JP5368973B2 - Semiconductor device radiator and method of manufacturing the same - Google Patents
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Description
本発明は、例えば、トランジスタやLSI、マイクロプロセッサなどの、使用により発熱する半導体素子の冷却に用いる放熱器及びその製造方法であって、特に、放熱フィンを備えた半導体素子の放熱器及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a radiator used for cooling a semiconductor element that generates heat by use, such as a transistor, LSI, or microprocessor, and a method for manufacturing the same, and more particularly, a radiator for a semiconductor element including a radiation fin and its manufacture. Regarding the method.
半導体素子を冷却する放熱器には種々の形態があるが、従来、半導体素子を取り付ける基板の裏面に放熱フィンを列設して放熱面積を拡大することにより、放熱効果を高めた放熱器が知られている。このような放熱器及びその製造方法、特に、支持基板への放熱フィンの固定方法は、種々提案されている。 There are various types of heatsinks that cool the semiconductor element. Conventionally, heatsinks with improved heat dissipation effects have been known by arranging heatsink fins on the backside of the substrate to which the semiconductor element is mounted to expand the heatsink area. It has been. Various proposals have been made for such a radiator and its manufacturing method, in particular, for fixing a radiating fin to a support substrate.
例えば、参考文献(日本国特開2001−308231号公報 参照して説明に代える)には、中間部がU字状に折曲げられ、両端部が所定間隔で対向して形成された複数の放熱フィンと、この複数の放熱フィンのU字状折曲部が嵌合される複数の溝を所定間隔で平行に多数形成した放熱フィン支持基板と、複数の溝に嵌合された複数の放熱フィンのU字状折曲部内に嵌合されて、U字状折曲部を溝の内壁に圧接させることにより、複数の放熱フィンを複数の溝に嵌合固定する楔材と、により構成されたことを特徴とする電子部品の放熱器が記載されている。参考文献に記載の電子部品の放熱器の製造方法によれば、複数の放熱フィンを支持基板の複数の溝にそれぞれ嵌合し、複数の放熱フィンのU字状の開口部分にそれぞれ楔材を挿入する。そして、楔材をプレス工具で押圧して溝内に拡げ、楔材と溝の内壁で、一個の溝に対向した2枚の放熱フィンを一度に嵌合・固定する。このようにして、半導体素子の放熱器を製造する。 For example, in a reference document (instead of the description with reference to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-308231), a plurality of heat dissipations in which an intermediate portion is bent in a U shape and both end portions are opposed to each other at a predetermined interval. A plurality of fins, a plurality of grooves in which U-shaped bent portions of the plurality of heat dissipating fins are fitted in parallel, and a plurality of heat dissipating fins fitted in the plurality of grooves; And a wedge material that fits and fixes a plurality of heat dissipating fins to the plurality of grooves by pressing the U-shaped bent portion against the inner wall of the groove. An electronic component radiator characterized by the above is described. According to the method of manufacturing a radiator for an electronic component described in the reference, a plurality of heat radiation fins are respectively fitted into a plurality of grooves in a support substrate, and a wedge material is respectively attached to U-shaped opening portions of the plurality of heat radiation fins. insert. Then, the wedge material is pressed with a press tool to be expanded in the groove, and two radiating fins facing one groove are fitted and fixed at a time by the wedge material and the inner wall of the groove. In this manner, a heat sink for a semiconductor element is manufactured.
しかしながら、前記したような半導体素子の放熱器及びその製造方法には、さらに改良の余地が残されていた。
例えば、半導体素子の放熱器は、出来る限り製造費用を抑えることが求められている。このため、製造工程数の削減、部品点数の削減、設備費用の節約などが重要な課題となっている。However, there is still room for improvement in the semiconductor element heatsink and the manufacturing method thereof as described above.
For example, it is required to reduce the manufacturing cost of a heat sink for a semiconductor element as much as possible. For this reason, reduction of the number of manufacturing processes, reduction of the number of parts, saving of equipment costs, etc. are important issues.
この点を踏まえて検討すると、参考文献に示す半導体素子の放熱器は、楔材を用いて支持基板に放熱フィンを固定する構成であるため、構成が複雑となることに加え、部品点数が増加し、製造費用が高額となっていた。 Considering this point, the semiconductor element radiator shown in the reference is configured to fix the radiating fins to the support substrate using a wedge material, which increases the number of parts in addition to the complexity of the configuration. However, the manufacturing cost was high.
そこで、本発明は、部品点数が少なく、簡易な構成で安価に製造することができる半導体素子の放熱器及びその製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a heat sink for a semiconductor device that has a small number of parts and can be manufactured at low cost with a simple configuration and a method for manufacturing the same.
前記課題を解決した本発明は、支持基板と、複数の放熱フィンとを備えた半導体素子の放熱器であって、前記支持基板は、前記支持基板に対して垂直方向に立ち下がる一対の側壁部と、前記一対の側壁部から連続して形成され、前記支持基板に対して平行方向に延びる底部と、を有して所定間隔で凹設される複数の固定溝を有し、前記放熱フィンは、熱を放熱するための第1の放熱部と、前記第1の放熱部の一端部を前記第1の放熱部から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第1被固定部と、前記第1の放熱部から連続して形成され、前記第1の放熱部に対して直角方向に曲折させて形成した熱を放熱するための第2の放熱部と、前記第2の放熱部から連続して形成され、前記第1の放熱部と対面して設けられる熱を放熱するための第3の放熱部と、前記第3の放熱部から連続して形成され、その一端部を前記第3の放熱部から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第2被固定部と、を有し、前記固定溝は、前記底部から立ち上がる突起を有し、前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を、前記突起を押圧してなるフィン固定部で固定する構成とした。 The present invention that has solved the above problems is a heat sink for a semiconductor device comprising a support substrate and a plurality of heat dissipating fins, wherein the support substrate falls in a direction perpendicular to the support substrate. And a plurality of fixing grooves that are continuously formed from the pair of side wall portions and extend in a parallel direction with respect to the support substrate, and are recessed at predetermined intervals, A first heat dissipating part for dissipating heat; a first fixed part formed by bending one end of the first heat dissipating part in a direction perpendicular to the direction away from the first heat dissipating part; A second heat dissipating part for dissipating heat formed continuously from the first heat dissipating part and bent in a direction perpendicular to the first heat dissipating part; and from the second heat dissipating part To dissipate the heat that is formed continuously and provided facing the first heat dissipation portion A second heat dissipating part, and a second fixed part formed continuously from the third heat dissipating part and having one end bent in a direction perpendicular to the direction away from the third heat dissipating part, The fixing groove has a protrusion rising from the bottom, and presses the protrusion against the second fixed part of the one radiating fin and the first fixed part of the other radiating fin. It was set as the structure fixed with a fin fixing | fixed part.
このような構成としたことにより、突起の両側に一の放熱フィンの第2被固定部と他の放熱フィンの第1被固定部とを配置した状態で突起を押圧することにより、フィン固定部が形成される。このフィン固定部により、一の放熱フィンの第2被固定部及び他の放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定し、これにより、一の放熱フィンと他の放熱フィンを固定溝内に固定することができる。従って、従来のように、放熱フィンを固定するための楔材などの部品を必要としない。このため、部品点数が削減され、放熱器が安価となる。 By adopting such a configuration, the fin fixing portion is pressed by pressing the protrusion in a state where the second fixed portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin are arranged on both sides of the protrusion. Is formed. With this fin fixing portion, the second fixed portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin are fixed to the fixing groove, whereby the one radiating fin and the other radiating fin are placed in the fixing groove. Can be fixed to. Therefore, there is no need for parts such as a wedge material for fixing the heat dissipating fins as in the prior art. For this reason, the number of parts is reduced, and the heat radiator becomes inexpensive.
また、前記フィン固定部が、前記突起を前記一の放熱フィンの第2被固定部側へ曲折させて形成した第1曲折部と、前記突起を前記他の放熱フィンの第1被固定部側へ曲折させて形成した第2曲折部と、を含んでなる構成としてもよい。 The fin fixing portion includes a first bent portion formed by bending the protrusion toward the second fixed portion of the one heat dissipating fin, and the protrusion serving as the first fixed portion side of the other heat dissipating fin. It is good also as a structure including the 2nd bending part formed by making it bend | fold into a bend.
これによれば、第1曲折部により、一の放熱フィンの第2被固定部を固定溝に固定し、第2曲折部により、他の放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定する。このため、より確実かつ強固に放熱フィンを支持基板に固定することができる。 According to this, the second fixed portion of one radiating fin is fixed to the fixing groove by the first bent portion, and the first fixed portion of the other radiating fin is fixed to the fixing groove by the second bent portion. . For this reason, a radiation fin can be fixed to a support substrate more reliably and firmly.
また、前記第1曲折部と前記第2曲折部とを交互に形成してもよい。 Moreover, you may form the said 1st bending part and the said 2nd bending part alternately.
これによれば、第1曲折部と第2曲折部とが交互に形成されているため、一の放熱フィンの第2被固定部及び他の放熱フィンの第1被固定部をむらなく押圧する。このため、より確実かつ強固に放熱フィンを支持基板に固定することができる。 According to this, since the first bent portion and the second bent portion are alternately formed, the second fixed portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin are pressed evenly. . For this reason, a radiation fin can be fixed to a support substrate more reliably and firmly.
また、前記フィン固定部が、前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を、前記突起を略均等に圧潰して形成した圧潰部を含んでなる構成としてもよい。また、前記圧潰部を、断続的に形成してもよい。 Further, the fin fixing portion includes a crushing portion formed by crushing the protrusion substantially uniformly with the second fixed portion of the one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin. It is good also as a structure. The crushing part may be formed intermittently.
これによれば、突起を略均等に圧潰して形成した圧潰部により、一の前記放熱フィンの第2被固定部及び他の前記放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定することができる。このため、放熱フィンを支持基板へ強固に固定することができるとともに、放熱フィンの支持基板への固定を容易にすることができる。 According to this, the second fixed part of one of the radiating fins and the first fixed part of the other radiating fin can be fixed to the fixing groove by the crushing part formed by crushing the protrusions substantially uniformly. it can. For this reason, while being able to firmly fix a radiation fin to a support substrate, fixation to a support substrate of a radiation fin can be made easy.
また、本発明の半導体素子の放熱器の製造方法は、請求の範囲第1項に記載の半導体素子の放熱器を製造する方法であって、基板製造段階と、フィン成形段階と、固定段階と、を含んでなる。
A method for manufacturing a heat sink for a semiconductor device according to the present invention is a method for manufacturing a heat sink for a semiconductor device according to
本発明の半導体素子の放熱器の製造方法によれば、基板製造段階により、前記支持基板に所定間隔で前記固定溝を複数凹設するとともに前記底部に突起を凸設し、フィン成形段階により、金属薄板を、前記固定溝間の寸法と略同じ寸法をもって当該固定溝の稜線と並行に設定された二つの曲折部で当該金属薄板の他側面側に曲折させて前記第1の放熱部と、前記第2の放熱部と、前記第3の放熱部と、を形成し、当該第1の放熱部と第3の放熱部の端部を互いに外側に向かって直角方向に曲折させて第1被固定部と第2被固定部を形成することにより前記放熱フィンを複数製造し、固定段階により、前記一の放熱フィンの第3の放熱部と第2被固定部を一の前記固定溝の一方の側壁部と底部に沿うように配置し、前記突起を挟んで、前記他の放熱フィンの第1の放熱部と第1被固定部を他方の側壁部と底部に沿うように配置した状態で、プレス工具により、前記突起を押圧してフィン固定部を形成し、当該フィン固定部で、前記一の放熱フィンの第2被固定部と前記他の放熱フィンの第1被固定部を前記固定溝に固定することで、前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定する。 According to the semiconductor element radiator manufacturing method of the present invention, a plurality of the fixing grooves are provided in the support substrate at a predetermined interval and a protrusion is provided on the bottom portion, and a fin forming step. The metal thin plate is bent to the other side of the metal thin plate at two bent portions set in parallel with the ridge line of the fixed groove with the same dimension as the dimension between the fixed grooves, and the first heat radiating portion, The second heat radiating portion and the third heat radiating portion are formed, and the end portions of the first heat radiating portion and the third heat radiating portion are bent outwardly from each other in a direction perpendicular to the first covered portion. A plurality of the heat dissipating fins are manufactured by forming a fixing part and a second fixed part, and the third heat dissipating part and the second fixed part of the one heat dissipating fin are connected to one of the fixing grooves by a fixing step. Arranged along the side wall and bottom of the other, sandwiching the protrusion, the other In a state where the first heat radiating portion and the first fixed portion of the heat fin are arranged along the other side wall portion and the bottom portion, the protrusion is pressed by a press tool to form a fin fixing portion, and the fin fixing Fixing the second fixed portion of the one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin in the fixing groove, thereby supporting the one radiating fin and the other radiating fin. Secure to the board.
これによれば、フィン固定部により一の放熱フィンの第2被固定部と他の放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定することで、放熱フィンを支持基板に固定するため、楔材などを使用することなく、支持基板に放熱フィンを嵌合し、固定することができる。このため、放熱器の部品点数を削減することができ、製造工程数を低減することができ、また、放熱器を安価に製造することができる。 According to this, the second fixing portion of one radiating fin and the first fixing portion of the other radiating fin are fixed to the fixing groove by the fin fixing portion, so that the radiating fin is fixed to the support substrate. Without using a material or the like, the heat radiation fin can be fitted and fixed to the support substrate. For this reason, the number of parts of the radiator can be reduced, the number of manufacturing steps can be reduced, and the radiator can be manufactured at low cost.
また、前記固定段階が、前記プレス工具により、前記突起を前記一の放熱フィンの第2被固定部側へ曲折させて固定する第1曲折部を形成し、かつ、前記突起を前記他の放熱フィンの第1被固定部側へ曲折させて固定する第2曲折部を形成して前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定してもよい。 Further, the fixing step forms a first bent portion for fixing the protrusion by bending the protrusion to the second fixed portion side of the one heat dissipating fin, and the protrusion is fixed to the other heat radiation. A second bent portion that is bent and fixed toward the first fixed portion side of the fin may be formed to fix the one radiating fin and the other radiating fin to the support substrate.
これによれば、第1押圧部と第2押圧部とにより、一の放熱フィンの第2被固定部と他の放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定することで、放熱フィンを支持基板に固定するため、楔材などを使用することなく、支持基板に放熱フィンを嵌合し、固定することができる。このため、半導体素子の放熱器の部品点数を削減することができ、製造工程数を低減することができ、また、半導体素子の放熱器を安価に製造することができる。 According to this, the first pressing portion and the second pressing portion fix the second finned portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin to the fixing groove, thereby fixing the radiating fin. Since it fixes to a support substrate, a radiation fin can be fitted and fixed to a support substrate, without using a wedge material etc. For this reason, the number of parts of the radiator of the semiconductor element can be reduced, the number of manufacturing steps can be reduced, and the radiator of the semiconductor element can be manufactured at low cost.
また、前記固定段階が、前記第1曲折部と前記第2曲折部とを交互に形成してもよい。
これによれば、第1曲折部と第2曲折部とが交互に形成されているため、第1被固定部と第2被固定部をむらなく押圧し、より確実かつ強固に放熱フィンを固定溝内に固定することができる。Further, the fixing step may alternately form the first bent portion and the second bent portion.
According to this, since the first bent portion and the second bent portion are alternately formed, the first fixed portion and the second fixed portion are pressed evenly, and the radiating fin is fixed more securely and firmly. It can be fixed in the groove.
また、前記固定段階が、前記プレス工具により、前記突起を圧潰して前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を固定する圧潰部を形成し、前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定してもよい。 Further, the fixing step forms a crushing portion for crushing the protrusion by the pressing tool and fixing the second fixed portion of the one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin, The one radiating fin and the other radiating fin may be fixed to the support substrate.
これによれば、圧潰部により、一の放熱フィンの第2被固定部と他の放熱フィンの第1被固定部を固定溝に固定することで、放熱フィンを支持基板に固定するため、楔材などを使用することなく、支持基板に放熱フィンを固定することができる。このため、半導体素子の放熱器の部品点数を削減することができ、製造工程数を低減することができ、また、半導体素子の放熱器を安価に製造することができる。 According to this, the crushing portion fixes the second finned portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin to the fixing groove, thereby fixing the radiating fin to the support substrate. The heat radiation fin can be fixed to the support substrate without using a material or the like. For this reason, the number of parts of the radiator of the semiconductor element can be reduced, the number of manufacturing steps can be reduced, and the radiator of the semiconductor element can be manufactured at low cost.
本発明によれば、次のような効果を得ることができる。すなわち、本発明の半導体素子の放熱器によれば、楔材などの部品を使用せずに放熱フィンを支持基板に固定することができるため、部品点数を削減することができる。また、本発明の放熱器の放熱フィンは、フィン固定部と放熱部とを板状のプレス加工などにより一体成形することができるため、成形が容易である。また、本発明の半導体素子の放熱器の支持基板は、基板部分と固定溝と突起とを押出加工などにより一体成形することができるため、成形が容易である。さらに、特別な製造設備などを必要としないため、半導体素子の放熱器を安価に製造することができる。さらに加えて、本発明の半導体素子の放熱器によれば、放熱フィンの支持基板への固定強度及び安定性を高くすることができる。 According to the present invention, the following effects can be obtained. That is, according to the radiator of the semiconductor element of the present invention, the radiation fins can be fixed to the support substrate without using components such as wedges, so that the number of components can be reduced. In addition, the heat dissipating fins of the radiator of the present invention can be easily formed because the fin fixing portion and the heat dissipating portion can be integrally formed by a plate-like press working or the like. In addition, the support substrate of the radiator of the semiconductor element of the present invention can be easily formed because the substrate portion, the fixing groove and the protrusion can be integrally formed by extrusion or the like. Furthermore, since no special manufacturing equipment or the like is required, a radiator for a semiconductor element can be manufactured at low cost. In addition, according to the radiator of the semiconductor element of the present invention, the fixing strength and stability of the radiating fin to the support substrate can be increased.
また、本発明の半導体素子の放熱器の製造方法によれば、製造工程数を削減することができ、半導体素子の放熱器を安価に製造することができる。また、放熱フィンの支持基板への固定強度及び安定性が高い放熱器を得ることができる。 Further, according to the method for manufacturing a heat sink for a semiconductor element of the present invention, the number of manufacturing steps can be reduced, and the heat sink for a semiconductor element can be manufactured at low cost. Moreover, the heat radiator with the fixed strength to the support substrate of a radiation fin and high stability can be obtained.
前記した本発明の諸側面および効果、並びに、他の効果および更なる特徴は、添付の図面を参照して後述する本発明の例示的かつ非制限的な実施の形態の詳細な説明により、一層明らかとなるであろう。 The above aspects and advantages of the present invention, as well as other effects and further features, will become more apparent from the following detailed description of exemplary and non-limiting embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. It will be clear.
以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
図1は、第1実施形態の放熱器の全体を示す分解斜視図であり、図2(a)は、本発明の第1実施形態の放熱器の製造方法を説明するためのフローチャート、(b)は、フィン成形段階における放熱フィンの成形の様子を示す概念図であり、図3(a)〜(c)は、第1実施形態の放熱器を製造する様子を説明する模式図、図4は、第1実施形態の放熱器の製造方法における固定段階をより詳しく説明するための模式図であって、(a)は、図3(b)段階のプレス工具を挿入する様子を示す図、(b)は、プレス工具の拡大斜視図、(c)は、図3(c)段階の放熱フィンが固定された様子を示す図である。なお、以下の説明において、上下方向は、図面中の方向と同じであるものとする。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the entire radiator of the first embodiment, and FIG. 2A is a flowchart for explaining a manufacturing method of the radiator of the first embodiment of the present invention. ) Is a conceptual diagram showing a state of forming the heat radiating fins in the fin forming stage, and FIGS. 3A to 3C are schematic views for explaining a state of manufacturing the radiator of the first embodiment, FIG. These are the schematic diagrams for demonstrating in detail the fixing step in the manufacturing method of the heat radiator of 1st Embodiment, Comprising: (a) is a figure which shows a mode that the press tool of the step of FIG.3 (b) is inserted, (B) is an enlarged perspective view of a press tool, (c) is a figure which shows a mode that the radiation fin of the stage of FIG.3 (c) was fixed. In the following description, the vertical direction is the same as the direction in the drawings.
第1実施形態の放熱器1Aは、図1に示すように、支持基板10と、支持基板10に立設される複数の放熱フィン20と、を主に有して構成される。
ここで、支持基板10及び放熱フィン20には、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの熱伝導性に優れた素材で形成するとよい。なお、支持基板の幅Lは、放熱器1Aが使用される半導体素子に合わせて適宜設定することができる。As shown in FIG. 1, the
Here, the
支持基板10は、上面部11に、放熱フィン20を固定するための、所定幅及び深さを有する固定溝13を複数本有している。
また、支持基板10は、下面部12に、半導体素子などの発熱源(図示せず)が当接される。The
Further, the
固定溝13は、支持基板10の上面部11から下面部12側へ向かって複数本凹設され、上面部11に対して略垂直に立ち下がる側壁部13a、13bと、側壁部13a、13bから連続して、上面部11に対して水平に形成される底部13cと、底部13cから凸設される突起14に形成される第1曲折部15a及び第2曲折部15b(図4(b)参照)と、を有して構成される。
ここで、側壁部13a、13bは、特許請求の範囲における「一方の側壁部」、「他方の側壁部」に相当し、「第1曲折部15a及び第2曲折部15b」は、特許請求の範囲における「フィン固定部」に相当する。A plurality of fixing
Here, the
突起14は、第1曲折部15a及び第2曲折部15bが形成されるものであって、底部13cの略中央部から連続して支持基板10の上面部11側に向かって立ち上がるように凸設されたレール状部材である。突起14の一方側と側壁部13aとの間には、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25が配置され、他方側と側壁部13bとの間には、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´(図3参照)が配置されるようになっている。
The
第1曲折部15aは、一の放熱フィン20の第2被固定部25を固定溝13に押圧して固定するものであって、突起14の基端部付近(底部13c側の端部付近)を第2被固定部25側へ曲折させて形成している。
第2曲折部15bは、他の放熱フィン20´の第1被固定部24´(それぞれ図3参照)を固定溝13に押圧して固定するものであって、突起14の基端部付近(底部13c側の端部付近)を第1被固定部24´(図3参照)側へ曲折させて形成している。The first
The second
このように構成された固定溝13は、支持基板10を製造する際の押出加工や固定溝13を設けるための切削加工などにより形成することができる。なお、固定溝13の深さや幅は、放熱フィン20の寸法等に応じて適宜設定することができる。
The fixed
図1及び図2(b)に示すように、放熱フィン20は、第1の放熱部21と、第1の放熱部21から連続する第2の放熱部22と、第2の放熱部22から連続する第3の放熱部23と、を主に有して構成される断面コ字状の金属薄板部材である。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2B, the
第1の放熱部21は、放熱フィン20の側壁部分を構成するものであって、その外壁側で固定溝13の側壁部13bに当接し、支持基板10に対して垂直方向に立設されている。また、第1の放熱部21は、固定溝13に嵌合される側の一端部を第1の放熱部21から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第1被固定部24を有している。
The first
第1被固定部24は、後記するように固定溝13に放熱フィン20を嵌合、固定するものであって、放熱フィン20を固定溝13内に配置したときに、突起14と側壁部13bとの間に位置する底部13cに当接する。
As will be described later, the first fixed
第2の放熱部22は、放熱フィン20の上端部分を構成するものであって、両側を固定溝13、13に挟まれた上面部11と略同じ幅を有し、第1の放熱部21から連続して第1の放熱部21に対し略直角に曲折して形成されている。
The second
第3の放熱部23は、放熱フィン20の側壁部分を構成するものであって、第2の放熱部22から連続して形成され、その内壁側で固定溝13の側壁部13aに当接し、支持基板10に対して垂直方向に立設されている。また、第3の放熱部23は、固定溝13に嵌合される側の一端部を第3の放熱部23から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第2被固定部25を有している。
The third
第2被固定部25は、後記するように固定溝13に放熱フィン20を嵌合、固定するものであって、放熱フィン20を固定溝13内に配置したときに、突起14と側壁部13aとの間に位置する底部13cに当接する。
As will be described later, the second fixed
ここで、放熱フィン20の第1の放熱部21及び第3の放熱部23の高さ寸法は、放熱効果を得るために十分な高さであれば特に限定されない。放熱フィン20の幅寸法は、支持基板10の幅L以下でもそれ以上でも良く特に限定されない。また、放熱フィン20の厚さ寸法は、強度などを考慮して適宜設定することができるが、0.3〜0.8mmの金属薄板を用いて形成することが望ましい。これにより、放熱器1Aの重量を低減することができる。
Here, the height dimension of the first
支持基板10は、放熱フィン20の厚さ寸法を0.3〜0.8mmとしたときに、5.0〜10.0mmの厚さ寸法で形成し、固定溝13は、放熱フィン20を固定したときに、フィンピッチが3.0〜10.0mmとなる幅寸法で形成することが好ましい。
The
突起14は、放熱フィン20の厚さ寸法を0.3〜0.8mmとしたときに、底部13cからの高さ寸法を1.5〜3.0mm、幅寸法を0.5〜1.0mmとすると、プレス工具30Aで押圧したときに、適切に放熱フィン20側へ曲げることができるため、好ましい。
The
このように構成した第1実施形態の放熱器1Aの製造方法について以下に説明する。
図2(a)に示すように、第1実施形態の放熱器1Aの製造方法は、基板製造段階S1と、フィン成形段階S2と、固定段階S3と、を有して構成される。以下に説明する。A method for manufacturing the
As shown in FIG. 2A, the method of manufacturing the
まず、基板製造段階S1について説明する。
基板製造段階S1は、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの熱伝導性の高い素材からなる金属を、例えば、押出加工して、金属板の一方の板面部(例えば、上面部11)に、固定溝13を複数本凹設し、さらに、固定溝13の底部13cに突起14を複数本凸設して支持基板10を製造する。
また、例えば、固定溝13を複数本凹設した支持基板10は、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの熱伝導性の高い素材からなる金属を、切削加工により形成してもよい。First, the substrate manufacturing stage S1 will be described.
In the substrate manufacturing stage S1, a metal made of a material having high thermal conductivity such as copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy is extruded, for example, to one plate surface portion (for example, the upper surface portion 11) of the metal plate. The
Further, for example, the
次に、フィン成形段階S2について説明する。
図2(b)に示すように、フィン成形段階S2は、銅、銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの熱伝導性の高い素材からなる金属薄板Sの、一端部と他端部を金属薄板Sの一側面側(図2(b)において上面側)へ曲折させて第1被固定部24と第2被固定部25とを形成する。Next, the fin forming step S2 will be described.
As shown in FIG. 2 (b), the fin forming step S2 is performed in such a manner that one end and the other end of the metal thin plate S made of a material having high thermal conductivity such as copper, copper alloy, aluminum, or aluminum alloy are connected to the metal thin plate S. The first fixed
そして、第1被固定部24の基端部と第2被固定部25の基端部から金属薄板Sの中央側へ向かってそれぞれ略同じ距離離間した位置であって、かつ、固定溝13、13間の上面部11と略同じ寸法だけ間隔を空けた位置において、金属薄板Sの他側面側(図2(b)において下面側)に向かって直角方向に曲折させて、第1の放熱部21、第2の放熱部22及び第3の放熱部23を形成する。このようにして、放熱フィン20を成形する。なお、第1の放熱部21、第2の放熱部22、第3の放熱部23を形成した後に、第1被固定部24、第2被固定部25を形成しても良いことは勿論である。
And it is a position spaced apart from the base end part of the first
このような構成の放熱フィン20は、第1の放熱部21と、第1被固定部24と、第2の放熱部22と、第3の放熱部23と、第2被固定部25とを、例えば、プレス加工やロールフォーミングなどにより成形して得ることができる。
The
なお、特許請求の範囲における「稜線」とは、固定溝13の側壁部13a、側壁部13bと上面部11とで形成される角部分のことをいう。
また、金属薄板Sは、第1被固定部24及び第2被固定部25を形成した後の長さが、第1の放熱部21、第2の放熱部22及び第3の放熱部23を合わせた長さと略同一となる。The “ridge line” in the claims refers to a corner portion formed by the
Further, the metal thin plate S has a length after the first fixed
次に、固定段階S3について説明する。
図3(a)に示すように、まず、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25を一の固定溝13の側壁部13a及び底部13cに当接させて配置する。これとともに、突起14を挟んで、一の放熱フィン20と並行に、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´を一の固定溝13の側壁部13b及び底部13cに当接させて配置する。Next, the fixing stage S3 will be described.
As shown in FIG. 3A, first, the third
このように一の放熱フィン20、他の放熱フィン20´が固定溝13内に嵌合された状態で、図3(b)に示すように、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´の間から固定溝13の突起14に向かってプレス工具30Aを挿入する。
In the state where one radiating
ここで、プレス工具30Aによる突起14の押圧方法について説明する。
図4(a)、(b)に示すように、プレス工具30Aは、金属板状部材であって、先端部にプレス部31Aが形成されており、このプレス部31Aで突起14を押圧する。Here, a method of pressing the
As shown in FIGS. 4A and 4B, the
プレス部31Aは、図4(b)に示すように、先端部に向かって先細りとなるテーパ面を有している。また、プレス部31Aは、図4(a)に示すように、プレス工具30Aが突起14上に配置されたときに左側、すなわち、一の放熱フィン20が固定溝13に配置された状態で、第2被固定部25側へ突起14を曲折させるために、先端部から左上方向へ拡径する左プレス部31aと、右側、すなわち、他の放熱フィン20´が固定溝13に配置された状態で突起14を第1被固定部24´側へ曲折させるために、先端部から右上方向へ拡径する右プレス部31bと、が、プレス工具30Aの長手方向に交互に配置されている。なお、左プレス部31aと右プレス部31bは、必ずしも交互に配置されている必要はない。また、本実施形態では、先端部と左プレス部31aまたは右プレス部31bとの間に平坦面を有しているが、この平坦面を有していなくても良い。
As shown in FIG. 4B, the
また、左プレス部31aと右プレス部31bとの間には、隙間32Aが形成されている。この隙間32Aの、プレス工具30Aの先端部からの高さは、突起14の高さと略同じか、若干高くなるように形成されている。このように、左プレス部31aと右プレス部31bとの間に隙間32Aを設けることで、プレス工具30Aで押圧したときに負荷を少なくすることができるので、突起14を、左プレス部31a及び右プレス部31bの形状に沿って曲げやすくすることができる。
Further, a
左プレス部31a、右プレス部31b及び隙間32Aの幅は、適宜設定することができ、例えば、左プレス部31a、右プレス部31bの幅を10.0mmとしたときに、隙間32Aの幅を5.0mmで形成すると好ましい。このようにすると安定した固定強度を持った第1曲折部15a及び第2曲折部15bを得ることでき、かつ、押圧時の負荷も少なくすることができる。
The width of the
このようなプレス工具30Aを用いて、突起14を底部13cに近接する方向に押圧すると、突起14が左プレス部31a、右プレス部31bの形状に沿って曲げられていく。例えば、突起14は、一の放熱フィン20の第2被固定部25の先端部と突起14との接点を支点として第2被固定部25方向へ曲折し、かつ、他の放熱フィン20´の第1被固定部24´の先端部と突起14との接点を支点として、第1被固定部24´方向へ曲折する。
When the
そして、図3(c)、図4(c)に示すように、突起14には、左プレス部31aで押圧された部分に、第1曲折部15aが形成され、また、右プレス部31bで押圧された部分に、第2曲折部15bが形成される。なお、本実施形態では、隙間32A分の間隔を空けて、第1曲折部15aと第2曲折部15bとが交互に複数形成されている。
As shown in FIGS. 3C and 4C, the
このようにして、図3(c)及び図4(c)に示すように、第1曲折部15aが、第2被固定部25を底部13c方向へ押圧するとともに、第3の放熱部23を固定溝13の側壁部13b方向へ押圧して、放熱フィン20を支持基板10に固定する。同様にして、第2曲折部15bが、第1被固定部24´を底部13c方向へ押圧するとともに、第1の放熱部21´を固定溝13の側壁部13a方向へ押圧して、放熱フィン20´を支持基板10に固定する。このようにして、放熱フィン20及び放熱フィン20´が、固定溝13を介して、一度に支持基板10に固定される。
In this way, as shown in FIG. 3C and FIG. 4C, the first
以上のようにして、一の放熱フィン20と一の放熱フィン20に隣り合う他の放熱フィン20´とが一の固定溝13内にそれぞれ嵌合され、第1曲折部15a及び第2曲折部15bにより押圧されて固定される。このように放熱フィン20及び放熱フィン20´を支持基板10に固定することにより、放熱フィン20が複数枚連設される。
As described above, the one radiating
第1実施形態の放熱器1Aによれば、楔材などを使用することなく、放熱フィン20を、固定溝13を介して支持基板10に固定することができるため、部品点数及び製造工程数が削減され、安価に製造することができる。
According to the
また、第1実施形態の放熱器1Aによれば、一の放熱フィン20の第3の放熱部23及び第2被固定部25が、第1曲折部15aにより、固定溝13の側壁部13a及び底部13c方向に押圧されて固定される。同様にして、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´及び第1被固定部24´が、第2曲折部15bにより、固定溝13の側壁部13b及び底部13c方向に押圧されて固定される。これにより、放熱フィン20と固定溝13の接触面積を多くすることができ、また、密着度を高くすることができるため、一の放熱フィン20及び他の放熱フィン20´と固定溝13との間の熱の伝導性を向上させることができる。また、第1曲折部15aと第2曲折部15bとにより、放熱フィン20が固定溝13の側壁部13a、側壁部13b方向に押圧された状態で固定されるため、隣接する放熱フィン20同士の間隔が一定に保たれ、安定性が高くなる。
Further, according to the
また、第1実施形態の放熱器1Aに使用される放熱フィン20は、第1の放熱部21と、第2の放熱部22と、第3の放熱部23と、第1被固定部24と、第2被固定部25と、をプレス加工などにより一体成形することができるため、成形が容易である。また、特別な製造設備などを必要としないため、安価に製造することができる。
Moreover, the
第1実施形態では、基板製造段階S1、フィン成形段階S2、固定段階S3の順で放熱器1Aを製造したが、これに限られず、フィン成形段階、基板製造段階、固定段階の順で放熱器1Aを製造してもよい。
In the first embodiment, the
次に、第2実施形態について、図5、図6及び適宜図1、図2を参照して説明する。図5(a)〜(c)は、第2実施形態の放熱器を製造する様子を説明する模式図、図6は、第2実施形態の放熱器の製造方法における固定段階をより詳しく説明した模式図であり、(a)は、プレス工具を挿入する様子を示す図、(b)は、プレス工具の拡大斜視図、(c)は、圧潰部が形成された様子を示す図である。 Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6 and FIGS. 1 and 2 as appropriate. FIGS. 5A to 5C are schematic views for explaining a state of manufacturing the radiator of the second embodiment, and FIG. 6 explains in more detail a fixing step in the method of manufacturing the radiator of the second embodiment. It is a schematic diagram, (a) is a diagram showing a state where a press tool is inserted, (b) is an enlarged perspective view of the press tool, and (c) is a diagram showing a state where a crushing portion is formed.
なお、第2実施形態の放熱器1Bは、第1実施形態の放熱器1Aにおいて、フィン固定部を変更したものであるので、第1実施形態の放熱器1Aと同一の構成要素については同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、第1実施形態の放熱器1Aの製造方法の説明と重複する部分は省略する。
In addition, since the
第2実施形態の放熱器1Bは、図5(c)に示すように、固定溝13に、圧潰部15cを有している。圧潰部15cは、特許請求の範囲における「フィン固定部」に相当する。
以下、放熱器1Bの製造方法について説明する。なお、基板製造段階S1及びフィン成形段階S2は、第1実施形態と同様であるため、ここでは、固定段階S3のみについて説明する。As shown in FIG. 5C, the
Hereinafter, the manufacturing method of the
図5(a)に示すように、まず、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25を一の固定溝13の側壁部13a及び底部13cに当接させて配置する。これとともに、突起14を挟んで、一の放熱フィン20と並行に、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´を一の固定溝13の側壁部13b及び底部13cに当接させて配置する。
As shown in FIG. 5A, first, the third
このように一の放熱フィン20、他の放熱フィン20´が固定溝13内に嵌合された状態で、図5(b)に示すように、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´の間から固定溝13の突起14に向かってプレス工具30Bを挿入する。
In the state where one radiating
ここで、プレス工具30Bによる突起14の押圧方法について説明する。
図6(a)、(b)に示すように、プレス工具30Bは、金属板状部材であって、先端部にプレス部31Bが形成されており、このプレス部31Bで突起14を押圧する。Here, the pressing method of the
As shown in FIGS. 6A and 6B, the
プレス部31Bは、突起14を押圧する先端部に平坦面を有し、プレス工具30Bの長手方向に複数並設されている。プレス部31Bは、この平坦面で突起14を圧潰する。
また、隣接するプレス部31B間には、隙間32Bが形成されている。隙間32Bの、プレス工具30Bの先端部からの高さは、突起14の高さと略同じか、若干高くなるように形成されている。このように、隣接するプレス部31B間に隙間32Bを設けることで、プレス工具30Bで押圧したときに負荷を少なくすることができるので、突起14を、プレス部31Bの形状に沿って圧潰しやすくすることができる。The
Further, a
なお、隙間32Bを形成せずに、プレス部31Bを連続して形成してもよいことは勿論である。これによれば、一の放熱フィン20の第2被固定部25と他の放熱フィン20´の第1被固定部24´をより強固に押圧することができ、放熱フィン20及び放熱フィン20´の支持基板10への固定強度を高くすることができる。
Of course, the
プレス部31B及び隙間32Bの幅は、適宜設定することができ、例えば、プレス部31Bの幅を10.0mmとしたときに、隙間32Bの幅を5.0mmで形成すると好ましい。このようにすると、安定した固定強度を持った圧潰部15cが得られる。
The widths of the
プレス工具30Bで、突起14を底部13cに近接する方向に押圧すると、突起14が、プレス部31Bの先端部の形状に沿って長手方向に略均等に圧潰されていく。図5(c)、図6(c)に示すように、突起14が圧潰されて一の放熱フィン20の第2被固定部25と他の放熱フィン20´の第1被固定部24´の上へ均等に拡がることで、圧潰部15cが長手方向における同一位置に複数形成される。なお、第2実施形態では、圧潰部15cは、隙間32B分の間隔を空けて断続的に形成されているが、圧潰部15cを連続して形成することとしても良い。
When the
このようにして形成された圧潰部15cが、一の放熱フィンの第2被固定部25を底部13c方向へ押圧して、放熱フィン20を支持基板10に固定すると共に、他の放熱フィン20´の第1被固定部24´を底部13c方向へ押圧して、放熱フィン20´を支持基板10に固定する。これにより、放熱フィン20及び放熱フィン20´が、固定溝13を介して、一度に支持基板10に固定される。
The crushing
以上のようにして、一の放熱フィン20と一の放熱フィン20に隣り合う他の放熱フィン20´とが一の固定溝13内にそれぞれ嵌合され、圧潰部15cにより固定される。このように放熱フィン20及び放熱フィン20´を支持基板10に固定することにより、放熱フィン20が複数枚連設される。
As described above, one radiating
第2実施形態の放熱器1Bによれば、楔材などを使用することなく、放熱フィン20を固定溝13を介して支持基板10に固定することができるため、部品点数及び製造工程数が削減され、安価に製造することができる。
According to the
第2実施形態の放熱器1Bによれば、突起14を圧潰して形成した圧潰部15cにより、一の放熱フィン20の第2被固定部25と他の放熱フィン20´の第1被固定部24´を固定溝13の底部13c方向へ押圧して固定するので、一の放熱フィン20及び他の放熱フィン20´を支持基板10により強固に固定することができる。また、圧潰部15cは、突起14をプレス工具30Bのプレス部31Bで圧潰するだけで形成することができるので、放熱フィン20の支持基板10への固定をさらに容易にすることができる。
According to the
次に、第3実施形態について、図7、図8及び適宜図1、図2を参照して説明する。図7(a)、(b)は、第3実施形態の放熱器の固定溝の拡大図、図8(a)〜(c)は、第3実施形態の放熱器を製造する様子を示す模式図、図9は、第3実施形態の放熱器の製造方法における固定段階をより詳しく説明するための模式図であって、(a)は、プレス工具を挿入する様子を示す図、(b)は、プレス工具の拡大斜視図、(c)は、第1曲折部及び第2曲折部が形成された様子を示す図である。 Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. 7 and 8 and FIGS. 1 and 2 as appropriate. FIGS. 7A and 7B are enlarged views of the fixing groove of the radiator according to the third embodiment, and FIGS. 8A to 8C are schematic diagrams illustrating how the radiator according to the third embodiment is manufactured. FIGS. 9A and 9B are schematic views for explaining in more detail the fixing stage in the method of manufacturing the radiator according to the third embodiment, and FIG. 9A is a diagram showing a state in which a press tool is inserted, FIG. These are the expansion perspective views of a press tool, (c) is a figure which shows a mode that the 1st bending part and the 2nd bending part were formed.
なお、第3実施形態の放熱器1Cは、第1実施形態の放熱器1Aにおいて、突起及びフィン固定部を変更したものであるので、第1実施形態の放熱器1Aと同一の構成要素については同一の符号を付し、重複する記載を省略する。また、第1実施形態の放熱器1Aの製造方法の説明と重複する部分は省略する。 In addition, since 1 C of radiators of 3rd Embodiment change the protrusion and the fin fixing part in 1 A of radiators of 1st Embodiment, about the same component as 1 A of radiators of 1st Embodiment The same reference numerals are given, and repeated descriptions are omitted. Moreover, the part which overlaps with description of the manufacturing method of 1 A of heat radiators of 1st Embodiment is abbreviate | omitted.
第3実施形態の放熱器1Cは、図7(a)に示すように、固定溝13の底部13cに、所定間隔を空けてそれぞれ凸設される2つの突起14a、突起14bを有する。突起14a、突起14bは、第1曲折部15c及び第2曲折部15d(図8(c)参照)となるものであり、支持基板10の上面部11側に向かって立ち上がるように凸設されたレール状部材である。第1曲折部15d及び第2曲折部15e(図8(c)参照)は、特許請求の範囲における「フィン固定部」に相当する。
As shown in FIG. 7A, the
突起14aは、底部13cにおける側壁部13a寄りの位置に形成され、突起14bは、底部13cにおける側壁部13b寄りの位置に形成される。突起14aと突起14bの底部13cからの高さは、一の放熱フィン20、他の放熱フィン20´の寸法に応じて適宜設定することができる。
The
ここで、突起14aの側壁部14a1と固定溝13の側壁部13aとの間には、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25が配置されるようになっている。
好ましくは、一の放熱フィン20の第3の放熱部23を側壁部13aに当接させ、第2被固定部25を底部13cに当接させて配置したときに、第2被固定部25の先端部が側壁部14a1と近接するように、突起14aの位置を調節する。Here, between the
Preferably, when the third
同様にして、突起14bの側壁部14b1と固定溝13の側壁部13bとの間には、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´(それぞれ図8参照)が配置されるようになっている。好ましくは、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´を側壁部13bに当接させて配置したときに、第1被固定部24´の先端部が側壁部14b1と近接するように、突起14bの位置を調節する。
Similarly, between the side wall part 14b1 of the
このように構成された突起14a及び突起14bは、図9(a)、(c)に示すように、固定溝13の全幅にわたって延設される。
The
次に、第3実施形態の放熱器1Cの製造方法について説明する。なお、基板製造段階S1及びフィン成形段階S2は、第1実施形態の放熱器1Aの製造方法と同様であるため、ここでは固定段階S3のみについて説明する。固定段階S3は、支持基板10の固定溝13に放熱フィン20を嵌合する段階である。
Next, a method for manufacturing the
図8(a)に示すように、まず、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25を一の固定溝13の側壁部13a及び底部13cに当接させ、第2被固定部25の先端部を突起14aに近接させて配置する。これとともに、一の放熱フィン20と並行に、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´を一の固定溝13の側壁部13a及び底部13cに当接させ、第1被固定部24´の先端部を突起14bに近接させて配置する。
As shown in FIG. 8A, first, the third
ここで、突起14a及び突起14bを押圧するためのプレス工具30Cの構成について説明する。図9(a)、(b)に示すように、プレス工具30Cは、金属板状部材であって、先端部にプレス部31Cが形成されており、このプレス部31Cで突起14a及び突起14bを押圧する。
Here, the structure of the
プレス部31Cは、プレス工具30Cの長手方向に連続して形成されており、先端側に向かうにつれて先細りとなるテーパ状に形成されている。プレス部31Cの幅は、適宜設定することができるが、突起14aの外壁部から突起14bの外壁部までの幅よりも小さく形成し、かつ、突起14aの内壁部から突起14bの内壁部までの幅よりも大きく形成すると好ましい。また、プレス部31Cの傾斜角度は、適宜設定することができる。
The
次に、プレス工具30Cにより突起14a及び突起14bを押圧する方法について説明する。図8(a)に示すように、一の放熱フィン20と他の放熱フィン20´が固定溝13内に嵌合された状態で、図8(b)に示すように、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´の間から、プレス工具30Cを突起14a及び突起14b方向に挿入していき、プレス部31Cを、突起14aと突起14bの間に挿入する。
Next, a method for pressing the
このような状態で、プレス工具30Cをさらに押し入れると、図8(c)に示すように、突起14a及び突起14bが、プレス部31Cの形状に沿って曲げられていく。例えば、突起14aは、一の放熱フィン20の第2被固定部25の先端部と突起14aとの接点を支点として、第2被固定部25方向へ曲折し、第1曲折部15dが形成される。また例えば、突起14bは、他の放熱フィン20´の第1被固定部24´の先端部と突起14bとの接点を支点として、第1被固定部24´方向へ曲折し、第2曲折部15eが形成される。
When the
図8(c)及び図9(c)に示すように、このようにして形成された第1曲折部15dが第2被固定部25を底部13c方向へ押圧して放熱フィン20を支持基板10に固定する。これと共に、第2曲折部15eが第1被固定部24´を底部13c方向へ押圧して、放熱フィン20´を支持基板10に固定する。これにより、放熱フィン20及び放熱フィン20´が、固定溝13を介して、一度に支持基板10に固定される。
As shown in FIGS. 8C and 9C, the first
またこのとき、第1曲折部15dは、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25に密接し、第2曲折部15eは、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24´に密接する。
At this time, the first
以上のようにして、一の放熱フィン20と一の放熱フィン20に隣り合う他の放熱フィン20´とが一の固定溝13内にそれぞれ嵌合され、第1曲折部15d及び第2曲折部15eにより固定される。このように放熱フィン20及び放熱フィン20´を支持基板10に固定することにより、放熱フィン20が複数枚連設される。
As described above, the one radiating
第3実施形態の放熱器1Cによれば、突起14aを曲折させて形成した第1曲折部15dにより、一の放熱フィン20の第2被固定部25を固定溝13の底部13c方向へ押圧して固定するとともに、突起14bを曲折させて形成した第2曲折部15eにより、他の放熱フィン20´の第1被固定部24´を固定溝13の底部13c方向へ押圧して固定するので、一の放熱フィン20及び他の放熱フィン20´を支持基板10に、より強力に固定することができる。
According to the
また、第3実施形態の放熱器1Cによれば、第1曲折部15dと第2曲折部15eが固定溝13の全幅にわたって延設され、さらに、第1曲折部15dを、一の放熱フィン20の第3の放熱部23と第2被固定部25に密接させ、第2曲折部15eを、他の放熱フィン20´の第1の放熱部21´と第1被固定部24に密接させることができるため、一の放熱フィン20と他の放熱フィン20´を支持基板10に、より強力に固定することができる。加えて、一の放熱フィン20と第1曲折部15dとの接触面積、及び、他の放熱フィン20´と第2曲折部15eとの接触面積を大きくすることができる。このため、位置の放熱フィン20及び他の放熱フィン20´と固定溝13との間の熱の伝導性を向上させることができ、放熱効率を向上させることができる。
Further, according to the
なお、図7(b)に示すように、放熱器1Cの固定溝13には、突起14aと突起14bの間に、底部13cよりも高さを低くした底部13dを凹設しても良い。
これによれば、プレス工具30Cのプレス部31Cを当該底部13dまで挿入することができるので、より強い力で突起14a、突起14bを押圧することができる。このため、一の放熱フィン20の第2被固定部25及び他の放熱フィン20´の第1被固定部24´をより強固に固定溝13に固定することができる。これにより、一の放熱フィン20及び他の放熱フィン20´を支持基板10に、より強力に固定することができる。As shown in FIG. 7B, the fixing
According to this, since the
Claims (10)
前記支持基板は、前記支持基板に対して垂直方向に立ち下がる一対の側壁部と、前記一対の側壁部から連続して形成され、前記支持基板に対して平行方向に延びる底部と、を有して所定間隔で凹設される複数の固定溝を有し、
前記放熱フィンは、熱を放熱するための第1の放熱部と、前記第1の放熱部の一端部を前記第1の放熱部から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第1被固定部と、前記第1の放熱部から連続して形成され、前記第1の放熱部に対して直角方向に曲折させて形成した熱を放熱するための第2の放熱部と、前記第2の放熱部から連続して形成され、前記第1の放熱部と対面して設けられる熱を放熱するための第3の放熱部と、前記第3の放熱部から連続して形成され、その一端部を前記第3の放熱部から離間する方向に直角方向に曲折させて形成した第2被固定部と、を有し、
前記固定溝は、前記底部から立ち上がる突起を有し、前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を、前記突起を押圧してなるフィン固定部で固定する
ことを特徴とする半導体素子の放熱器。 A heat sink for a semiconductor element comprising a support substrate and a plurality of heat radiation fins,
The support substrate has a pair of side wall portions that fall in a direction perpendicular to the support substrate, and a bottom portion that is formed continuously from the pair of side wall portions and extends in a direction parallel to the support substrate. A plurality of fixing grooves recessed at predetermined intervals,
The heat radiating fin includes a first heat radiating portion for radiating heat, and a first cover formed by bending one end of the first heat radiating portion in a direction perpendicular to the direction away from the first heat radiating portion. A second heat dissipating part for dissipating heat formed continuously from the fixing part and the first heat dissipating part and bent in a direction perpendicular to the first heat dissipating part; A third heat dissipating part for dissipating heat provided facing the first heat dissipating part, and one end of the third heat dissipating part. A second fixed part formed by bending the part in a direction perpendicular to the direction away from the third heat radiating part,
The fixing groove has a protrusion rising from the bottom, and the second fixing portion of the one radiating fin and the first fixing portion of the other radiating fin are fin fixing portions formed by pressing the protrusion. A heat sink for a semiconductor element, characterized by being fixed.
前記突起を前記一の放熱フィンの第2被固定部側へ曲折させて形成した第1曲折部と、
前記突起を前記他の放熱フィンの第1被固定部側へ曲折させて形成した第2曲折部と、を含んでなる
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の放熱器。 The fin fixing portion is
A first bent portion formed by bending the protrusion toward the second fixed portion side of the one radiation fin;
The heat sink for a semiconductor device according to claim 1 , further comprising: a second bent portion formed by bending the protrusion toward the first fixed portion side of the other radiating fin.
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体素子の放熱器。 The said 1st bending part and the said 2nd bending part were formed alternately. The heat radiator of the semiconductor element of Claim 2 characterized by the above-mentioned.
前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を、前記突起を略均等に圧潰して形成した圧潰部を含んでなる
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の放熱器。 The fin fixing portion is
Claim 1, characterized in that it comprises a pinch of the second fixed portion and a first fixed portion of said other radiating fin, formed by substantially uniformly crush the projection of the one of the heat radiating fins The heat sink of the semiconductor element as described in.
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体素子の放熱器。 The heat sink for a semiconductor element according to claim 4 , wherein the crushing portion is formed intermittently.
前記支持基板に所定間隔で前記固定溝を複数凹設するとともに前記底部に突起を凸設する基板製造段階と、
金属薄板を、前記固定溝間の寸法と略同じ寸法をもって当該固定溝の稜線と並行に設定された二つの曲折部で当該金属薄板の他側面側に曲折させて前記第1の放熱部と、前記第2の放熱部と、前記第3の放熱部と、を形成し、当該第1の放熱部と第3の放熱部の端部を互いに外側に向かって直角方向に曲折させて第1被固定部と第2被固定部を形成することにより前記放熱フィンを複数製造するフィン成形段階と、
前記一の放熱フィンの第3の放熱部と第2被固定部が一の前記固定溝の一方の側壁部と底部に沿うように配置し、前記突起を挟んで、前記他の放熱フィンの第1の放熱部と第1被固定部が他方の側壁部と底部に沿うように配置した状態で、プレス工具により、前記突起を押圧して前記フィン固定部を形成し、当該フィン固定部で前記一の放熱フィンの第2被固定部と前記他の放熱フィンの第1被固定部を前記固定溝に固定することで、前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定する固定段階と、を備える
ことを特徴とする半導体素子の放熱器の製造方法。 It is a manufacturing method of the heat radiator of the semiconductor element according to claim 1 ,
A substrate manufacturing stage in which a plurality of the fixing grooves are provided at a predetermined interval on the support substrate and a protrusion is provided on the bottom.
The metal thin plate is bent to the other side of the metal thin plate at two bent portions set in parallel with the ridge line of the fixed groove with the same dimension as the dimension between the fixed grooves, and the first heat radiating portion, The second heat radiating portion and the third heat radiating portion are formed, and the end portions of the first heat radiating portion and the third heat radiating portion are bent outwardly from each other in a direction perpendicular to the first covered portion. A fin forming step of manufacturing a plurality of the heat dissipating fins by forming a fixed portion and a second fixed portion;
The third heat dissipating part and the second fixed part of the one heat dissipating fin are arranged so as to be along one side wall part and the bottom part of the one fixing groove, and the second heat dissipating fins With the heat dissipating part and the first fixed part arranged along the other side wall part and the bottom part, the projection is pressed by the press tool to form the fin fixing part, and the fin fixing part By fixing the second fixed portion of one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin to the fixing groove, the one radiating fin and the other radiating fin are fixed to the support substrate. A method of manufacturing a heat sink for a semiconductor device, comprising: a fixing step.
前記プレス工具により、前記突起を前記一の放熱フィンの第2被固定部側へ曲折させて固定する第1曲折部を形成し、かつ、前記突起を前記他の放熱フィンの第1被固定部側へ曲折させて固定する第2曲折部を形成して前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定する
ことを特徴とする請求項6に記載の半導体素子の放熱器の製造方法。 The fixing step is
The press tool forms a first bent portion that bends and fixes the protrusion to the second fixed portion side of the one radiating fin, and the protrusion is a first fixed portion of the other radiating fin. 7. The semiconductor device radiator according to claim 6 , wherein a second bent portion that is bent and fixed to the side is formed to fix the one radiating fin and the other radiating fin to the support substrate. Production method.
前記第1曲折部と前記第2曲折部とを前記固定溝方向に交互に形成する
ことを特徴とする請求項7に記載の半導体素子の放熱器の製造方法。 The fixing step is
The method of manufacturing a radiator for a semiconductor device according to claim 7 , wherein the first bent portion and the second bent portion are alternately formed in the direction of the fixed groove.
前記プレス工具により、前記突起を圧潰して前記一の放熱フィンの第2被固定部及び前記他の放熱フィンの第1被固定部を固定する圧潰部を形成し、前記一の放熱フィンと前記他の放熱フィンを前記支持基板に固定する
ことを特徴とする請求項6に記載の半導体素子の放熱器の製造方法。 The fixing step is
The pressing tool is used to crush the protrusion to form a crushing portion for fixing the second fixed portion of the one radiating fin and the first fixed portion of the other radiating fin, and the one radiating fin and the The method of manufacturing a heatsink for a semiconductor device according to claim 6 , wherein another heat radiation fin is fixed to the support substrate.
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体素子の放熱器の製造方法。 The method of manufacturing a radiator for a semiconductor device according to claim 9 , wherein the fixing step intermittently forms the crushing portion.
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