JP5376791B2 - 多階調フォトマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正された多階調フォトマスク - Google Patents
多階調フォトマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正された多階調フォトマスク Download PDFInfo
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Description
欠陥を含む前記半透過膜を前記欠陥と共に除去する工程と、
前記除去された半透過膜に代えて、前記遮光膜のパターンとの境界部を覆い全周に余剰部が存在するように修正半透過膜を堆積する工程と、
前記修正半透過膜の余剰部の一部をレーザー光で除去して整形する工程とを含み、
前記除去されるべき余剰部は前記遮光膜のパターンとのオーバーラップ部を含まず、かつ
前記整形する工程は、前記オーバーラップ部以外の他の余剰部に対しては露光装置の解像限界以下の部分が残るように除去することを特徴とする。
前記遮光膜のパターンとの境界部を覆うようにかつ全周に余剰部が存在するように前記修正半透過膜が形成され、前記遮光膜のパターンと前記修正半透過膜のパターンとのオーバーラップ部を有すると共に
前記オーバーラップ部以外の他の余剰部は露光装置の解像限界以下の部分が残るようにレーザー光で除去されて整形された
ことを特徴とする欠陥が修正されたことを特徴とする。
図1は、本発明の実施形態について説明するための図である。以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
11 未修正半透過膜
12 欠陥
12a 白欠陥
12b 黒欠陥
13 修正半透過膜
14 トリミング処理後の修正半透過膜
L レーザー光
C1 クラック
C2 膜剥がれ
A レーザーザッピングの起点(遮光膜と修正半透過膜のオーバーラップ部)
B レーザーザッピングの終点(遮光膜と修正半透過膜の他のオーバーラップ部)
d 余剰部の離間距離
Claims (4)
- 透明基板の上に少なくとも遮光膜のパターンと半透過膜のパターンとが形成された多階調フォトマスクの前記半透過膜に欠陥が含まれている場合に適用される多階調フォトマスクの欠陥修正方法であって、
欠陥を含む前記半透過膜を前記欠陥と共に除去する工程と、
前記除去された半透過膜に代えて、前記遮光膜のパターンとの境界部を覆い全周に余剰部が存在するように修正半透過膜を堆積する工程と、
前記修正半透過膜の余剰部の一部をレーザー光で除去して整形する工程とを含み、
前記除去されるべき余剰部は前記遮光膜のパターンとのオーバーラップ部を含まず、かつ
前記整形する工程は、前記オーバーラップ部以外の他の余剰部に対しては露光装置の解像限界以下の部分が残るように除去することを特徴とする多階調フォトマスクの欠陥修正方法。 - 前記遮光膜はクロム原子を含む請求項1記載の多階調フォトマスクの欠陥修正方法。
- 前記修正半透過膜を堆積する工程は光CVD法である請求項1又は2記載の多階調フォトマスクの欠陥修正方法。
- 透明基板の上に少なくとも遮光膜のパターンと修正半透過膜のパターンとが形成された多階調フォトマスクであって、
前記遮光膜のパターンとの境界部を覆うようにかつ全周に余剰部が存在するように前記修正半透過膜が形成され、前記遮光膜のパターンと前記修正半透過膜のパターンとのオーバーラップ部を有すると共に
前記オーバーラップ部以外の他の余剰部は露光装置の解像限界以下の部分が残るようにレーザー光で除去されて整形された
ことを特徴とする欠陥が修正された多階調フォトマスク。
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