JP5405544B2 - 電解によってゲルマンを生成する方法 - Google Patents
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Description
金属合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
上記管状ハウジングの内壁の一部である、金属M1を含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
二酸化ゲルマニウム(GeO2)、水酸化物M2OH及び電解液の溶媒を含有する電解水溶液を、上記陰極室及び上記陽極室に与える工程であって、上記金属合金の陰極及び上記陽極を、当該電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
上記陰極室を、上記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
上記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
上記陰極室で水素化物ガスとして生成するガスを、上記陰極ガス出口から解放する工程;及び
上記陽極室で生成するガスを、上記陽極ガス出口から解放する工程。
銅合金の陰極、スズ合金の陰極及びこれらの組合せの陰極からなる群より選択される金属合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
上記管状ハウジングの内壁の一部である、ニッケルを含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
二酸化ゲルマニウム(GeO2)、KOH及び脱イオン水を含有する電解水溶液を、上記陰極室及び上記陽極室に与える工程であって、上記金属合金の陰極及び上記陽極を、当該電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
上記陰極室を、上記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
上記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
上記陰極室で生成するガスを、上記陰極ガス出口から水素化物ガスとして解放する工程;及び
上記陽極室で生成するガスを、上記陽極ガス出口から解放する工程。
銅合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
上記管状ハウジングの内壁の一部である、ニッケルを含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
80〜170g/リットルの範囲の二酸化ゲルマニウム(GeO2)、60〜150g/リットルの範囲のKOH、及び脱イオン水を含有する電解水溶液を、上記陰極室及び上記陽極室に与える工程であって、上記銅合金の陰極及び上記陽極を、当該電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
上記陰極室を、上記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
上記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
上記陰極室で生成するガスを、上記陰極ガス出口から水素化物ガスとして解放する工程;及び
上記陽極室で生成するガスを、上記陽極ガス出口から解放する工程。
この電解液は、脱イオン水に溶解した145g/リットルのKOH及び100g/リットルのGeO2を含有していた。
例1に説明したものと同様に実験を行ったが、陰極として青銅544合金を用いた。
例1に説明したものと同様に実験を行ったが、陰極として銅を用いた。
330mAcm−2で、脱イオン水に溶解した95g/リットルのKOH及び45g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。青銅合金936を、電極として用いた。
例4に説明したものと同様に実験を行ったが、より低い電流密度の250mAcm−2で行った。
例4に説明したものと同様に実験を行ったが、より高い電流密度の500mAcm−2で行った。
330mAcm−2で、脱イオン水に溶解した95g/リットルのKOH及び60g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。生成ガス中のGeH4濃度は、12%であった。
330mAcm−2で、脱イオン水に溶解した263g/リットルのKOH及び60g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。生成ガス中のGeH4濃度は、5.5%であった。
330mAcm−2で、脱イオン水に溶解した196g/リットルのKOH及び42g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。生成ガス中のGeH4濃度は、7.5%であった。
330mAcm−2で、脱イオン水に溶解した196g/リットルのKOH及び56g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。生成ガス中のGeH4濃度は、8.1%であった。
例4に説明したものと同様に実験を行ったが、より低い温度の20℃で行った。生成ガス中のGeH4濃度は、6%であった。
例7に説明したものと同様に実験を行ったが、より高い温度の45℃で行った。生成ガス中のGeH4濃度は、12.3%であった。
脱イオン水に溶解した196g/リットルのKOH及び45g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。合金936を陰極として用いた。5Aの電流をセルに印加し、そして生成ガス中のGeH4濃度は、30℃で7.2%であった。電極表面にゲルマニウム堆積物は形成されなかった。
青銅合金932を陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、30℃で4.1%、及び60℃で7%であった。電極表面にゲルマニウム堆積物は形成されなかった。
Snを陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、9.8%であった。しかし、大量のゲルマニウム堆積物が、電極表面に形成された。
Pbを陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、30℃及び60℃で1.9%であった。大量のゲルマニウム堆積物が、電極表面に形成された。
Cuを陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、30℃で8.5%であった。電極表面にゲルマニウム堆積物は形成されなかった。
Niを陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、30℃で6.0%であり、大量のゲルマニウム堆積物の形成はなかった。
Monel(約70%のNi、約30%のCu)を陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、それぞれ30℃で3.5%及び60℃で7%であった。大量のゲルマニウム堆積物が、電極表面に形成された。
青銅合金510を陰極として用いて、例13に説明したものと同様に実験を行った。GeH4濃度は、30℃で3.8%及び60℃で6.1%であった。大量のゲルマニウム堆積物が、電極表面に形成された。
脱イオン水に溶解した196g/リットルのKOH及び56g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例1に説明したものと同様に実験を行った。青銅合金936を陰極として用いた。5Aの電流をセルに印加した。1日目のGeH4濃度は、8%であった。このセルの運転を終夜で停止し、次の日に再開した。2日目のGeH4濃度は6%、3日目は4%、そして4日目は3%であった。
脱イオン水に溶解した196g/リットルのKOH及び56g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、比較例21に説明したものと同様に実験を行った。青銅合金936を陰極として用いた。4日目の実験の終了後に、電極をセルから取り出し、そして研磨布で研磨し、リンスし、そしてセルに再挿入した。生成ガス中のGeH4濃度は、研磨の後に8%に向上した。
脱イオン水に溶解した比較的低い濃度のKOH(95g/リットルの)及び60g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、例21に説明したものと同様に実験を行った。1日目のGeH4濃度は、8%であった。このセルの運転を終夜で停止し、次の日に再開した。2日目のGeH4濃度は12%、3日目は11%、そして4日目は11.4%であった。
脱イオン水に溶解した185g/リットルのKOH及び37g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、比較例21に説明したものと同様に実験を行った。生成ガス中のGeH4濃度は、二日目におおよそ50%低下した。
脱イオン水に溶解した185g/リットルのKOH及び37g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、比較例24に説明したものと同様に実験を行った。1日目のセルの運転の後で、セルを停止し、そしてセルの上部空間を簡単にヘリウムでパージした。そして、電極を電解液から引き出して、セルを稼動する次の日まで、セル内の電解液の上部に維持した。生成ガス中のGeH4濃度は、2日目に4%の低下のみであった。
脱イオン水に溶解した235g/リットルのKOH及び71g/リットルのGeO2を含有する電解液を用いて、比較例21に説明したものと同様に実験を行った。1mmの孔を有する、外径0.5インチかつ内径0.48インチの合金936の中空管を、陰極として用いた。330mAcm−2の電流密度に対応する10Aの電流を、セルに印加した。そのGeH4濃度は、運転3日後で低下しなかった。
1.2NのHCl溶液34ccを、GeO2及びKOHを含有する10ccの電解水溶液に添加した。その酸の添加後の生成溶液のpHは、9.5であった。溶液のGeO2が沈殿し、そしてそれをろ過して秤量した。GeO2の重量に基づいて、電解液が103.6g/リットルのGeO2を含むことを特定した。また、電解溶液をpH7に滴定した後で、電解溶液が168g/リットルのKOHを含有していることも特定した。滴定によって特定された濃度は、誘導結合プラズマ質量分析を用いて得られたものとほぼ同一であり、それは電解液が、103.1g/リットルのGeO2及び168g/リットルのKOHを含有しているということを示した。
Claims (18)
- 次の工程を含む、分割電気化学セルでゲルマンを生成するための方法:
金属合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
金属M1を含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
二酸化ゲルマニウム(GeO2)、水酸化物M2OH及び電解液溶媒を含有する電解水溶液を、前記陰極室及び前記陽極室に与える工程であって、前記金属合金の陰極及び前記陽極を、前記電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
前記陰極室を、前記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
前記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
前記陰極室で生成するガスを、前記陰極ガス出口から水素化物ガスとして解放する工程;及び
前記陽極室で生成するガスを、前記陽極ガス出口から解放する工程、
ここで、前記金属合金は、銅基合金、スズ基合金及びこれらの組合せからなる群より選択され;M 1 は、ニッケル、プラチナ、銅及びこれらの組合せからなる群より選択される、陽極の酸素生成に適切な金属又は金属合金であり;M 2 OHは、KOH、NaOH、LiOH、CsOH及びこれらの組合せからなる群より選択される。 - 前記電解液溶媒が、脱イオン(DI)水、重水素化水(D2O)及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記電解水溶液中のGeO2は、30〜150g/リットルの範囲であり、且つ前記電解水溶液中のM2OHは、50〜350g/リットルの範囲である、請求項1又は2に記載の方法。
- GeO2及びM2OHの濃度を滴定法によって測定する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記金属合金の陰極は、中空であるか、又は複数の孔を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 次の工程を含む、分割電気化学セルでゲルマンを生成するための方法:
銅基合金の陰極、スズ基合金の陰極及びこれらの組合せの陰極からなる群より選択される金属合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
ニッケルを含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
二酸化ゲルマニウム(GeO2)、KOH及び脱イオン水を含有する電解水溶液を、前記陰極室及び前記陽極室に与える工程であって、前記金属合金の陰極及び前記陽極を、前記電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
前記陰極室を、前記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
前記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
前記陰極室で生成するガスを、前記陰極ガス出口から水素化物ガスとして解放する工程;及び
前記陽極室で生成するガスを、前記陽極ガス出口から解放する工程。 - 前記金属合金は、60%超の銅(Cu)及び鉛(Pb)を含有する銅基合金である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記銅基合金は、スズ(Sn)及び亜鉛(Zn)をさらに含有し、且つZnは15%未満である、請求項7に記載の方法。
- 前記電解水溶液中のGeO2は、30〜150g/リットルの範囲であり、且つ前記電解水溶液中のKOHは、50〜350g/リットルの範囲である、請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。
- GeO2及びKOHの濃度を滴定法によって測定する、請求項6〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記管状ハウジングの分割電気化学セルを、25〜90℃の範囲の温度、且つ250〜350mA/cm2の範囲の電流密度で用いる、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 次の工程を含む、分割電気化学セルでゲルマンを生成するための方法:
銅基合金の陰極と、陰極ガス出口とを具備する陰極室を与える工程;
ニッケルを含有する陽極と、陽極ガス出口とを具備する陽極室を与える工程;
80〜170g/リットルの範囲の二酸化ゲルマニウム(GeO2)、60〜150g/リットルの範囲のKOH及び脱イオン水を含有する電解水溶液を、前記陰極室及び前記陽極室に与える工程であって、前記銅基合金の陰極及び前記陽極を、前記電解水溶液に少なくとも部分的に浸す工程;
前記陰極室を、前記陽極室から分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材を与える工程;
前記分割電気化学セルに電力を供給する工程;
前記陰極室で生成するガスを、前記陰極ガス出口から水素化物ガスとして解放する工程;及び
前記陽極室で生成するガスを、前記陽極ガス出口から解放する工程。 - 前記銅基合金の陰極は、81%のCu、12%のPb、及び7%のSnを含有し;
前記電解水溶液は、145g/リットルのKOH、100g/リットルのGeO2及び脱イオン水を含有し;
前記分割電気化学セルを、30℃且つ330mA/cm2の電流密度で用いる、
請求項12に記載の方法。 - さらに次の工程を含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法:
前記電解水溶液から前記陰極を取り出し、そして前記陰極を研磨する工程、又は前記電解水溶液上部の気相に前記陰極を置く工程;
前記陰極を、前記電解水溶液に再挿入して戻す工程。 - 前記分割電気化学セルが、管状ハウジングの分割電気化学セルである、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記陽極が、前記管状ハウジングの内壁の一部である、請求項15に記載の方法。
- 請求項1〜16に記載の方法によってゲルマンを生成するための、60%超の銅(Cu)及び鉛(Pb)を含有する銅基合金の陰極。
- スズ(Sn)及び亜鉛(Zn)をさらに含有し、且つZnは15%未満である、請求項17に記載の銅基合金の陰極。
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