JP5416175B2 - エタロンフィルタの製造方法 - Google Patents
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ΔFSR=FSR1−FSR0 (I)
ただし、FSR0は、厚みdtの前記基板に前記第1反射膜及び前記第2反射膜が設けられていない場合におけるFSRであり、FSR1は、厚みdtの前記基板に複数の薄膜の組み合わせが前記第1反射膜及び前記第2反射膜として設けられている場合におけるFSRである。
図1(a)は、本発明の実施形態に係るエタロンフィルタ1を模式的に示す側面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、従来技術若しくは比較例についてもエタロンフィルタ1に係る符号を付すことがある。
ここで、本願発明者は、エタロンフィルタ1の試作品におけるFSRの測定結果から、反射膜5の構成(材料、積層数、厚み等)が変化すると、FSRが変化することを発見した。一方、(1)式に示されるように、一般に、反射膜5の構成がFSRに影響を及ぼすことは認知されておらず、当然に、反射膜5の構成を考慮して、エタロンフィルタ1の各種設計値等に基づいてFSRを算出(予測)する方法は知られていない。
FSR=(νm−νm+L)/L
により求められてもよい。
以下では、具体的な材料や寸法を設定した実施例及び比較例等に関して、FSRの算出値や実測値を求めた結果を参照し、反射膜がFSRに及ぼす影響等について説明する。なお、この場合において、特に断りがない限り、入射角度は0°であり、波長範囲は1530〜1610nmであり、基板3は、水晶Zカット板により構成されているものとする。
図2は、反射膜5の複数の構成例(複数の薄膜7の組み合わせの複数の例)を示す図である。図2において、各列(縦の欄)は、各構成例に対応し、各行は、各構成例の特徴を示している。具体的には、以下のとおりである。
ΔFSR=FSR1−FSR0 (10)
ただし、FSR0は、厚みdの基板3に第1反射膜5A及び第2反射膜5Bが設けられていない場合におけるFSR、FSR1は、上記の厚みdの基板に第1反射膜5A及び第2反射膜5Bが設けられている場合におけるFSRである。
以上の知見を踏まえ、本実施形態では、以下のようにエタロンフィルタ1を製造することにより、高精度なFSRの調整を好適に行う。
以下では、実施形態の製造方法の妥当性について説明する。
ΔFSR12=(ΔFSR1+ΔFSR2)/2
となった。
図10は、エタロンフィルタ1の応用例を示すブロック図である。
Claims (5)
- 基板と、当該基板の入出射面に配置された第1反射膜及び第2反射膜とを有し、前記第1反射膜及び前記第2反射膜それぞれが、複数の薄膜が積層されて構成されているエタロンの製造方法であって、
前記基板の設計上の厚みdtを決定するステップと、
前記第2反射膜を構成する、設計上の前記複数の薄膜の組み合わせについて、下記(I)式により算出されるΔFSRが互いに異なる複数の候補を用意するステップと、
前記基板を形成するステップと、
前記基板の実際の厚みdrを測定するステップと、
前記第1反射膜を形成するステップと、
厚みdtと厚みdrとの比較に基づいて厚みd r が厚みd t よりも小さい場合に選択される候補のΔFSRが厚みd r が厚みd t よりも大きい場合に選択される候補のΔFSRよりも小さくなるように前記複数の候補から一の候補を選択するステップと、
選択された候補の前記複数の薄膜の組み合わせで前記第2反射膜を形成するステップと、
を有するエタロンフィルタの製造方法。
ΔFSR=FSR1−FSR0 (I)
ただし、FSR0は、厚みdtの前記基板に前記第1反射膜及び前記第2反射膜が設けられていない場合におけるFSRであり、FSR1は、厚みdtの前記基板に複数の薄膜の組み合わせが前記第1反射膜及び前記第2反射膜として設けられている場合におけるFSRである。 - 前記複数の候補は、前記第1反射膜を構成する複数の薄膜の組み合わせよりもΔFSRが大きい1以上の候補と、前記第1反射膜を構成する複数の薄膜の組み合わせよりもΔFSRが小さい1以上の候補とを含み、
前記一の候補を選択するステップでは、測定された厚みdrが設計上の厚みdtよりも小さいときは、前記複数の候補のうち前記第1反射膜を構成する複数の薄膜の組み合わせよりもΔFSRが小さい候補を選択し、測定された厚みdrが設計上の厚みdtよりも大きいときは、前記複数の候補のうち前記第1反射膜を構成する複数の薄膜の組み合わせよりもΔFSRが大きい候補を選択する
請求項1に記載のエタロンフィルタの製造方法。 - FSR0及びFSR1が試作品の実測により得られている
請求項1又は2に記載のエタロンフィルタの製造方法。 - FSR0及びFSR1が、設計上の厚みdt及び設計上の複数の薄膜の組み合わせに基づいて、下記のFSR算出法により算出される
請求項1又は2に記載のエタロンフィルタの製造方法。
FSR算出法:
前記基板及び前記複数の薄膜をm層の媒質からなる多層構造体と捉え、j番目(1≦j≦m)の媒質の特性行列Mjを下記(II)及び(III)式により算出するものとする。
前記多層構造体の特性行列Mを下記(IV)式により算出するものとする。
そして、上記(II)〜(V)式において波長λを変数として算出される透過係数Tの極大値間の波長間隔からFSRを算出する。 - 前記複数の候補は、反射率が互いに同一である
請求項1〜4のいずれか1項に記載のエタロンフィルタの製造方法。
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JP2011163614A JP5416175B2 (ja) | 2011-07-26 | 2011-07-26 | エタロンフィルタの製造方法 |
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JP2007298968A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-11-15 | Fujitsu Ltd | 波長分散補償デバイス |
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2011
- 2011-07-26 JP JP2011163614A patent/JP5416175B2/ja not_active Expired - Fee Related
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