JP5436211B2 - 有害生物防除剤組成物及び有害生物防除方法 - Google Patents
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Description
〔成分A〕:式[I]で表される3−アリールフェニルスルフィド誘導体から選択される1種以上の化合物。
nは0〜2の整数を示し、Ar基は下記式、[Ar−1]、[Ar−2]、[Ar−3]、又は[Ar−4]で表される基を示し、
Q6は酸素原子又は硫黄原子を示し、
Q7は窒素原子又はC−A7を示し、
Q8は窒素原子又はC−A8を示し、
A1、A5、A7、及びB0は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)又はC1〜C6アルコキシ基示し、
A2、A3、A4、A6、A9、B1、B2及びB3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルコキシ基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C2〜C5アルコキシカルボニル基又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルチオ基(該基はハロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルスルホニル基(該基はハロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C7アシル基、C2〜C5ハロアルキルカルボニル基、カルボキシル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又は−NR1R2基[式中、R1及びR2は互いに独立して、水素原子、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、C1〜C6アルコキシ基又はC1〜C6アルキルチオ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C7アシル基又はC2〜C7アルコキシカルボニル基を示す。R1及びR2はこれらの結合した窒素原子と共に5から6員環を形成してもよい。]を示し、
A8は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルコキシ基(該基はハロゲン原子又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C7アシル基、C2〜C5ハロアルキルカルボニル基又は−NR1R2基(式中、R1及びR2は前記と同じ意味を示す。)を示し、
A10は水素原子、カルボキシル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C8シクロアルキル基(該基はアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルコキシ基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C2〜C5アルコキシカルボニル基又はC1〜C3アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルチオ基(該基はハロゲン原子、C1〜C3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよいC3〜C8シクロアルキル基又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルスルフィニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C3アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されてもよいC3〜C8シクロアルキル基又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルキルスルホニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C3アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよいC3〜C8シクロアルキル基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルキニルチオ基(該基はハロゲン原子、C1〜C3アルコキシ基又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C2〜C6アルキニルスルフィニル基(該基はハロゲン原子、C1〜C3アルコキシ基又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C7アシル基又はC2〜C5ハロアルキルカルボニル基を示し、
A11は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C6アルキルチオ基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルコキシ基、−N=CR3R4基、−N=C(NR4’R5’)NR4R5基、−N(SO2R4)R5基、−N(OR5)R5’基、−C(=O)OR4基、−C(=Q)NR4R5基、−SO2NR4R5基、−NR4R5基、−N(COR4)R5基、又は−N(COOR4)R5基を示し、
R3は水素原子、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、アリールアルキル基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、ヘテロアリールアルキル基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、アリール基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基、C1〜C6アルコキシ基又はヒドロキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、ヘテロアリール基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6アルキルチオ基、アミノ基、C1〜C6モノアルキルアミノ基又はC2〜C12ジアルキルアミノ基を示し、
R4及びR4’は、それぞれ独立に、水素原子、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、アミノ基、C1〜C6モノアルキルアミノ基、C2〜C12ジアルキルアミノ基、アリールアルキル基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、ヘテロアリールアルキル基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、アリール基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)又はヘテロアリール基(該基はハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)を示し、
R5及びR5’は、それぞれ独立に、水素原子、C1〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルケニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6アルキニル基(該基はハロゲン原子又はシアノ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)又はC3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子、水酸基、シアノ基、C2〜C7アルコキシカルボニル基又はC1〜C6アルコキシ基によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)を示す。
ただし、Ar基が式[Ar−1]及び式[Ar−2]の場合、Q1〜Q5は最大2個までが窒素原子になり得、さらにAr基が式[Ar−1]でQ5だけが窒素原子の場合、A1は水素原子であり、又、Ar基が式[Ar−1]でQ1、Q2、Q3、Q4及びQ5が、それぞれ、C−A1、C−A2、C−A3、C−A4及びC−A5の場合、A2、A3、A4及びB2が同時に水素原子であることはなく、A1からA5の全てが水素原子の場合には、B2がメチル基でRがイソプロピル基である化合物を除き、Ar基が式[Ar−4]でQ8がC−A8の場合、RはC2〜C6アルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)、C3〜C6シクロアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)又はC4〜C9シクロアルキルアルキル基(該基はハロゲン原子によりモノ置換又はポリ置換されてもよい)を示す。
〔成分B〕:
ビストリフルロン(bistrifluron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)等のアシルウレア系化合物、
キシリルカルブ(xylylcarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ホルメタネート(formetanate)、メチオカルブ(methiocarb)等のカーバメート系化合物、
クロマフェノイド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)等のジアシルヒドラジン化合物、
チオスルタップ(thiosultap-sodium)等のネライストキシン化合物、
イミプロトリン(imiprothrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エンペントリン(empenthrin)、シフェノトリン(cyphenothrin])、シフルメトフェン(cyflumetofen)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、プラレトリン(prallethrin)、フルメトリン(flumethrin)、メトトリン(methothrin)、RU−15525、ZXI−8901等のピレスロイド化合物、
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)等のフェニルピラゾール化合物、
アザメチホス(azamethiphos)、イソカルボホス(isocarbophos)、イミシアホス(imicyafos)、オメトエート(omethoate)、カズサホス(cadusafos)、クマホス(coumaphos)、クロルメホス(chlormephos)、ジクロトホス(dicrotophos)、スルホテップ(sulfotep)、テブピリムホス(tebupirimfos)、デメトン・S・メチル(demeton-S-methyl)、テメホス(temephos)、テルブホス(terbufos)、トリアゾホス(triazophos)、パラチオン(parathion)、ファムフル(famphur)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、プロペタムホス(propetamphos)、ヘプテノホス(heptenophos)、ホキシム(phoxim)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホレート(phorate)、メカルバム(mecarbam)、メタミドホス(methamidophos)、メビンホス(mevinphos)等の有機リン化合物、
ハイドロプレン(hydroprene)、キノプレン(kinoprene)等の幼若ホルモン類縁体化合物、フロニカミド(flonicamid)、ピリダリル(pyridalyl)、フルフェネリム(flufenerim)、フルベンジアミド(flubendiamide)、テブフェノジド(tebufenozide)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマト(spirotetramat)、CL900167、スピロメシフェン(spiromesifen)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ジエノクロル(dienochlor)、フェナザキン(fenazaquin)、及びシエノピラフェン(cyenopyrafen)よりなる群から選ばれる1種以上の化合物又は成分。
(12)前記(1)〜(4)のいずれかに記載の、〔成分A〕と〔成分B〕のそれぞれを、時間間隔をおいて施用処理することを特徴とする有害生物防除方法。
尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
Pr :n−プロピル基、 Pr−i :イソプロピル基、
Pr−c :シクロプロピル基、 Bu :n−ブチル基、
Bu−i :イソブチル基、 Bu−s :sec−ブチル基、
Bu−t :tert−ブチル基、 Bu−c :シクロブチル基、
Pen :n−ペンチル基、 Pen−i:イソペンチル基、
Pen−c :シクロペンチル基、 Hex−c:シクロヘキシル基、
ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)、セサメックススルホキシド(sesamex sulfoxide)、N-(2-エチルヘキシル)-ビシクロ-(2,2,1)ヘプト-5-エン-2,3-ジカルボキシイミド(N-(2-ethylhexyl)−bicyclo−(2,2,1)hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide)、N−デシルイミダゾール(N-declyimidazole)、WARF−アンチレジスタント(WARF-antiresistant)、CH3I(ヨウ化メチル)、t−フェニルブテノン(t-phenylbutenone)、マレイン酸ジエチル(diethyl maleate)、クロルフェネトール(chlorfenetol)。
殺菌活性成分:
アザコナゾール(azaconazole)、アシベンゾラルSメチル(acibenzolar-S-methyl)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、アミスルブロム(amisulbrom)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、イプコナゾール(ipconazole)、イプロジオン(iprodione)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、イマザリル(imazalil)、イプロベンホス(iprobenfos)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、エトリジアゾール(etridiazole)、エジフェンホス(edifenphos)、エタボキサム(ethaboxam)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、オキサジキシル(oxadixyl)、オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、オクチリノン(octhilinone)、オキソリニック酸(oxolinic acid)、オフラセ(ofurace)、オリサストロビン(orysastrobin)、カスガマイシン(kasugamycin)、カプタホール(captafol)、カルプロパミド(carpropamid)、カルベンダジム(carbendazime)、カルボキシン(carboxin)、キノメチオネート(chinomethionat)、キャプタン(captan)、キントゼン(quintozene)、グアザチン(guazatine)、クレソキシムメチル(kresoxim-methyl)、クロゾリネート(chlozolinate)、クロロネブ(chloroneb)、クロロタロニル(chlorothalonil)、シアゾファミド(cyazofamid)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ジクロシメット(diclocymet)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、ジクロメジン(diclomezine)、ジチアノン(dithianon)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジネブ(zineb)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、ジフルメトリム(diflumetorim)、シプロコナゾール(cyproconazole)、シプロジニル(cyprodinil)、シメコナゾール(simeconazole)、ジメトモルフ(dimethomorph)、シモキサニル(cymoxanil)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、ジラム(ziram)、シルチオファム(silthiofam)、ストレプトマイシン(streptomycin)、スピロキサミン(spiroxamine)、ゾキサミド(zoxamide)、ダゾメット(dazomet)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、チフルザミド(thifluzamide)、チラム(thiram)、テクナゼン(tecnazene)、テクロフタラム(tecloftalam)、テトラコナゾール(tetraconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、ドジン(dodine)、ドデモルフ(dodemorph)、トリアジメノール(triadimenol)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアゾキシド(triazoxide)、トリシクラゾール(tricyclazole)、トリチコナゾール(triticonazole)、トリデモルフ(tridemorph)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、トリホリン(triforine)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、トルクロホス・メチル(tolclofos-methyl)、ナーバム(nabam)、ヌアリモール(nuarimol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、バリダマイシン(validamycin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ビテルタノール(bitertanol)、ピペラリン(piperalin)、ヒメキサゾール(hymexazol)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラゾホス(pyrazophos)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、ピリメタニル(pyrimethanil)、ピロキロン(pyroquilon)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、ファーバム(ferbam)、ファモキサドン(famoxadone)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、フェナミドン(fenamidone)、フェナリモル(fenarimol)、フェノキサニル(fenoxanil)、フェリムゾン(ferimzone)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フェンフラム(fenfuram)、フェンプロピジン(fenpropidin)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、フォルペット(folpet)、フサライド(phthalide)、ブピリメート(bupirimate)、フベリダゾール(fuberidazole)、ブラストサイジンS(blasticidin-S)、フラメトピル(furametpyr)、フララキシル(furalaxyl)、フルアジナム(fluazinam)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin )、フルオピコリド(fluopicolide)、フルオルイミド(fluoroimide)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)フルジオキソニル(fludioxonil)、フルシラゾール(flusilazole)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルトラニル(flutolanil)、フルトリアホール(flutriafol)、フルモルフ(flumorph)、プロキナジド(proquinazid)、プロクロラズ(prochloraz)、プロシミドン(procymidone)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、プロパモカルブ(propamocarb)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロピネブ(propineb)、プロベナゾール(probenazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベノミル(benomyl)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、ペンシクロン(pencycuron)、ベンチアバリカルブ・イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)、ボスカリド(boscalid)、ホセチル(fosetyl)、ポリオキシン(polyoxins)、ポリカーバメート(polycarbamate)、マンジプロパミド(mandipropamid)、マンコゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ミルネブ(milneb)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル−M(metalaxyl-M)、メチラム(metiram)、メトコナゾール(metconazole)、メトミノストロビン(metominostrobin)、メトラフェノン(metrafenone)、メパニピリム(mepanipyrim)、メフェノキサム(mefenoxam)、メプロニル(mepronil)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、銀化合物、無機銅化合物、有機銅化合物、硫黄化合物、有機亜鉛化合物、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、脂肪酸グリセリド、シイタケ菌糸体抽出物(extract from mushroom)、エルビニア属細菌(Erwinia)、シュードモナス属細菌(pseudomonas)、バシルス属細菌(Bacillus)、タラロマイセス属菌(Talaromyces)、トリコデルマ属菌(Trichoderma)、フザリウム属菌(Fusarium)。
これらの製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。
本発明の有害生物防除剤組成物を用いて防除しうる害虫、ダニ類、線虫類等は、具体的には次に示すものがあるが、それらのみに限定されるものではない。
本発明の有害生物防除剤組成物は既存の有害生物防除剤に抵抗性を獲得した前記の有害生物等にも防除効果を示す、特に有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物あるいは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
〔成分A〕、〔成分B〕及び補助剤の種類、ならびにこれらの配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において、部は質量%を示す。
化合物番号(6) 5部
公知化合物 フルベンジアミド 30部
シクロヘキサノン 20部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 11部
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム 4部
メチルナフタリン 30部
以上を均一に溶解して乳剤とした。
化合物番号(6) 4部
公知化合物 ピリダリル 20部
シクロヘキサノン 20部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 11部
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム 4部
メチルナフタリン 41部
以上を均一に溶解して乳剤とした。
化合物番号(6) 1部
公知化合物 ピリダリル 10部
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 0.5部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 0.5部
珪藻土 24部
クレー 64部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とした。
化合物番号(6) 0.4部
公知化合物 フルベンジアミド 20部
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 0.5部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル 0.5部
珪藻土 24部
クレー 54.6部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とした。
化合物番号(6) 0.1部
公知化合物 エチプロール 0.4部
珪藻土 5部
クレー 94.5部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とした。
化合物番号(6) 0.5部
公知化合物 カズサホス 2.5部
ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム塩 2部
リグニンスルホン酸ナトリウム 5部
カルボキシメチルセルロース 2部
クレー 88部
以上を均一に混合粉砕した。この混合物100質量部に水20質量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて14〜32メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤とした。
化合物6、フルベンジアミド、ならびに化合物6とフルベンジアミドの混合物をそれぞれ、製剤例2に準じて水和剤に製剤した。各々の製剤を表15に示した有効成分量となるように水で希釈し、この溶液に展着剤(クミテン:クミアイ化学工業社製)を全体量の0.05%の濃度になるよう加えた。これらの薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗を浸漬し、風乾した後、このダイズ苗を25℃の恒温室に置いた。13日後に生存虫数を調査し、数2の計算式により防除価を求めた。試験は1連制で行なった。この試験における結果を表15に示す。表中の予測値は、(数1)のコルビーの式(S.R. Colby(Weeds 15(1967), 20−22)を用いて計算した。
Y:成分Bを所定の濃度で使用した場合の防除価
E:成分Aと成分Bとを、それぞれ所定の濃度で組み合わせて使用した場合の予測値(理論的期待値)
化合物6、テブフェノジド、ならびに化合物6とテブフェノジドの混合物をそれぞれ、製剤例2に準じて水和剤に製剤した。各々の製剤を表16に示した有効成分量となるように水で希釈し、この溶液に展着剤(クミテン:クミアイ化学工業社製)を全体量の0.05%の濃度になるよう加えた。これらの薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗を浸漬し、風乾した後、このダイズ苗を25℃の恒温室に置いた。13日後に生存虫数を調査し、数2の計算式により防除価を求めた。試験は1連制で行なった。この試験における結果を表16に示す。表中の予測値は、(数1)のコルビー式を用いて計算した。
化合物6、ピリダリル、ならびに化合物6とピリダリルの混合物をそれぞれ、製剤例2に準じて水和剤に製剤した。各々の製剤を表17に示した有効成分量となるように水で希釈し、この溶液に展着剤(クミテン:クミアイ化学工業社製)を全体量の0.05%倍の濃度になるよう加えた。予めワタアブラムシ幼虫を接種しておいたキュウリ苗の株元に前記の薬液を5mL潅注し、このキュウリ苗を25℃の恒温室に置いた。3日後に生存虫数を数え、数3の計算式により死虫率を求めた。試験は2連制で行なった。この試験における結果を表17に示す。表中の予測値は(数1)のコルビーの式を用いて計算した。
なお、2007年8月10日に出願された日本特許出願2007−209387号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (9)
- 下記の〔成分A〕と下記の〔成分B〕と、を有効成分として含有することを特徴とする有害生物防除剤組成物。
〔成分A〕:式[I]で表される3−アリールフェニルスルフィド誘導体から選択される1種以上の化合物。
nは1の整数を示し、Ar基は式、
上記式[Ar−4]中、
Q8は窒素原子を示し、
B0は、フッ素原子を示し、
B1は水素原子を示し、B2はメチル基を示し、B3は水素原子を示し、
A10は−CF3基を示し、
A11は−NHCOCF3基を示す。
〔成分B〕:
ピリダリル、フルベンジアミド及びテブフェノジドよりなる群から選ばれる1種以上の化合物。 - 請求項1に記載の有害生物防除剤組成物を、植物体表面又は有害生物に直接散布処理することを特徴とする有害生物防除方法。
- 請求項1に記載の有害生物防除剤組成物を、土壌に直接処理、又は種子、種芋あるいは球根に直接あるいはその近傍に処理することを特徴とする有害生物防除方法。
- 苗を植え付ける方法で栽培する作物の播種時から苗定植時の間に、請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕とを混合して、混合溶液の形態で育苗土に潅注するか、または混合粒剤の形態で育苗土に散布することを特徴とする有害生物防除方法。
- 苗を植え付ける方法で栽培する作物の播種時から苗定植時の間に、請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕とを含有する育苗土を用いて苗を栽培することを特徴とする有害生物防除方法。
- 苗を植え付ける方法で栽培する作物の苗定植時から生育期間に、請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕とを、本圃の土壌に潅注処理、粒剤散布処理、土壌混和処理、作条処理、植溝処理、植穴処理、植穴処理土壌混和、株元処理または株元処理土壌混和することを特徴とする有害生物防除方法。
- 本圃に直接種子、種芋または球根を播いて栽培する作物において、請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕とを、種子、種芋または球根に直接またはその近傍に、浸漬処理、粉衣処理、塗布処理、コーティング処理、またはこれらの化合物を含有するテープで種子、種芋または球根を封入することにより処理することを特徴とする有害生物防除方法。
- 本圃に直接種子、種芋または球根を播いて栽培する作物の播種時から生育期に、請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕とを、本圃の土壌に潅注処理、粒剤散布処理、土壌混和処理、作条処理、播種溝処理、株元処理または株元処理土壌混和処理することを特徴とする有害生物防除方法。
- 請求項1に記載の、〔成分A〕と〔成分B〕のそれぞれを、時間間隔をおいて施用処理することを特徴とする有害生物防除方法。
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