JP5435835B2 - 高分子ゲルおよびその製造方法 - Google Patents
高分子ゲルおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5435835B2 JP5435835B2 JP2005353334A JP2005353334A JP5435835B2 JP 5435835 B2 JP5435835 B2 JP 5435835B2 JP 2005353334 A JP2005353334 A JP 2005353334A JP 2005353334 A JP2005353334 A JP 2005353334A JP 5435835 B2 JP5435835 B2 JP 5435835B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- polymer
- clay mineral
- amide group
- polymer gel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Description
粘土鉱物として[Mg5.34Li0.66Si8O20(OH)4]Na+0.66の組成を有する水膨潤性合成ヘクトライト(商標ラポナイトXLG、日本シリカ株式会社製)を用いた。有機モノマーはN−イソプロピルアクリルアミド(NIPA:興人株式会社製)をトルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶し、無色針状結晶に精製してから用いた。
ノニオン界面活性剤水溶液の代わりにアミド系極性溶媒(ジメチルアセトアミド)を用いる以外は、実施例1〜3及び比較例1と同様にして、高分子ゲルの溶解試験を行った。実施例4では実施例1と、実施例5では実施例2と、実施例6では実施例3と、比較例2では比較例1と同じ高分子ゲルを用いた。その結果、実施例4〜6ではジメチルアセトアミド溶媒中で、固形分重量に対して440%(実施例4)、375%(実施例5)、425%(実施例6)膨潤するのみで溶解は観測されなかった。一方、比較例2では、形状が徐々に失われ溶解するのが観測された。
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン(Methacryloxypropyltrimethoxylilane)の代わりに、N,N,N−トリメチル−N−(2ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)アンモニムクロライドをNIPAに対してモル比で0.01用いること、超音波処理をしないことを除くと、実施例1と同様にして調製し、高分子ゲルを得た。得られた高分子ゲルは弾性率が0.85kPa、破断伸びが700%であり、実施例1と同様にして測定したノニオン界面活性剤水溶液中での溶解は観測されなかった。
Claims (7)
- アミド基含有高分子と層状剥離して分子状に分散した粘土鉱物(A)とが三次元網目を形成してなる高分子ゲルにおいて、
アミド基含有高分子が、
(I)アミド基含有ビニルモノマー(B)と、Si−OR基(但し、Rは水素または炭素数1〜5のアルキル基を示す。)またはSi−Cl基と、ビニル基を共に有するモノマー(C)を重合した高分子、又は
(II)アミド基含有ビニルモノマー(B)と、
4級アンモニウムカチオンとビニル基を共に有するモノマー(D)を重合した高分子、であり、
前記三次元網目の中に溶媒を含有し、且つ該アミド基含有高分子と該粘土鉱物の間に、共有結合及びイオン結合の少なくとも1つを有することを特徴とする高分子ゲル。 - 前記共有結合がシロキサン結合(−Si−O−)である請求項1記載の高分子ゲル。
- 前記イオン結合が4級アンモニウムイオンを含む結合である請求項1記載の高分子ゲル。
- 粘土鉱物(A)と、
アミド基含有ビニルモノマー(B)と、
Si−OR基(但し、Rは水素または炭素数1〜5のアルキル基を示す。)またはSi−Cl基と、ビニル基を共に有するモノマー(C)と
を含む水溶液を調製後、モノマー(B)とモノマー(C)を粘土鉱物(A)の存在下で重合して高分子を形成すると共に、少なくともモノマー(C)の一部が粘土鉱物(A)と反応してシロキサン結合を形成することを特徴とする請求項1または2記載の高分子ゲルの製造方法。 - 粘土鉱物(A)と、
アミド基含有ビニルモノマー(B)と、
4級アンモニウムカチオンとビニル基を共に有するモノマー(D)と
を含む水溶液を調製後、モノマー(B)とモノマー(D)を粘土鉱物(A)の存在下で重合して高分子を形成すると共に、少なくともモノマー(D)の一部が粘土鉱物(A)とイオン結合を形成する請求項1または3記載の高分子ゲルの製造方法。 - アミド基含有ビニルモノマー(B)に対するモノマー(C)またはモノマー(D)のモル比が1×10−5〜5×10−1である請求項4または5記載の高分子ゲルの製造方法。
- 粘土鉱物(A)が水膨潤性であり、且つ、アミド基含有ビニルモノマー(B)が水溶性である請求項1〜3のいずれか一つに記載の高分子ゲル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005353334A JP5435835B2 (ja) | 2005-12-07 | 2005-12-07 | 高分子ゲルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005353334A JP5435835B2 (ja) | 2005-12-07 | 2005-12-07 | 高分子ゲルおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007154092A JP2007154092A (ja) | 2007-06-21 |
JP5435835B2 true JP5435835B2 (ja) | 2014-03-05 |
Family
ID=38238861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005353334A Expired - Fee Related JP5435835B2 (ja) | 2005-12-07 | 2005-12-07 | 高分子ゲルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5435835B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023156701A (ja) * | 2022-04-13 | 2023-10-25 | 信越化学工業株式会社 | ゲル化剤とゲル化剤の製造方法及び化粧料 |
CN114774093B (zh) * | 2022-05-11 | 2023-08-15 | 重庆科技学院 | 提高水基钻井液切力的有机无机复合聚合物及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07324389A (ja) * | 1994-05-30 | 1995-12-12 | Nippon Kayaku Co Ltd | 無機有機複合調湿材料 |
JP2001261721A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | ラジカル重合性組成物、及びその製造方法 |
JP2004091755A (ja) * | 2002-09-04 | 2004-03-25 | Kawamura Inst Of Chem Res | 収縮性高分子ヒドロゲル及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-12-07 JP JP2005353334A patent/JP5435835B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007154092A (ja) | 2007-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhao et al. | Mechanically strong and thermosensitive macromolecular microsphere composite poly (N-isopropylacrylamide) hydrogels | |
JP4759165B2 (ja) | 有機・無機複合ヒドロゲル及びその製造方法 | |
JP4776187B2 (ja) | 有機・無機複合高分子ゲル及びその製造方法 | |
JP5132278B2 (ja) | 有機無機複合ヒドロゲルの製造方法 | |
JP5246854B2 (ja) | 有機無機複合ゲル | |
JP5132300B2 (ja) | カチオン性有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法 | |
JP3914489B2 (ja) | 高分子複合体、その延伸物及び高分子複合体の製造方法 | |
JP2010095586A (ja) | 有機・無機複合ヒドロゲルの成形方法 | |
JP3914501B2 (ja) | 高分子ゲル複合材及びその製造法 | |
JP5285839B2 (ja) | 高分子複合ゲルの製造方法 | |
JP2007125762A (ja) | 高分子ゲル積層体およびその製造方法 | |
JP2010254800A (ja) | 有機無機複合体 | |
JP5435835B2 (ja) | 高分子ゲルおよびその製造方法 | |
JP5598833B2 (ja) | 有機・無機複合ヒドロゲルの製造方法 | |
JP5456344B2 (ja) | 有機無機複合ヒドロゲル及びその製造方法 | |
JP5371216B2 (ja) | 有機無機複合ヒドロゲルの製造方法 | |
JP2004091755A (ja) | 収縮性高分子ヒドロゲル及びその製造方法 | |
JP5654208B2 (ja) | 有機無機複合ゲル | |
JP2004091724A (ja) | 有機・無機複合体及びその製造方法 | |
JP4730725B2 (ja) | 高分子ヒドロゲルの製造方法 | |
JP2008074925A (ja) | ホウ酸塩基含有有機無機複合ヒドロゲル及びその製造方法 | |
JP2009256629A (ja) | 有機無機複合ヒドロゲル及びその製造方法 | |
JP5202903B2 (ja) | カルボン酸基又はスルホン酸基を有する有機無機複合ヒドロゲルの製造方法 | |
JP4297666B2 (ja) | 光学的異方体 | |
JP5028082B2 (ja) | 局所膨潤高分子ゲル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081105 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110622 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110628 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120529 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5435835 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |