JP5381577B2 - Method for producing corrosion-resistant R—Fe—B sintered magnet - Google Patents

Description

本発明は、優れた耐食性を発揮するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an R—Fe—B sintered magnet exhibiting excellent corrosion resistance.

Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、高い磁気特性を有していることから、今日様々な分野で使用されている。しかしながら、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は反応性の高い希土類元素：Ｒを含むため、大気中で酸化腐食されやすく、何の表面処理をも行わずに使用した場合には、わずかな酸やアルカリや水分などの存在によって表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、磁石特性の劣化やばらつきを招く。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路などの装置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。
上記の点に鑑み、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に優れた耐食性を付与することを目的として、その表面にＡｌ被膜を蒸着法などの気相めっき法によって成膜することが行われている。Ａｌ被膜は耐食性に優れていることに加え、部品組み込み時に必要とされる接着剤との接着信頼性に優れている（接着剤が本質的に有する破壊強度に達するまでに被膜と接着剤との間で剥離が生じにくい）ので、強い接着強度が要求されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対して広く適用されおり、表面にＡｌ被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、各種モータなどに組み込まれて使用されている。 R-Fe-B based sintered magnets typified by Nd-Fe-B based sintered magnets have high magnetic properties and are used in various fields today. However, since the R—Fe—B based sintered magnet contains a highly reactive rare earth element: R, it is easily oxidized and corroded in the atmosphere, and when used without any surface treatment, a slight amount of acid is present. Corrosion progresses from the surface due to the presence of alkali, moisture, and the like, and rust is generated, which causes deterioration and variation in magnet characteristics. Furthermore, when a magnet in which rust is generated is incorporated in an apparatus such as a magnetic circuit, the rust may be scattered to contaminate peripheral components.
In view of the above points, for the purpose of imparting excellent corrosion resistance to the R—Fe—B based sintered magnet, an Al film is formed on the surface by vapor phase plating such as vapor deposition. Yes. In addition to being excellent in corrosion resistance, the Al coating has excellent adhesion reliability with the adhesive required when assembling the parts (the coating film and adhesive are required to reach the breaking strength inherent in the adhesive). Therefore, the R-Fe-B sintered magnet having an Al coating on the surface is widely applied to R-Fe-B sintered magnets that require strong adhesive strength. Used in various motors.

各種モータの中でも、自動車用モータに組み込まれるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、使用環境の温度変化が激しく、かつ、寒冷地域においては道路に散布される凍結防止剤に含まれる塩素イオンに晒されたり、海岸近辺では塩水に晒されたりすることから、最も過酷な使用環境にある磁石と言える。従って、自動車用モータに組み込まれるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石には、とりわけ優れた耐食性を発揮することが要求される。そこで、Ａｌ被膜の耐食性の向上を図るための様々な方法が提案されており、例えば特許文献１には、Ａｌ被膜に水素を１ｐｐｍ〜２０ｐｐｍ含ませることにより、Ａｌ被膜の膜質を向上させる方法が記載されている。
しかしながら、このような方法を採用しても、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の腐食を完全に防止することは困難であると言わざるを得ない。その理由の１つとして、蒸着形成されたＡｌ被膜を構成する結晶組織が柱状組織である（例えば特許文献２）ことが挙げられる。この結晶組織は被膜の厚み方向に成長した柱状組織であり、結晶間には微細な空隙が存在することから、この空隙を通じて水分などが被膜表面から磁石体表面に到達し、その結果、磁石の腐食を招く。このような現象を防止するためには、特許文献１にも記載されているように、Ａｌ被膜に対してピーニング処理を行うことにより、被膜表面の平滑化と空隙の封隙を行うことが有効であるが、それでもなお、苛酷な使用環境下においては磁石の腐食が生じる。 Among various types of motors, R-Fe-B sintered magnets incorporated in motors for automobiles are used in the environment where the temperature changes in the environment of use, and in cold regions, the chlorine ions contained in the antifreeze sprayed on the roads. It can be said to be the magnet in the harshest usage environment because it is exposed to salt water near the coast. Therefore, the R—Fe—B based sintered magnet incorporated in the motor for automobiles is required to exhibit particularly excellent corrosion resistance. Therefore, various methods for improving the corrosion resistance of the Al coating have been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a method for improving the film quality of the Al coating by including 1 ppm to 20 ppm of hydrogen in the Al coating. Have been described.
However, even if such a method is adopted, it must be said that it is difficult to completely prevent corrosion of the R—Fe—B based sintered magnet. One of the reasons is that the crystal structure constituting the deposited Al film is a columnar structure (for example, Patent Document 2). This crystal structure is a columnar structure that grows in the thickness direction of the film, and there are fine voids between the crystals, so that moisture etc. reaches the surface of the magnet body from the film surface through these voids. Causes corrosion. In order to prevent such a phenomenon, as described in Patent Document 1, it is effective to smooth the surface of the film and seal the gap by performing a peening process on the Al film. Nevertheless, corrosion of the magnet occurs under severe use environment.

特開２００１−３２０６２号公報JP 2001-32062 A 特開２００５−１９１２７６号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-191276

そこで本発明は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing an R—Fe—B based sintered magnet that exhibits excellent corrosion resistance even under severe conditions.

本発明者らは上記の点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特許文献１において提案されている量よりも多い量の水素を含ませたＡｌ被膜に対してピーニング処理を行うと、被膜表面の平滑化と空隙の封隙だけでなく、被膜の結晶組織自体が改質され、被膜の厚み方向に成長した柱状組織の少なくとも一部がランダムに破壊された結晶間に空隙を持たない緻密な組織に変化することにより、Ａｌ被膜の耐食性が向上することを見出した。   As a result of intensive studies in view of the above points, the inventors of the present invention conducted a peening treatment on an Al coating containing a larger amount of hydrogen than the amount proposed in Patent Document 1, and the coating surface In addition to smoothing the pores and gaps in the gap, the crystal structure of the film itself is modified, and at least part of the columnar structure grown in the thickness direction of the film is randomly destroyed. It has been found that the corrosion resistance of the Al coating is improved by changing the structure.

上記の知見に基づいてなされた本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、請求項１記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、水素含有量が５０ｐｐｍ以上のＡｌまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、蒸着形成された５０℃以上のＡｌまたはその合金からなる被膜に対してピーニング処理を行うことにより、被膜の少なくとも一部の結晶組織を結晶間に空隙を持たない組織に改質することを特徴とする。
また、請求項２記載の製造方法は、請求項１記載の製造方法において、Ａｌまたはその合金からなる被膜の成膜速度を０．１０μｍ／分〜１０μｍ／分とすることを特徴とする。
また、本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、請求項３記載の通り、請求項１または２記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする。 The manufacturing method of the corrosion-resistant R—Fe—B based sintered magnet of the present invention based on the above knowledge has a hydrogen content on the surface of the R—Fe—B based sintered magnet as described in claim 1. After vapor-depositing a film composed of 50 ppm or more of Al or an alloy thereof, peening treatment is performed on the vapor-deposited film composed of Al or an alloy thereof of 50 ° C. or higher, thereby forming a crystal structure of at least a part of the film. It is characterized by being modified into a structure having no voids between crystals .
The manufacturing method according to claim 2 is characterized in that, in the manufacturing method according to claim 1, the film formation rate of the film made of Al or an alloy thereof is set to 0.10 μm / min to 10 μm / min .
Also, corrosion resistance R-Fe-B sintered magnets of the present invention, as claimed in claim 3, characterized by comprising manufactured by the manufacturing method according to claim 1 or 2 wherein.

本発明によれば、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the R-Fe-B type sintered magnet which exhibits the outstanding corrosion resistance also under severe conditions can be provided.

表面にＡｌまたはその合金からなる被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を製造するのに適した蒸着被膜形成装置の一実施形態の真空処理室の内部の模式的正面図（一部透視図）である。Typical front view inside vacuum processing chamber of one embodiment of vapor deposition film forming apparatus suitable for manufacturing R-Fe-B based sintered magnet having film made of Al or its alloy on the surface (partially see through) Figure). 実施例５において磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ被膜の内部（被膜の厚み方向における中央部付近）の透過型電子顕微鏡による断面写真と図中のサークルで示す部分の結晶回折像である。FIG. 6 is a cross-sectional photograph taken by a transmission electron microscope inside the Al coating formed on the surface of the magnet specimen in Example 5 (near the center in the thickness direction of the coating) and a crystal diffraction image of a portion indicated by a circle in the figure. . 比較例１において磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ被膜の内部（被膜の厚み方向における中央部付近）の透過型電子顕微鏡による断面写真と図中のサークルで示す部分の結晶回折像である。It is the crystal diffraction image of the part shown with the cross-sectional photograph by the transmission electron microscope inside the Al film formed in the surface of the magnet body test piece in Comparative Example 1 (near the center part in the thickness direction of the film) and a circle in the figure. .

１ 真空処理室
２ ボート（蒸発部）
３ 支持テーブル
４ ボート支持台
５ 円筒形バレル
６ 回転シャフト
７ 支持部材
８ 支持軸
９ 蒸着材料のワイヤー
１０ 繰り出しリール
１１ 耐熱性の保護チューブ
１２ 切り欠き窓
１３ 繰り出しギア
３０ 被処理物 1 Vacuum processing chamber 2 Boat (evaporation part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Support table 4 Boat support stand 5 Cylindrical barrel 6 Rotating shaft 7 Support member 8 Support shaft 9 Wire of vapor deposition material 10 Feeding reel 11 Heat-resistant protective tube 12 Notch window 13 Feeding gear 30 Workpiece

本発明の耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、水素含有量が５０ｐｐｍ以上のＡｌまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、蒸着形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜に対してピーニング処理を行うことを特徴とするものである。   The method for producing a corrosion-resistant R—Fe—B based sintered magnet according to the present invention is a method in which a film made of Al or an alloy thereof having a hydrogen content of 50 ppm or more is deposited on the surface of an R—Fe—B based sintered magnet. A peening treatment is performed on a coating film made of deposited Al or an alloy thereof.

本発明におけるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面へのＡｌまたはその合金からなる被膜の蒸着形成は、例えば、蒸着材料の蒸発部へのＡｌまたはその合金の蒸着源の供給がワイヤーフィード方式で行われ、蒸発部におけるＡｌまたはその合金の蒸着源の蒸発が抵抗加熱方式で行われる蒸着被膜形成装置、一例を挙げると、特開２００１−３３５９２１号公報に記載されている、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するためのメッシュで形成された筒型バレルを備えた蒸着被膜形成装置であって、水平方向の回転軸線を中心に回転自在とした支持部材の回転軸線の周方向の外方に筒型バレルが公転自在に支持されており、支持部材を回転させることによって、支持部材の回転軸線を中心に公転運動する筒型バレルと蒸発部の間の距離を可変自在としつつ、ワイヤー状蒸着材料を加熱した蒸発部に連続供給しながら蒸発させることで被処理物の表面に蒸着被膜を形成することができる蒸着被膜形成装置を用いることにより容易に実施することができる。   In the present invention, the deposition of a coating made of Al or an alloy thereof on the surface of the R—Fe—B sintered magnet in the present invention is performed, for example, by supplying a deposition source of Al or an alloy thereof to the evaporation portion of the deposition material by a wire feed system. For example, a vapor deposition film forming apparatus in which evaporation of a vapor deposition source of Al or an alloy thereof in a vaporization section is performed by a resistance heating method is described in JP-A-2001-335921. A vapor deposition film forming apparatus comprising a vapor deposition material evaporation section and a cylindrical barrel formed of a mesh for accommodating an object to be vapor-deposited on the surface of the vapor deposition film, and having a horizontal rotation axis A cylindrical barrel is supported to be revolved outwardly in the circumferential direction of the rotation axis of the support member that is rotatable about the center, and revolves around the rotation axis of the support member by rotating the support member. A vapor deposition film can be formed on the surface of the object to be processed by evaporating while continuously supplying the wire-shaped vapor deposition material to the heated evaporation section while making the distance between the moving barrel barrel and the evaporation section variable. It can implement easily by using a vapor deposition film forming apparatus.

図１は、特開２００１−３３５９２１号公報に記載されている上記の蒸着被膜形成装置の一実施形態の真空処理室の内部の模式的正面図（一部透視図）である。図略の真空排気系に連なる真空処理室１の内部の上方には、水平方向の回転軸線上の回転シャフト６を中心に回転自在とした支持部材７が２個併設されており、この支持部材７の回転シャフト６の周方向の外方に６個のステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル５が支持軸８によって公転自在に環状に支持されている。また、真空処理室１の内部の下方には、蒸着材料を蒸発させる蒸発部であるボート２が、支持テーブル３上に立設されたボート支持台４上に複数個配置されている。支持テーブル３の下方内部には、蒸着材料のワイヤー９が繰り出しリール１０に巻回保持されている。蒸着材料のワイヤー９の先端はボート２の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チューブ１１によってボート２の上方に案内されている。保護チューブ１１の一部には切り欠き窓１２が設けられており、この切り欠き窓１２に対応して設けられた繰り出しギア１３が蒸着材料のワイヤー９に直接接触し、蒸着材料のワイヤー９を繰り出すことによってボート２内に蒸着材料が絶えず供給されるように構成され、蒸着材料のワイヤー９の繰り出し速度を調節することで蒸着被膜の成膜速度を自在に制御することができる。また、回転シャフト６を中心に支持部材７を回転させると（図１矢印参照）、支持部材７の回転シャフト６の周方向の外方に支持軸８によって支持されている円筒形バレル５は、これに対応して、回転シャフト６を中心に公転運動する。その結果、個々の円筒形バレルと支持部材の下方に配置された蒸発部との間の距離が変動することになり、以下の効果が発揮される。即ち、支持部材７の下部に位置した円筒形バレルは蒸発部に接近している。従って、この円筒形バレルに収容された被処理物３０に対しては、その表面に蒸着被膜が効率よく形成される。一方、蒸発部から遠ざかった円筒形バレルに収容された被処理物は、蒸発部から遠ざかった分だけ加熱状態から開放されて冷却される。従って、この間、その表面に形成された蒸着被膜の軟化が抑制される。このように、この蒸着被膜形成装置を用いれば、蒸着被膜の効率的形成と形成された蒸着被膜の軟化抑制を同時に達成することが可能となる。   FIG. 1 is a schematic front view (partially perspective view) of the inside of a vacuum processing chamber of one embodiment of the vapor deposition film forming apparatus described in JP-A-2001-335921. Two support members 7 that are rotatable around a rotation shaft 6 on a horizontal rotation axis are provided above the inside of the vacuum processing chamber 1 connected to a vacuum exhaust system (not shown). A cylindrical barrel 5 formed of six stainless steel mesh wire nets is supported in an annular manner by a support shaft 8 so as to revolve on the outer side in the circumferential direction of the rotary shaft 6. A plurality of boats 2, which are evaporating portions for evaporating the vapor deposition material, are arranged on a boat support base 4 erected on a support table 3 below the vacuum processing chamber 1. Inside the support table 3, a wire 9 made of vapor deposition material is wound and held on a supply reel 10. The tip of the wire 9 of vapor deposition material is guided above the boat 2 by a heat-resistant protective tube 11 facing the inner surface of the boat 2. A cutout window 12 is provided in a part of the protective tube 11, and a feeding gear 13 provided corresponding to the cutout window 12 is in direct contact with the vapor deposition material wire 9, so that the vapor deposition material wire 9 is connected. By being drawn out, the vapor deposition material is constantly supplied into the boat 2, and the film formation rate of the vapor deposition film can be freely controlled by adjusting the feed rate of the wire 9 of the vapor deposition material. When the support member 7 is rotated around the rotation shaft 6 (see the arrow in FIG. 1), the cylindrical barrel 5 supported by the support shaft 8 on the outer side of the rotation shaft 6 of the support member 7 in the circumferential direction is In response to this, a revolving motion is performed around the rotating shaft 6. As a result, the distance between the individual cylindrical barrels and the evaporating part disposed below the support member varies, and the following effects are exhibited. That is, the cylindrical barrel located at the lower part of the support member 7 is close to the evaporation part. Therefore, a vapor deposition film is efficiently formed on the surface of the workpiece 30 accommodated in the cylindrical barrel. On the other hand, the object to be processed accommodated in the cylindrical barrel away from the evaporator is released from the heating state and cooled by the distance away from the evaporator. Therefore, softening of the vapor deposition film formed on the surface is suppressed during this time. Thus, if this vapor deposition film forming apparatus is used, it becomes possible to achieve efficient formation of a vapor deposition film and suppression of softening of the formed vapor deposition film simultaneously.

水素含有量が５０ｐｐｍ以上のＡｌまたはその合金からなる被膜の蒸着形成は、例えば、水素含有量が３ｐｐｍ〜１０ｐｐｍのワイヤー状蒸着材料を１ｇ／分〜１５ｇ／分の繰り出し速度でボートに供給し、被膜の成膜速度を０．１０μｍ／分〜１０μｍ／分とすることで行うことができる（被膜の成膜速度はワイヤーの繰り出し速度や磁石の処理量などによって変動するが概ねこの速度範囲内において目的とする被膜の蒸着形成を実現することができる）。ワイヤー状蒸着材料の水素含有量が少なすぎたり、ワイヤー状蒸着材料の繰り出し速度や被膜の成膜速度が遅すぎたりすると、被膜中の水素含有量が５０ｐｐｍ以上とならない恐れがあるので注意を要する。後の工程における被膜に対するピーニング処理を効果的に行うためには、被膜中の水素含有量は１００ｐｐｍ以上が望ましく、１３０ｐｐｍ以上がより望ましい。被膜中の水素含有量の上限は特段制限されるものではないが、上記の条件において被膜の蒸着形成を行う場合、被膜に含ませることができる水素の最大量は概ね２００ｐｐｍである。ボートの温度は、ボート内の溶融した蒸着材料が溢れ出したり、水素がボイリングしてスプラッシュを引き起こしたりすることを防止し、被膜の蒸着形成を安定に行うために、１３００℃〜１５００℃に制御することが望ましい。被膜の膜厚均一性を向上させるために、円筒形バレルに攪拌用メディアを収容してもよい。攪拌用メディアとしては、例えば平均粒径が５ｍｍ〜１５ｍｍのセラミックスボールなどが挙げられる。   The vapor deposition formation of a film made of Al or an alloy thereof having a hydrogen content of 50 ppm or more is, for example, supplying a wire-like vapor deposition material having a hydrogen content of 3 ppm to 10 ppm to the boat at a feed rate of 1 g / min to 15 g / min, The film can be formed at a film forming speed of 0.10 μm / min to 10 μm / min (the film forming speed varies depending on the wire feeding speed, magnet throughput, etc., but is generally within this speed range. The target film can be formed by vapor deposition). If the wire-like vapor deposition material has too little hydrogen content, or if the wire-like vapor deposition material feed rate or the film formation rate is too slow, the hydrogen content in the film may not exceed 50 ppm. . In order to effectively perform the peening treatment on the coating film in the subsequent step, the hydrogen content in the coating film is desirably 100 ppm or more, and more desirably 130 ppm or more. The upper limit of the hydrogen content in the film is not particularly limited, but when the film is deposited under the above conditions, the maximum amount of hydrogen that can be included in the film is approximately 200 ppm. The temperature of the boat is controlled to 1300 ° C to 1500 ° C in order to prevent the molten deposition material in the boat from overflowing and hydrogen from boiling and causing splash, and to stably deposit the coating. It is desirable to do. In order to improve the film thickness uniformity of the coating, a stirring medium may be accommodated in the cylindrical barrel. Examples of the stirring medium include ceramic balls having an average particle diameter of 5 mm to 15 mm.

なお、水素を含有する蒸着材料を用いた上記の方法は、蒸着材料を蒸発させた際、処理室内に水素を供給することができるので、別途の手段で処理室外部から水素を供給しなくても、処理室内を還元性雰囲気にして、例えば１０^−３Ｐａ以上といった酸素分圧下であっても、溶融させた段階や蒸発させた段階の蒸着材料の酸化を防止し、被膜の蒸着形成を安定に行うことができる点において都合がよい。 Note that in the above-described method using a vapor deposition material containing hydrogen, hydrogen can be supplied into the processing chamber when the vapor deposition material is evaporated. However, even if the processing chamber is in a reducing atmosphere, for example, even under an oxygen partial pressure of 10 ⁻³ Pa or higher, oxidation of the deposited material at the melted or evaporated stage is prevented, and the deposition of the film is stabilized. It is convenient in that it can be performed.

次に、上記のような方法でＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に蒸着形成された水素含有量が５０ｐｐｍ以上のＡｌまたはその合金からなる被膜に対してピーニング処理を行う。前述の通り、蒸着形成されたＡｌ（またはその合金からなる）被膜を構成する結晶組織は、被膜の厚み方向に成長した柱状組織であるが、全く意外なことに、被膜中の水素含有量が５０ｐｐｍ以上であると、被膜に対してピーニング処理を行うことにより、被膜の結晶組織自体が改質され、柱状組織の少なくとも一部がランダムに破壊された結晶間に空隙を持たない緻密な組織に変化することで、被膜の耐食性が向上する。被膜の結晶組織の改質の程度を高めてこの効果をより確実に享受するためには、前述の通り、被膜中の水素含有量は１００ｐｐｍ以上が望ましく、１３０ｐｐｍ以上がより望ましい。なお、被膜の膜厚は３μｍ以上が望ましい。被膜の膜厚が３μｍ未満であると磁石に対する耐食性付与効果が得られない恐れがあるためである。また、被膜の膜厚は５０μｍ以下が望ましい。被膜の膜厚をこれ以上厚くしても磁石に対する耐食性付与効果は変わらず、生産コストの上昇を招くだけになるからである。   Next, a peening treatment is performed on the coating film made of Al or an alloy thereof having a hydrogen content of 50 ppm or more deposited on the surface of the R—Fe—B sintered magnet by the above method. As described above, the crystal structure constituting the deposited Al (or alloy thereof) film is a columnar structure grown in the thickness direction of the film, but surprisingly, the hydrogen content in the film is very small. When it is 50 ppm or more, by performing a peening treatment on the film, the crystal structure itself of the film is modified, and at least a part of the columnar structure is randomly broken to form a dense structure having no voids between crystals. By changing, the corrosion resistance of the coating is improved. In order to increase the degree of modification of the crystal structure of the film and enjoy this effect more reliably, as described above, the hydrogen content in the film is preferably 100 ppm or more, more preferably 130 ppm or more. The film thickness is preferably 3 μm or more. This is because if the film thickness is less than 3 μm, the effect of imparting corrosion resistance to the magnet may not be obtained. The film thickness is preferably 50 μm or less. This is because even if the film thickness is increased, the effect of imparting corrosion resistance to the magnet does not change, and only the production cost increases.

被膜に対するピーニング処理は、例えば、投射材として平均粒径が８０μｍ〜２００μｍ（望ましくは１００μｍ〜１５０μｍ）でモース硬度が３〜８のガラスビーズやスチールボールなどを使用し、０．０１ＭＰａ〜０．５ＭＰａの投射圧で被膜に対して１分間〜１時間程度行えばよい。ピーニング処理が不十分であると被膜の結晶組織の改質が十分に行われない恐れがある一方、過剰であると被膜が磁石表面から剥れてしまったりする恐れがあるので注意を要する。ピーニング処理に使用する装置は、投射ノズルから投射材を磁石に対して投射することができるものであれば特段制限されるものではなく、例えば特開２００１−３４１０７５号公報に記載のブラスト加工装置などを好適に使用することができる。投射ノズルと磁石の距離は８０ｍｍ〜１５０ｍｍとすることが望ましい。なお、ピーニング処理は、５０℃以上の被膜に対して行うことが望ましい。５０℃以上の被膜はビッカース硬度が５０以下で、室温における状態よりも軟化状態にあるため、被膜の結晶組織の改質をより効果的に行うことができるからである。被膜の温度は１００℃以上であることがより望ましい。５０℃以上の被膜に対してピーニング処理を行うためには、成膜終了後、３０分以内に処理を行うことが望ましい（例えば冷却操作を成膜終了直後から大気開放することによって行う場合）。   The peening treatment for the coating is performed using, for example, glass beads or steel balls having an average particle diameter of 80 μm to 200 μm (preferably 100 μm to 150 μm) and a Mohs hardness of 3 to 8 as a projection material, and 0.01 MPa to 0.5 MPa. What is necessary is just to perform about 1 minute-1 hour with respect to a film by the projection pressure of. If the peening treatment is insufficient, the crystal structure of the film may not be sufficiently modified. On the other hand, if it is excessive, the film may be peeled off from the magnet surface. The apparatus used for the peening process is not particularly limited as long as it can project the projection material from the projection nozzle onto the magnet. For example, a blasting apparatus described in JP-A-2001-34175 Can be preferably used. The distance between the projection nozzle and the magnet is desirably 80 mm to 150 mm. In addition, it is desirable to perform a peening process with respect to the film of 50 degreeC or more. This is because a film having a temperature of 50 ° C. or higher has a Vickers hardness of 50 or less and is in a softer state than at room temperature, so that the crystal structure of the film can be modified more effectively. The coating temperature is more preferably 100 ° C. or higher. In order to perform a peening process on a film having a temperature of 50 ° C. or higher, it is desirable to perform the process within 30 minutes after the film formation is completed (for example, when the cooling operation is performed by opening the film to the atmosphere immediately after the film formation is completed).

水素含有量が５０ｐｐｍ以上の被膜に対してピーニング処理を行うことで、被膜表面の平滑化と空隙の封隙だけでなく、被膜の結晶組織自体が改質され、被膜の厚み方向に成長した柱状組織の少なくとも一部がランダムに破壊された結晶間に空隙を持たない緻密な組織に変化することにより、被膜の耐食性が向上する。被膜の結晶組織の改質は、少なくともその一部において行われればよいが、被膜全体にわたって行われることが望ましい。また、改質後の組織の少なくとも一部には、等軸的に微細化された組織が存在することが望ましい。等軸的に微細化された組織の形状は、例えば、被膜中の結晶組織の任意の方向の長さをａ、当該方向に対して垂直方向の長さをｂとすると、０．１＜（ｂ／ａ）＜２の数式を満たす形状であり、ａとｂはいずれも例えば０．１μｍ〜３μｍである。   By peening a coating with a hydrogen content of 50 ppm or more, not only the coating surface is smoothed and voids are sealed, but the crystal structure of the coating itself is modified, and the columnar shape grows in the thickness direction of the coating. Corrosion resistance of the coating is improved by changing to a dense structure having no voids between crystals in which at least a part of the structure is randomly broken. The modification of the crystal structure of the film may be performed at least in a part thereof, but it is desirable to be performed over the entire film. In addition, it is desirable that at least a part of the tissue after the modification has an equiaxially refined structure. The shape of the structure which is refined equiaxed is, for example, 0.1 <((a) where the length of the crystal structure in the film is a in any direction and b is the length perpendicular to the direction. b / a) is a shape that satisfies the mathematical formula of <2, and both a and b are, for example, 0.1 μm to 3 μm.

なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に蒸着形成される被膜がＡｌの合金からなる被膜の場合、Ａｌ以外の金属成分の含有量は１０ｗｔ％以下であることが望ましい。例えば、Ａｌ以外の金属成分としてＭｇを３ｗｔ％〜７ｗｔ％含有するＡｌ合金被膜は、耐塩水性に優れるといった点において望ましい。Ａｌまたはその合金からなる被膜には、混入回避不可避な微量成分が含まれていてもよい。   In addition, when the film vapor-deposited and formed on the surface of the R—Fe—B based sintered magnet is a film made of an Al alloy, the content of metal components other than Al is desirably 10 wt% or less. For example, an Al alloy coating containing 3 wt% to 7 wt% of Mg as a metal component other than Al is desirable in that it has excellent salt water resistance. The coating film made of Al or an alloy thereof may contain a trace component that cannot be avoided.

本発明において用いられるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石における希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種を含んでいてもよく、さらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含んでいてもよい。また、通常はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入手上の便宜などの理由によって用いることもできる。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石におけるＲの含量は、１０原子％未満であるとα−Ｆｅ相が析出するため、高磁気特性、特に高い保磁力（ｉＨｃ）が得られず、一方、３０原子％を越えるとＲリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して優れた特性の永久磁石が得られないので、Ｒの含量は組成の１０原子％〜３０原子％であることが望ましい。   The rare earth element (R) in the R—Fe—B based sintered magnet used in the present invention may contain at least one of Nd, Pr, Dy, Ho, Tb, and Sm, and further La, Ce. , Gd, Er, Eu, Tm, Yb, Lu, Y may be included. Usually, one type of R is sufficient, but in practice, a mixture of two or more types (such as misch metal and didymium) can also be used for reasons of convenience. If the content of R in the R—Fe—B based sintered magnet is less than 10 atomic%, the α-Fe phase precipitates, so that high magnetic properties, particularly high coercive force (iHc) cannot be obtained. If it exceeds atomic%, the R-rich non-magnetic phase increases and the residual magnetic flux density (Br) decreases, and a permanent magnet having excellent characteristics cannot be obtained. Therefore, the R content is 10 atomic% to 30 atomic% of the composition. It is desirable that

Ｆｅの含量は、６５原子％未満であるとＢｒが低下し、８０原子％を越えると高いｉＨｃが得られないので、６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得られる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０原子％を越えると、磁気特性が劣化するので望ましくない。Ｃｏ置換量が５原子％〜１５原子％の場合、Ｂｒは置換しない場合に比較して増加するため、高磁束密度を得るのに望ましい。   If the Fe content is less than 65 atomic%, Br decreases, and if it exceeds 80 atomic%, high iHc cannot be obtained. Therefore, the content of 65 atomic% to 80 atomic% is desirable. Further, by substituting a part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without impairing the magnetic characteristics of the obtained magnet. However, if the Co substitution amount exceeds 20 atomic%, the magnetic characteristics will be improved. Is undesirable as it degrades. When the amount of Co substitution is 5 atom% to 15 atom%, Br increases as compared with the case where it is not substituted, and thus it is desirable for obtaining a high magnetic flux density.

Ｂの含量は、２原子％未満であると菱面体構造が主相となり、高いｉＨｃは得られず、２８原子％を越えるとＢリッチな非磁性相が多くなり、Ｂｒが低下して優れた特性の永久磁石が得られないので、２原子％〜２８原子％の含有が望ましい。また、磁石の製造性の改善や低価格化のために、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．０ｗｔ％以下のＳのうち、少なくとも１種、合計量で２．０ｗｔ％以下を含有していてもよい。さらに、Ｂの一部を３０ｗｔ％以下のＣで置換することによって、磁石の耐食性を改善することができる。   When the content of B is less than 2 atomic%, the rhombohedral structure becomes the main phase, and high iHc cannot be obtained. When it exceeds 28 atomic%, the B-rich nonmagnetic phase increases, and the Br decreases. Since a permanent magnet having the characteristics cannot be obtained, the content is preferably 2 atomic% to 28 atomic%. Moreover, in order to improve the manufacturability and reduce the price of the magnet, at least one of 2.0 wt% or less P and 2.0 wt% or less S is contained in a total amount of 2.0 wt% or less. May be. Furthermore, the corrosion resistance of the magnet can be improved by replacing a part of B with C of 30 wt% or less.

さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種の添加は、保磁力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改善、低価格化に効果がある。なお、その添加量は、最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘを２０ＭＧＯｅ以上とするためには、Ｂｒが少なくとも９ｋＧ以上必要となるので、該条件を満たす範囲で添加することが望ましい。なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石には、Ｒ、Ｆｅ、Ｂ以外に工業的生産上不可避な不純物を含有するものでも差し支えない。   Furthermore, at least one of Al, Ti, V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, Sb, Ge, Sn, Zr, Ni, Si, Zn, Hf, and Ga is added. It is effective in improving the squareness of the demagnetization curve, improving manufacturability, and reducing the price. It should be noted that the amount of Br added is preferably within a range satisfying the condition because Br needs to be at least 9 kG in order to make the maximum energy product (BH) max 20 MGOe or more. The R—Fe—B sintered magnet may contain impurities inevitable in industrial production in addition to R, Fe, and B.

また、本発明において用いられるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の中で、平均結晶粒径が１μｍ〜８０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を主相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相（酸化物相を除く）を含むことを特徴とするものは、ｉＨｃ≧１ｋＯｅ、Ｂｒ＞４ｋＧ、（ＢＨ）ｍａｘ≧１０ＭＧＯｅを示し、（ＢＨ）ｍａｘの最大値は２５ＭＧＯｅ以上に達する。   Further, among the R—Fe—B sintered magnets used in the present invention, a compound having a tetragonal crystal structure having an average crystal grain size in the range of 1 μm to 80 μm is a main phase, and the volume ratio is 1 What is characterized by including a non-magnetic phase (excluding the oxide phase) of 50% to 50% shows iHc ≧ 1 kOe, Br> 4 kG, (BH) max ≧ 10 MGOe, and the maximum value of (BH) max is Reach over 25 MGOe.

なお、ピーニング処理を行った後のＡｌまたはその合金からなる被膜の表面に、更に別の耐食性被膜を積層形成してもよい。このような構成を採用することにより、ピーニング処理を行うことによって少なくともその一部の結晶組織が改質されたＡｌまたはその合金からなる被膜の特性を増強・補完したり、さらなる機能性を付与したりすることができる。   Further, another corrosion-resistant film may be laminated on the surface of the film made of Al or its alloy after the peening treatment. By adopting such a configuration, the characteristics of the coating made of Al or an alloy thereof in which at least a part of the crystal structure is modified by peening treatment are enhanced or supplemented, and further functionality is imparted. Can be.

以下、本発明を実施例と比較例によって詳細に説明するが、本発明は以下の記載に限定して解釈されるものではない。なお、以下の実施例と比較例は、例えば、米国特許４７７０７２３号公報や米国特許４７９２３６８号公報に記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粗粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行うことによって得られたＮｄ_１４Ｆｅ_７９Ｂ_６Ｃｏ_１組成（ａｔ％）の縦５０ｍｍ×横２０ｍｍ×幅２ｍｍ寸法の焼結磁石（以下、磁石体試験片と称する）を用いて行った。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is limited to the following description and is not interpreted. In the following examples and comparative examples, for example, as described in U.S. Pat. No. 4,770,723 and U.S. Pat. No. 4,792,368, a known cast ingot is roughly pulverized, and after fine pulverization, molding, sintering, Using a sintered magnet (hereinafter referred to as a magnet specimen) having a length of 50 mm, a width of 20 mm, and a width of 2 mm of Nd ₁₄ Fe ₇₉ B ₆ Co ₁ composition (at%) obtained by heat treatment and surface treatment. I went.

実施例Ａ：
（工程１）磁石体試験片の表面へのＡｌ被膜の蒸着形成
図１に示した蒸着被膜形成装置を用いて以下のようにして行った。なお、真空処理室内に配置した１２個の円筒形バレルは、直径１１０ｍｍ×長さ６００ｍｍで、ステンレス製メッシュ金網（開口率：約８０％、目開きの形状：一辺が１０ｍｍの正方形、線幅：２ｍｍ）で作製されたものを用いた。
磁石体試験片に対し、サンドブラスト加工を行い、前工程の表面加工で生じた試験片の表面の酸化層を除去した。この酸化層が除去された磁石体試験片をそれぞれの円筒形バレル内に４５個ずつ収容し、さらに攪拌用メディアとして平均粒径が１０ｍｍのセラミックスボール（新東工業社製）を収容し、真空処理室内を全圧が４×１０^−２Ｐａになるまで真空排気した後、Ａｒガスを全圧が５Ｐａになるように導入し、その後、バレルの回転シャフトを４．５ｒｐｍで回転させながら、バイアス電圧−１．０ｋＶの条件下、１５分間グロー放電を行って磁石体試験片の表面を清浄化した。
続いて、Ａｒガス圧１．３Ｐａ、バイアス電圧−０．５ｋＶの条件下、バレルの回転シャフトを４．５ｒｐｍで回転させながら、水素含有量が５ｐｐｍのＡｌワイヤー（ＪＩＳ Ａ１０７０に準拠したもの）の繰り出し速度を調節してＡｌワイヤーを蒸発部に連続供給し、これを加熱して蒸発させてイオン化し、イオンプレーティングを行い、磁石体試験片の表面にＡｌ被膜を蒸着形成した。成膜条件の詳細と成膜結果を表１に示す。なお、被膜の膜厚は磁石体試験片１０個の平均値として求めた。成膜速度は被膜の膜厚を蒸着時間で除して求めた。被膜の水素含有量は円筒形バレルの外側に固定した３枚のガラスプレートに蒸着形成された被膜から溶解法にて測定し、その平均値として求めた。 Example A:
(Step 1) Vapor deposition of Al coating on the surface of the magnet test piece The following procedure was performed using the vapor deposition coating forming apparatus shown in FIG. The twelve cylindrical barrels arranged in the vacuum processing chamber have a diameter of 110 mm × length of 600 mm, a stainless steel mesh wire mesh (opening ratio: about 80%, opening shape: square with a side of 10 mm, line width: 2 mm) was used.
The magnetic body test piece was subjected to sand blasting to remove the oxide layer on the surface of the test piece generated by the surface processing in the previous step. Forty-five magnet test specimens from which the oxide layer has been removed are accommodated in each cylindrical barrel, and ceramic balls having an average particle diameter of 10 mm (manufactured by Shinto Kogyo Co., Ltd.) are accommodated as a stirring medium. After evacuating the process chamber to a total pressure of 4 × 10 ⁻² Pa, Ar gas was introduced so that the total pressure was 5 Pa, and then the bias was applied while rotating the rotating shaft of the barrel at 4.5 rpm. Under the condition of a voltage of −1.0 kV, glow discharge was performed for 15 minutes to clean the surface of the magnet specimen.
Subsequently, under the conditions of Ar gas pressure 1.3 Pa and bias voltage −0.5 kV, while rotating the rotating shaft of the barrel at 4.5 rpm, the hydrogen content of Al wire (conforming to JIS A1070) was 5 ppm. The feeding speed was adjusted to continuously supply the Al wire to the evaporation section, which was heated and evaporated to be ionized, ion-plated, and an Al film was deposited on the surface of the magnet specimen. Table 1 shows the details of the film formation conditions and the film formation results. In addition, the film thickness of the film was calculated | required as an average value of ten magnet body test pieces. The film formation rate was determined by dividing the film thickness by the deposition time. The hydrogen content of the coating was measured by a dissolution method from coatings deposited on three glass plates fixed on the outside of the cylindrical barrel, and the average value was obtained.

（工程２）磁石体試験片の表面に蒸着形成されたＡｌ被膜に対するピーニング処理
モース硬度が６で平均粒度が１２０μｍのガラスビーズ（共栄研磨材社製）を用いたショットピーニングを表２の条件で行った。 (Step 2) Peening treatment for Al coating deposited on the surface of the magnet test piece Shot peening using glass beads having a Mohs hardness of 6 and an average particle size of 120 μm (manufactured by Kyoei Abrasives) under the conditions shown in Table 2 went.

以上のようにして得た表面にショットピーニングを行ったＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片に対し、恒温恒湿試験機（ＬＨ−１１２：タバイエスペック社製）を用いて、温度８０℃×相対湿度９０％の湿潤雰囲気に曝露する湿潤試験を行った。被験サンプルを湿潤雰囲気に１０００時間曝露した後、発錆の有無を確認してから写真撮影を行い、被膜表面の錆面積率を画像処理により算出し、錆面積率が１％以下の場合を良好、１％を超える場合を不良と評価した。結果を表３に示す（磁石体試験片２個の平均値）。   Using a constant temperature and humidity tester (LH-112: manufactured by Tabay Espec Co., Ltd.), a temperature of 80 ° C. relative to the magnet body test piece having the Al vapor-deposited film subjected to shot peening on the surface obtained as described above. A wet test was performed by exposing to a humid atmosphere of 90% humidity. After exposing the test sample to a humid atmosphere for 1000 hours, confirm the presence or absence of rust, take a picture, calculate the rust area ratio of the coating surface by image processing, and the rust area ratio is 1% or less A case of exceeding 1% was evaluated as defective. The results are shown in Table 3 (average value of two magnet body test pieces).

表１〜表３から明らかなように、磁石体試験片の表面に蒸着形成されたＡｌ被膜の水素含有量は、Ａｌワイヤーの繰り出し速度に相関する単位時間当たりの放出水素量と、成膜速度に依存しており、Ａｌワイヤーからの単位時間当たりの放出水素量が増加することによって蒸着形成時における真空処理室内の水素分圧が上昇することに加え、成膜速度の上昇によって増加した。また、Ａｌ被膜に対するピーニング処理の効果は、Ａｌ被膜の水素含有量が多いほど高く、錆面積率による評価において優れた結果を示した。
実施例５において磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ被膜の内部（被膜の厚み方向における中央部付近）の結晶組織と、比較例１において磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ被膜の内部（被膜の厚み方向における中央部付近）の結晶組織を、透過型電子顕微鏡による被膜の断面写真と結晶回折像によって解析を行った。結果をそれぞれ図２と図３に示す。図３から明らかなように、後者の結晶組織は、ショットピーニングを行う前の被膜の厚み方向に成長した柱状組織のままであり、結晶間には微細な空隙が存在するものであった。これに対し、前者の結晶組織は、図２から明らかなように、ショットピーニングを行う前の柱状組織がランダムに破壊された結晶間に空隙を持たない緻密な組織に変化したものであり、等軸的に微細化された組織の存在を確認することができた（図２において枠で囲った部分。ａとｂはいずれも約０．５μｍでｂ／ａは約１）。なお、実施例５において認められた結晶組織の改質は、他の実施例においても同様に認められた。また、ショットピーニングを行うことによるＡｌ被膜の膜厚の変化は、実施例においても比較例においてもほとんどなかった。 As is apparent from Tables 1 to 3, the hydrogen content of the Al coating deposited on the surface of the magnet specimen is determined by the amount of hydrogen released per unit time correlated with the feeding speed of the Al wire and the film formation rate. In addition to an increase in the amount of hydrogen released per unit time from the Al wire, the hydrogen partial pressure in the vacuum processing chamber at the time of vapor deposition formation increased, and also increased due to an increase in film formation rate. In addition, the effect of the peening treatment on the Al film was higher as the hydrogen content of the Al film was higher, and an excellent result was obtained in the evaluation based on the rust area ratio.
The crystal structure inside the Al coating formed on the surface of the magnet specimen in Example 5 (near the center in the thickness direction of the coating) and the Al coating formed on the surface of the magnet specimen in Comparative Example 1 The internal crystal structure (near the center in the thickness direction of the film) was analyzed by a cross-sectional photograph and a crystal diffraction image of the film with a transmission electron microscope. The results are shown in FIGS. 2 and 3, respectively. As is clear from FIG. 3, the latter crystal structure remains a columnar structure grown in the thickness direction of the film before shot peening, and there are fine voids between the crystals. On the other hand, as is clear from FIG. 2, the former crystal structure is a columnar structure before shot peening is changed into a dense structure having no voids between randomly broken crystals, etc. The presence of the axially refined tissue could be confirmed (the portion surrounded by a frame in FIG. 2. Both a and b were about 0.5 μm and b / a was about 1). The modification of the crystal structure observed in Example 5 was similarly recognized in other examples. Moreover, there was almost no change in the film thickness of the Al coating film due to shot peening in both the example and the comparative example.

実施例Ｂ：
水素含有量が５ｐｐｍのＡｌワイヤーのかわりに、水素含有量が７ｐｐｍであってＭｇを４．８ｗｔ％含有するＡｌ合金ワイヤー（ＪＩＳ Ａ５３５６−ＷＹに準拠したもの）を用いること以外は実施例Ａと同様の実験を行ったところ、程度の違いはあるものの実施例Ａと同様の結果を得た。 Example B:
Example A and Example A except that instead of an Al wire having a hydrogen content of 5 ppm, an Al alloy wire having a hydrogen content of 7 ppm and containing 4.8 wt% of Mg (conforming to JIS A5356-WY) is used. When the same experiment was conducted, the same result as in Example A was obtained although there was a difference in degree.

本発明は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することができる点において産業上の利用可能性を有する。   The present invention has industrial applicability in that it can provide a method for producing an R—Fe—B sintered magnet exhibiting excellent corrosion resistance even under severe conditions.

Claims (3)

Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、水素含有量が５０ｐｐｍ以上のＡｌまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、蒸着形成された５０℃以上のＡｌまたはその合金からなる被膜に対してピーニング処理を行うことにより、被膜の少なくとも一部の結晶組織を結晶間に空隙を持たない組織に改質することを特徴とする耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の製造方法。 On the surface of R-Fe-B based sintered magnet, after the hydrogen content was vapor deposited a coating of 50ppm or more Al or alloys thereof, with respect to coating of 50 ° C. or more Al or its alloy is deposited formed A method for producing a corrosion-resistant R—Fe—B based sintered magnet, wherein the peening treatment is performed to modify at least a part of the crystal structure of the coating into a structure having no voids between crystals . Ａｌまたはその合金からなる被膜の成膜速度を０．１０μｍ／分〜１０μｍ／分とすることを特徴とする請求項１記載の製造方法。 2. The production method according to claim 1, wherein the film forming rate of the film made of Al or an alloy thereof is set to 0.10 [mu] m / min to 10 [mu] m / min . 請求項１または２記載の製造方法によって製造されてなることを特徴とする耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石。 A corrosion-resistant R-Fe-B sintered magnet produced by the production method according to claim 1 or 2 .