JP5401178B2

JP5401178B2 - Shiitake cultivation method and shiitake cultivation house

Info

Publication number: JP5401178B2
Application number: JP2009139825A
Authority: JP
Inventors: 雅章藤原
Original assignee: 株式会社Ｗｓｂバイオ
Priority date: 2009-06-11
Filing date: 2009-06-11
Publication date: 2014-01-29
Anticipated expiration: 2029-06-11
Also published as: JP2010284102A

Description

本発明は、シイタケを栽培する方法及びハウスに関し、特に、栽培温度及び栽培湿度の管理が容易に行えて、シイタケの大きな収量が望めるシイタケ栽培方法及びシイタケ栽培ハウスに関するものである。 The present invention relates to a method and a house for cultivating shiitake mushrooms, and more particularly to a method for cultivating shiitake mushrooms and a house for cultivating shiitake mushrooms, which can easily manage the cultivation temperature and the cultivation humidity and can expect a large yield of shiitake mushrooms.

従来より行われているシイタケの栽培は、自然木からなる「榾（ほだ）木」にシイタケ菌を埋め込んで、このほだ木を湿って暗い林の中に多数並べて置き、この林の自然のままの状態でシイタケが生育するのを待つというものであった。 Shiitake has been cultivated in the past by burying shiitake fungus in a “wood” made of natural wood, and placing many of this bed in a dark forest. It was to wait for shiitake to grow as it was.

このような言わば、自然環境でのシイタケ栽培では、自然の状況によって成育が悪くなることがあるだけでなく、ナメクジを代表とする害虫による食害を受け易くなり、また「ほだ木」を自然木から切り出することは近年困難になってきているため、特許文献１〜特許文献３にて提案されているように、種々な改良が、当該シイタケ栽培について行われてきている。 In other words, Shiitake cultivation in a natural environment can not only cause the growth to deteriorate depending on the natural conditions, but it is also susceptible to pests such as slugs. Since it has become difficult in recent years to cut out from the plant, various improvements have been made for the shiitake cultivation as proposed in Patent Documents 1 to 3.

特開２００３−１４３９４７号公報、要約、代表図Japanese Patent Laid-Open No. 2003-143947, abstract, representative diagram 特開平８−１０３１６１号公報、要約、代表図Japanese Patent Laid-Open No. 8-103161, abstract, representative diagram 特開平９−２１０４３５号公報、要約、代表図Japanese Patent Laid-Open No. 9-210435, summary, representative diagram

特許文献１には、「自然木利用のほだ木を一切使用する事の無い栽培方法で、産業廃棄〔廃土〕の再利用を効果的に使用する」を目的としてなされた「土柱で椎茸栽培」が提案されており、この椎茸栽培方法では、図５の（１）にて示すような「自然木や大鋸屑などを全く用いないで建設用骨材の砂利や砂を製造する過程で廃棄物として排出される廃土を主原料とする。この廃土に珪藻土と枯れ雑草を加え、さらに木酢酸液、カリシュウム粉、カリウム粉、リン鉱粉、炭素粉に水を加え充分に撹拌する。この混練物を金型に入れ、加熱・成形して円筒形土柱とする」ものである。そして、この特許文献１にて提案されている「椎茸栽培方法」では、図５の（２）にて示すように、「円筒形土柱をビニールハウス内に設置し、土柱に穴を開けて椎茸菌を接種し、ハウス内を加湿して椎茸を栽培する」ものである。 Patent Document 1 states that “in a soil pillar, the purpose is to effectively reuse industrial waste (waste soil) in a cultivation method that does not use any natural wood-based hodwood”. Shiitake cultivation has been proposed, and in this shiitake cultivation method, as shown in (1) of FIG. 5, in the process of producing gravel and sand for construction aggregates without using any natural wood or large sawdust etc. The main raw material is waste soil discharged as waste, and diatomaceous earth and withered weeds are added to this waste soil, and water is added to the wood acetic acid solution, potassium powder, potassium powder, phosphorus mineral powder, and carbon powder and stirred thoroughly. This kneaded product is put into a mold and heated and molded to form a cylindrical earth pillar. And, as shown in (2) of FIG. 5, in the “shiitake cultivation method” proposed in this patent document 1, “a cylindrical earth pillar is installed in a plastic house and a hole is made in the earth pillar. Inoculate shiitake mushrooms and humidify the house to grow shiitake mushrooms. "

この特許文献１の「椎茸栽培方法」によれば、「自然木利用のほだ木を一切使用する事の無い栽培方法で、産業廃棄〔廃土〕の再利用を効果的に使用する」ことができるものと考えられるが、本願の発明者の検討によると、シイタケ栽培では、シイタケの生育を左右する温度と湿度の管理を十分に行わないと、十分な収量が見込めないことが分かったのである。 According to “Shibai Cultivation Method” of Patent Document 1, “Use of industrial waste [waste soil] is effectively used in a cultivation method that does not use any natural wood-based hodwood”. However, according to the examination of the inventors of the present application, it has been found that in shiitake cultivation, sufficient yield cannot be expected unless the temperature and humidity are carefully controlled to control the growth of shiitake. is there.

例えば、特許文献２には、「ハウス内での椎茸栽培では、その栽培過程において椎茸栽培用素材の表面を水で程良く湿らせておくことが、椎茸の育成の点から望ましいことが知られている」（同文献２の段落０００３）点に着目し、「ハウス内の地面をぬかるませることなく、椎茸栽培用素材の表面に水を付着させることができる」ようにすることを目的としてなされた、「椎茸栽培用素材へ水分を付着させるための方法及びその装置」が提案されている。 For example, Patent Document 2 states that “in shiitake cultivation in a house, it is desirable in terms of growing shiitake to moisten the surface of the shiitake cultivation material with water in the cultivation process. It is made for the purpose of making it possible to "attach water to the surface of shiitake cultivation material without making the ground in the house moist". In addition, a “method and apparatus for attaching moisture to shiitake cultivation material” has been proposed.

この特許文献２にて提案されている「椎茸栽培用素材へ水分を付着させるための方法及びその装置」では、図６に示すように、「装置１０は、水槽１２、霧発生タンク１４、第一噴霧ノズル１６並びに第二噴霧ノズル１８とを有する。超音波発生装置３６によって霧発生タンク１４内に霧を発生させ、この霧を第一噴霧ノズル１６から外部へ噴出する。この霧は、その粒子の直径が空気中に霧を漂わせるための５ミクロン以下とする。コンプレッサ４６によって高圧空気を第二噴霧ノズル１８から外部に噴出させ、その際に高圧空気によって発生する負圧によって霧発生タンク１４内の水を同時に第二噴霧ノズル１８から外部に噴出させて、第二噴霧ノズル１８から霧を外部に噴出する」ものである。 As shown in FIG. 6, in the “method and apparatus for attaching moisture to shiitake cultivation material” proposed in Patent Document 2, “apparatus 10 includes water tank 12, mist generation tank 14, A spray nozzle 16 and a second spray nozzle 18. A mist is generated in the mist generation tank 14 by an ultrasonic generator 36, and the mist is ejected from the first spray nozzle 16 to the outside. The diameter of the particles is set to 5 microns or less for mist drifting in the air, and high pressure air is ejected from the second spray nozzle 18 by the compressor 46, and the mist generation tank is generated by the negative pressure generated by the high pressure air. The water in 14 is simultaneously ejected from the second spray nozzle 18 to the outside, and the mist is ejected from the second spray nozzle 18 ".

しかしながら、この特許文献２のシイタケ栽培方法では、「椎茸栽培用素材（ほだ木）の表面に水を付着させることができる」かもしれないが、本願の発明者の検討によって分かった点、「シイタケ栽培では、シイタケの生育を左右する温度と湿度の管理を十分に行わないと、十分な収量が見込めないこと」の改善がなされていないものである。 However, in the shiitake cultivation method of Patent Document 2, “it may be possible to attach water to the surface of shiitake cultivation material (hodaki)”, but the point found by the examination of the inventors of the present application, “ In shiitake cultivation, improvement of “a sufficient yield cannot be expected unless sufficient temperature and humidity control that affects the growth of shiitake mushrooms” has not been made.

特許文献３には、「植物栽培用等のハウスの室内空間に対する空気の供給状態を改良することにより、植物の成育等が良好に得られるハウス内環境を確保する」ことを目的としてなされた「空気調和装置」に関する発明が記載されており、この「空気調和装置」は、図７に示すように、「椎茸栽培用のハウスの室内を冷房する空気調和装置において、サーモオン時には、比較的大風量で空調空気をハウス内に供給する。サーモオフ時には、サーモオン時の約半分の風量としてハウス内の空気を循環させる。ハウス内の温度分布を均一にすると共に椎茸表面の乾燥を抑制して成育に良好な環境を確保する」ようにするものである。 Patent Document 3 has been made for the purpose of “ensuring the environment in the house where the growth of plants and the like can be favorably obtained by improving the air supply state to the indoor space of the house for plant cultivation”. The invention relating to the “air conditioner” is described, and as shown in FIG. 7, the “air conditioner” is a “air conditioner that cools the interior of a house for shiitake cultivation. Supplying conditioned air into the house at the time of thermo-off.When the thermo is off, circulate the air in the house as about half the air volume at the time of the thermo-on. Ensure a safe environment. "

しかしながら、この特許文献３に記載されている「空気調和装置」は、非常に複雑な機構になっているため、それ程高い値段では売れないシイタケ栽培用のものとしては、コストの面から採用することは困難であると考えられるだけでなく、本願の発明者の検討によって分かった点、「シイタケ栽培では、シイタケの生育を左右する温度と湿度の管理を十分に行わないと、十分な収量が見込めないこと」の改善がなされていないものである。 However, since the "air conditioning apparatus" described in Patent Document 3 has a very complicated mechanism, it is used from the viewpoint of cost for shiitake cultivation that cannot be sold at such a high price. In addition to the fact that the inventor of the present application has examined, “The ability to control the temperature and humidity that influence the growth of shiitake mushrooms is not sufficient in shiitake cultivation. This is something that has not been improved.

そこで、本発明者等は、シイタケ栽培で、シイタケの生育を良好にする温度は、１５℃〜２３℃であること、同じく湿度は、６０％〜７０％であることを突き止め、これらの温度及び湿度の管理を十分に行うにはどうしたらよいか、について種々検討を重ねてきた結果、地下水温度が、西日本では１５℃〜１７℃、北日本では９℃〜１１℃であることに気付き、本発明を完成したのである。 Therefore, the present inventors have determined that the temperature for improving the growth of shiitake is 15 ° C to 23 ° C and the humidity is 60% to 70% in shiitake cultivation. As a result of various studies on how to sufficiently manage the humidity, it has been found that the groundwater temperature is 15 ° C to 17 ° C in western Japan and 9 ° C to 11 ° C in northern Japan. Was completed.

すなわち、本発明の目的とするところは、シイタケ栽培に最適な温度及び湿度環境を、季節に関わらず低コストで形成することができて、ランニングコストも低く抑えることができ、シイタケの収量も大きくすることのできるシイタケ栽培方法及びシイタケ栽培ハウスを提供することにある。 In other words, the object of the present invention is that the optimum temperature and humidity environment for shiitake cultivation can be formed at low cost regardless of the season, the running cost can be kept low, and the yield of shiitake is large. It is in providing the shiitake cultivation method and shiitake cultivation house which can be done.

以上の課題を解決するために、まず、請求項１に係る発明の採った手段は、後述する最良形態の説明中で使用する符号を付して説明すると、
「シイタケ栽培ハウス１０内に形成した生育空間Ｒ１内にシイタケ栽培用のほだ木２０を多数配列して、これらのほだ木２０からシイタケ３０を生育させるシイタケ栽培方法であって、
シイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２による太陽光の遮光と、これら内外両ハウス１１・１２間に形成した離隔空間Ｒ２によって前記生育空間Ｒ１と外界との断熱とを行い、
生育空間Ｒ１内の冷却については、離隔空間Ｒ２内にて、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布により行い、
生育空間Ｒ１内の加湿については、前記地下水の生育空間Ｒ１内への散布とともに、少なくとも生育空間Ｒ１の床面に砂利５０を敷設し、この砂利５０の下側に凹形状に遮水シート５１を敷設して、散布した前記地下水を保持することにより行い、
さらに、生育空間Ｒ１内の加熱については、太陽熱吸収材１３が索条１３ｂに接続されており、当該索条１３ｂを巻き取り機１３ａにより巻き取ったり巻き戻したりすることで、外ハウス１２の外面に太陽熱吸収材１３を展開することによっても行うようにして、
生育空間Ｒ１内の温度を１５℃〜２３℃に保つとともに、生育空間Ｒ１内の湿度を６０％〜７０％に保つようにしたことを特徴とするシイタケ栽培方法」
である。 In order to solve the above problems, first, the means taken by the invention according to claim 1 will be described with reference numerals used in the description of the best mode described below.
"A shiitake cultivation method in which a large number of shiitake cultivation bed 20 is arranged in the growth space R1 formed in the shiitake cultivation house 10, and shiitake 30 is grown from these bed trees 20,
The shiitake cultivation house 10 is composed of an inner house 11 that surrounds the growth space R1 and an outer house 12 that surrounds the entire inner house 11, so that sunlight is blocked by both the inner and outer houses 11, 12 and both Heat insulation between the growth space R1 and the outside world is performed by the separation space R2 formed between the houses 11 and 12.
Cooling in the growth space R1 is performed by spraying ground water toward the outer surface of the inner house 11 in the separation space R2,
As for the humidification in the growth space R1, the gravel 50 is laid on at least the floor of the growth space R1 while being sprayed into the growth space R1 of the groundwater, and the water shielding sheet 51 is formed in a concave shape below the gravel 50. Laying and holding the sprayed groundwater ,
Furthermore, about the heating in the growth space R1, the solar heat absorption material 13 is connected to the rope 13b, and the outer surface of the outer house 12 is wound up and rewound by the winder 13a. And so on by deploying the solar heat absorber 13
Shiitake cultivation method characterized in that the temperature in the growth space R1 is kept at 15 ° C. to 23 ° C., and the humidity in the growth space R1 is kept at 60% to 70%.
It is.

すなわち、本発明に係るシイタケ栽培方法は、シイタケ栽培空間の温度を１５℃〜２３℃に保つとともに、湿度を６０％〜７０％に保つことを、自然のエネルギーを十分利用して行うようにしたものであり、これにより、シイタケ３０の栽培を低コストで収量が多くなるようにするものである。 That is, in the shiitake cultivation method according to the present invention, the temperature of the shiitake cultivation space is maintained at 15 ° C. to 23 ° C., and the humidity is maintained at 60% to 70% by sufficiently utilizing natural energy. Thus, cultivation of shiitake 30 is made at low cost and yield is increased.

そのために、本発明に係るシイタケ栽培方法では、図１の（１）及び図２に示すように、まず、シイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２によって生育空間Ｒ１内への太陽光の入射を制限するものである。換言すれば、内外両ハウス１１・１２による遮光によって、昼間の生育空間Ｒ１内が、丁度自然のシイタケ栽培地（林の中）における照度と同程度になるようにするのである。 Therefore, in the shiitake cultivation method according to the present invention, as shown in FIG. 1 (1) and FIG. 2, first, the shiitake cultivation house 10 is divided into the inner house 11 surrounding the growth space R1 and the entire inner house 11. It is comprised by the outer house 12 which encloses, and the incidence | injection of sunlight in the growth space R1 is restrict | limited by these inner and outer houses 11 * 12. In other words, the inside of the daytime growth space R1 is made to be almost the same as the illuminance in the natural shiitake cultivation area (in the forest) by shading by the inner and outer houses 11 and 12.

また、このシイタケ栽培ハウス１０を構成している内外両ハウス１１・１２間には離隔空間Ｒ２が形成されるのであるが、この離隔空間Ｒ２内には空気が風によって動かないように閉じこめられるから、この閉じこめられた空気が生育空間Ｒ１と外界との断熱とを行うことになる。つまり、本発明に係るシイタケ栽培方法では、内ハウス１１と外ハウス１２とによって形成した離隔空間Ｒ２により、また内ハウス１１と外ハウス１２とによる遮光によって、生育空間Ｒ１内の温度が急激に変化しないため、ボイラーやエアコンを使用しなくても、ある程度の保冷あるいは保温がなされるのである。 Further, a separation space R2 is formed between the inner and outer houses 11 and 12 constituting the shiitake cultivation house 10, and air is confined in the separation space R2 so as not to move by the wind. The trapped air insulates the growth space R1 from the outside. That is, in the shiitake cultivation method according to the present invention, the temperature in the growth space R1 changes rapidly due to the separation space R2 formed by the inner house 11 and the outer house 12, and by the light shielding by the inner house 11 and the outer house 12. Therefore, a certain degree of cold insulation or heat insulation is achieved without using a boiler or an air conditioner.

一方、このシイタケ栽培方法では、図２中に示した地下水散布機４０によって、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布により行うのであるが、地下水温度は、年間を通じて、西日本では１５℃〜１７℃、北日本では９℃〜１１℃とほぼ一定であるため、生育空間Ｒ１内の温度は、この地下水温度に近い温度まで冷却されることになるのである。なお、地下水については、離隔空間Ｒ２内にて散布されるため、風の影響を受けることなく、安定した状態で内ハウス１１の外面に散布されることは、言うまでもない。 On the other hand, in this shiitake cultivation method, groundwater is sprayed toward the outer surface of the inner house 11 by the groundwater sprayer 40 shown in FIG. 2, but the groundwater temperature is 15 ° C. to 17 ° C in western Japan throughout the year. Since it is almost constant at 9 ° C. to 11 ° C. in northern Japan, the temperature in the growth space R1 is cooled to a temperature close to this groundwater temperature. In addition, about groundwater, since it is scattered in the separation space R2, it cannot be overemphasized that it is sprayed on the outer surface of the inner house 11 in the stable state, without receiving the influence of a wind.

ところで、生育空間Ｒ１内の加湿については、当該生育空間Ｒ１内に設置した散水器４１からの前記地下水の散布により行われる。散水器４１からの地下水の散布は、本来生育空間Ｒ１内に配置したほだ木２０への灌水のためになされるものであるが、灌水に使用されなかった地下水は生育空間Ｒ１内にも散布されるから、この地下水が生育空間Ｒ１内にて蒸散することにより、結果的に生育空間Ｒ１内の加湿もなされることになるのである。 By the way, the humidification in the growth space R1 is performed by spraying the ground water from the sprinkler 41 installed in the growth space R1. The spraying of the groundwater from the sprinkler 41 is originally performed for irrigation to the bed 20 arranged in the growth space R1, but the groundwater not used for irrigation is also sprayed in the growth space R1. As a result, the groundwater is evaporated in the growth space R1, and as a result, the humidification in the growth space R1 is also performed.

なお、散水器４１からの灌水を地下水によって行う理由は、生育空間Ｒ１内を冷却するとともに、もともと地下水散布機４０へ地下水を供給するために使用しているポンプを共通に使用して、当該シイタケ栽培方法を採用するにあたってのコスト低減をより図りたいからである。 The reason why the groundwater is used for irrigation from the sprinkler 41 is to cool the inside of the growth space R1 and use a common pump that is originally used to supply the groundwater to the groundwater spreader 40. This is because it is desirable to further reduce the cost when adopting the cultivation method.

そして、本発明に係るシイタケ栽培方法では、例えば冬季におけるように外気温が低い場合、外ハウス１２の外面に太陽熱吸収材１３を展開することによって、生育空間Ｒ１内の加熱も行うようにしているのである。太陽熱吸収材１３としては、種々なものが考えられるが、後述する実施例では、外ハウス１２の外面に展開し易いような可撓性を有するビニールシートのような材料によって形成したもので、太陽光を熱エネルギーとして吸収し易いように、例えば「黒色」に着色したものを採用している。 In the shiitake cultivation method according to the present invention, for example, when the outside air temperature is low as in winter, the solar heat absorbing material 13 is deployed on the outer surface of the outer house 12 so as to heat the growing space R1. It is. Although various things can be considered as the solar heat absorbing material 13, in the embodiment described later, the solar heat absorbing material 13 is made of a material such as a flexible vinyl sheet that can be easily developed on the outer surface of the outer house 12. In order to easily absorb light as heat energy, for example, a material colored “black” is employed.

このような太陽熱吸収材１３を、太陽が出ている昼間に、外ハウス１２の外面に展開すれば、この太陽熱吸収材１３が太陽熱を吸収して外ハウス１２に伝導させ、暖まった外ハウス１２で内ハウス１１、従って生育空間Ｒ１を包み込むのであり、結果的に生育空間Ｒ１内に対する加熱を行うことになるのである。 If such a solar heat absorbing material 13 is developed on the outer surface of the outer house 12 during the daytime when the sun goes out, the solar heat absorbing material 13 absorbs the solar heat and conducts it to the outer house 12 to warm the outer house 12. Thus, the inner house 11 and thus the growth space R1 are encased, and as a result, the inside of the growth space R1 is heated.

勿論、以上のような地下水の散水や、太陽熱吸収材１３の展開は、実測された生育空間Ｒ１内の温度及び湿度に応じて制御すればよいものであり、そのような制御設備や制御装置は、一般的に採用されているものを使用すればよい。 Of course, sprinkling of the groundwater as described above and the development of the solar heat absorbing material 13 may be controlled according to the actually measured temperature and humidity in the growth space R1, and such control facilities and control devices are What is generally used may be used.

以上のように、本発明に係るシイタケ栽培方法を採用することによって、生育空間Ｒ１内の温度が１５℃〜２３℃に保たれるとともに、生育空間Ｒ１内の湿度も６０％〜７０％に保たれることになるから、シイタケ３０は年間を通じて十分な生育環境に置かれることになるのである。 As described above, by employing the shiitake cultivation method according to the present invention, the temperature in the growth space R1 is maintained at 15 ° C to 23 ° C, and the humidity in the growth space R1 is also maintained at 60% to 70%. As a result, Shiitake 30 is placed in a sufficient growth environment throughout the year.

ここで、生育空間Ｒ１内の温度を１５℃〜２３℃に保つようにする必要があるが、その理由は、温度が１５℃以下になると、シイタケ３０の「出」が遅くかつ悪くなるからであり、２３℃を超えるとシイタケ３０の「出」が悪くなり、特に２５℃を超えるとほだ木２０内のシイタケ菌が死滅するからである。また、当該生育空間Ｒ１内の湿度を６０％〜７０％に保つようにする必要があるが、その理由は、湿度が６０％以下であると、シイタケ３０の「出」が遅くなり、７０％を超えると、折角出たシイタケ３０が腐り始めるからである。 Here, it is necessary to keep the temperature in the growth space R1 at 15 ° C. to 23 ° C., because the “out” of the shiitake 30 becomes slow and worse when the temperature is 15 ° C. or lower. Yes, when the temperature exceeds 23 ° C., the “out” of the shiitake mushroom 30 is deteriorated. In addition, it is necessary to keep the humidity in the growth space R1 at 60% to 70%. The reason for this is that when the humidity is 60% or less, the “out” of shiitake 30 is slowed down to 70%. This is because the shiitake mushroom 30 that starts to rot begins to rot.

従って、この請求項１に係るシイタケ栽培方法は、シイタケ栽培に最適な温度及び湿度環境を、季節に関わらず低コストで形成することができて、ランニングコストも低く抑えることができ、シイタケの収量も大きくすることのできるものとなっているのである。 Therefore, the shiitake cultivation method according to claim 1 can form the optimum temperature and humidity environment for shiitake cultivation at a low cost regardless of the season, can keep the running cost low, and the yield of shiitake. Can be made larger.

また、上記課題を解決するために、請求項２に係る発明の採った手段は、後述する最良形態の説明中で使用する符号を付して説明すると、
「シイタケ栽培ハウス１０内に形成した生育空間Ｒ１内にシイタケ栽培用のほだ木２０を多数配列して、これらのほだ木２０からシイタケ３０を生育させるシイタケ栽培ハウス１０であって、
このシイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２間に離隔空間Ｒ２を形成し、
この離隔空間Ｒ２内に、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布を行う地下水散布機４０を配置し、
生育空間Ｒ１内に前記地下水の散布を行う散水器４１を設置し、
少なくとも生育空間Ｒ１の床面に砂利５０を敷設するとともに、この砂利５０の下側に凹形状に遮水シート５１を敷設して、散水器４１から散水された前記地下水を保持するようになっており、
さらに、索条１３ｂに接続された太陽熱吸収材１３を有し、索条１３ｂを巻き取ったり巻き戻したりする巻き取り機１３ａを有し、該巻き取り機１３ａの操作により太陽熱吸収材１３を外ハウス１２の外面に展開可能に設置したことを特徴とするシイタケ栽培ハウス１０」
である。 Further, in order to solve the above-mentioned problem, the means taken by the invention according to claim 2 will be described with reference numerals used in the description of the best mode to be described later.
“A shiitake cultivation house 10 in which a large number of shiitake cultivation bed 20 is arranged in a growth space R1 formed in shiitake cultivation house 10 and shiitake 30 is grown from these bed trees 20;
This shiitake cultivation house 10 is constituted by an inner house 11 surrounding the growth space R1 and an outer house 12 surrounding the entire inner house 11, and a separation space R2 is formed between these inner and outer houses 11, 12.
In this separation space R2, a groundwater sprayer 40 for spraying groundwater toward the outer surface of the inner house 11 is arranged,
A sprinkler 41 for spraying the groundwater is installed in the growth space R1,
Gravel 50 is laid at least on the floor surface of the growth space R1, and a water shielding sheet 51 is laid in a concave shape below the gravel 50 to hold the groundwater sprinkled from the water sprinkler 41. And
Furthermore, it has a solar heat absorbing material 13 connected to the rope 13b, and has a winder 13a that winds and unwinds the rope 13b. The solar heat absorbing material 13 is removed by operating the winder 13a. Shiitake cultivation house 10 characterized in that it is installed on the outer surface of the house 12 in an expandable manner.
It is.

すなわち、この請求項２に係るシイタケ栽培ハウス１０は、前述した請求項１に係るシイタケ栽培方法を具体的に実現するものであり、シイタケ栽培ハウス１０自体を内ハウス１１と外ハウス１２とにより二重構造のものとして構成するとともに、内ハウス１１と外ハウス１２とによって形成した離隔空間Ｒ２内、及び内ハウス１１自体内の生育空間Ｒ１内に、年間を通じて西日本では１５℃〜１７℃、北日本では９℃〜１１℃である地下水を散布できるようにしたものである。 That is, the shiitake cultivation house 10 according to claim 2 specifically realizes the shiitake cultivation method according to claim 1 described above, and the shiitake cultivation house 10 itself is composed of an inner house 11 and an outer house 12. It is constructed as a heavy structure, and in the separation space R2 formed by the inner house 11 and the outer house 12, and in the growth space R1 in the inner house 11 itself, it is 15 ° C to 17 ° C in western Japan throughout the year, It is intended to spray ground water at 9 ° C to 11 ° C.

本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０では、図１の（１）及び図２に示すように、まず、シイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２による二重構造によって生育空間Ｒ１内への太陽光の入射を制限し、昼間の生育空間Ｒ１内が、丁度自然のシイタケ栽培地（林の中）における照度と同程度になるようにしている。 In the shiitake cultivation house 10 according to the present invention, as shown in FIG. 1 (1) and FIG. 2, first, the shiitake cultivation house 10 is composed of an inner house 11 surrounding the growth space R1 and an outside surrounding the inner house 11 as a whole. The house 12 is configured to limit the incidence of sunlight into the growth space R1 by the double structure of the inner and outer houses 11 and 12, and the daytime growth space R1 is just a natural shiitake cultivation area ( It is set to the same level as the illuminance in the forest.

また、このシイタケ栽培ハウス１０を構成している内外両ハウス１１・１２間には、空気を風によって動かないように閉じ込める離隔空間Ｒ２が形成されるのであるが、この閉じこめられた空気が生育空間Ｒ１と外界との断熱とを行うのである。つまり、本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０では、内ハウス１１と外ハウス１２とによって形成した離隔空間Ｒ２により、また内ハウス１１と外ハウス１２とによる遮光によって、生育空間Ｒ１内の温度が急激に変化しないため、加熱のためのボイラーや冷却のためのエアコンを使用しなくてもよいものとなっている。 In addition, a separation space R2 is formed between the inner and outer houses 11 and 12 constituting the shiitake cultivation house 10 so as to confine air so that it does not move by the wind. This trapped air is the growth space. Insulation between R1 and the outside world is performed. That is, in the shiitake cultivation house 10 according to the present invention, the temperature in the growth space R1 is rapidly increased by the separation space R2 formed by the inner house 11 and the outer house 12, and by the light shielding by the inner house 11 and the outer house 12. Since it does not change, it is not necessary to use a boiler for heating or an air conditioner for cooling.

そして、本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０では、例えば冬季におけるように外気温が低い場合、外ハウス１２の外面に太陽熱吸収材１３を展開できるようにしてある。この太陽熱吸収材１３は、例えば黒色またはこれに近い着色が施してあり、これが太陽光を熱エネルギーとして吸収するから、生育空間Ｒ１内の加熱を行うことになるのである。 In the shiitake cultivation house 10 according to the present invention, the solar heat absorbing material 13 can be deployed on the outer surface of the outer house 12 when the outside air temperature is low, for example, in winter. The solar heat absorbing material 13 is colored, for example, in black or close to it, and absorbs sunlight as heat energy, so that heating in the growth space R1 is performed.

一方、このシイタケ栽培ハウス１０では、図２中に示した地下水散布機４０によって、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布により行うため、生育空間Ｒ１内の温度を、地下水温度に近い温度まで冷却するのである。また、生育空間Ｒ１内の加湿は、当該生育空間Ｒ１内に設置した散水器４１からの前記地下水の散布及び蒸散により行われる。 On the other hand, in the shiitake cultivation house 10, since the groundwater sprayer 40 shown in FIG. 2 is used to spray groundwater toward the outer surface of the inner house 11, the temperature in the growth space R1 is increased to a temperature close to the groundwater temperature. Cool it. Further, humidification in the growth space R1 is performed by spraying and transpiration of the groundwater from the water sprinkler 41 installed in the growth space R1.

このシイタケ栽培ハウス１０では、図示はしていないが、地下水散布機４０または散水器４１へ地下水を供給するために使用しているポンプを共通に使用していて、当該シイタケ栽培ハウス１０を構成するにあたってのコスト低減を図るようにしている。 In this shiitake cultivation house 10, although not shown in figure, the pump currently used in order to supply groundwater to the groundwater spreader 40 or the sprinkler 41 is used in common, and the said shiitake cultivation house 10 is comprised. We try to reduce the cost.

そして、本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０では、例えば冬季におけるように外気温が低い場合、外ハウス１２の外面に、可撓性を有し、太陽光を熱エネルギーとして吸収し易い、例えば「黒色」に着色したビニールシートのような材料によって形成した太陽熱吸収材１３を展開できるようにしてある。 In the shiitake cultivation house 10 according to the present invention, when the outside air temperature is low, for example, in winter, the outer surface of the outside house 12 is flexible and easily absorbs sunlight as heat energy. The solar heat absorbing material 13 formed of a material such as a vinyl sheet colored "" can be developed.

以上のように、本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０を採用することによって、生育空間Ｒ１内の温度を１５℃〜２３℃に簡単に保つことができるとともに、生育空間Ｒ１内の湿度も６０％〜７０％に簡単に保つことができるから、シイタケ３０を生育させるためのほだ木２０は、年間を通じてシイタケ３０の十分な生育環境に置かれるのである。 As described above, by employing the shiitake cultivation house 10 according to the present invention, the temperature in the growth space R1 can be easily maintained at 15 ° C. to 23 ° C., and the humidity in the growth space R1 is also 60% to 60%. Since it can be easily maintained at 70%, the bed 20 for growing shiitake 30 is placed in a sufficient growing environment of shiitake 30 throughout the year.

従って、この請求項２に係るシイタケ栽培ハウス１０は、シイタケ栽培に最適な温度及び湿度環境を、季節に関わらず低コストで形成することができて、ランニングコストも低く抑えることができ、シイタケの収量も大きくすることのできるものとなっているのである。 Therefore, the shiitake cultivation house 10 according to claim 2 can form the optimum temperature and humidity environment for shiitake cultivation at a low cost regardless of the season, and the running cost can be kept low. The yield can be increased.

また、前記した請求項１に係るシイタケ栽培方法及び請求項２に係るシイタケ栽培ハウス１０では、シイタケ栽培ハウス１０における生育空間Ｒ１の床面について、凹形状に敷設した遮水シート５１の上に砂利５０を敷設したものとなっている。 Further, in the shiitake cultivation house 10 according to claim 1 and the shiitake cultivation house 10 according to claim 2 , gravel on the water-impervious sheet 51 laid in a concave shape on the floor surface of the growth space R < b > 1 in the shiitake cultivation house 10. which is what was laid 50.

つまり、請求項１に係るシイタケ栽培方法及び請求項２に係るシイタケ栽培ハウス１０では、その生育空間Ｒ１内の床面に砂利５０の層が展開するものであり、散水器４１から散水された地下水の一部がこの砂利５０内に染み込む。勿論、砂利５０の下には遮水シート５１があるから、地下水が砂利５０を通って地面内に吸収されてしまうことはない。 That is, in the shiitake cultivation method according to claim 1 and the shiitake cultivation house 10 according to claim 2 , a layer of gravel 50 is developed on the floor surface in the growth space R < b > 1, and the groundwater sprinkled from the sprinkler 41. Part of this will soak into the gravel 50. Of course, since there is the water shielding sheet 51 under the gravel 50, the groundwater will not be absorbed into the ground through the gravel 50.

砂利５０内に染み込んだ地下水は、図３中の波線で示すように、生育空間Ｒ１内に蒸散することになるのであり、これにより、生育空間Ｒ１内の湿度が高くなる。換言すれば、散水器４１によって散水された地下水は、ほだ木２０を灌水するために使用されるだけでなく、生育空間Ｒ１内の湿度確保にも使用されるのであり、この地下水の無駄な使用が無くなるのである。 As shown by the wavy line in FIG. 3, the groundwater soaked into the gravel 50 is evaporated in the growth space R1, thereby increasing the humidity in the growth space R1. In other words, the groundwater sprinkled by the water sprinkler 41 is not only used for irrigating the bed 20, but also used for securing the humidity in the growth space R1, and this groundwater is wasted. The use is lost.

従って、請求項１に係るシイタケ栽培方法及び請求項２のシイタケ栽培ハウス１０は、生育空間Ｒ１内で使用する地下水の無駄が省けるものとなっているのである。 Therefore, the shiitake cultivation method according to claim 1 and the shiitake cultivation house 10 according to claim 2 can eliminate waste of groundwater used in the growth space R1.

以上、説明した通り、本発明においては、
「シイタケ栽培ハウス１０内に形成した生育空間Ｒ１内にシイタケ栽培用のほだ木２０を多数配列して、これらのほだ木２０からシイタケ３０を生育させるシイタケ栽培方法であって、
シイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２による太陽光の遮光と、これら内外両ハウス１１・１２間に形成した離隔空間Ｒ２によって前記生育空間Ｒ１と外界との断熱とを行い、
生育空間Ｒ１内の冷却については、離隔空間Ｒ２内にて、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布により行い、
生育空間Ｒ１内の加湿については、前記地下水の生育空間Ｒ１内への散布とともに、少なくとも生育空間Ｒ１の床面に砂利５０を敷設し、この砂利５０の下側に凹形状に遮水シート５１を敷設して、散布した前記地下水を保持することにより行い、
さらに、生育空間Ｒ１内の加熱については、太陽熱吸収材１３が索条１３ｂに接続されており、当該索条１３ｂを巻き取り機１３ａにより巻き取ったり巻き戻したりすることで、外ハウス１２の外面に太陽熱吸収材１３を展開することによっても行うようにして、
生育空間Ｒ１内の温度を１５℃〜２３℃に保つとともに、生育空間Ｒ１内の湿度を６０％〜７０％に保つようにしたことを特徴とするシイタケ栽培方法」
あるいは、
「シイタケ栽培ハウス１０内に形成した生育空間Ｒ１内にシイタケ栽培用のほだ木２０を多数配列して、これらのほだ木２０からシイタケ３０を生育させるシイタケ栽培ハウス１０であって、
このシイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２間に離隔空間Ｒ２を形成し、
この離隔空間Ｒ２内に、内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布を行う地下水散布機４０を配置し、
生育空間Ｒ１内に前記地下水の散布を行う散水器４１を設置し、
少なくとも生育空間Ｒ１の床面に砂利５０を敷設するとともに、この砂利５０の下側に凹形状に遮水シート５１を敷設して、散水器４１から散水された前記地下水を保持するようになっており、
さらに、索条１３ｂに接続された太陽熱吸収材１３を有し、索条１３ｂを巻き取ったり巻き戻したりする巻き取り機１３ａを有し、該巻き取り機１３ａの操作により太陽熱吸収材１３を外ハウス１２の外面に展開可能に設置したことを特徴とするシイタケ栽培ハウス１０」
にその構成上の主たる特徴があり、これにより、シイタケ栽培に最適な温度及び湿度環境を、季節に関わらず低コストで形成することができて、ランニングコストも低く抑えることができ、シイタケ３０の収量も大きくすることのできるシイタケ栽培方法及びシイタケ栽培ハウス１０を提供することができるのである。 As described above, in the present invention,
"A shiitake cultivation method in which a large number of shiitake cultivation bed 20 is arranged in the growth space R1 formed in the shiitake cultivation house 10, and shiitake 30 is grown from these bed trees 20,
The shiitake cultivation house 10 is composed of an inner house 11 that surrounds the growth space R1 and an outer house 12 that surrounds the entire inner house 11, so that sunlight is blocked by both the inner and outer houses 11, 12 and both Heat insulation between the growth space R1 and the outside world is performed by the separation space R2 formed between the houses 11 and 12.
Cooling in the growth space R1 is performed by spraying ground water toward the outer surface of the inner house 11 in the separation space R2,
As for the humidification in the growth space R1, the gravel 50 is laid on at least the floor of the growth space R1 while being sprayed into the growth space R1 of the groundwater, and the water shielding sheet 51 is formed in a concave shape below the gravel 50. Laying and holding the sprayed groundwater ,
Furthermore, about the heating in the growth space R1, the solar heat absorption material 13 is connected to the rope 13b, and the outer surface of the outer house 12 is wound up and rewound by the winder 13a. And so on by deploying the solar heat absorber 13
Shiitake cultivation method characterized in that the temperature in the growth space R1 is kept at 15 ° C. to 23 ° C., and the humidity in the growth space R1 is kept at 60% to 70%.
Or
“A shiitake cultivation house 10 in which a large number of shiitake cultivation bed 20 is arranged in a growth space R1 formed in shiitake cultivation house 10 and shiitake 30 is grown from these bed trees 20;
This shiitake cultivation house 10 is constituted by an inner house 11 surrounding the growth space R1 and an outer house 12 surrounding the entire inner house 11, and a separation space R2 is formed between these inner and outer houses 11, 12.
In this separation space R2, a groundwater sprayer 40 for spraying groundwater toward the outer surface of the inner house 11 is arranged,
A sprinkler 41 for spraying the groundwater is installed in the growth space R1,
Gravel 50 is laid at least on the floor surface of the growth space R1, and a water shielding sheet 51 is laid in a concave shape below the gravel 50 to hold the groundwater sprinkled from the water sprinkler 41. And
Furthermore, it has a solar heat absorbing material 13 connected to the rope 13b, and has a winder 13a that winds and unwinds the rope 13b. The solar heat absorbing material 13 is removed by operating the winder 13a. Shiitake cultivation house 10 characterized in that it is installed on the outer surface of the house 12 in an expandable manner.
There is a main feature in the structure, and this makes it possible to form the optimum temperature and humidity environment for shiitake cultivation at low cost regardless of the season, and to keep the running cost low. The shiitake cultivation method and the shiitake cultivation house 10 which can also enlarge a yield can be provided.

本発明に係るシイタケ栽培ハウスを示すもので、（１）は正面図、（２）は側面図である。The shiitake cultivation house which concerns on this invention is shown, (1) is a front view, (2) is a side view. 同シイタケ栽培ハウスを正面から見た拡大断面図である。It is the expanded sectional view which looked at the same shiitake cultivation house from the front. 同シイタケ栽培ハウスの側面後部を部分的に拡大して示すもので、（１）は西日本仕様のシイタケ栽培ハウスの部分側面図、（２）は北日本仕様のシイタケ栽培ハウスの部分側面図である。The side rear part of the same shiitake cultivation house is shown partially enlarged, (1) is a partial side view of a shiitake cultivation house of western Japan specification, and (2) is a partial side view of a shiitake cultivation house of northern Japan specification. 本発明に係るシイタケ栽培ハウスの別例を示す側面図である。It is a side view which shows another example of the shiitake cultivation house which concerns on this invention. 特許文献１に示されたほだ木の拡大断面図（１）と、同ほだ木を使用したハウスの断面図（２）である。It is an expanded sectional view (1) of the bed wood shown in patent documents 1, and a sectional view (2) of a house which uses the bed wood. 特許文献２に示された代表図である。It is a representative figure shown by patent document 2. FIG. 特許文献３に示された代表図である。It is a representative figure shown by patent document 3. FIG.

次に、上記のように構成した各請求項に係る発明を、図面に示したシイタケ栽培ハウス１０について説明するが、この実施形態に係るシイタケ栽培ハウス１０には、実質的に請求項１のシイタケ栽培方法が化体されているため、以下では、このシイタケ栽培ハウス１０の説明を詳しくしていくことによって、請求項１に係るシイタケ栽培方法の説明を省略する。 Next, the invention according to each claim configured as described above will be described with respect to the shiitake cultivation house 10 shown in the drawings. The shiitake cultivation house 10 according to this embodiment substantially includes the shiitake cultivation of claim 1. Since the cultivation method has been embodied, the explanation of the shiitake cultivation method according to claim 1 will be omitted by detailing the explanation of the shiitake cultivation house 10 below.

図１の（１）及び（２）には、本発明に係るシイタケ栽培ハウス１０の正面図、及び側面図がそれぞれ示してあるが、このシイタケ栽培ハウス１０は、後述する生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１を覆う外ハウス１２とによる二重構造になっているものである。つまり、このシイタケ栽培ハウス１０では、図１の（１）及び図２に示したように、まず、シイタケ栽培ハウス１０を、生育空間Ｒ１を囲む内ハウス１１と、この内ハウス１１全体を囲む外ハウス１２とによって構成して、これらの内外両ハウス１１・１２による二重構造によって生育空間Ｒ１内への太陽光の入射を制限し、昼間の生育空間Ｒ１内が、丁度自然のシイタケ栽培地（林の中）における照度と同程度になるようにしているのである。 FIGS. 1 (1) and (2) show a front view and a side view of the shiitake cultivation house 10 according to the present invention. The shiitake cultivation house 10 surrounds a growth space R1 to be described later. This is a double structure composed of a house 11 and an outer house 12 covering the inner house 11. That is, in this shiitake cultivation house 10, as shown in FIG. 1 (1) and FIG. 2, first, the shiitake cultivation house 10 is composed of an inner house 11 surrounding the growth space R1 and an outer portion surrounding the entire inner house 11. The house 12 is configured to limit the incidence of sunlight into the growth space R1 by the double structure of the inner and outer houses 11 and 12, and the daytime growth space R1 is just a natural shiitake cultivation area ( It is set to the same level as the illuminance in the forest.

このシイタケ栽培ハウス１０内は、図２に示したようになっている。つまり、このシイタケ栽培ハウス１０の内ハウス１１内は生育空間Ｒ１となっており、この生育空間Ｒ１内には、多数の棚２１が配置してあって、各棚２１にはシイタケ菌を埋め込んだほだ木２０が多数配列してある。このほだ木２０としては、特許文献１にて提案されているような「人工的」なものでもよく、可能であれば、シイタケ菌を埋め込んだ自然木であってもよい。自然木を使用する場合には、棚２１は不要になることもある。 The inside of this shiitake cultivation house 10 is as shown in FIG. That is, the inside house 11 of this shiitake cultivation house 10 is a growth space R1, and a lot of shelves 21 are arranged in this growth space R1, and shiitake fungus is embedded in each shelf 21. A large number of mortar trees 20 are arranged. The bed 20 may be “artificial” as proposed in Patent Document 1, or may be a natural tree embedded with shiitake fungi if possible. When natural wood is used, the shelf 21 may be unnecessary.

また、このシイタケ栽培ハウス１０を構成している内外両ハウス１１・１２間には、空気を風によって動かないように閉じ込める離隔空間Ｒ２が形成してあり、この離隔空間Ｒ２内に閉じこめられた空気が生育空間Ｒ１と外界との断熱とを行うようにしてあるのである。つまり、本実施例に係るシイタケ栽培ハウス１０では、内ハウス１１と外ハウス１２とによって形成した離隔空間Ｒ２により、また内ハウス１１と外ハウス１２とによる遮光によって、生育空間Ｒ１内の温度が急激に変化しないようにしてあり、加熱のためのボイラーや冷却のためのエアコンを使用しなくてもよいものとしている。 In addition, a separation space R2 is formed between the inner and outer houses 11 and 12 constituting the shiitake cultivation house 10 so that the air is confined so as not to move by the wind, and the air confined in the separation space R2 is formed. Is designed to insulate the growth space R1 from the outside. That is, in the shiitake cultivation house 10 according to the present embodiment, the temperature in the growth space R1 is rapidly increased by the separation space R2 formed by the inner house 11 and the outer house 12, and by the light shielding by the inner house 11 and the outer house 12. Therefore, it is not necessary to use a boiler for heating or an air conditioner for cooling.

一方、このシイタケ栽培ハウス１０では、図２中に示したように、離隔空間Ｒ２内に内ハウス１１の外面に向けた地下水の散布を行う地下水散布機４０が設置してあり、また、生育空間Ｒ１内には散水器４１が設置てある。これらの地下水散布機４０及び散水器４１には、図示しない共通ポンプによって地下水が供給できるようになっている。この共通ポンプは、当該シイタケ栽培ハウス１０を構成するにあたってのコスト低減を図るものである。 On the other hand, in this shiitake cultivation house 10, as shown in FIG. 2, the groundwater spreader 40 which spreads groundwater toward the outer surface of the inner house 11 is installed in the separation space R2, and the growth space. A water sprinkler 41 is installed in R1. The groundwater sprayer 40 and the water sprinkler 41 can be supplied with groundwater by a common pump (not shown). This common pump is intended to reduce the cost in configuring the shiitake cultivation house 10.

そして、このシイタケ栽培ハウス１０では、例えば冬季におけるように外気温が低い場合、外ハウス１２の外面に、可撓性を有し、太陽光を熱エネルギーとして吸収し易い、例えば「黒色」に着色したビニールシートのような材料によって形成した太陽熱吸収材１３を展開できるようにしてある。 In this shiitake cultivation house 10, when the outside air temperature is low, for example, in winter, the outer surface of the outside house 12 is flexible and easily absorbs sunlight as heat energy, for example, colored "black". The solar heat absorbing material 13 formed of a material such as a vinyl sheet can be developed.

この太陽熱吸収材１３の展開は、種々な方法によって行われる。図１で示した例では、外ハウス１２の天井部分に巻き取り機１３ａを設置しておいて、この巻き取り機１３ａによって、太陽熱吸収材１３に接続してある索条１３ｂを巻き取ったり巻き戻したりして、当該太陽熱吸収材１３を展開するのである。これとは逆に、図４に示した例では、シイタケ栽培ハウス１０の下側に巻き取り機１３ａを設置するとともに、太陽熱吸収材１３に接続してある索条１３ｂを外ハウス１２の天井部分に架け渡しておいて、巻き取り機１３ａにより、索条１３ｂを巻き取ったり巻き戻したりすることにより、当該太陽熱吸収材１３を外ハウス１２の天井上に展開するのである。 The development of the solar heat absorbing material 13 is performed by various methods. In the example shown in FIG. 1, a winder 13 a is installed on the ceiling portion of the outer house 12, and the rope 13 b connected to the solar heat absorbing material 13 is wound or wound by the winder 13 a. The solar heat absorbing material 13 is developed by returning it. On the contrary, in the example shown in FIG. 4, the winder 13 a is installed on the lower side of the shiitake cultivation house 10 and the rope 13 b connected to the solar heat absorber 13 is connected to the ceiling portion of the outer house 12. The solar heat absorbing material 13 is spread on the ceiling of the outer house 12 by winding and unwinding the rope 13b by the winder 13a.

勿論、以上のような地下水の散水や、太陽熱吸収材１３の展開は、実測された生育空間Ｒ１内の温度及び湿度に応じて制御すればよいものであり、そのような制御設備や制御装置は、一般的に採用されているものが使用される。 Of course, sprinkling of the groundwater as described above and the development of the solar heat absorbing material 13 may be controlled according to the actually measured temperature and humidity in the growth space R1, and such control facilities and control devices are Generally used ones are used.

さらに、この実施例に係るシイタケ栽培ハウス１０では、図２に示したように、少なくとも生育空間Ｒ１の床面に砂利５０を敷設するとともに、この砂利５０の下側に遮水シート５１を敷設するようにしてある。すなわち、このシイタケ栽培ハウス１０では、生育空間Ｒ１の床面について、敷設した遮水シート５１の上に、砂利５０が敷設してある。 Further, in the shiitake cultivation house 10 according to this embodiment, as shown in FIG. 2, gravel 50 is laid at least on the floor surface of the growth space R <b> 1, and a water shielding sheet 51 is laid below the gravel 50. It is like that. That is, in this shiitake cultivation house 10, the gravel 50 is laid on the laid water-impervious sheet 51 on the floor surface of the growth space R1.

つまり、このシイタケ栽培ハウス１０では、その生育空間Ｒ１内の床面に砂利５０の層が展開しているものであり、散水器４１から散水された地下水の一部がこの砂利５０内に染み込むようにしてあって、砂利５０の下の遮水シート５１によって、散布した地下水が砂利５０を通って地面内に吸収されてしまわはないようにしてある。 That is, in this shiitake cultivation house 10, the layer of gravel 50 is developed on the floor surface in the growth space R1, and a part of the groundwater sprayed from the sprinkler 41 soaks into the gravel 50. Thus, the sprayed groundwater is not absorbed into the ground through the gravel 50 by the water shielding sheet 51 under the gravel 50.

砂利５０内に染み込んだ地下水は、図２中の波線で示したように、生育空間Ｒ１内に蒸散するのであり、これにより、生育空間Ｒ１内の湿度を高くするのである。換言すれば、散水器４１によって散水された地下水は、ほだ木２０を灌水するために使用できるだけでなく、生育空間Ｒ１内の湿度確保にも使用できるのであり、この地下水の無駄な使用を無くすのである。 As shown by the wavy line in FIG. 2, the groundwater soaked into the gravel 50 evaporates in the growth space R1, thereby increasing the humidity in the growth space R1. In other words, the groundwater sprinkled by the water sprinkler 41 can be used not only for irrigating the bed 20, but also for securing the humidity in the growth space R1, thereby eliminating the wasteful use of this groundwater. It is.

一般的な人工ほだ木２０を採用してシイタケ３０を生育させた結果、従来の方法では６００ｇの収量であったが、本発明のシイタケ栽培ハウス１０によると、７５０ｇの収量であった。 As a result of growing shiitake 30 by employing a general artificial bed 20, it was 600 g in the conventional method, but according to the shiitake cultivation house 10 of the present invention, it was 750 g.

ところで、本実施例に係るシイタケ栽培ハウス１０は、西日本仕様のものと、北日本仕様のものとがある。 By the way, the shiitake cultivation house 10 which concerns on a present Example has the thing of a West Japan specification, and the thing of a North Japan specification.

（西日本仕様の場合）
西日本は、比較的温暖なため、内ハウス１１及び外ハウス１２を構成するビニールシートは、夏場の太陽光を反射し易いように、白を基調とした色の半透明のものが採用される。このような半透明のビニールシートによって、生育空間Ｒ１内を林の中のように暗くできるようにするとともに、夏場の太陽光を反射できるようにしていることによって、生育空間Ｒ１内の必要以上の温度上昇がないようにしている。 (For West Japan specification)
Since West Japan is relatively warm, the translucent material based on white is adopted as the vinyl sheet constituting the inner house 11 and the outer house 12 so as to easily reflect sunlight in summer. With such a translucent vinyl sheet, the inside of the growing space R1 can be darkened like a forest and the sunlight in the summer can be reflected, so that it is more than necessary in the growing space R1. There is no temperature rise.

そして、この西日本仕様のシイタケ栽培ハウス１０では、図３の（１）に示したように、白色に着色した外ハウス１２が折角の太陽光の殆どを反射してしまわないようにするために、太陽光を熱エネルギーとして吸収できる太陽熱吸収材１３を展開できるようにしてある。つまり、冬場の太陽エネルギーを有効に利用できるようにしてあるのである。なお、この太陽熱吸収材１３は、例えば外ハウス１２の天井上に設置した巻き取り機１３ａによって、当該太陽熱吸収材１３に接続した索条１３ｂを巻き取ることにより外ハウス１２上に展開され、巻き取り機１３ａによる索条１３ｂの巻き戻しを行うことにより、外ハウス１２上から適宜外される。 And in this shiitake cultivation house 10 of the West Japan specification, as shown in (1) of FIG. 3, in order to prevent the outer house 12 colored in white from reflecting most of the broken sunlight, The solar heat absorbing material 13 that can absorb sunlight as heat energy can be developed. In other words, winter solar energy can be used effectively. In addition, this solar heat absorption material 13 is expand | deployed on the outer house 12 by winding up the strip 13b connected to the said solar heat absorption material 13 with the winder 13a installed, for example on the ceiling of the outer house 12, and winding By rewinding the rope 13b by the take-up machine 13a, it is removed from the outer house 12 as appropriate.

（北日本仕様の場合）
北日本は、比較的寒冷なため、内ハウス１１及び外ハウス１２を構成するビニールシートは、太陽光を吸収し易いように、透明のものが採用される。このような透明のビニールシートでも、これを内ハウス１１と外ハウス１２とによって二重にすることによって、生育空間Ｒ１内を林の中のように暗くできる。なお、夏場の強烈すぎる太陽光の反射ができるようにするために、図３の（２）に示したように、内ハウス１１の外面に寒冷紗１４を配置して、生育空間Ｒ１内の必要以上の温度上昇がないようにしている。 (For North Japan specification)
Since northern Japan is relatively cold, a transparent sheet is adopted for the vinyl sheets constituting the inner house 11 and the outer house 12 so as to easily absorb sunlight. Even with such a transparent vinyl sheet, the inside of the growth space R1 can be darkened like a forest by making it double by the inner house 11 and the outer house 12. In addition, in order to allow reflection of sunlight that is too intense in summer, as shown in (2) of FIG. 3, a cold chill 14 is arranged on the outer surface of the inner house 11 and more than necessary in the growth space R1. There is no temperature rise.

１０シイタケ栽培ハウス
１１内ハウス
１２外ハウス
１３太陽熱吸収材
１３ａ巻き取り機
１３ｂ索条
１４寒冷紗
２０ほだ木
２１棚
３０シイタケ
４０地下水散布機
４１散水器
５０砂利
Ｒ１生育空間
Ｒ２離隔空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Shiitake cultivation house 11 Inner house 12 Outer house 13 Solar heat absorption material 13a Winder 13b Strip 14 Cold chill 20 Hodagi 21 Shelf 30 Shiitake 40 Groundwater spreader 41 Sprinkler 50 Gravel R1 Growth space R2 Separation space

Claims

シイタケ栽培ハウス内に形成した生育空間内にシイタケ栽培用のほだ木を多数配列して、これらのほだ木からシイタケを生育させるシイタケ栽培方法であって、
前記シイタケ栽培ハウスを、前記生育空間を囲む内ハウスと、この内ハウス全体を囲む外ハウスとによって構成して、これらの内外両ハウスによる太陽光の遮光と、これら内外両ハウス間に形成した離隔空間によって前記生育空間と外界との断熱とを行い、
前記生育空間内の冷却については、前記離隔空間内にて、前記内ハウスの外面に向けた地下水の散布により行い、
前記生育空間内の加湿については、前記地下水の前記生育空間内への散布とともに、少なくとも前記生育空間の床面に砂利を敷設し、この砂利の下側に凹形状に遮水シートを敷設して、散布した前記地下水を保持することにより行い、
さらに、前記生育空間内の加熱については、太陽熱吸収材が索条に接続されており、当該索条を巻き取り機により巻き取ったり巻き戻したりすることで、前記外ハウスの外面に太陽熱吸収材を展開することによっても行うようにして、
前記生育空間内の温度を１５℃〜２３℃に保つとともに、前記生育空間内の湿度を６０％〜７０％に保つようにしたことを特徴とするシイタケ栽培方法。 A shiitake cultivation method, in which a large number of shiitake cultivation bed trees are arranged in a growth space formed in a shiitake cultivation house, and shiitake mushrooms are grown from these bed trees,
The shiitake cultivation house is composed of an inner house that surrounds the growing space and an outer house that surrounds the entire inner house, and the sunlight formed by the inner and outer houses is separated from each other, and the space formed between the inner and outer houses. Insulation between the growth space and the outside world by the space,
For cooling in the growth space, in the separated space, by spraying ground water toward the outer surface of the inner house,
For humidification in the growth space, along with spraying the groundwater into the growth space , at least lay gravel on the floor of the growth space, and lay a concave water shielding sheet below the gravel. , By holding the sprayed groundwater ,
Furthermore, for heating in the growth space, a solar heat absorbing material is connected to the rope , and the solar heat absorbing material is wound on the outer surface of the outer house by winding or unwinding the rope with a winder. As well as by expanding
A shiitake cultivation method characterized in that the temperature in the growth space is maintained at 15 ° C. to 23 ° C., and the humidity in the growth space is maintained at 60% to 70%.

シイタケ栽培ハウス内に形成した生育空間内にシイタケ栽培用のほだ木を多数配列して、これらのほだ木からシイタケを生育させるシイタケ栽培ハウスであって、
このシイタケ栽培ハウスを、前記生育空間を囲む内ハウスと、この内ハウス全体を囲む外ハウスとによって構成して、これらの内外両ハウス間に離隔空間を形成し、
この離隔空間内に、前記内ハウスの外面に向けた地下水の散布を行う地下水散布機を配置し、
前記生育空間内に前記地下水の散布を行う散水器を設置し、
少なくとも前記生育空間の床面に砂利を敷設するとともに、この砂利の下側に凹形状に遮水シートを敷設して、前記散水器から散水された前記地下水を保持するようになっており、
さらに、索条に接続された太陽熱吸収材を有し、前記索条を巻き取ったり巻き戻したりする巻き取り機を有し、該巻き取り機の操作により前記太陽熱吸収材を前記外ハウスの外面に展開可能に設置したことを特徴とするシイタケ栽培ハウス。 A shiitake cultivation house in which a large number of shiitake cultivation bed trees are arranged in the growth space formed in the shiitake cultivation house, and shiitake trees are grown from these bed trees,
This shiitake cultivation house is constituted by an inner house that surrounds the growth space and an outer house that surrounds the entire inner house, forming a separation space between these inner and outer houses,
In this separated space, a groundwater sprayer for spraying groundwater toward the outer surface of the inner house is arranged,
Install a sprinkler to spray the groundwater in the growth space,
Laying gravel at least on the floor of the growth space, and laying a water shielding sheet in a concave shape on the underside of the gravel, so as to hold the groundwater sprinkled from the water sprinkler,
Furthermore, it has a solar heat absorbing material connected to the wire, and has a winder that winds up and rewinds the wire, and the solar heat absorbing material is externally attached to the outer house by operating the winder. Shiitake Cultivation House, characterized in that it can be deployed in