JP5432895B2 - アルミニウム錯体とその使用 - Google Patents
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Description
本発明は新規な不斉アルミニウム錯体を触媒とし、同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物の光学異性体混合物を閉環反応させ、閉環して生成する化合物の光学異性体の比率、又は閉環せずに残存する化合物の光学異性体の比率を豊富化させることができる。
特に低エナンチオ過剰率を有するシトロネラールより、一方の立体異性体のみを優先的に反応させ、光学異性体比率の豊富化を伴いシトロネラールを光学分割することができる。又は、選択的な閉環反応により光学異性体比率の豊富化を伴ってイソプレゴールを得ることができる。
特に低エナンチオ過剰率を有するシトロネラールより、一方の立体異性体のみを優先的に反応させ、光学異性体比率の豊富化を伴いシトロネラールを光学分割することができる。又は、選択的な閉環反応により光学異性体比率の豊富化を伴ってイソプレゴールを得ることができる。
従来から、メントール、特にｌ−メントールは、清涼感のある香料として非常に重要であり、その用途は多岐にわたっている。メントールの合成法についてはｄｌ−メントールを光学分割によって得る方法と、不斉合成法によって得る方法が知られている（非特許文献１）。不斉合成法によるｌ−メントールの製造工程においては、前駆体であるｌ−イソプレゴールを水素化してｌ−メントールが得られるが、このｌ−イソプレゴールを合成するためには、ｄ−シトロネラールの選択的閉環反応が重要な工程である。
ｄ−シトロネラールの選択的閉環反応については、臭化亜鉛等を用いる方法等が古くから知られている。近年、アルミニウム錯体を触媒として用いた高選択的反応について報告されるようになり、例えば２，６−ジフェニルフェノールから誘導される配位子を有するアルミニウム錯体を触媒として用いた高選択的閉環反応（特許文献１）が見出された。その後、フェノール性水酸基を有する化合物から誘導される配位子を有したアルミニウム錯体を用いた閉環反応や（特許文献２、特許文献３、特許文献４）、シリルエーテル部位を有したアルミニウム錯体を用いた閉環反応が報告されている（特許文献５）。しかし、光学活性なアルミニウム錯体を用いてラセミ体のシトロネラールより片方の立体のみを選択的に環化させる反応の報告は無い。また、軸不斉配位子であるビアリールジオール骨格を有するアルミニウム錯体は多数報告例があるが、アルミニウム：ビアリールジオールの比が２：３から成るアルミニウム錯体として報告されているのは一価のカチオン性ヒドリド錯体だけである（特許文献６）。
ｄ−シトロネラールの選択的閉環反応については、臭化亜鉛等を用いる方法等が古くから知られている。近年、アルミニウム錯体を触媒として用いた高選択的反応について報告されるようになり、例えば２，６−ジフェニルフェノールから誘導される配位子を有するアルミニウム錯体を触媒として用いた高選択的閉環反応（特許文献１）が見出された。その後、フェノール性水酸基を有する化合物から誘導される配位子を有したアルミニウム錯体を用いた閉環反応や（特許文献２、特許文献３、特許文献４）、シリルエーテル部位を有したアルミニウム錯体を用いた閉環反応が報告されている（特許文献５）。しかし、光学活性なアルミニウム錯体を用いてラセミ体のシトロネラールより片方の立体のみを選択的に環化させる反応の報告は無い。また、軸不斉配位子であるビアリールジオール骨格を有するアルミニウム錯体は多数報告例があるが、アルミニウム：ビアリールジオールの比が２：３から成るアルミニウム錯体として報告されているのは一価のカチオン性ヒドリド錯体だけである（特許文献６）。
合成香料、印藤元一著、化学工業日報社、１０６〜１１４頁
本発明の目的は、新規な不斉アルミニウム錯体を触媒として用い、分子内でカルボニル−エン閉環反応を行い、生成する化合物若しくは残存する化合物の光学異性体比率を豊富化させ、光学純度が高められた目的の光学活性アルコール若しくは光学活性オレフィンアルデヒドを得る方法、特にシトロネラールを高選択的閉環反応によって光学分割し、ｌ−イソプレゴール及びｌ−シトロネラール、又はｄ−イソプレゴール及びｄ−シトロネラールを得る方法に関する。
本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、光学活性ビアリールジオールを配位子とするアルミニウム錯体を触媒として用いることにより、不斉配位子の立体に対応したシトロネラールを優先的に閉環させ、ｄ及びｌのエナンチオ選択率の向上を伴い、更にイソプレゴール、イソイソプレゴール、ネオイソプレゴール、ネオイソイソプレゴールの４種の異性体の内、イソプレゴールが高選択的な異性体比で、高収率で得られることを見いだし本発明を完成するに到った。また、反応終了後に不斉配位子を系内より回収することで、再びアルミニウム触媒の配位子として再利用ができる。
すなわち本発明は以下の［１］〜［１０］の内容を包含する。
［１］下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
（式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、飽和もしくは不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。Ｒ４及びＲ４’はそれぞれ独立して、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、アシル基、置換シリル基又はニトロ基を表す。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ４’、Ｒ４’とＲ３’、Ｒ３’とＲ２’ 又はＲ２’とＲ１’とは結合して環を形成してもよい。）
で表されるビアリールジオール化合物１．５当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物１．１〜１．３当量と下記一般式（３）
（式（３）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８，Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ８’、Ｒ８’とＲ７’、Ｒ７’とＲ６’又はＲ６’とＲ５’とは結合して環を形成してもよい。）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体。
［２］一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物が軸不斉光学活性体である前記［１］に記載のアルミニウム錯体。
［３］一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物及び一般式（３）で表されるビアリールジオール化合物が共に軸不斉光学活性体である前記［２］に記載のアルミニウム錯体。
［４］下記一般式（１’）で表される前記［１］〜［３］のいずれかに記載のアルミニウム錯体。
［Ａｌ２（Ｌ１）ｎ（Ｌ２）３−ｎ］ｍ （１’）
（式（１’）中、ｎは２又は３の整数を表し、ｍは自然数を表す。Ｌ１は下記式（２’）で表される配位子及びＬ２は下記式（３’）で表される配位子を表す。）
（式（２’）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。Ｒ４及びＲ４’はそれぞれ独立して、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、アシル基、置換シリル基又はニトロ基を表す。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ４’、Ｒ４’とＲ３’、Ｒ３’とＲ２’ 又はＲ２’とＲ１’とは結合して環を形成してもよい。
式（３’）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ８’、Ｒ８’とＲ７’、Ｒ７’とＲ６’又はＲ６’とＲ５’とは結合して環を形成してもよい。）
［５］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物の光学異性体混合物を、下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
（式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１’、Ｒ２’及びＲ３’はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、飽和もしくは不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。Ｒ４及びＲ４’はそれぞれ独立して、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、アシル基、置換シリル基又はニトロ基を表す。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ４’、Ｒ４’とＲ３’、Ｒ３’とＲ２’ 又はＲ２’とＲ１’とは結合して環を形成してもよい。）
で表される軸不斉光学活性体ビアリールジオール化合物１．０当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表される軸不斉光学活性体ビアリールジオール化合物１．０〜１．３当量と下記一般式（３）
（式（３）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８，Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ’８、Ｒ８’とＲ７’、Ｒ７’とＲ６’又はＲ６’とＲ５’とは結合して環を形成してもよい。）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体の存在下に閉環反応させ、閉環して生成する化合物の光学異性体の比率、又は閉環せずに残存する化合物の光学異性体の比率を豊富化させることを特徴とする光学活性化合物の製造方法。
［６］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物が下記一般式（４）で表される化合物である前記［５］に記載の製造方法。
（式（４）中、ｎ２は１又は２の整数を表す。Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基又は保護基で保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。波線はＥ又はＺ配置を表す。）
［７］閉環して生成する化合物が下記一般式（５）で表される化合物である前記［５］に記載の製造方法。
（式（５）中、ｎ２は１又は２の整数を表す。Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基又は保護基で保護されていてもよい水酸基を表し、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５はそれぞれ独立してそのいずれもが、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。波線はＥ又はＺ配置を表す。）
［８］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物がラセミシトロネラール又は光学活性シトロネラールであり、閉環して生成する化合物が光学活性イソプレゴールである前記［５］に記載の製造方法。
［９］光学活性イソプレゴールがｌ−イソプレゴールである前記［８］に記載の製造方法。
［１０］光学活性シトロネラールがｌ−シトロネラールである前記［８］に記載の製造方法。
［１］下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
で表されるビアリールジオール化合物１．５当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物１．１〜１．３当量と下記一般式（３）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体。
［２］一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物が軸不斉光学活性体である前記［１］に記載のアルミニウム錯体。
［３］一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物及び一般式（３）で表されるビアリールジオール化合物が共に軸不斉光学活性体である前記［２］に記載のアルミニウム錯体。
［４］下記一般式（１’）で表される前記［１］〜［３］のいずれかに記載のアルミニウム錯体。
［Ａｌ２（Ｌ１）ｎ（Ｌ２）３−ｎ］ｍ （１’）
（式（１’）中、ｎは２又は３の整数を表し、ｍは自然数を表す。Ｌ１は下記式（２’）で表される配位子及びＬ２は下記式（３’）で表される配位子を表す。）
式（３’）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ８’、Ｒ８’とＲ７’、Ｒ７’とＲ６’又はＲ６’とＲ５’とは結合して環を形成してもよい。）
［５］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物の光学異性体混合物を、下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
で表される軸不斉光学活性体ビアリールジオール化合物１．０当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表される軸不斉光学活性体ビアリールジオール化合物１．０〜１．３当量と下記一般式（３）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体の存在下に閉環反応させ、閉環して生成する化合物の光学異性体の比率、又は閉環せずに残存する化合物の光学異性体の比率を豊富化させることを特徴とする光学活性化合物の製造方法。
［６］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物が下記一般式（４）で表される化合物である前記［５］に記載の製造方法。
［７］閉環して生成する化合物が下記一般式（５）で表される化合物である前記［５］に記載の製造方法。
［８］同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物がラセミシトロネラール又は光学活性シトロネラールであり、閉環して生成する化合物が光学活性イソプレゴールである前記［５］に記載の製造方法。
［９］光学活性イソプレゴールがｌ−イソプレゴールである前記［８］に記載の製造方法。
［１０］光学活性シトロネラールがｌ−シトロネラールである前記［８］に記載の製造方法。
本発明によれば、同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物の光学異性体混合物を閉環反応させた場合に、閉環して生成する化合物のみならず、閉環せずに残存する化合物の光学異性体の比率を豊富化させることができ、光学純度が高められた目的の光学活性アルコール若しくは光学活性オレフィンアルデヒドを得ることができる。
以下、本発明のアルミニウム錯体について更に詳細に説明する。
本発明におけるアルミニウム錯体の調製に用いる一般式（１）で表されるアルミニウム化合物（１）において、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。
Ｌｇにおけるアルキル基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。
Ｌｇにおけるアルコキシ基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルコキシ基が好ましい。
Ｌｇにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
本発明におけるアルミニウム錯体の調製に用いる一般式（１）で表されるアルミニウム化合物（１）において、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。
Ｌｇにおけるアルキル基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。
Ｌｇにおけるアルコキシ基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルコキシ基が好ましい。
Ｌｇにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
一般式（２）及び（３）で表されるビアリールジオール化合物及びそれから誘導される一般式（２’）及び（３’）で表される配位子において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１’、Ｒ２’、Ｒ３’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８，Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基、アシル基、置換シリル基又はポリマー鎖を表す。Ｒ４及びＲ４’はそれぞれ独立して、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、飽和又は不飽和炭素鎖、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基、アシル基、置換シリル基又はニトロ基を表す。また、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ４’、Ｒ４’とＲ３’、Ｒ３’とＲ２’ 又はＲ２’とＲ１’とは結合して環を形成してもよい。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ６とＲ７、Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ８’、Ｒ８’とＲ７’、Ｒ７’とＲ６’又はＲ６’とＲ５’とは結合して環を形成してもよい。
一般式（２）及び（３）で表されるビアリールジオール化合物において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１’、Ｒ２’、Ｒ３’、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８，Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’で表される基について説明する。
飽和又は不飽和炭素鎖としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の環状のアルキル基；エチニル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等のアルケニル基及びアルキニル基等が挙げられる。
飽和又は不飽和炭素鎖としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖又は分岐の炭素数１〜６のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の環状のアルキル基；エチニル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等のアルケニル基及びアルキニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基に置換する置換基としては、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルコキシ基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基に置換する置換基としては、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数１〜４の直鎖又は分岐のアルコキシ基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい複素環基としては、例えば、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基等の脂肪族複素環基；フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の芳香族複素環基が挙げられる。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられ、アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、１−フェネチル基等が挙げられる。
保護基で保護されていてもよいカルボキシル基としては、例えば、カルボキシル基；メトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられ、アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、１−フェネチル基等が挙げられる。
保護基で保護されていてもよいカルボキシル基としては、例えば、カルボキシル基；メトキシカルボニル基等の炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。
置換アミノ基としては、例えばＮ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基；アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等のアシルアミノ基等が挙げられる。
アシル基としては、脂肪族又は芳香族のアシル基が挙げられ、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ｏ−，ｍ−，ｐ−トルオイル基、ｐ−ニトロベンゾイル基、トリフルオロアセチル基等が挙げられる。
置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ（ｐ−トリル）シリル基、ジメチルフェニルシリル基等が挙げられる。
ポリマー鎖としては、６，６−ナイロン鎖、ビニルポリマー鎖、スチレンポリマー鎖等のポリマー鎖が挙げられる。
置換シリル基としては、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ（ｐ−トリル）シリル基、ジメチルフェニルシリル基等が挙げられる。
ポリマー鎖としては、６，６−ナイロン鎖、ビニルポリマー鎖、スチレンポリマー鎖等のポリマー鎖が挙げられる。
本発明のアルミニウム錯体の調製法としては、式（１’）においてｎ＝３の場合は、例えば炭化水素（ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）又はハロゲン化炭化水素（ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモトルエン等）等の不活性有機溶媒中で、一般式（１）のアルミニウム化合物と一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物を１．５〜５倍モル、より好ましくは１．５〜２倍モルを、−３０〜６０℃の温度範囲で、好ましくは−１０〜４０℃で、より好ましくは０〜３０℃で、０．２５〜３０時間、好ましくは０．５〜２時間反応させることにより容易に合成できる。アルミニウム化合物（１）及び一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物は不活性有機溶媒で希釈された溶液を用いてもよく、一方の溶液を他方の溶液に一度に添加してもゆっくり滴下してもよい。
ｎ＝２の場合は、ｎ＝３の場合と同様の不活性有機溶媒中で、式（１）のアルミニウム化合物と１．１〜１．３倍モルの式（２）のビアリールジオール化合物とを、温度範囲−３０〜６０℃で、好ましくは−１０〜４０℃で、より好ましくは０〜３０℃で０．２５〜３０時間、好ましくは０．５〜２時間反応させる。更に０．４当量以上の式（３）のビアリールジオール化合物を、温度範囲−３０〜６０℃で、好ましくは−１０〜４０℃で、より好ましくは０〜３０℃で、先に反応させた式（１）のアルミニウム化合物と式（２）のジオール化合物との混合溶液中に加え、０．２５〜３０時間、好ましくは０．５〜２時間反応させることにより容易に合成できる。式（３）のビアリールジオール化合物は、直接溶液に添加を行っても、溶媒にて希釈し添加を行っても良く、溶液に直接添加しても、ゆっくり滴下してもよい。また、式（１）のアルミニウム化合物と式（２）のビアリールジオール化合物の反応溶液に式（３）のビアリールジオール化合物を添加しても、該反応溶液を式（３）のビアリールジオール化合物に添加しても良い。式（２）のビアリールジオール化合物と式（３）のビアリールジオール化合物は必ずアルミニウム化合物（１）に別々に反応させるのが好ましい。同時に添加することを避けるのが好ましい。
本発明の式（２）及び式（３）で表されるビアリールジオール化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
続いて、本発明の選択的閉環反応に用いられる一般式（４）及び（５）で表される化合物について説明する。
一般式（４）及び（５）で表される化合物において、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５で表される置換基を有していてもよいアルキル基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
これらアルキル基に置換する置換基としては、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。
また、Ｒ１１で表される保護基で保護されていてもよい水酸基の保護基としては、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基等のアシル基；ベンジル基等のアラルキル基；トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等の置換シリル基等が挙げられる。
一般式（４）及び（５）で表される化合物において、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５で表される置換基を有していてもよいアルキル基としては、直鎖又は分岐の炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
これらアルキル基に置換する置換基としては、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基、トリル基等のアリール基等が挙げられる。
また、Ｒ１１で表される保護基で保護されていてもよい水酸基の保護基としては、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基等のアシル基；ベンジル基等のアラルキル基；トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等の置換シリル基等が挙げられる。
続いて本発明の製造方法である光学異性体比を豊富化させる選択的閉環反応について、ビアリールジオール化合物として１，１’−ビ−２−ナフトール（BINOL）を用いたアルミニウム錯体を用い、シトロネラールの閉環反応によるイソプレゴールの製造を例に挙げて説明すると以下の通りである。
ただし、以下に示す例は本発明をわかりやすく説明するものであり、本発明はこの基質及び生成物に限定されるものではない。
（スキーム中、＊は不斉炭素を表す。）
すなわち、低程度から中程度の光学純度を有するシトロネラールを本発明のアルミニウム−光学活性ビナフトール錯体を触媒としてエナンチオ選択的に閉環反応を行うことにより、基質のシトロネラールの光学純度より高い光学純度を有したイソプレゴール及びシトロネラールが生成する。
本発明の閉環反応に使用されるアルミニウム錯体の量は、特に限定されないが、シトロネラールに対して、アルミニウム１モル原子量換算で、通常０．０５〜１０モル％、好ましくは０．５〜５モル％、更に好ましくは０．７〜２モル％である。
本発明の閉環反応に使用されるアルミニウム錯体の調製方法は、例えば以下の通りである。
（ａ）予め、反応系中において式（１）のアルミニウム化合物１当量と式（２）で表されるビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体１．０当量以上とを混合、又は式（２）のビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体１．０〜１．３当量を反応させた後に、式（３）で表されるビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体又はラセミ体０．４〜１．０当量とを混合して錯体を調製した後、シトロネラールを加える方法（in situ法）。
（ｂ）予め、上記のように調製された錯体を閉環反応時にシトロネラールとそれぞれ単独に加える方法。
これら（ａ）及び（ｂ）の何れかの方法によっても通常は同等の結果が得られる。
（ａ）予め、反応系中において式（１）のアルミニウム化合物１当量と式（２）で表されるビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体１．０当量以上とを混合、又は式（２）のビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体１．０〜１．３当量を反応させた後に、式（３）で表されるビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体又はラセミ体０．４〜１．０当量とを混合して錯体を調製した後、シトロネラールを加える方法（in situ法）。
（ｂ）予め、上記のように調製された錯体を閉環反応時にシトロネラールとそれぞれ単独に加える方法。
これら（ａ）及び（ｂ）の何れかの方法によっても通常は同等の結果が得られる。
閉環反応の温度は、特に限定されないが、通常−３０〜５０℃であり、好ましくは−１０〜３０℃であり、０〜２０℃が更に好ましく、前記の温度を保ちながら通常０．２５〜３０時間、好ましくは０．５〜２０時間反応させることによって、イソプレゴールを円滑に製造することができる。
本発明における反応は、無溶媒条件下又は不活性溶媒存在下で行うことができる。使用される溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶媒であればよく、特に限定するものではないが、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモトルエン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル等が挙げられる。これらのうちより好ましくは、トルエン、ヘプタン等の脂肪族又は芳香族炭化水素である。
これら溶媒の使用量は、シトロネラールに対して通常０〜２０倍量、好ましくは０．５〜７倍量の範囲である。閉環反応は、窒素ガス又はアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが閉環反応の円滑な進行のために好ましい。
反応終了後は、蒸留、晶析、各種クロマトグラフィー等通常の後処理を単独又は組み合わせることにより反応生成体を精製することができる。また、例えばイソプレゴールの精製においては、深冷分離を行う事なく、単に蒸留による処理を行うことによって高純度のイソプレゴールを得ることができる。更に、蒸留処理後の残留物を酸又はアルカリにて通常の処理を行い、アルミニウムを含む不純物等を除去し、晶析を行うことで配位子の再利用が可能である。
以下、本発明を比較例および実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
生成物の測定は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により行った。条件は以下に述べる通りである。
使用分析機器：Ｇ５０００（Hitachi）
カラム： 転化率測定 ＢＣ−ＷＡＸ(0.25mm x 30 m)（GL Science）、
光学純度 β−ＤＥＸ２２５(0.25mm x 30m)(SPELCO)、
β−ＤＥＸ３２５(0.25mm x 30m)(SPELCO)
検出器：ＦＩＤ
なお、実施例において使用した各シトロネラールの光学純度は以下の通り。
ｄ−シトロネラール：９７．８％e.e.
ｌ−シトロネラール：９６．６％e.e.
ラセミ体シトロネラール：０．７４％e.e.
生成物の測定は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により行った。条件は以下に述べる通りである。
使用分析機器：Ｇ５０００（Hitachi）
カラム： 転化率測定 ＢＣ−ＷＡＸ(0.25mm x 30 m)（GL Science）、
光学純度 β−ＤＥＸ２２５(0.25mm x 30m)(SPELCO)、
β−ＤＥＸ３２５(0.25mm x 30m)(SPELCO)
検出器：ＦＩＤ
なお、実施例において使用した各シトロネラールの光学純度は以下の通り。
ｄ−シトロネラール：９７．８％e.e.
ｌ−シトロネラール：９６．６％e.e.
ラセミ体シトロネラール：０．７４％e.e.
（実施例１）アルミニウム錯体の調製及びｌ−イソプレゴールの合成
窒素雰囲気、２００ｍｌ反応フラスコに（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１．３１ｇ（４．５９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・ヘキサン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）３ｍｌ(３ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌した後、溶媒を留去して無色〜薄オレンジ色の固体１．４０ｇを得た。この固体を、塩化メチレン／ヘキサンを用いて再沈殿させ、得られた生成物の１Ｈ−ＮＭＲは以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：６．８６−７．２６（ｍ，２４Ｈ），７．６８−７．９３（ｍ，１２Ｈ）
また、ＮＭＲチャートを〔図１〕に、低磁場側を拡大したものを〔図２〕に示す。
上記で得られた固体２７０ｍｇを０〜５℃に冷却したｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）に添加し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌとトルエン２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率８１．１％、ｌ−イソプレゴール選択率は９４．０％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９６．１：３．９であった。
窒素雰囲気、２００ｍｌ反応フラスコに（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１．３１ｇ（４．５９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・ヘキサン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）３ｍｌ(３ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌した後、溶媒を留去して無色〜薄オレンジ色の固体１．４０ｇを得た。この固体を、塩化メチレン／ヘキサンを用いて再沈殿させ、得られた生成物の１Ｈ−ＮＭＲは以下の通りである。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：６．８６−７．２６（ｍ，２４Ｈ），７．６８−７．９３（ｍ，１２Ｈ）
また、ＮＭＲチャートを〔図１〕に、低磁場側を拡大したものを〔図２〕に示す。
上記で得られた固体２７０ｍｇを０〜５℃に冷却したｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）に添加し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌとトルエン２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率８１．１％、ｌ−イソプレゴール選択率は９４．０％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９６．１：３．９であった。
（実施例２）ｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌して触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９８．５％、ｌ−イソプレゴール選択率は９３．８％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９８．３：１．７であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌して触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９８．５％、ｌ−イソプレゴール選択率は９３．８％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９８．３：１．７であった。
（実施例３）ｌ−イソプレゴールの合成
実施例２における（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトールの代わりに（Ｓ）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル２２９ｍｇを用いて、実施例２と同様の実験を行った結果、基質転化率３７．４％、ｌ−イソプレゴール選択率は１００％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は７３．６：２６．４であった。
実施例２における（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトールの代わりに（Ｓ）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル２２９ｍｇを用いて、実施例２と同様の実験を行った結果、基質転化率３７．４％、ｌ−イソプレゴール選択率は１００％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は７３．６：２６．４であった。
（実施例４）ｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２．９ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．０５ｍｌ(０．０５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で２０時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．９％、ｌ−イソプレゴール選択率は９２．５％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．０：３．０であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２．９ｍｇ（０．０８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．０５ｍｌ(０．０５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で２０時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．９％、ｌ−イソプレゴール選択率は９２．５％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．０：３．０であった。
（実施例５）ｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を減圧濃縮して固化させ、白色〜薄黄色の固体を得た。得られた固体を窒素雰囲気下にて速やかに０〜５℃に冷却したｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）とトルエン４．６ｍｌの混合溶液に加え、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．４％、ｌ−イソプレゴール選択率は９３．０％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９６．９：３．１であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を減圧濃縮して固化させ、白色〜薄黄色の固体を得た。得られた固体を窒素雰囲気下にて速やかに０〜５℃に冷却したｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）とトルエン４．６ｍｌの混合溶液に加え、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．４％、ｌ−イソプレゴール選択率は９３．０％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９６．９：３．１であった。
（実施例６）ｄ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｌ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．８％、ｄ−イソプレゴール選択率は９５．７％で、ｄ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．２：２．８であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｌ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率９４．８％、ｄ−イソプレゴール選択率は９５．７％で、ｄ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．２：２．８であった。
（実施例７）ｄ−イソプレゴールの合成
実施例６における（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトールの代わりに（Ｒ）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル２２９ｍｇを用いて、実施例６と同様の実験を行った結果、基質転化率５１．２％、ｄ−イソプレゴール選択率は８４．９％で、ｄ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は６２．９：３７．１であった。
実施例６における（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトールの代わりに（Ｒ）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル２２９ｍｇを用いて、実施例６と同様の実験を行った結果、基質転化率５１．２％、ｄ−イソプレゴール選択率は８４．９％で、ｄ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は６２．９：３７．１であった。
（実施例８）ラセミシトロネラールからｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４８．９％、イソプレゴール選択率は９５．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は５３．６％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は６７．７％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４８．９％、イソプレゴール選択率は９５．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は５３．６％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は６７．７％e.e.であった。
（実施例９）ｌ−イソプレゴールの合成
３００ｍｌ反応フラスコに（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２．２９ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン１１６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）５ｍｌ(５．０ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール３８．６ｇ（２５０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、０〜５℃で９時間撹拌した。反応終了後、トルエンを減圧濃縮し、そのまま１１０℃〜１１５℃、２．９３ｋＰａ〜３．３３ｋＰａ（２２〜２５ｍｍＨｇ）にて蒸留操作を行い、収率８０．３％で目的のｌ−イソプレゴール３１．０ｇを得た。ＧＣで分析した結果、純度９９．０％、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９８．７：１．３であった。
また、蒸留後の残留物をトルエンで希釈し、硫酸水にて洗浄後濃縮し、トルエン／ヘプタン溶液で晶析を行い、回収（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１．６５ｇを得た。回収ＢＩＮＯＬを用いて実施例１と同じ反応を行った結果、基質転化率９５．１％、ｌ−イソプレゴール選択率は９９．２％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．５：２．５であった。
３００ｍｌ反応フラスコに（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２．２９ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン１１６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）５ｍｌ(５．０ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール３８．６ｇ（２５０ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、０〜５℃で９時間撹拌した。反応終了後、トルエンを減圧濃縮し、そのまま１１０℃〜１１５℃、２．９３ｋＰａ〜３．３３ｋＰａ（２２〜２５ｍｍＨｇ）にて蒸留操作を行い、収率８０．３％で目的のｌ−イソプレゴール３１．０ｇを得た。ＧＣで分析した結果、純度９９．０％、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９８．７：１．３であった。
また、蒸留後の残留物をトルエンで希釈し、硫酸水にて洗浄後濃縮し、トルエン／ヘプタン溶液で晶析を行い、回収（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１．６５ｇを得た。回収ＢＩＮＯＬを用いて実施例１と同じ反応を行った結果、基質転化率９５．１％、ｌ−イソプレゴール選択率は９９．２％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は９７．５：２．５であった。
（実施例１０）ｄ体過剰シトロネラールからｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、６０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で３時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率７１．１％、イソプレゴール選択率は９９．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は８．９０％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は９１．０％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、６０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で３時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率７１．１％、イソプレゴール選択率は９９．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は８．９０％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は９１．０％e.e.であった。
（実施例１１）ｄ体過剰シトロネラールからｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、２０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で２時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率６１．７％、イソプレゴール選択率は９９．５％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は６０．８％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は７６．４％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、２０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で２時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率６１．７％、イソプレゴール選択率は９９．５％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は６０．８％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は７６．４％e.e.であった。
（実施例１２）ｄ体過剰シトロネラールの光学純度向上
５０ｍｌシュレンク管に（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、６０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で３時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率２９．４％、イソプレゴール選択率は９８．９％で、ｄ−シトロネラールのエナンチオ選択率は８４．３％e.e.、ｄ -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は２３．７％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２５８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン５．８ｍｌ、トルエン５．８ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、６０％ｅｅシトロネラール（ｄ体過剰）３．８６g（２５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で３時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率２９．４％、イソプレゴール選択率は９８．９％で、ｄ−シトロネラールのエナンチオ選択率は８４．３％e.e.、ｄ -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は２３．７％e.e.であった。
（実施例１３〜２０）アルミニウム触媒によるｌ−イソプレゴールの合成
種々のビアリールジオールを用いた結果を以下に示す。反応条件は５０ｍｌシュレンク管に所定当量の一般式（２）のビアリールジオール化合物（Ｌ１Ｈ２）を入れ、窒素置換した後、溶媒４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌するか、又は一般式（３）のビアリールジオール化合物（Ｌ２Ｈ２）を所定当量加えて室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した。
表中、conv.はシトロネラールの転化率を、sel.はイソプレゴールへの選択率を、n-sel.はｎ−イソプレゴールの選択率をそれぞれ表す。（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ、（Ｒ）−Ｈ８−ＢＩＮＯＬ、ＢＩＰＯＬ、（Ｒ）−ＤｉＢｒ−Ｈ８−ＢＩＮＯＬはそれぞれ以下の化合物を表す。
種々のビアリールジオールを用いた結果を以下に示す。反応条件は５０ｍｌシュレンク管に所定当量の一般式（２）のビアリールジオール化合物（Ｌ１Ｈ２）を入れ、窒素置換した後、溶媒４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌するか、又は一般式（３）のビアリールジオール化合物（Ｌ２Ｈ２）を所定当量加えて室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した。
表中、conv.はシトロネラールの転化率を、sel.はイソプレゴールへの選択率を、n-sel.はｎ−イソプレゴールの選択率をそれぞれ表す。（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ、（Ｒ）−Ｈ８−ＢＩＮＯＬ、ＢＩＰＯＬ、（Ｒ）−ＤｉＢｒ−Ｈ８−ＢＩＮＯＬはそれぞれ以下の化合物を表す。
（実施例２１）ラセミシトロネラールからｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１２９ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン２ｍｌ、トルエン２ｍｌ、トリメチルアルミニウム・ヘキサン溶液（１．４ｍｏｌ／Ｌ）０．１８ｍｌ(０．２５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて７時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール１．９３g（１２．５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４６．５％、イソプレゴール選択率は８７．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は４３．８％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は７６．０％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１２９ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン２ｍｌ、トルエン２ｍｌ、トリメチルアルミニウム・ヘキサン溶液（１．４ｍｏｌ／Ｌ）０．１８ｍｌ(０．２５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて７時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール１．９３g（１２．５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４６．５％、イソプレゴール選択率は８７．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は４３．８％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は７６．０％e.e.であった。
（実施例２２）ラセミシトロネラールからｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビ−２−ナフトール１７８ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン９ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．４ｍｌ(０．４ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール３．０９g（２０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で５時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率５０．５％、イソプレゴール選択率は６１．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は１５．６％e.e.、l −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は２６．３％e.e.であった。
（Ｒ）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビ−２−ナフトールを２８５ｍｇ（０．６４ｍｍｏｌ）用いた場合、９時間撹拌後の基質転化率は４２．８％、イソプレゴール選択率は９２．７％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は２３．３％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は４２．６％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビ−２−ナフトール１７８ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン９ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．４ｍｌ(０．４ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール３．０９g（２０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で５時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率５０．５％、イソプレゴール選択率は６１．６％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は１５．６％e.e.、l −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は２６．３％e.e.であった。
（Ｒ）−３，３’−ジブロモ−１，１’−ビ−２−ナフトールを２８５ｍｇ（０．６４ｍｍｏｌ）用いた場合、９時間撹拌後の基質転化率は４２．８％、イソプレゴール選択率は９２．７％で、ｌ−シトロネラールのエナンチオ選択率は２３．３％e.e.、l -ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は４２．６％e.e.であった。
（実施例２３）ラセミシトロネラールからｄ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−３，３’−ビス（トリフェニルシリル）−１，１’−ビ−２−ナフトール２１４ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン７ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．３ｍｌ(０．３ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール２．３１g（１５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率５５．３％、イソプレゴール選択率は７１．９％で、ｄ-シトロネラールのエナンチオ選択率は７．２０％e.e.、ｄ −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は１４．６％e.e.であった。
（Ｒ）−３，３’−ビス（トリフェニルシリル）−１，１’−ビ−２−ナフトールを３８６ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）用いた場合、１時間撹拌後の基質転化率は５５．０％、イソプレゴール選択率は７０．３％で、ｄ−シトロネラールのエナンチオ選択率は６．４３％e.e.、ｄ −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は１７．０％e.e.であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−３，３’−ビス（トリフェニルシリル）−１，１’−ビ−２−ナフトール２１４ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン７ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．３ｍｌ(０．３ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ラセミ体シトロネラール２．３１g（１５ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率５５．３％、イソプレゴール選択率は７１．９％で、ｄ-シトロネラールのエナンチオ選択率は７．２０％e.e.、ｄ −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は１４．６％e.e.であった。
（Ｒ）−３，３’−ビス（トリフェニルシリル）−１，１’−ビ−２−ナフトールを３８６ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）用いた場合、１時間撹拌後の基質転化率は５５．０％、イソプレゴール選択率は７０．３％で、ｄ−シトロネラールのエナンチオ選択率は６．４３％e.e.、ｄ −ｎ−イソプレゴールのエナンチオ選択率は１７．０％e.e.であった。
（比較例１〜４）アルミニウム化合物として水素化リチウムアルミニウムを用いたシトロネラールの閉環反応によるイソプレゴールの製造
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ、１．６ｅｑ）又は３００ｍｇ（１．０５ｍｍｏｌ、２．１ｅｑ）を入れ、窒素置換した後、溶媒４．６ｍｌ、水素化リチウムアルミニウム１９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌して触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果を以下に示す。表中、conv.はｄ−シトロネラールの転化率を、sel.はｌ−イソプレゴールへの選択率をそれぞれ表す。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ、１．６ｅｑ）又は３００ｍｇ（１．０５ｍｍｏｌ、２．１ｅｑ）を入れ、窒素置換した後、溶媒４．６ｍｌ、水素化リチウムアルミニウム１９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌して触媒溶液を得た。得られた触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果を以下に示す。表中、conv.はｄ−シトロネラールの転化率を、sel.はｌ−イソプレゴールへの選択率をそれぞれ表す。
（比較例５）配位子を同時添加したl−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１４３ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）及び２，２’−ビフェノール５５．９ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて２時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４２．３％、ｌ−イソプレゴール選択率は９６．２％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は８７．２：１２．８であった。
５０ｍｌシュレンク管に（Ｒ）−１，１’−ビ−２−ナフトール１４３ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）及び２，２’−ビフェノール５５．９ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、塩化メチレン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて２時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率４２．３％、ｌ−イソプレゴール選択率は９６．２％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は８７．２：１２．８であった。
（比較例６）ラセミ体の１，１’−ビ−２−ナフトールをアルミニウム触媒に用いたｌ−イソプレゴールの合成
５０ｍｌシュレンク管に１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率２２．７％、ｌ−イソプレゴール選択率は６２．８％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は７０．２：２９．８であった。
５０ｍｌシュレンク管に１，１’−ビ−２−ナフトール２２９ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ）を入れ、窒素置換した後、トルエン４．６ｍｌ、トリエチルアルミニウム・トルエン溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌ(０．５ｍｍｏｌ)を順次加え、室温にて１時間撹拌し触媒溶液を得た。触媒溶液を０〜５℃に冷却した後、ｄ−シトロネラール１．５４g（１０ｍｍｏｌ）を滴下し、０〜５℃で１時間撹拌した。反応終了後、水２ｍｌを加えて、有機層をＧＣで分析した結果、基質転化率２２．７％、ｌ−イソプレゴール選択率は６２．８％で、ｌ−イソプレゴールとその他の異性体の比率は７０．２：２９．８であった。
Claims (10)
- 下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
で表されるビアリールジオール化合物１．５当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物１．１〜１．３当量と下記一般式（３）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体。 - 一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物が軸不斉光学活性体である請求項１に記載のアルミニウム錯体。
- 一般式（２）で表されるビアリールジオール化合物及び一般式（３）で表されるビアリールジオール化合物が共に軸不斉光学活性体である請求項２に記載のアルミニウム錯体。
- 下記一般式（１’）で表される請求項１〜３のいずれかに記載のアルミニウム錯体。
［Ａｌ２（Ｌ１）ｎ（Ｌ２）３−ｎ］ｍ （１’）
（式（１’）中、ｎは２又は３の整数を表し、ｍは自然数を表す。Ｌ１は下記式（２’）で表される配位子及びＬ２は下記式（３’）で表される配位子を表す。）
式（３’）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８，Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ７’及びＲ８’はそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子を表すか、又はＲ７とＲ８、及びＲ８’とＲ７’とが結合してベンゼン環又は水素化されたベンゼン環を形成する。） - 同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物の光学異性体混合物を、下記一般式（１）
Ａｌ（Ｌｇ）３ （１）
（式（１）中、Ｌｇは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。）
で表されるアルミニウム化合物１当量と下記一般式（２）
で表されるビアリールジオール化合物の軸不斉光学活性体１．０当量以上とを、又は上記一般式（１）で表されるアルミニウム化合物１当量と上記一般式（２）で表される軸不斉光学活性体ビアリールジオール化合物１．０〜１．３当量と下記一般式（３）
で表されるビアリールジオール化合物０．４当量以上とを反応させて得られるアルミニウム錯体の存在下に閉環反応させ、閉環して生成する化合物の光学異性体の比率、又は閉環せずに残存する化合物の光学異性体の比率を豊富化させることを特徴とする光学活性化合物の製造方法。 - 同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物が下記一般式（４）で表される化合物である請求項５に記載の製造方法。
- 閉環して生成する化合物が下記一般式（５）で表される化合物である請求項５に記載の製造方法。
- 同一分子内にカルボニル−エン閉環反応を行い得るホルミル基と二重結合とを有する化合物がラセミシトロネラール又は光学活性シトロネラールであり、閉環して生成する化合物が光学活性イソプレゴールである請求項５に記載の製造方法。
- 光学活性イソプレゴールがl−イソプレゴールである請求項８に記載の製造方法。
- 光学活性シトロネラールがl−シトロネラールである請求項８に記載の製造方法。
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