）成分の配合量が過剰となると、得られるハードコート層の防汚性が低下する傾向にある。これらの点等から、前記（Ｃ）成分と前記（Ｄ）成分の配合割合は、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、前記（Ｃ）成分が０．０５〜０．４重量部の範囲であり、かつ、前記（Ｄ）成分が０．０５〜１．０重量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは、前記（Ｃ）成分が０．１〜０．３重量部の範囲であり、かつ、前記（Ｄ）成分が０．２〜１．０重量部の範囲である。 The component (C) and the component (D) are as described above. By using the component (C), the surface free energy value of the obtained hard coat layer is lowered, and the antifouling property of the hard coat layer is improved. On the other hand, when the compounding amount of the component (C) is excessive, the scratch resistance of the obtained hard coat layer tends to be lowered. Further, by using the component (D), for example, the hard coat layer surface structure to be formed becomes rigid and the slipping property is improved, so that the scratch resistance is excellent. On the other hand, when the compounding amount of the component (D) becomes excessive, the antifouling property of the obtained hard coat layer tends to be lowered. From these points, the blending ratio of the component (C) and the component (D) is in the range of 0.05 to 0.4 parts by weight of the component (C) with respect to 100 parts by weight of the component (A). And the component (D) is preferably in the range of 0.05 to 1.0 part by weight, more preferably the component (C) is in the range of 0.1 to 0.3 part by weight. And the component (D) is in the range of 0.2 to 1.0 part by weight.
本発明のハードコートフィルムは、例えば、前記四成分を溶媒に溶解若しくは分散させたハードコート層形成用組成物を準備し、前記ハードコート層形成用組成物を前記透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に塗工して塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させて前記ハードコート層を形成することにより、製造することができる。 The hard coat film of the present invention is prepared, for example, by preparing a hard coat layer forming composition in which the four components are dissolved or dispersed in a solvent, and the hard coat layer forming composition is at least one of the transparent plastic film substrates. It can be manufactured by forming a coating film by coating on the surface, and curing the coating film to form the hard coat layer.
前記溶媒は、特に限定されない。前記溶媒は、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を含む。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 The solvent is not particularly limited. Examples of the solvent include dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK). , Diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate, Acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 1-pentanol, -Methyl-2-butanol, cyclohexanol, isobutyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono Including ethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
前述のとおり、前記ハードコート層形成用組成物は、さらに、前記（Ｅ）成分を含むことが好ましい。 As described above, it is preferable that the composition for forming a hard coat layer further includes the component (E).
前記（Ｅ）成分を使用する場合には、前記ハードコート層形成用組成物の調製において、前記（Ｅ）成分を、前記（Ｄ）成分との混合物として準備することが好ましい。前記混合物を含む材料としては、例えば、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００」等があげられる。前記混合物を含む材料の重量平均分子量(Ｍｗ)は、特に制限されない。 When the component (E) is used, it is preferable to prepare the component (E) as a mixture with the component (D) in the preparation of the composition for forming a hard coat layer. As a material containing the said mixture, you may use a commercial item, for example. Examples of the commercial product include trade name “GRANDIC PC-4100” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. The weight average molecular weight (Mw) of the material containing the mixture is not particularly limited.
前記（Ｅ）成分の使用により、例えば、形成されるハードコート層表面構造が剛直になるとともに滑り性が向上し、耐擦傷性により優れるようになる。耐擦傷性と防汚性との両立の観点からは、前記（Ｅ）成分の配合割合は、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、前記（Ｃ）成分が０．０５〜０．４重量部の範囲であり、かつ、前記（Ｄ）成分と前記（Ｅ）成分とが、合計で０．１〜１重量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは、前記（Ｃ）成分が０．１〜０．３重量部の範囲であり、かつ、前記（Ｄ）成分と前記（Ｅ）成分とが、合計で０．２〜１重量部の範囲である。 By using the component (E), for example, the surface structure of the hard coat layer to be formed becomes rigid and the slipping property is improved, and the scratch resistance is improved. From the viewpoint of achieving both scratch resistance and antifouling property, the blending ratio of the component (E) is such that the component (C) is 0.05 to 0.4 weight with respect to 100 parts by weight of the component (A). It is preferable that the component (D) and the component (E) are in the range of 0.1 to 1 part by weight in total, and more preferably, the component (C) is 0. The range is from 0.1 to 0.3 parts by weight, and the component (D) and the component (E) are in the range of 0.2 to 1 part by weight in total.
前記ハードコート層形成用組成物は、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を含んでもよい。これらの添加剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。 The hard coat layer forming composition may contain pigments, fillers, dispersants, plasticizers, ultraviolet absorbers, surfactants, antioxidants, thixotropic agents, etc., as necessary, as long as the performance is not impaired. May be included. These additives may be used alone or in combination of two or more.
前記ハードコート層形成用組成物に微粒子を添加することで、さらに防眩性も兼ね備えたハードコートフィルムを得ることができる。前記微粒子は、形成されるハードコート層表面を凹凸形状にして防眩性を付与し、また、前記ハードコート層のヘイズ値を制御することを主な機能とする。前記ハードコート層のヘイズ値は、前記微粒子と前記ハードコート層形成用組成物との屈折率差を制御することで、設計することができる。前記微粒子としては、例えば、無機微粒子と有機微粒子とがある。前記無機微粒子は、特に制限されず、例えば、酸化ケイ素微粒子、酸化チタン微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子、炭酸カルシウム微粒子、硫酸バリウム微粒子、タルク微粒子、カオリン微粒子、硫酸カルシウム微粒子等があげられる。また、有機微粒子は、特に制限されず、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末（ＰＭＭＡ微粒子）、シリコーン樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレフィン樹脂粉末、ポリエステル樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末等があげられる。これらの無機微粒子および有機微粒子は、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。 By adding fine particles to the composition for forming a hard coat layer, a hard coat film that also has antiglare properties can be obtained. The fine particles mainly have the function of providing an antiglare property by making the surface of the hard coat layer to be formed uneven, and controlling the haze value of the hard coat layer. The haze value of the hard coat layer can be designed by controlling the refractive index difference between the fine particles and the hard coat layer forming composition. Examples of the fine particles include inorganic fine particles and organic fine particles. The inorganic fine particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide fine particles, titanium oxide fine particles, aluminum oxide fine particles, zinc oxide fine particles, tin oxide fine particles, calcium carbonate fine particles, barium sulfate fine particles, talc fine particles, kaolin fine particles, calcium sulfate fine particles and the like. Can be given. The organic fine particles are not particularly limited. For example, polymethyl methacrylate resin powder (PMMA fine particles), silicone resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin Examples thereof include powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluorinated ethylene resin powder. These inorganic fine particles and organic fine particles may be used alone or in combination of two or more.
前記ハードコート層形成用組成物において、前記（Ａ）成分が光硬化型化合物を含む場合、例えば、特開２００８−８８３０９号公報に記載されるような、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。前記光重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の配合量は、特に制限されない。前記配合量は、前記（Ａ）成分１００重量部に対し、例えば、１〜３０重量部の範囲であり、好ましくは、１〜２５重量部の範囲である。 In the composition for forming a hard coat layer, when the component (A) contains a photocurable compound, for example, a conventionally known photopolymerization initiator as described in JP-A-2008-88309 is used. Can do. The said photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The blending amount of the photopolymerization initiator is not particularly limited. The blending amount is, for example, in the range of 1 to 30 parts by weight and preferably in the range of 1 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (A).
前記ハードコート層形成用組成物を、前記透明プラスチックフィルム基材上に塗工する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。 Examples of a method for coating the composition for forming a hard coat layer on the transparent plastic film substrate include, for example, a fan ten coating method, a die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. A coating method such as a bar coating method can be used.
前記ハードコート層形成用組成物を塗工して、前記透明プラスチックフィルム基材の上に塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させる。前記硬化に先立ち、前記塗膜を乾燥させることが好ましい。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。 The hard coat layer forming composition is applied to form a coating film on the transparent plastic film substrate, and the coating film is cured. Prior to the curing, the coating film is preferably dried. The drying may be, for example, natural drying, air drying by blowing air, heat drying, or a combination of these.
前記ハードコート層形成用組成物の塗膜の硬化手段は、特に制限されない。前記硬化手段は、電離放射線硬化が好ましい。前記硬化手段には、各種活性エネルギーを用いることができる。前記活性エネルギーは、紫外線が好ましい。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素等の線源が好ましい。前記エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲が好ましい。前記照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、硬化がより十分となり、形成される前記ハードコート層の硬度もより十分なものとなる。前記照射量が、５０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、形成される前記ハードコート層の着色を防止でき、透明性を向上させることができる。 The means for curing the coating film of the hard coat layer forming composition is not particularly limited. The curing means is preferably ionizing radiation curing. Various active energies can be used for the curing means. The active energy is preferably ultraviolet light. As the energy ray source, for example, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, a radioactive element or the like is preferable. The irradiation amount of the energy ray source is preferably in the range of 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. When the irradiation amount is 50 mJ / cm 2 or more, the curing becomes more sufficient, and the hardness of the hard coat layer to be formed becomes more sufficient. If the said irradiation amount is 5000 mJ / cm < 2 > or less, the coloring of the said hard-coat layer formed can be prevented and transparency can be improved.
以上のようにして、前記透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、前記ハードコート層を形成することにより、本発明のハードコートフィルムを製造することができる。なお、本発明のハードコートフィルムは、前述の方法以外の製造方法で製造してもよい。 As described above, the hard coat film of the present invention can be produced by forming the hard coat layer on at least one surface of the transparent plastic film substrate. In addition, you may manufacture the hard coat film of this invention with manufacturing methods other than the above-mentioned method.
図１の模式断面図に、本発明のハードコートフィルムの構成の一例を示す。同図においては、分かりやすくするために、各構成部材の大きさ、比率等は、実際とは異なっている。図示のとおり、このハードコートフィルム１０では、透明プラスチックフィルム基材１１の片面に、ハードコート層１２が形成されている。ただし、本発明は、これに限定されない。本発明のハードコートフィルムは、透明プラスチックフィルム基材の両面に、ハードコート層が形成された構成であってもよい。また、この例のハードコート層１２は、単層である。ただし、本発明は、これに限定されない。本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層は、二層以上が積層された複数層構造であってもよい。この場合、少なくとも本発明のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層が、最表面にあればよい。
An example of the configuration of the hard coat film of the present invention is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. In the figure, the size, ratio, and the like of each component are different from actual ones for easy understanding. As shown in the figure, in this
本発明のハードコートフィルムにおいて、前記透明プラスチックフィルム基材および前記ハードコート層の少なくとも一方に対し表面処理を行うことが好ましい。前記透明プラスチックフィルム基材表面を表面処理すれば、前記ハードコート層または偏光子若しくは偏光板との密着性がさらに向上する。前記ハードコート層表面を表面処理すれば、前記偏光子若しくは偏光板との密着性がさらに向上する。前記表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理があげられる。前記透明プラスチックフィルム基材として、ＴＡＣフィルムを用いた場合の表面処理としては、アルカリ処理が好ましい。このアルカリ処理は、例えば、ＴＡＣフィルム表面をアルカリ溶液に接触させた後、水洗し乾燥することで実施できる。前記アルカリ溶液としては、例えば、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が使用できる。前記アルカリ溶液の水酸化物イオンの規定濃度（モル濃度）は、０．１〜３．０Ｎ（ｍｏｌ／Ｌ）の範囲が好ましく、より好ましくは、０．５〜２．０Ｎ（ｍｏｌ／Ｌ）の範囲である。 In the hard coat film of the present invention, it is preferable to perform a surface treatment on at least one of the transparent plastic film substrate and the hard coat layer. If the surface of the transparent plastic film substrate is surface-treated, the adhesion with the hard coat layer, the polarizer or the polarizing plate is further improved. If the surface of the hard coat layer is surface-treated, the adhesion with the polarizer or polarizing plate is further improved. Examples of the surface treatment include low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, and acid or alkali treatment. As a surface treatment when a TAC film is used as the transparent plastic film substrate, an alkali treatment is preferable. This alkali treatment can be carried out, for example, by bringing the TAC film surface into contact with an alkali solution, washing with water and drying. As the alkaline solution, for example, potassium hydroxide solution and sodium hydroxide solution can be used. The specified concentration (molar concentration) of hydroxide ions in the alkaline solution is preferably in the range of 0.1 to 3.0 N (mol / L), more preferably 0.5 to 2.0 N (mol / L). Range.
透明プラスチックフィルム基材を含み、前記透明プラスチックフィルム基材の一方の面に前記ハードコート層が形成されているハードコートフィルムにおいて、カールの発生を防止するために、他方の面に対し溶剤処理を行ってもよい。前記溶剤処理は、前記透明プラスチックフィルム基材を溶解可能な溶剤若しくは膨潤可能な溶剤を接触させることにより実施できる。前記溶剤処理により、前記透明プラスチックフィルム基材に前記他方の面にもカールしようとする力を付与し、これによって前記透明プラスチックフィルム基材が前記ハードコート層の形成によりカールしようとする力を相殺することで、カールの発生を防止できる。同様に、前記透明プラスチックフィルム基材を含み、前記透明プラスチックフィルム基材の一方の面に前記ハードコート層が形成されているハードコートフィルムにおいて、カールの発生を防止するために、他方の面に透明樹脂層を形成してもよい。前記透明樹脂層としては、例えば、熱可塑性樹脂、放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、その他の反応型樹脂を主成分とする層があげられる。これらの中でも、特に熱可塑性樹脂を主成分とする層が好ましい。 In a hard coat film including a transparent plastic film substrate, and the hard coat layer is formed on one surface of the transparent plastic film substrate, the other surface is treated with a solvent to prevent curling. You may go. The solvent treatment can be carried out by contacting a solvent capable of dissolving the transparent plastic film substrate or a solvent capable of swelling. The solvent treatment gives the transparent plastic film substrate a force to curl the other surface, thereby offsetting the force of the transparent plastic film substrate to curl due to the formation of the hard coat layer. By doing so, the occurrence of curling can be prevented. Similarly, in the hard coat film including the transparent plastic film substrate, and the hard coat layer is formed on one surface of the transparent plastic film substrate, in order to prevent the occurrence of curling, A transparent resin layer may be formed. Examples of the transparent resin layer include a layer mainly composed of a thermoplastic resin, a radiation curable resin, a thermosetting resin, and other reactive resins. Among these, a layer mainly composed of a thermoplastic resin is particularly preferable.
本発明のハードコートフィルムは、通常、前記透明プラスチックフィルム基材側を、粘着剤や接着剤を介して、ＬＣＤやＥＬＤに用いられている光学部材に貼り合せることができる。この貼り合わせにあたり、前記透明プラスチックフィルム基材表面に対し、前述のような各種の表面処理を行ってもよい。 In the hard coat film of the present invention, the transparent plastic film substrate side can usually be bonded to an optical member used in LCDs and ELDs via an adhesive or an adhesive. In the pasting, various surface treatments as described above may be performed on the surface of the transparent plastic film substrate.
前記光学部材としては、例えば、偏光子または偏光板が挙げられる。偏光板は、偏光子の片側または両側に透明保護フィルムを有するという構成が一般的である。偏光子の両面に透明保護フィルムを設ける場合は、表裏の透明保護フィルムは、同じ材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。偏光板は、通常、液晶セルの両側に配置される。また、偏光板は、２枚の偏光板の吸収軸が互いに略直交するように配置される。 Examples of the optical member include a polarizer and a polarizing plate. Generally, the polarizing plate has a transparent protective film on one side or both sides of the polarizer. When providing a transparent protective film on both surfaces of a polarizer, the same material may be sufficient as the transparent protective film of front and back, and a different material may be sufficient as it. The polarizing plates are usually disposed on both sides of the liquid crystal cell. Further, the polarizing plates are arranged so that the absorption axes of the two polarizing plates are substantially orthogonal to each other.
つぎに、本発明のハードコートフィルムを積層した光学素子について、偏光板を例にして説明する。本発明のハードコートフィルムを、接着剤や粘着剤等を用いて偏光子または偏光板と積層することによって、本発明の機能を有した偏光板を得ることができる。 Next, the optical element on which the hard coat film of the present invention is laminated will be described by taking a polarizing plate as an example. A polarizing plate having the function of the present invention can be obtained by laminating the hard coat film of the present invention with a polarizer or a polarizing plate using an adhesive, a pressure sensitive adhesive or the like.
前記偏光子としては、特に限定されず、各種のものを使用できる。前記偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等があげられる。 The polarizer is not particularly limited, and various types can be used. Examples of the polarizer include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol film, partially formalized polyvinyl alcohol film, and ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified film, and iodine and dichroic dyes. Examples thereof include a polyene-based oriented film such as a film obtained by adsorbing a chromatic substance and uniaxially stretched, a dehydrated polyvinyl alcohol product or a dehydrochlorinated polyvinyl chloride product.
前記偏光子の片面または両面に設けられる透明保護フィルムとしては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、位相差値の安定性等に優れるものが好ましい。前記透明保護フィルムを形成する材料としては、例えば、前記透明プラスチックフィルム基材と同様のものがあげられる。 As the transparent protective film provided on one side or both sides of the polarizer, those having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, retardation value stability and the like are preferable. Examples of the material for forming the transparent protective film include the same materials as those for the transparent plastic film substrate.
前記透明保護フィルムとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載の高分子フィルムもあげられる。前記公報に記載の高分子フィルムは、例えば、（Ａ）側鎖に置換イミド基および非置換イミド基の少なくとも一方のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換フェニル基および非置換フェニル基の少なくとも一方のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物から形成された高分子フィルムがあげられる。前記樹脂組成物から形成された高分子フィルムとしては、例えば、イソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル−スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物から形成された高分子フィルムがあげられる。前記高分子フィルムは、前記樹脂組成物を、フィルム状に押出成型することにより製造できる。前記高分子フィルムは、位相差が小さく、光弾性係数が小さいため、偏光板等の保護フィルムに適用した場合には、歪みによるムラ等の不具合を解消することができる。前記高分子フィルムは、透湿度が小さいため、加湿耐久性に優れる。 Examples of the transparent protective film include polymer films described in JP-A No. 2001-343529 (WO01 / 37007). The polymer film described in the publication includes, for example, (A) a thermoplastic resin having at least one imide group of a substituted imide group and an unsubstituted imide group on the side chain, and (B) a substituted phenyl group and a non-chain on the side chain. Examples thereof include a polymer film formed from a resin composition containing a thermoplastic resin having at least one phenyl group of a substituted phenyl group and a nitrile group. Examples of the polymer film formed from the resin composition include a polymer film formed from a resin composition containing an alternating copolymer composed of isobutylene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer. can give. The polymer film can be produced by extruding the resin composition into a film. Since the polymer film has a small retardation and a small photoelastic coefficient, when applied to a protective film such as a polarizing plate, problems such as unevenness due to distortion can be solved. The polymer film is excellent in humidification durability because of its low moisture permeability.
前記透明保護フィルムは、偏光特性や耐久性等の点から、ＴＡＣ等のセルロース系樹脂製のフィルムおよびノルボルネン系樹脂製のフィルムが好ましい。前記透明保護フィルムの市販品としては、例えば、商品名「フジタック」（富士フイルム社製）、商品名「ゼオノア」（日本ゼオン社製）、商品名「アートン」（ＪＳＲ社製）などがあげられる。 The transparent protective film is preferably a film made of cellulose resin such as TAC or a film made of norbornene resin from the viewpoints of polarization characteristics and durability. Examples of the commercial product of the transparent protective film include trade name “Fujitac” (manufactured by FUJIFILM Corporation), trade name “ZEONOR” (manufactured by ZEON Corporation), trade name “ARTON” (manufactured by JSR Corporation), and the like. .
前記透明保護フィルムの厚みは、特に制限されない。前記透明保護フィルムの厚みは、強度、取扱性等の作業性、薄層性等の点より、例えば、１〜５００μｍの範囲である。前記厚みが前記の範囲であれば、偏光子を機械的に保護し、高温高湿下に曝されても偏光子が収縮せず、安定した光学特性を保つことができる。前記厚みは、好ましくは、５〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは、１０〜１５０μｍの範囲である。 The thickness of the transparent protective film is not particularly limited. The thickness of the transparent protective film is, for example, in the range of 1 to 500 μm from the viewpoint of strength, workability such as handleability, and thin layer properties. When the thickness is within the above range, the polarizer is mechanically protected, and the polarizer does not shrink even when exposed to high temperature and high humidity, and stable optical characteristics can be maintained. The thickness is preferably in the range of 5 to 200 μm, and more preferably in the range of 10 to 150 μm.
本発明のハードコートフィルムを積層した偏光板の構成は、特に制限されないが、例えば、前記ハードコートフィルムの上に、透明保護フィルム、偏光子および透明保護フィルムを、この順番で積層した構成でもよいし、ハードコートフィルム上に、偏光子、透明保護フィルムを、この順番で積層した構成でもよい。 The configuration of the polarizing plate in which the hard coat film of the present invention is laminated is not particularly limited. For example, a transparent protective film, a polarizer and a transparent protective film may be laminated in this order on the hard coat film. And the structure which laminated | stacked the polarizer and the transparent protective film in this order on the hard coat film may be sufficient.
本発明のハードコート層形成用組成物を用いた本発明のハードコートフィルムおよびこれを用いた偏光板等の各種光学素子は、液晶表示装置等の各種画像表示装置に好ましく用いることができる。本発明の画像表示装置は、本発明のハードコートフィルムを用いる以外は、従来の画像表示装置と同様の構成である。本発明の画像表示装置が液晶表示装置である場合は、例えば、液晶セル、偏光板等の光学素子、および必要に応じ照明システム（バックライト等）等の各構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むこと等により製造できる。前記液晶セルは、特に制限されない。前記液晶セルは、例えば、ＴＮ型、ＳＴＮ型、π型等の様々なタイプを使用できる。 The hard coat film of the present invention using the composition for forming a hard coat layer of the present invention and various optical elements such as a polarizing plate using the same can be preferably used for various image display devices such as a liquid crystal display device. The image display device of the present invention has the same configuration as the conventional image display device except that the hard coat film of the present invention is used. When the image display device of the present invention is a liquid crystal display device, for example, a liquid crystal cell, an optical element such as a polarizing plate, and various components such as an illumination system (backlight etc.) as needed are assembled as appropriate. It can manufacture by incorporating. The liquid crystal cell is not particularly limited. As the liquid crystal cell, various types such as a TN type, an STN type, and a π type can be used.
本発明において、液晶表示装置の構成は、特に制限されず、液晶セルの片側または両側に前記光学素子を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いた液晶表示装置等が挙げられる。これらの液晶表示装置において、本発明の光学素子は、液晶セルの片側または両側に配置することができる。液晶セルの両側に前記光学素子を配置する場合、それらは同一でもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置には、例えば、拡散板、アンチグレア層、反射防止層、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライト等の各種の光学部材および光学部品を配置してもよい。 In the present invention, the configuration of the liquid crystal display device is not particularly limited, and there are a liquid crystal display device in which the optical element is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell, a liquid crystal display device using a backlight or a reflector in an illumination system, and the like. Can be mentioned. In these liquid crystal display devices, the optical element of the present invention can be arranged on one side or both sides of the liquid crystal cell. When the optical elements are arranged on both sides of the liquid crystal cell, they may be the same or different. Furthermore, various optical members and optical components such as a diffusion plate, an antiglare layer, an antireflection layer, a protective plate, a prism array, a lens array sheet, a light diffusion plate, and a backlight may be disposed in the liquid crystal display device. Good.
本発明の画像表示装置は、任意の適切な用途に使用される。その用途は、例えば、デスクトップパソコン、ノートパソコン、コピー機等のＯＡ機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器等が挙げられる。 The image display device of the present invention is used for any appropriate application. Applications include, for example, OA equipment such as desktop personal computers, notebook personal computers, and copiers, mobile phones, watches, digital cameras, personal digital assistants (PDAs), portable devices such as portable game machines, video cameras, televisions, microwave ovens, etc. Household electrical equipment, back monitor, car navigation system monitor, car audio and other in-vehicle equipment, display equipment for commercial store information monitors, security equipment such as monitoring monitors, nursing care monitors, medical monitors, etc. Nursing care / medical equipment.
つぎに、本発明の実施例について、比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、以下の実施例および比較例により制限されない。なお、下記実施例および比較例における各種特性は、下記の方法により評価若しくは測定した。 Next, examples of the present invention will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited by the following examples and comparative examples. Various characteristics in the following examples and comparative examples were evaluated or measured by the following methods.
（ハードコート層の厚み）
（株）ミツトヨ製のマイクロゲージ式厚み計を用い、ハードコートフィルムの全体厚みを測定し、前記全体厚みから、透明プラスチックフィルム基材の厚みを差し引くことにより、ハードコート層の厚みを算出した。
(Thickness of hard coat layer)
The total thickness of the hard coat film was measured using a micro gauge thickness meter manufactured by Mitutoyo Corporation, and the thickness of the hard coat layer was calculated by subtracting the thickness of the transparent plastic film substrate from the total thickness.
（耐擦傷性）
ハードコート層の耐擦傷性は、以下の試験内容にて評価した。
（１）ハードコートフィルムの中心部から１５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出し、ハードコート層が形成されていない面を下にして、ガラス板に載せた。
（２）直径１１ｍｍの円柱の平滑な断面に、スチールウール＃００００を均一に取り付け、荷重１．５ｋｇにて前記サンプル表面を、毎秒約１００ｍｍの速度で１０往復した後に、サンプル表面に入った傷の本数を目視により数え、以下の指標により判定した。
Ａ：傷の本数が、１０本以下
Ｂ：傷の本数が、１１本以上２９本以下
Ｃ：傷の本数が、３０本以上
(Abrasion resistance)
The scratch resistance of the hard coat layer was evaluated by the following test contents.
(1) A 150 mm × 50 mm sample was cut out from the center of the hard coat film and placed on a glass plate with the surface on which the hard coat layer was not formed facing down.
(2) Scratches that entered the sample surface after steel wool # 0000 was uniformly attached to a smooth section of a cylinder having a diameter of 11 mm, and the sample surface was reciprocated 10 times at a speed of about 100 mm per second with a load of 1.5 kg. Were visually counted and judged according to the following indicators.
A: The number of scratches is 10 or less B: The number of scratches is 11 or more and 29 or less C: The number of scratches is 30 or more
（鉛筆硬度）
ハードコートフィルムの中心部から１００ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出し、ハードコート層が形成されていない面を下にして、ガラス板上に載せた後、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４記載の鉛筆硬度試験の規定に準じ、荷重５００ｇでの鉛筆硬度を測定した。鉛筆は、三菱鉛筆株式会社製「Ｕｎｉ」（鉛筆引かき値試験用 日塗検検査済）を用いた。
(Pencil hardness)
A sample of 100 mm × 50 mm was cut out from the center of the hard coat film, placed on a glass plate with the surface on which the hard coat layer was not formed facing down, and then subjected to the pencil hardness test described in JIS K 5600-5-4. According to the regulations, the pencil hardness at a load of 500 g was measured. As the pencil, “Uni” manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd. (Nikkiso test for pencil scratch test) was used.
（表面自由エネルギー）
協和界面科学（株）製「全自動接触角計ＤＭ７００」を用いて、水、ヘキサデカンの接触角を測定し、解析ソフトＦＡＭＡＳにて表面自由エネルギーを算出した。算出方法は、Ｋａｅｌｂｌｅ Ｕｙ理論による２成分解析を用いた。
(Surface free energy)
Using “Fully Automatic Contact Angle Meter DM700” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., the contact angles of water and hexadecane were measured, and the surface free energy was calculated using analysis software FAMAS. As a calculation method, two-component analysis based on Kaelble Uy theory was used.
（ＥＳＣＡによる原子強度測定）
アルバック・ファイ（株）製「Ｑｕａｎｔｕｍ ２０００」を用いて、原子強度の測定を行った。Ｘ線源はモノクロＡｌＫα、Ｘ線出力は３０Ｗ（１５ｋＶ）、測定領域は２００μｍφ、測定角度は試料表面に対して４５°とした。エネルギーの補正は、Ｃ１ｓスペクトルのＣ−Ｃ結合に起因するピークを２８５．０ｅＶに補正することで行った。
試料の任意の２点を０〜１１００ｅＶにてワイドスキャン測定を行い、定性分析を実施した。検出された元素に対して、ナロースキャンを行い、元素比率（ａｔｏｍｉｃ％）を算出した。Ｓｉ２ｐスペクトルについては、２官能シリコン、ならびに、多官能シリコンおよびＳｉＯｘの各結合に帰属されるピークで波形解析を行い、反応性ケイ素化合物由来のケイ素原子強度を算出する。
前記条件によって、試料の最表面から深さ約５〜１０ｎｍまでの領域についての各原子強度比が測定できる。
(Measurement of atomic strength by ESCA)
The atomic strength was measured using “Quantum 2000” manufactured by ULVAC-PHI. The X-ray source was monochrome AlKα, the X-ray output was 30 W (15 kV), the measurement region was 200 μmφ, and the measurement angle was 45 ° with respect to the sample surface. The energy was corrected by correcting the peak due to the C—C bond of the C1s spectrum to 285.0 eV.
Qualitative analysis was performed by performing wide scan measurement at any two points of the sample at 0 to 1100 eV. Narrow scan was performed on the detected elements, and the element ratio (atomic%) was calculated. With respect to the Si2p spectrum, waveform analysis is performed at peaks attributed to each bond of bifunctional silicon and polyfunctional silicon and SiOx, and the silicon atom intensity derived from the reactive silicon compound is calculated.
Under the above conditions, each atomic intensity ratio in a region from the outermost surface of the sample to a depth of about 5 to 10 nm can be measured.
（粒子（（Ｂ）成分）の重量平均粒径）
（Ｂ）成分を含む樹脂原料を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で固形分濃度を１０％まで希釈し、動的光散乱式粒径分布測定装置（（株）堀場製作所製、「ＬＢ−５００」）を用いて、粒度分布を測定した。得られた粒度分布から重量平均粒径を算出した。
(Weight average particle diameter of particles (component (B)))
The resin raw material containing the component (B) is diluted with methyl ethyl ketone (MEK) to a solid content concentration of 10%, and a dynamic light scattering particle size distribution measuring device ("LB-500" manufactured by Horiba Ltd.) is used. Used to measure the particle size distribution. The weight average particle size was calculated from the obtained particle size distribution.
（重量平均分子量）
重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法よりポリスチレンを標準試料として測定した。具体的には、下記の装置、器具および測定条件により測定した。
分析装置：東ソー（株）製、商品名「ＳＣ−８０２０」
カラム：昭和電工（株）製、商品名「Ｓｈｏｄｅｘ」
カラムサイズ：２０．０ｍｍφ×５００ｍｍ
カラム温度：室温
溶離液：クロロホルム
流量：３．５ｍＬ／分
入口圧：７０ｋｇｆ／ｃｍ２（６．９ＭＰａ）
(Weight average molecular weight)
The weight average molecular weight was measured by a gel permeation chromatograph (GPC) method using polystyrene as a standard sample. Specifically, it measured with the following apparatus, instrument, and measurement conditions.
Analyzer: Tosoh Corporation, trade name “SC-8020”
Column: Showa Denko Co., Ltd., trade name “Shodex”
Column size: 20.0mmφ × 500mm
Column temperature: Room temperature Eluent: Chloroform flow rate: 3.5 mL / min Inlet pressure: 70 kgf / cm 2 (6.9 MPa)
［実施例１］
（ハードコート層形成用組成物の調製）
粒子表面が重合性不飽和基を含む有機化合物で修飾されたナノシリカ粒子（前記（Ｂ）成分）を分散させた、前記（Ａ）成分を含む樹脂原料（ＪＳＲ（株）製、商品名「オプスターＺ７５４０」、固形分：５６重量％、溶媒：酢酸ブチル／メチルエチルケトン（ＭＥＫ）＝７６／２４（重量比））を準備した。
[Example 1]
(Preparation of composition for forming hard coat layer)
A resin raw material (manufactured by JSR Co., Ltd., trade name “OPSTAR”, in which nano silica particles (component (B)) modified with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group on the particle surface are dispersed. Z7540 ”, solid content: 56% by weight, solvent: butyl acetate / methyl ethyl ketone (MEK) = 76/24 (weight ratio)).
前記樹脂原料は、前記（Ａ）成分（紫外線硬化型化合物）として、ジペンタエリスリトールおよびイソホロンジイソシアネート系ポリウレタン、前記（Ｂ）成分として、表面を有機分子により修飾したシリカ微粒子（重量平均粒径：１００ｎｍ以下）を、（Ａ）成分合計：（Ｂ）成分＝２：３の重量比で含有する。前記樹脂原料の硬化皮膜の屈折率は、１．４８５であった。 The resin raw material includes dipentaerythritol and isophorone diisocyanate polyurethane as the component (A) (ultraviolet curable compound), and silica fine particles whose surface is modified with organic molecules as the component (B) (weight average particle diameter: 100 nm). In the weight ratio of (A) component total: (B) component = 2: 3. The refractive index of the cured film of the resin raw material was 1.485.
この樹脂原料の固形分１００重量部に対し、反応性フッ素化合物（ダイキン工業（株）製、商品名「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」、固形分２０％、溶媒：１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロパノール）を０．２重量部、反応性ケイ素化合物（大日本インキ化学工業（株）製、商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ−４１００」）を０．５重量部、および、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１２７」）を０．５重量部加え、固形分濃度が５０重量％になるように、酢酸ブチルを用いて希釈することにより、ハードコート層形成用組成物を調製した。なお、前記反応性フッ素化合物は、前記一般式（１）で表され、前記一般式（１）のＲにおいて、前記一般式（２）で表される構造を有するフルオロアルキル基を有する置換基を一つ有し、前記一般式（３）で表される構造を有するアクリレート基を有する置換基を二つ有している化合物を主成分とする。また、前記反応性ケイ素化合物は、下記に示す成分１、成分２および溶媒を含む混合物である。 Reactive fluorine compound (manufactured by Daikin Industries, trade name "OPTOOL (registered trademark) DAC", solid content 20%, solvent: 1H, 1H, 3H-tetrafluoro with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin raw material 0.2 parts by weight of propanol), 0.5 parts by weight of a reactive silicon compound (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name “GRANDIC PC-4100”), and a photopolymerization initiator (Ciba Specialty)・ Product number “Irgacure 127” manufactured by Chemicals Co., Ltd.) was added in an amount of 0.5 parts by weight, and diluted with butyl acetate so that the solid concentration was 50% by weight. Prepared. The reactive fluorine compound is represented by the general formula (1), and a substituent having a fluoroalkyl group having a structure represented by the general formula (2) in R of the general formula (1). The main component is a compound having one and two substituents having an acrylate group having a structure represented by the general formula (3). The reactive silicon compound is a mixture containing Component 1, Component 2 and a solvent shown below.
成分１：前記一般式（４）で表される反応性シリコーン（前記一般式（５）の単位（ｃ）のポリジメチルシロキサン単位（Ｘ１）と、前記一般式（５）の単位（ｂ）のメチルヒドロキシプロピルシロキサン単位（Ｘ２）と、前記一般式（９）の６−イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸単位（Ｘ３）と、前記一般式（７）の単位（ｄ）の置換基（Ｘ４）とを、Ｘ１：Ｘ２：Ｘ３：Ｘ４（モル比）＝１８７：３９：１００：５７の割合で有する）（６．８５重量部）
成分２：前記一般式（８）で表されるグリコール系化合物（３．１５重量部）
溶媒：酢酸エチル（９０重量部）
Component 1: Reactive silicone represented by the general formula (4) (the polydimethylsiloxane unit (X1) of the unit (c) of the general formula (5) and the unit (b) of the general formula (5) A methylhydroxypropylsiloxane unit (X2), a 6-isocyanatohexylisocyanuric acid unit (X3) of the general formula (9), and a substituent (X4) of the unit (d) of the general formula (7) are represented by X1 : X2: X3: X4 (molar ratio) = 187: 39: 100: 57) (6.85 parts by weight)
Component 2: Glycol compound represented by the general formula (8) (3.15 parts by weight)
Solvent: ethyl acetate (90 parts by weight)
（ハードコートフィルムの作製）
前記ハードコート層形成用組成物を、透明プラスチックフィルム基材（厚み４０μｍ、屈折率１．４８のＴＡＣフィルム、コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ４ＵＹ」）上に、コンマコーターを用いて塗工し、塗膜を形成した。前記塗工後、６０℃で１分間加熱することにより前記塗膜を乾燥させた。前記乾燥後の塗膜に、高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することで硬化処理を施し、厚み７μｍのハードコート層を形成した。このようにして、本実施例のハードコートフィルムを作製した。
(Preparation of hard coat film)
The composition for forming a hard coat layer is applied on a transparent plastic film substrate (TAC film having a thickness of 40 μm and a refractive index of 1.48, manufactured by Konica Minolta, trade name “KC4UY”) using a comma coater. A coating film was formed. After the coating, the coating film was dried by heating at 60 ° C. for 1 minute. The dried coating film was subjected to a curing treatment by irradiating ultraviolet rays with an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a 7 μm thick hard coat layer. In this way, the hard coat film of this example was produced.
［実施例２］
厚みが１５μｍとなるように前記ハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 2]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer was formed so as to have a thickness of 15 μm.
［実施例３］
前記反応性フッ素化合物を０．１重量部、前記反応性ケイ素化合物を０．５重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 3]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.1 parts by weight of the reactive fluorine compound and 0.5 parts by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例４］
前記反応性フッ素化合物を０．２重量部、前記反応性ケイ素化合物を０．２重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 4]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 parts by weight of the reactive fluorine compound and 0.2 parts by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例５］
前記反応性フッ素化合物を０．１重量部、前記反応性ケイ素化合物を１重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 5]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.1 parts by weight of the reactive fluorine compound and 1 part by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例６］
前記反応性フッ素化合物を０．２重量部、前記反応性ケイ素化合物を１重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 6]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 parts by weight of the reactive fluorine compound and 1 part by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例７］
前記反応性フッ素化合物を０．１重量部、前記反応性ケイ素化合物を０．２重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 7]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.1 parts by weight of the reactive fluorine compound and 0.2 parts by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例８］
前記反応性フッ素化合物を０．１重量部、前記反応性ケイ素化合物を０．１重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 8]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.1 parts by weight of the reactive fluorine compound and 0.1 parts by weight of the reactive silicon compound were used.
［実施例９］
前記反応性フッ素化合物を０．２重量部、前記反応性ケイ素化合物を０．１重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本実施例のハードコートフィルムを得た。
[Example 9]
A hard coat film of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 parts by weight of the reactive fluorine compound and 0.1 parts by weight of the reactive silicon compound were used.
［比較例１］
前記反応性フッ素化合物および前記反応性ケイ素化合物を加えなかった以外は、実施例１と同様な方法にて、本比較例のハードコートフィルムを得た。
[Comparative Example 1]
A hard coat film of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive fluorine compound and the reactive silicon compound were not added.
［比較例２］
前記反応性フッ素化合物は加えず、前記反応性ケイ素化合物を０．２重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本比較例のハードコートフィルムを得た。
[Comparative Example 2]
A hard coat film of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive fluorine compound was not added and the reactive silicon compound was changed to 0.2 parts by weight.
［比較例３］
前記反応性フッ素化合物は加えず、前記反応性ケイ素化合物を１重量部とした以外は、実施例１と同様な方法にて、本比較例のハードコートフィルムを得た。
[Comparative Example 3]
A hard coat film of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reactive fluorine compound was not added and that the reactive silicon compound was 1 part by weight.
［比較例４］
前記反応性フッ素化合物を０．２重量部、前記反応性ケイ素化合物を加えなかった以外は、実施例１と同様な方法にて、本比較例のハードコートフィルムを得た。
[Comparative Example 4]
A hard coat film of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.2 part by weight of the reactive fluorine compound and the reactive silicon compound were not added.
［比較例５］
前記反応性フッ素化合物を１重量部、前記反応性ケイ素化合物を加えなかった以外は、実施例１と同様な方法にて、本比較例のハードコートフィルムを得た。
[Comparative Example 5]
A hard coat film of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1 part by weight of the reactive fluorine compound and the reactive silicon compound were not added.
このようにして得られた実施例および比較例の各ハードコートフィルムについて、各種特性の測定若しくは評価を行った。この結果を、下記表１に示す。 Various characteristics were measured or evaluated for the hard coat films of Examples and Comparative Examples thus obtained. The results are shown in Table 1 below.
前記表１に示すように、実施例のハードコートフィルムは、耐擦傷性および表面自由エネルギー値で表される防汚性が良好であった。特に実施例１〜６においては、極めて優れた耐擦傷性を示した。また、実施例のハードコートフィルムは、鉛筆硬度が高く、かつカール特性が良好であった。これに対し、比較例のハードコートフィルムは、耐擦傷性が十分ではなかった。比較例１〜３のハードコートフィルムは、表面自由エネルギー値が大きく、防汚性が良好であるとはいえない。比較例４および比較例５のハードコートフィルムは、表面自由エネルギー値は小さいものの、耐擦傷性が十分ではなかった。 As shown in Table 1, the hard coat films of the examples had good antifouling properties represented by scratch resistance and surface free energy values. Particularly in Examples 1 to 6, extremely excellent scratch resistance was exhibited. Further, the hard coat films of the examples had high pencil hardness and good curl characteristics. In contrast, the hard coat film of the comparative example was not sufficiently scratch resistant. The hard coat films of Comparative Examples 1 to 3 have a large surface free energy value and cannot be said to have good antifouling properties. Although the hard coat films of Comparative Example 4 and Comparative Example 5 had a small surface free energy value, the scratch resistance was not sufficient.
本発明のハードコート層形成用組成物を用いた本発明のハードコートフィルムは、十分な硬度を有し、耐擦傷性に優れ、かつ、防汚性にも優れるものである。したがって、本発明のハードコートフィルムは、例えば、偏光板等の光学素子、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰおよびＥＬＤ等の各種画像表示装置に好適に使用でき、その用途は制限されず、広い分野に適用可能である。 The hard coat film of the present invention using the composition for forming a hard coat layer of the present invention has sufficient hardness, excellent scratch resistance, and excellent antifouling property. Therefore, the hard coat film of the present invention can be suitably used for various image display devices such as optical elements such as polarizing plates, CRTs, LCDs, PDPs, and ELDs, for example. It is.
１０ ハードコートフィルム
１１ 透明プラスチック基材
１２ ハードコート層
10
Claims (20)
前記ハードコート層が、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を含むハードコート層形成用組成物から形成され、
（Ａ）成分：アクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物
（Ｂ）成分：無機酸化物粒子表面が重合性不飽和基を含む有機化合物で修飾され、かつ、重量平均粒径が２００ｎｍ以下である粒子
（Ｃ）成分：反応性フッ素化合物
（Ｄ）成分：反応性ケイ素化合物
前記ハードコート層の最表層が、ＥＳＣＡによる分析での、反応性フッ素化合物由来のフッ素原子強度が５〜３０％の範囲内であり、かつ、反応性ケイ素化合物由来のケイ素原子強度が０．２〜１０％の範囲内であることを特徴とするハードコートフィルム。 A hard coat film having a hard coat layer on at least one surface of a transparent plastic film substrate,
The hard coat layer is formed from a hard coat layer forming composition containing the following component (A), component (B), component (C) and component (D):
(A) component: curable compound having at least one of acrylate group and methacrylate group (B) component: inorganic oxide particle surface is modified with an organic compound containing a polymerizable unsaturated group, and the weight average particle size Particle (C) having a particle size of 200 nm or less: Reactive fluorine compound (D) Component: Reactive silicon compound The outermost layer of the hard coat layer has a fluorine atom intensity of 5 derived from the reactive fluorine compound in the analysis by ESCA. A hard coat film characterized by being in a range of -30% and a silicon atom intensity derived from a reactive silicon compound in a range of 0.2-10%.
（Ｅ）成分：下記一般式（８）で表されるグリコール系化合物
(E) Component: Glycol compound represented by the following general formula (8)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009252150A JP5441056B2 (en) | 2008-11-28 | 2009-11-02 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008304358 | 2008-11-28 | ||
| JP2008304358 | 2008-11-28 | ||
| JP2009252150A JP5441056B2 (en) | 2008-11-28 | 2009-11-02 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013084429A Division JP5529320B2 (en) | 2008-11-28 | 2013-04-14 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010152331A JP2010152331A (en) | 2010-07-08 |
| JP5441056B2 true JP5441056B2 (en) | 2014-03-12 |
Family
ID=42362109
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009252150A Active JP5441056B2 (en) | 2008-11-28 | 2009-11-02 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
| JP2013084429A Active JP5529320B2 (en) | 2008-11-28 | 2013-04-14 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013084429A Active JP5529320B2 (en) | 2008-11-28 | 2013-04-14 | Hard coat layer forming composition, hard coat film, optical element and image display device |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP5441056B2 (en) |
| KR (1) | KR101069570B1 (en) |
| TW (1) | TWI406914B (en) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI476223B (en) * | 2009-06-16 | 2015-03-11 | Mitsubishi Rayon Co | Anti-fouling composition, anti-fouling film, anti-fouling laminated film, transfer film and resin laminate and method for fabricating resin laminate |
| JP5562158B2 (en) * | 2010-07-22 | 2014-07-30 | 富士フイルム株式会社 | Method for producing light reflective film and light reflective film |
| CN103328212B (en) | 2011-01-18 | 2015-01-21 | 东丽株式会社 | Layered polyester film and hardcoat film |
| US9389339B2 (en) | 2011-04-22 | 2016-07-12 | Fujifilm Corporation | Method for producing antireflection film, antireflection film, and coating composition |
| JP5617773B2 (en) * | 2011-06-22 | 2014-11-05 | コニカミノルタ株式会社 | Hard coat film |
| US9982084B2 (en) | 2013-10-18 | 2018-05-29 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treatment composition |
| JP6348745B2 (en) * | 2014-03-26 | 2018-06-27 | リンテック株式会社 | Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel |
| JP2017518521A (en) * | 2014-04-09 | 2017-07-06 | ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | Optical element |
| WO2016006537A1 (en) | 2014-07-10 | 2016-01-14 | 日立化成株式会社 | Aromatic polyketone film manufacturing method, aromatic polyketone film, aromatic polyketone film-equipped base material, optical element, and image display device |
| KR101748009B1 (en) * | 2014-10-20 | 2017-06-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | Display fim and display divice comprising thereof |
| JP6460471B2 (en) * | 2015-03-16 | 2019-01-30 | 大日本印刷株式会社 | Laminated body, polarizing plate, and image display device |
| US10391750B2 (en) * | 2015-09-03 | 2019-08-27 | Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. | Cover window plate and image display device including the same |
| JP2018124395A (en) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | Hard coat film |
| US11084914B2 (en) * | 2017-12-20 | 2021-08-10 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Hardcoat |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005111756A (en) * | 2003-10-06 | 2005-04-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Hard coat treated article, curable composition and data recording carrier |
| JP2005186568A (en) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display |
| JP2005301241A (en) * | 2004-03-16 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-reflection film, its manufacturing method, polarizing plate and image forming apparatus |
| JP4669279B2 (en) * | 2004-12-27 | 2011-04-13 | 三菱レイヨン株式会社 | Curable composition |
| JP4703180B2 (en) * | 2004-12-28 | 2011-06-15 | リンテック株式会社 | Coating composition, hard coat film and optical recording medium |
| JP4856880B2 (en) * | 2005-01-31 | 2012-01-18 | 富士フイルム株式会社 | Antireflection film, polarizing plate and image display device |
| JP4855781B2 (en) * | 2005-02-01 | 2012-01-18 | 日東電工株式会社 | Antireflection hard coat film, optical element and image display device |
| JP5045052B2 (en) * | 2005-11-10 | 2012-10-10 | Ｊｓｒ株式会社 | Curable resin composition and antireflection film |
| JP2007234424A (en) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive film and touch panel |
| JP5280195B2 (en) * | 2006-03-02 | 2013-09-04 | ダウ・コーニング・コーポレイション | High energy ray curable composition |
| JP2007264281A (en) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Hard coat layer provided with antifouling property |
| JP2008088309A (en) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Nitto Denko Corp | Cured coating film, anti-reflection hard coating film using it, polarization plate and image display device |
| JP2008151998A (en) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Nitto Denko Corp | Manufacturing method of hard coat film, hard coat film, polarizing plate and image display apparatus |
-
2009
- 2009-11-02 JP JP2009252150A patent/JP5441056B2/en active Active
- 2009-11-16 TW TW098138798A patent/TWI406914B/en active
- 2009-11-27 KR KR1020090115783A patent/KR101069570B1/en active IP Right Grant
-
2013
- 2013-04-14 JP JP2013084429A patent/JP5529320B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101069570B1 (en) | 2011-10-05 |
| JP5529320B2 (en) | 2014-06-25 |
| TWI406914B (en) | 2013-09-01 |
| JP2010152331A (en) | 2010-07-08 |
| TW201030108A (en) | 2010-08-16 |
| KR20100061396A (en) | 2010-06-07 |
| JP2013156652A (en) | 2013-08-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111205 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130131 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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