JP5410283B2 - 集光光学系 - Google Patents
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Description
− 光源102から中間焦点206までの間の距離 1500ミリメートル
− 中間焦点206における最大開口数 0.139 (8°)
− 光源102から光学系(104)までの最短距離 110 ミリメートル
− 鏡の厚さ 2 ミリメートル
− 入れ子配置の複数の鏡200、200’の個数 7
更にもう1つの問題点は、鏡の各々の設計の自由度数が制限されていることである。
前記集光光学系は、1枚以上の鏡を備えており、前記1枚の鏡または複数の鏡は、各々が前記放射線光源を通って延びる光軸を中心として対称性を示しているとともに、少なくとも第1反射面および第2反射面を有しており、前記第1反射面および前記第2反射面は共通した楕円面焦点及び双曲面焦点を有しており、
使用するときに、前記放射線光源からの放射光は、前記第1反射面および前記第2反射面において連続したかすめ入射の反射をされ、
前記第1反射面および前記第2反射面の共通した楕円面焦点及び双曲面焦点は、光軸に関して所定の距離 Δr だけ横断方向に片寄せされる集光光学系である。
鏡200および鏡200'の全体は、図6の断面を360度回転させることにより得られる。
このようなプロセスで、共通焦点304は光軸302を中心として半径 Δr の円を描く。図6の断面を回転させることにより得られる回転面は双曲面領域も楕円領域も含んでおらず、たとえ開始時に使用された断面に両領域、または、いずれか一方が含まれていたとしても、回転面には両領域とも含まれない。鏡200および鏡200'は各々を製造するのに適切な形状の芯材を採用した電鋳技術を利用するのが好適であるが、当業者には周知のとおりである。
Claims (14)
- 極紫外線応用機器やX線応用機器のための集光光学系において、放射光は放射線光源を出て集光されてから画像焦点に方向転換され、
前記集光光学系は、1枚以上の鏡を備えており、前記1枚の鏡または複数の鏡は、各々が前記放射線光源を通って延びる光軸を中心として対称性を示しているとともに、少なくとも第1反射面および第2反射面を有しており、前記第1反射面および前記第2反射面は共通した楕円面焦点及び双曲面焦点を有しており、
使用するときに、前記放射線光源からの放射光は、前記第1反射面および前記第2反射面において連続したかすめ入射の反射をされ、
前記第1反射面および前記第2反射面の共通した楕円面焦点及び双曲面焦点は、光軸に関して所定の距離 Δr だけ横断方向に片寄せされる、
ことを特徴とする、集光光学系。 - 前記所定の距離 Δr は、光軸と、前記画像焦点および前記共通の楕円面焦点及び双曲面を通る直線との間に設けられる角度が、1ミリラジアンから100ミリラジアンの範囲にあることを特徴とする、請求項1に記載の集光光学系。
- 前記角度は、10ミリラジアンから45ミリラジアンの範囲に入ることを特徴とする、請求項2に記載の集光光学系。
- 前記1枚の鏡または複数の鏡は各々が電鋳モノリシック構成部材として形成されており、前記第1反射面は1枚の鏡の2つの連続する領域のうちの一方に設けられており、前記第2反射面はその同じ鏡の連続領域の他方に設けられていることを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の集光光学系。
- 前記1枚の鏡または複数の鏡の各々について、
前記第1反射面は、前記放射線光源に最も近い位置にあって、双曲面形状を呈していることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の集光光学系。 - 前記1枚の鏡または複数の鏡の各々について、
前記第2反射面は、前記放射線光源から最も遠い位置にあって、或る軸線を中心として楕円形の側面形状を回転させることにより得られるが、前記軸線は楕円面領域の対称軸線とは異なっていることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の集光光学系。 - 複数の鏡が入れ子配置にして設けられていることを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の集光光学系。
- 前記鏡のうち2枚以上は各々が互いに異なる幾何学的形状を呈していることを特徴とする、請求項7に記載の集光光学系。
- 前記1枚以上の鏡には1個以上の鏡の熱管理用装置が取付けられており、取付け位置は前記鏡の背面側であり、前記1個以上の熱管理用装置は、冷却線、ペルチエ熱電池、および、温度センサーを含むことを特徴とする、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の集光光学系。
- 前記1枚以上の鏡には光源から出る埃を緩和する1個以上の装置が取付けられており、例えば、取付け位置は前記鏡の背面側であり、前記1個以上の埃を緩和する装置は、腐食検出装置、ソレノイド、および、高周波源などを含んでいることを特徴とする、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の集光光学系。
- 極紫外線製版に好適な集光光学系であって、請求項1から請求項10のいずれかに記載の光学系を含んでいることを特徴とする、集光光学系。
- 極紫外線製版システムであって、
レーザープラズマ(LPP)光源などのような放射線光源と、
請求項11に記載の集光光学系と、
光コンデンサと、
反射マスクと、
備えていることを特徴とする、システム。 - 極紫外線画像処理またはX線画像処理に好適な画像処理光学系であって、請求項1から請求項10のいずれかに記載の集光光学系を備えることを特徴とする、画像処理光学系。
- 極紫外線画像処理システムまたはX線画像処理システムであって、
請求項13に記載の画像処理光学系と、
電荷結合素子などのような画像処理装置とを備え、前記画像処理装置は画像合焦点に配置されることを特徴とする、システム。
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