JP5365096B2 - Optical system, exposure apparatus, and electronic device manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学系、露光装置に関するものであり、より具体的には光学系の中に配置される可変開口絞りに関するものである。また、本発明は、半導体素子、液晶表示素子などのデバイスを製造するためのリソグラフィ工程で使用される露光装置の光学系に使用して好適なものであり、該露光装置を用いる電子デバイスの製造方法にも関するものである。 The present invention relates to an optical system and an exposure apparatus, and more specifically to a variable aperture stop disposed in the optical system. Further, the present invention is suitable for use in an optical system of an exposure apparatus used in a lithography process for manufacturing a device such as a semiconductor element or a liquid crystal display element, and manufacture of an electronic device using the exposure apparatus It also relates to the method.
半導体素子、液晶表示素子などのデバイスを製造するためのリソグラフィ工程では、基板への微細パターンの形成に際し、形成すべきパターンの形状に応じた光量分布を有する露光光で、表面に感光膜（フォトレジスト）が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板（以下、適宜ウエハともいう）を露光する露光装置が用いられている。これらの露光装置としては、例えば、レチクル又はマスク（以下、「マスク」と総称する）を照明する照明光学系と、マスクのパターン像を基板上に投影する投影光学系とを備えた露光装置がある（例えば、特許文献１参照）。 In a lithography process for manufacturing a device such as a semiconductor element or a liquid crystal display element, when forming a fine pattern on a substrate, exposure light having a light amount distribution corresponding to the shape of the pattern to be formed is exposed to a photosensitive film (photograph on the surface). 2. Description of the Related Art An exposure apparatus that exposes a substrate (hereinafter also referred to as a wafer as appropriate) such as a wafer or a glass plate coated with a resist) is used. Examples of these exposure apparatuses include an exposure optical system that includes an illumination optical system that illuminates a reticle or mask (hereinafter, collectively referred to as “mask”) and a projection optical system that projects a pattern image of the mask onto a substrate. Yes (see, for example, Patent Document 1).
近年においては、半導体集積回路の高集積化及び該高集積化に伴うパターンの微細化を図るために、投影光学系の更なる高解像度化が要求されている。さらに最近では、多種多様なパターンを高解像度で基板上に露光・転写できる露光装置が要求されており、そのような露光装置に用いられるマスクのマスクパターンには、近接した周期的なライン・アンド・スペース（Ｌ＆Ｓ）パターン、近接及び周期的な（即ち、ホール径と同レベルの間隔で並べた）コンタクトホール列、近接せずに孤立した孤立コンタクトホール、その他の孤立パターン等がある。 In recent years, in order to achieve high integration of semiconductor integrated circuits and miniaturization of patterns associated with the high integration, further higher resolution of the projection optical system is required. In recent years, there has been a demand for an exposure apparatus that can expose and transfer a wide variety of patterns onto a substrate with high resolution. The mask pattern of a mask used in such an exposure apparatus includes a periodic line and A space (L & S) pattern, proximity and periodic contact holes (that is, arranged at intervals of the same level as the hole diameter), isolated contact holes isolated without proximity, and other isolated patterns.
上述のようなマスクパターンを基板上に高解像度で転写するには、マスクパターンの種類に応じて最適な露光条件を選択する必要がある。そのため、投影光学系の開口数ＮＡや、照明光学系の開口数ＮＡｉの開口径が変更可能であり、各々のマスクパターンに応じて最適な露光条件に設定することができる露光装置が実用化されている。また、そのような露光装置の一例としては、開口径が固定の固定型開口絞りや開口径が可変の可変型開口絞りを照明光学系又は投影光学系に備える露光装置が挙げられる。
しかしながら、従来の可変型開口絞りは、可変型開口絞りを配置すべき光学系の瞳面の周囲の全部に渡つて機械的な機構を配置する必要があった。このため、光学系を構成するレンズやミラーの配置構成への制限があり、光学系の小型化や、開口数（ＮＡ）の拡大に対する制約にもなっていた。 However, in the conventional variable aperture stop, it is necessary to dispose a mechanical mechanism all around the pupil plane of the optical system where the variable aperture stop is to be disposed. For this reason, there is a limit to the arrangement configuration of lenses and mirrors constituting the optical system, which has been a limitation on downsizing of the optical system and expansion of the numerical aperture (NA).
特に、特許文献１に示されるような、露光光としてＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光（極端紫外線）を使用し、複数の反射ミラーを用いた反射型の光学系を採用したものにあっては、光路の折り曲げに伴い、可変型開口絞りを配置すべき部分の近傍に、前段側の光路、および後段側の光路が配置されるため、これらとの関係において、より制約の少ない構成が望まれる。
In particular, as shown in
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、開口絞りを構成する機械機構の、光学系瞳面に対する配置の自由度を増し、光学系の配置構成ヘの制限が少ない、より高性能の光学系を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, increases the degree of freedom of arrangement of the mechanical mechanism constituting the aperture stop with respect to the optical system pupil plane, and has less restrictions on the arrangement configuration of the optical system. An object is to provide a high-performance optical system.
また、その光学系を用いた露光装置の提供、及び電子デバイスの製造方法を提供することも目的とする。 It is another object of the present invention to provide an exposure apparatus using the optical system and a method for manufacturing an electronic device.
本発明の第１の態様である光学系は、所定面で、光束が通過する開口形状を変更可能な第１可変遮光部材を有する開口絞りを備える光学系において、前記第１可変遮光部材は、互いに異なる開口形状のそれぞれに対応して設けられ、前記開口形状の一部を規定する複数の第１遮光部材と、前記複数の第１遮光部材の少なくとも一つを、前記所定面と交差する第１方向に駆動する第１駆動部と、を備える光学系である。 First optical system is an aspect of the present invention, a predetermined surface, in an optical system having an aperture stop having a first variable light shielding member capable of changing the opening shape of the light flux passes, the first variable light shielding member, A plurality of first light shielding members that are provided corresponding to different opening shapes and define a part of the opening shape, and at least one of the plurality of first light shielding members intersects the predetermined plane. And an optical system including a first driving unit that drives in one direction .
本発明の第２の態様である露光装置は、第１面の像を第２面上に露光する露光装置であって、第１の態様の光学系を備えるものである。 A second aspect of the exposure apparatus of the present invention, the image of a first plane provides an exposure apparatus that exposes on the second surface, in which comprises a first state-like optical system.
本発明の第３の態様である電子デバイスの製造方法は、リソグラフィエ程を含む電子デバイスの製造方法であって、そのリソグラフィエ程は、第２の態様の露光装置を用いるものである。 The third method for manufacturing an electronic device that is an aspect of the present invention is a method of manufacturing an electronic device comprising more lithography d, as the lithography et is to use an exposure apparatus of the second state like.
本発明の光学系においては、光学系におけるレンズやミラーなどの光学系の配置構成への制限を低減させ、より高性能の光学系を実現することができる。特に、本発明の光学系は、反射型の光学系に好適である。 In the optical system of the present invention, it is possible to reduce the restriction on the arrangement configuration of the optical system such as a lens and a mirror in the optical system, thereby realizing a higher performance optical system. In particular, the optical system of the present invention is suitable for a reflective optical system.
本発明の露光装置においては、本発明の光学系を用いることにより、より高解像度の露光装置を実現することもできる。 In the exposure apparatus of the present invention, a higher-resolution exposure apparatus can be realized by using the optical system of the present invention.
本発明の電子デバイスの製造方法においては、本発明の露光装置を用いているので、高集積で小型の電子デバイスを製造することもできる。 In the electronic device manufacturing method of the present invention, since the exposure apparatus of the present invention is used, a highly integrated and small electronic device can be manufactured.
以下、投影露光装置の投影光学系に、本発明の光学系を適用した実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, an embodiment in which the optical system of the present invention is applied to a projection optical system of a projection exposure apparatus will be described with reference to the drawings.
図１は、本例の露光装置の概要を示す図である。本例の露光装置は、波長５ｎｍ〜１００ｎｍ程度の極紫外線光であるＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ ＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光を露光光として使用するＥＵＶ露光装置である。 FIG. 1 is a view showing an outline of the exposure apparatus of this example. The exposure apparatus of this example is an EUV exposure apparatus that uses EUV (Extreme UltraViolet) light, which is extreme ultraviolet light having a wavelength of about 5 nm to 100 nm, as exposure light.
本露光装置は、光源装置１からの露光用の照明光（露光光）ＩＬで反射型のマスクＭのパターン面（マスク面）を照明する照明光学系ＩＬＳと、マスクＭを載置し、マスクＭの位置決めを行うマスクステージＭＳと、マスクＭのパターン像をウエハＷ（感光性基板）上に投影する投影光学系（結像光学系）ＰＬと、ウエハＷを載置し、ウエハＷの位置決めを行うウエハステージＷＳを備える。
This exposure apparatus mounts an illumination optical system ILS that illuminates a pattern surface (mask surface) of a reflective mask M with illumination light (exposure light) IL for exposure from the
図１においては、ウエハＷの載置面の法線方向をＺ方向とし、Ｚ方向に垂直な平面内において図１の紙面に平行な方向をＹ方向、紙面に垂直な方向をＸ方向としている。なお、本露光装置は、マスクＭとウエハＷとを図１のＹ方向（以下、走査方向Ｙともいう）に走査移動させつつ、マスクＭ上のマスクパターンをウエハＷに投影する走査型露光装置である。 In FIG. 1, the normal direction of the mounting surface of the wafer W is the Z direction, the direction parallel to the paper surface of FIG. 1 in the plane perpendicular to the Z direction is the Y direction, and the direction perpendicular to the paper surface is the X direction. . The exposure apparatus is a scanning exposure apparatus that projects the mask pattern on the mask M onto the wafer W while scanning and moving the mask M and the wafer W in the Y direction in FIG. It is.
本例の露光装置は、その内部が真空雰囲気に維持される真空チャンバ１００を有しており、ＥＵＶ光の発光点からウエハＷまでの光路の全体は、真空チャンバ１００内に収められる。また、マスクステージＭＳには、不図示の静電チャック方式のマスクホルダが設けられ、そのマスクホルダによってマスクＭが保持される。同様に、ウエハステージＷＳには、不図示の静電チャック方式のウエハホルダが設けられ、そのウエハホルダによってウエハＷが保持される。さらに、マスクステージＭＳ及びウエハステージＷＳは、それぞれマスクステージ駆動部（不図示）及びウエハステージ駆動部（不図示）によって、Ｙ方向に所定ストロークで駆動可能であるとともに、Ｘ方向、Ｚ方向、Ｘ方向周りの回転方向であるθＸ方向、Ｙ方向回りの回転方向であるθＹ方向及びＺ方向回りの回転方向であるθＺ方向にも駆動可能である。
The exposure apparatus of this example has a
なお、不図示の制御部が配置されており、その制御部からマスクステージＭＳやウエハステージＷＳ等の本露光装置の各部に対して各種の指令を与える。レーザ励起型プラズマ光源又は放電励起型プラズマ光源等の光源装置１から射出された露光光は、コリメータミラー２により略平行光束とされ、照明光学系ＩＬＳに入射される。
A control unit (not shown) is arranged, and various commands are given from the control unit to each part of the exposure apparatus such as the mask stage MS and the wafer stage WS. The exposure light emitted from the
照明光学系ＩＬＳに入射された露光光（照明光ＩＬ）は、オプティカルインテグレータ３に入射する。すなわち、照明光ＩＬは、反射型のオプティカルインテグレータ３を構成する第１のフライアイミラー３ａ（第１の均一化光学素子）と第２のフライアイミラー３ｂ（第２の均一化光学素子）とにより順次反射され、第２のフライアイミラー３ｂ上（又はその近傍）である照明光学系ＩＬＳの瞳面（照明光学系瞳面）に、所定の形状を有する実質的な面光源を形成する。その後、照明光ＩＬは、コンデンサミラー４によって集光され、光路折り曲げ用の平面ミラー５によって偏向されて、マスクＭのパターン面上の露光視野内を円弧スリット状の照明光ＩＬとしてほぼ均一に照明する。
The exposure light (illumination light IL) incident on the illumination optical system ILS enters the
マスクＭのパターン面により反射されて投影光学系ＰＬに入射した照明光ＩＬ（露光光）は、第１ミラーＰＭ１によって反射され、投影光学系ＰＬの瞳面又はその近傍に配置された開口絞りＳを介した後、第２ミラーＰＭ２に入射する。第２ミラーＰＭ２で反射された照明光ＩＬ（露光光）は、第３ミラーＰＭ３、第４ミラーＰＭ４、第５ミラーＰＭ５、第６ミラーＰＭ６の順に反射されて、ウエハＷ上の露光領域にマスクパターンの像を形成する。 Illumination light IL (exposure light) reflected by the pattern surface of the mask M and incident on the projection optical system PL is reflected by the first mirror PM1, and the aperture stop S disposed on or near the pupil plane of the projection optical system PL. Then, the light enters the second mirror PM2. The illumination light IL (exposure light) reflected by the second mirror PM2 is reflected in the order of the third mirror PM3, the fourth mirror PM4, the fifth mirror PM5, and the sixth mirror PM6, and masks the exposure area on the wafer W. An image of the pattern is formed.
次に、本例の開口絞りＳの詳細について説明する。 Next, details of the aperture stop S of this example will be described.
図２は、本実施形態における開口絞りを含む投影光学系の要部を拡大して示す斜視図、図３は本実施形態における開口絞りを構成する第１可変遮光部材の上面図、図４は同じく第１可変遮光部材の側面図である。 FIG. 2 is an enlarged perspective view showing a main part of the projection optical system including the aperture stop in the present embodiment, FIG. 3 is a top view of the first variable light shielding member constituting the aperture stop in the present embodiment, and FIG. It is a side view of the 1st variable shading member similarly.
図２に示す如く、ミラーＰＭ１とミラーＰＭ２との間の光路中Ｏｐ２には、開口絞りＳが配置されている。開口絞りＳは、投影光学系ＰＬの瞳面又はその近傍面に、段階的に設定された複数のＮＡ（開口数）に対応した大きさの開口部ＳＨを形成する装置である。この開口絞りＳは、第１可変遮光部材ＶＲ１を構成する複数の第１遮光部材ＳＴ１と、第２可変遮光部材ＶＲ２を構成する複数の第２遮光部材ＳＴ２とが、それぞれ複数枚（図２ではそれぞれ１０枚）配置されて構成されたものである。 As shown in FIG. 2, an aperture stop S is disposed in the optical path Op2 between the mirror PM1 and the mirror PM2. The aperture stop S is an apparatus that forms openings SH having a size corresponding to a plurality of stepwise NAs (numerical apertures) on the pupil plane of the projection optical system PL or its vicinity. The aperture stop S includes a plurality of first light shielding members ST1 constituting the first variable light shielding member VR1 and a plurality of second light shielding members ST2 constituting the second variable light shielding member VR2 (in FIG. 2). 10 pieces each) are arranged and configured.
第１可変遮光部材ＶＲ１は、複数の第１遮光部材ＳＴ１を有し、その複数の第１遮光部材ＳＴ１によって開口絞りＳの開口形状の輪郭の少なくとも一部（第１部分）を規定するものである。同様に、第２可変遮光部材ＶＲ２は、複数の第２遮光部材ＳＴ２を有し、その複数の第２遮光部材ＳＴ２によって開口絞りＳの開口形状の輪郭の第１遮光部材ＳＴ１によって規定される第１部分以外の少なくとも一部（第２部分）を規定するものである。なお、ここでは、後述するように、第１遮光部材ＳＴ１は開口絞りＳの開口形状の輪郭の半分を規定し、第２遮光部材ＳＴ２は開口絞りＳの開口形状の輪郭の残りの半分を規定するように構成されている。 The first variable light shielding member VR1 includes a plurality of first light shielding members ST1, and the plurality of first light shielding members ST1 define at least a part (first portion) of the contour of the aperture shape of the aperture stop S. is there. Similarly, the second variable light-shielding member VR2 has a plurality of second light-shielding members ST2, and the plurality of second light-shielding members ST2 define the first light-shielding member ST1 having the opening shape contour of the aperture stop S. It defines at least a part (second part) other than one part. Here, as will be described later, the first light shielding member ST1 defines the half of the aperture shape of the aperture stop S, and the second light shielding member ST2 defines the other half of the aperture shape of the aperture stop S. Is configured to do.
複数の第１遮光部材ＳＴ１は、少なくとも一方の面（開口形状を規定する内面）が曲面形状（円弧状、楕円弧状、又はこれらに類する曲線形状）の部材からなる。一例として、薄い平板を、その断面形状が、円弧状、楕円弧状、又はこれらに類する曲線形状となるように湾曲させた形状を有する半筒状（半円筒状、半楕円筒状）又は部分筒状の部材から構成される。ここでは、第１遮光部材ＳＴ１は、形成すべき開口形状が円形であるものとして、半円筒状の部材からなるものとする。第１遮光部材ＳＴ１の先端（図２において、上端）が開口絞りＳの開口形状を規定する開口部ＳＨに向けて配置され、その上端が、開口絞りＳの開口形状の輪郭の少なくとも一部（第１部分）を形成するように構成される。また、一例として、本実施形態における第１遮光部材ＳＴ１の材料は、ステンレス鋼で構成されている。なお、第１遮光部材ＳＴ１の材料としては、熱伝導率の高い金属などが望ましい。 The plurality of first light shielding members ST1 are made of a member having at least one surface (an inner surface defining an opening shape) having a curved surface shape (arc shape, elliptical arc shape, or a similar curved shape). As an example, a semi-cylindrical shape (semi-cylindrical shape, semi-elliptical cylindrical shape) or partial cylinder having a shape obtained by curving a thin flat plate so that its cross-sectional shape is an arc shape, an elliptical arc shape, or a curved shape similar to these. It is comprised from a shaped member. Here, the first light shielding member ST1 is formed of a semi-cylindrical member, assuming that the opening shape to be formed is circular. The front end (the upper end in FIG. 2) of the first light shielding member ST1 is disposed toward the opening SH that defines the opening shape of the aperture stop S, and the upper end of the first light shielding member ST1 is at least part of the contour of the opening shape of the aperture stop S ( 1st part) is formed. As an example, the material of the first light shielding member ST1 in the present embodiment is made of stainless steel. In addition, as a material of 1st light-shielding member ST1, the metal etc. with high heat conductivity are desirable.
この実施形態における第１可変遮光部材ＶＲ１は、図３及び図４に示すように、１０枚の第１遮光部材ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０を有しており、これらの第１遮光部材ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０は、外側のもの（ＳＴ１−１）から内側のもの（ＳＴ１−１０）に向かって、次第に径が小さくなるように略相似形状となっており、所定面と交差する第１方向と略直交する第２方向に近接して（所定の隙間をもって）、大径のものの内側に小径のものが順次遊嵌されるように、それぞれ配置されている。 As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the first variable light shielding member VR1 in this embodiment has ten first light shielding members ST1-1 to ST1-10, and these first light shielding members ST1 to ST1. 1 to ST1-10 are substantially similar in shape so that the diameter gradually decreases from the outer one (ST1-1) toward the inner one (ST1-10), and the first intersects with a predetermined plane. In the vicinity of the second direction substantially perpendicular to the direction (with a predetermined gap), the small diameter ones are sequentially loosely fitted inside the large diameter ones.
ここで、所定面とは、投影光学系ＰＬの瞳面又はその近傍面であり、この実施形態では、光軸ＡＸに略直交する面（マスクＭのパターン面と略平行な面）である。なお、本実施形態においては、第１方向は該所定面に略直交する方向、すなわち、図２に示す如く光軸ＡＸに略平行な方向（Ｚ方向）に設定されており、該第１方向に略直交する第２方向はスキャン方向（Ｙ方向）に設定されている。但し、第２方向は非スキャン方向（Ｘ方向）に設定されてもよい。また、第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）のそれぞれの先端（図２で上端）は、上述した所定面に略平行な面内に位置するように構成されている。 Here, the predetermined surface is a pupil surface of the projection optical system PL or a surface near the pupil surface, and in this embodiment, is a surface substantially orthogonal to the optical axis AX (a surface substantially parallel to the pattern surface of the mask M). In the present embodiment, the first direction is set to a direction substantially orthogonal to the predetermined plane, that is, a direction (Z direction) substantially parallel to the optical axis AX as shown in FIG. The second direction substantially orthogonal to is set to the scan direction (Y direction). However, the second direction may be set to the non-scanning direction (X direction). Each tip (upper end in FIG. 2) of each of the first light shielding members ST1 (ST1-1 to ST1-10) is configured to be located in a plane substantially parallel to the predetermined plane described above.
本実施形態の複数の第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）は、それぞれ不図示の支持部材を介して光軸ＡＸに略平行な方向（第１方向）にスライド可能に支持されており、第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）のそれぞれは、第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）を光軸ＡＸに略平行な方向にスライド駆動、すなわち押し引き駆動させるための駆動手段ＤＲ１（第１駆動部）と連結されている。 The plurality of first light shielding members ST1 (ST1-1 to ST1-10) of the present embodiment are supported so as to be slidable in a direction (first direction) substantially parallel to the optical axis AX via a support member (not shown). Each of the first light shielding members ST1 (ST1-1 to ST1-10) slides, that is, pushes the first light shielding members ST1 (ST1-1 to ST1-10) in a direction substantially parallel to the optical axis AX. It is connected to driving means DR1 (first driving unit) for pulling driving.
複数の第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）は、それぞれの先端（図２で上端）が、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間であって光路Ｏｐ２の下方の外側に位置する待機位置に設定されており、その何れかが、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間の光路Ｏｐ２に対して、図２で下方の待機位置から上方に（第１遮光部材ＳＴ１の上端が瞳面に至る位置まで）駆動手段ＤＲ１によってスライド駆動されることによって、投影光学系ＰＬの開口絞りＳの開口部ＳＨの形状の一部を段階的に変えることができるようになっている。 The plurality of first light shielding members ST1 (ST1-1 to ST1-10) have respective tips (upper ends in FIG. 2) between the first mirror PM1 and the second mirror PM2 and outside outside the optical path Op2. Is set to a standby position, and any one of the optical paths Op2 between the first mirror PM1 and the second mirror PM2 moves upward from the lower standby position in FIG. A part of the shape of the opening SH of the aperture stop S of the projection optical system PL can be changed stepwise by being slid by the drive means DR1 (to the position where the upper end of ST1 reaches the pupil plane). ing.
複数の第２遮光部材ＳＴ２は、複数の第１遮光部材ＳＴ１とは異なる位置に配置され、第１遮光部材ＳＴ１と同様に、少なくとも一方の面（開口形状を規定する内面）が曲面形状（円弧状、楕円弧状、又はこれらに類する曲線形状）の部材からなる。一例として、薄い平板を、その断面形状が、円弧状、楕円弧状、又はこれらに類する曲線形状となるように湾曲させた形状を有する半筒状（半円筒状、半楕円筒状）又は部分筒状の部材から構成される。ここでは、第２遮光部材ＳＴ１は、半円筒状の部材からなるものとする。第２遮光部材ＳＴ２の先端（図２において、下端）が開口絞りＳの開口形状を規定する開口部ＳＨに向けて配置され、その下端が、開口絞りＳの開口形状の輪郭の少なくとも一部（第２部分）を形成するように構成される。また、一例として、本実施形態における第２遮光部材ＳＴ２の材料は、ステンレス鋼で構成されている。なお、第２遮光部材ＳＴ２の材料としては、熱伝導率の高い金属などが望ましい。 The plurality of second light shielding members ST2 are arranged at positions different from the plurality of first light shielding members ST1, and at least one surface (the inner surface defining the opening shape) is a curved surface shape (circular shape) like the first light shielding member ST1. Arc-shaped, elliptical arc-shaped or similar curved shapes). As an example, a semi-cylindrical shape (semi-cylindrical shape, semi-elliptical cylindrical shape) or partial cylinder having a shape obtained by curving a thin flat plate so that its cross-sectional shape is an arc shape, an elliptical arc shape, or a curved shape similar to these. It is comprised from a shaped member. Here, the second light shielding member ST1 is made of a semi-cylindrical member. The tip (the lower end in FIG. 2) of the second light shielding member ST2 is arranged toward the opening SH that defines the opening shape of the aperture stop S, and the lower end is at least a part of the contour of the opening shape of the aperture stop S ( The second part) is formed. As an example, the material of the second light shielding member ST2 in the present embodiment is made of stainless steel. In addition, as a material of 2nd light shielding member ST2, the metal etc. with high heat conductivity are desirable.
この実施形態における第２可変遮光部材ＶＲ２は、詳細図示は省略しているが、図３及び図４に示した第１遮光部材ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）と同様に、これらにそれぞれ対応する（相対形状を有する）１０枚の第２遮光部材ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０を有しており、これらの第２遮光部材ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０は、外側のもの（ＳＴ２−１）から内側のもの（ＳＴ２−１０）に向かって、次第に径が小さくなるように略相似形状となっており、所定面と交差する第３方向と略直交する第４方向に近接して（所定の隙間をもって）、大径のものの内側に小径のものが順次遊嵌されるように、それぞれ配置されている。 Although the detailed illustration of the second variable light shielding member VR2 in this embodiment is omitted, as in the case of the first light shielding member ST1 (ST1-1 to ST1-10) shown in FIGS. Corresponding (having a relative shape) ten second light-shielding members ST2-1 to ST2-10 are provided, and these second light-shielding members ST2-1 to ST2-10 are provided outside (ST2-1). ) From the inner side (ST2-10) toward the inner side (ST2-10) so that the diameter gradually decreases, and is close to a fourth direction substantially orthogonal to the third direction intersecting the predetermined plane (predetermined) Are arranged so that the small-diameter ones are sequentially loosely fitted inside the large-diameter ones.
ここで、所定面とは、投影光学系ＰＬの瞳面又はその近傍面であり、この実施形態では、光軸ＡＸに略直交する面（マスクＭのパターン面と略平行な面）であるのは、上述した通りである。なお、本実施形態においては、第３方向は該所定面に略直交する方向、すなわち、光軸ＡＸに略平行な方向（Ｚ方向）に設定されており、該第３方向に略直交する第４方向はスキャン方向（Ｙ方向）に設定されている。但し、上述の第２方向が非スキャン方向（Ｘ方向）に設定されている場合には、第４方向も非スキャン方向（Ｘ方向）に設定される。また、第２遮光部材ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）のそれぞれの先端（図２で下端）は、上述した所定面に略平行な面内に位置するように構成されている。 Here, the predetermined plane is the pupil plane of the projection optical system PL or a plane near the pupil plane. In this embodiment, the predetermined plane is a plane substantially orthogonal to the optical axis AX (a plane substantially parallel to the pattern plane of the mask M). Is as described above. In the present embodiment, the third direction is set to a direction substantially orthogonal to the predetermined plane, that is, a direction substantially parallel to the optical axis AX (Z direction), and the third direction is substantially orthogonal to the third direction. The four directions are set to the scan direction (Y direction). However, when the second direction is set to the non-scan direction (X direction), the fourth direction is also set to the non-scan direction (X direction). Each tip (lower end in FIG. 2) of each of the second light shielding members ST2 (ST2-1 to ST2-10) is configured to be located in a plane substantially parallel to the predetermined plane described above.
本実施形態の複数の第２遮光部材ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）は、それぞれ不図示の支持部材を介して光軸ＡＸに略平行な方向（第３方向）にスライド可能に支持されており、第２遮光部材ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）のそれぞれは、第２遮光部材ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）を光軸ＡＸに略平行な方向にスライド駆動、すなわち押し引き駆動させるための駆動手段ＤＲ２（第２駆動部）と連結されている。 The plurality of second light shielding members ST2 (ST2-1 to ST2-10) of the present embodiment are supported so as to be slidable in a direction (third direction) substantially parallel to the optical axis AX via a support member (not shown). Each of the second light shielding members ST2 (ST2-1 to ST2-10) slides, that is, pushes the second light shielding members ST2 (ST2-1 to ST2-10) in a direction substantially parallel to the optical axis AX. It is connected to drive means DR2 (second drive unit) for pulling driving.
複数の第２遮光部材ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）は、それぞれの先端（図２で下端）が、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間の光路Ｏｐ２の上方の外側に位置する待機位置に設定されており、その何れかが、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間の光路Ｏｐ２に対して、図２で上方の待機位置から下方に（第２遮光部材ＳＴ２の下端が瞳面に至る位置まで）駆動手段ＤＲ２によってスライド駆動されることによって、投影光学系ＰＬの開口絞りＳの開口部ＳＨの形状のうち、複数の第１遮光部材ＳＴ１が規定する部分以外の開口部ＳＨの形状を段階的に変えることができるようになっている。 The plurality of second light-shielding members ST2 (ST2-1 to ST2-10) have their respective tips (lower ends in FIG. 2) positioned outside the optical path Op2 between the first mirror PM1 and the second mirror PM2. Any one of them is set to a standby position where the optical path Op2 between the first mirror PM1 and the second mirror PM2 is lower than the upper standby position in FIG. 2 (of the second light shielding member ST2). By sliding the drive means DR2 (to the position where the lower end reaches the pupil plane), the shape of the opening SH of the aperture stop S of the projection optical system PL other than the portion defined by the plurality of first light shielding members ST1 The shape of the opening SH can be changed stepwise.
具体的には、各第１遮光部材ＳＴ１及び各第２遮光部材ＳＴ２の内径は、例えば、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡの可変範囲（例えば、０．１〜０．５や０．１５〜０．３５）に従って、１０ｍｍ〜２００ｍｍ程度の範囲内で設定される。また、第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２の枚数は、ここではそれぞれ１０枚を例示したが、開口数ＮＡのステップ数（例えば、０．０１や０．００５）に応じた段数に従って、それぞれ２０〜４０枚程度に設定される。各第１遮光部材ＳＴ１間の間隔、各第２遮光部材ＳＴ２間の間隔は、その板厚（例えば、０．２ｍｍ程度）との関係において、例えば２〜３ｍｍ程度に設定される。 Specifically, the inner diameter of each first light shielding member ST1 and each second light shielding member ST2 is, for example, a variable range of the numerical aperture NA of the projection optical system PL (for example, 0.1 to 0.5 or 0.15 to 0.15). 0.35) is set within a range of about 10 mm to 200 mm. Further, the number of the first light shielding members ST1 and the second light shielding members ST2 is 10 here, but according to the number of steps according to the number of steps of the numerical aperture NA (for example, 0.01 or 0.005). Each is set to about 20 to 40 sheets. The distance between the first light shielding members ST1 and the distance between the second light shielding members ST2 are set to, for example, about 2 to 3 mm in relation to the plate thickness (for example, about 0.2 mm).
本実施形態においては、複数の第１遮光部材ＳＴ１と複数の第２遮光部材ＳＴ２とのそれぞれは、互いに対をなしており、それぞれ対応するもの同士は実質的に同一形状であるとともに、所定面又はその近傍面において第１遮光部材ＳＴ１の上端と第２遮光部材ＳＴ２の下端とで開口形状を規定するように、所定面又はその近傍面を挟んで互いに相対的に配置されており、各駆動手段ＤＲ１、ＤＲ２によってそれぞれ相対的に進退（互いに逆向きに移動）されるようになっている。 In the present embodiment, each of the plurality of first light shielding members ST1 and the plurality of second light shielding members ST2 is paired with each other, and the corresponding members have substantially the same shape and have a predetermined surface. Alternatively, in the vicinity thereof, the opening is defined by the upper end of the first light-shielding member ST1 and the lower end of the second light-shielding member ST2, and they are disposed relative to each other with the predetermined surface or the vicinity thereof sandwiched therebetween. The means DR1 and DR2 are relatively moved forward and backward (moved in directions opposite to each other).
このように、本実施形態における開口絞りＳは、その開口形状が、第１方向（この実施形態では、光軸ＡＸの方向又は光軸ＡＸに略平行な方向）に沿ってスライド（進退）される複数の第１遮光部材ＳＴ１、及び第３方向（この実施形態では、光軸ＡＸの方向又は光軸ＡＸに略平行な方向）に沿ってスライド（進退）される複数の第２遮光部材ＳＴ２によって形成できるように構成されているので、投影光学系ＰＬの瞳の周囲に機械的な機構を配置することなく、所定の２方向（第１方向及び第３方向）に機械的な機構を設けるのみで、選択的に設定される開口数ＮＡに応じて、これを段階的に可変とできる開口絞りを構成することができる。 Thus, the aperture stop S in this embodiment has its aperture shape slid (advanced / retracted) along the first direction (in this embodiment, the direction of the optical axis AX or the direction substantially parallel to the optical axis AX). A plurality of first light shielding members ST1 and a plurality of second light shielding members ST2 that are slid (advanced and retracted) in the third direction (in this embodiment, the direction of the optical axis AX or the direction substantially parallel to the optical axis AX). Therefore, a mechanical mechanism is provided in two predetermined directions (first direction and third direction) without arranging a mechanical mechanism around the pupil of the projection optical system PL. Thus, it is possible to configure an aperture stop that can be varied stepwise in accordance with the numerical aperture NA that is selectively set.
なお、本実施形態においては、第１遮光部材ＳＴ１のスライド方向（第１方向）及び第２遮光部材ＳＴ２のスライド方向（第３方向）は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと略平行な方向であるとした。ただし、第１方向及び第３方向は、前記所定面に交差する方向、すなわち前記所定面に平行する方向以外（光軸ＡＸに直交する方向以外）の方向であればよく、これらの第１及び第３方向は、光学系を構成するミラー等、及びそれらの保持部材との機械的な干渉を避けるのに適した方向に設定すればよい。 In the present embodiment, the sliding direction (first direction) of the first light shielding member ST1 and the sliding direction (third direction) of the second light shielding member ST2 are substantially parallel to the optical axis AX of the projection optical system PL. It was said that. However, the first direction and the third direction may be directions other than the direction intersecting the predetermined plane, that is, the direction other than the direction parallel to the predetermined plane (other than the direction orthogonal to the optical axis AX). The third direction may be set to a direction suitable for avoiding mechanical interference with the mirrors constituting the optical system and their holding members.
また、複数の第１遮光部材ＳＴ１をそれぞれスライドさせる上述の駆動手段ＤＲ１（第１駆動部）としては、ステッピングモーター及びラックアンドピニオンなどを有する機構によって複数の第１遮光部材ＳＴ１をそれぞれスライドさせるようにしたものを用いることができる。また、該駆動手段ＤＲ１としては、ステッピングモーター及びラックアンドピニオンなどからなる機構の代わりに、複数の第１遮光部材ＳＴ１のそれぞれに連結される、リエアモーターからなるアクチュエータを有し、そのアクチュエータからの動力によって複数の第１遮光部材をそれぞれスライドさせるように構成したものを用いてもよい。 Further, as the above-described driving means DR1 (first driving unit) for sliding the plurality of first light shielding members ST1, the plurality of first light shielding members ST1 are slid by a mechanism having a stepping motor, a rack and pinion, and the like. What was made can be used. Further, as the driving means DR1, instead of a mechanism consisting of a stepping motor and a rack and pinion, etc., there is an actuator consisting of a rear air motor connected to each of the plurality of first light shielding members ST1, and from the actuator It is also possible to use a configuration in which the plurality of first light shielding members are slid by each power.
なお、上述の駆動手段ＤＲ１の一例として、第１遮光部材ＳＴ１をスライドさせるものを例として説明したが、第２遮光部材ＳＴ２の駆動手段ＤＲ２（第２駆動部）においても、上述の第１遮光部材ＳＴ１をスライドさせるものと同様な構成をとることができる。 Note that, as an example of the above-described driving means DR1, the case where the first light shielding member ST1 is slid has been described as an example, but the driving means DR2 (second driving unit) of the second light shielding member ST2 also includes the above-described first light shielding. A configuration similar to that for sliding the member ST1 can be employed.
また、上述の駆動手段ＤＲ１（第１駆動部）は、複数の第１遮光部材ＳＴ１が開口絞りＳの開口形状の輪郭の少なくとも一部（第１部分）を形成できるように、不図示の制御部からの制御信号に基づいて所定量を駆動するように構成される。さらに、上述の駆動手段ＤＲ２（第２駆動部）は、複数の第２遮光部材ＳＴ２が開口絞りＳの開口形状の輪郭の少なくとも一部（第２部分）を形成できるように、不図示の制御部からの制御信号に基づいて所定量を駆動するように構成される。 In addition, the above-described driving unit DR1 (first driving unit) performs control (not shown) so that the plurality of first light shielding members ST1 can form at least a part (first part) of the aperture-shaped contour of the aperture stop S. A predetermined amount is driven based on a control signal from the unit. Furthermore, the above-described driving means DR2 (second driving unit) controls not shown so that the plurality of second light shielding members ST2 can form at least a part (second part) of the opening-shaped contour of the aperture stop S. A predetermined amount is driven based on a control signal from the unit.
このように、本実施形態における開口絞りＳにおいては、所定面又はその近傍面において開口絞りＳの開口形状が複数の第１遮光部材ＳＴ１及び複数の第２遮光部材ＳＴ２によって形成できるように構成されるとともに、駆動手段ＤＲ１（第１駆動部）によって複数の第１遮光部材ＳＴ１のそれぞれが独立してスライドされるように構成されること及び駆動手段ＤＲ２（第２駆動部）によって複数の第２遮光部材ＳＴ２のそれぞれが独立してスライドされるように構成されることによって、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡを段階的に変更することができる。 As described above, the aperture stop S according to the present embodiment is configured such that the aperture shape of the aperture stop S can be formed by the plurality of first light shielding members ST1 and the plurality of second light shielding members ST2 on a predetermined surface or in the vicinity thereof. In addition, each of the plurality of first light shielding members ST1 is configured to be independently slid by the driving unit DR1 (first driving unit) and the plurality of second light shielding units by the driving unit DR2 (second driving unit). By configuring each of the light shielding members ST2 to slide independently, the numerical aperture NA of the projection optical system PL can be changed in a stepwise manner.
次に、本実施形態における開口絞りＳの動作について、図５〜図１０を参照して説明する。ここでは、説明を簡単にするため、第１遮光部材ＳＴ１として最大ＮＡを規定する第１遮光部材ＳＴ１−１から最小ＮＡを規定する第１遮光部材ＳＴ１−５までの５枚が、第２遮光部材ＳＴ２として最大ＮＡを規定する第２遮光部材ＳＴ２−１から最小ＮＡを規定する第２遮光部材ＳＴ２−５までの５枚が設けられているものとして説明する。 Next, the operation of the aperture stop S in the present embodiment will be described with reference to FIGS. Here, for simplicity of explanation, five sheets from the first light shielding member ST1-1 that defines the maximum NA as the first light shielding member ST1 to the first light shielding member ST1-5 that defines the minimum NA are the second light shielding members. Description will be made assuming that five members from the second light shielding member ST2-1 that defines the maximum NA to the second light shielding member ST2-5 that defines the minimum NA are provided as the members ST2.
なお、例えば、第１遮光部材ＳＴ１−３は第１遮光部材ＳＴ１−１と第１遮光部材ＳＴ１−５との中間のＮＡを規定するものであり、第１遮光部材ＳＴ１−２は第１遮光部材ＳＴ１−１と第１遮光部材ＳＴ１−３との中間のＮＡを規定するものであり、第１遮光部材ＳＴ１−４は第１遮光部材ＳＴ１−５と第１遮光部材ＳＴ１−３との中間のＮＡを規定するものである。また、例えば、第２遮光部材ＳＴ２−３は第２遮光部材ＳＴ２−１と第２遮光部材ＳＴ２−５との中間のＮＡを規定するものであり、第２遮光部材ＳＴ２−２は第２遮光部材ＳＴ２−１と第２遮光部材ＳＴ２−３との中間のＮＡを規定するものであり、第２遮光部材ＳＴ２−４は第２遮光部材ＳＴ２−５と第２遮光部材ＳＴ２−３との中間のＮＡを規定するものである。 For example, the first light shielding member ST1-3 defines an intermediate NA between the first light shielding member ST1-1 and the first light shielding member ST1-5, and the first light shielding member ST1-2 is the first light shielding member ST1-2. The intermediate NA between the member ST1-1 and the first light shielding member ST1-3 is defined, and the first light shielding member ST1-4 is an intermediate between the first light shielding member ST1-5 and the first light shielding member ST1-3. Is defined. Further, for example, the second light shielding member ST2-3 defines an NA between the second light shielding member ST2-1 and the second light shielding member ST2-5, and the second light shielding member ST2-2 is the second light shielding member ST2-2. The intermediate NA between the member ST2-1 and the second light shielding member ST2-3 is defined, and the second light shielding member ST2-4 is an intermediate between the second light shielding member ST2-5 and the second light shielding member ST2-3. Is defined.
全ての第１遮光部材ＳＴ１−１〜ＳＴ１−５及び全ての第２遮光部材ＳＴ２−１〜ＳＴ２−５が待機位置に設定された状態が図５に示されている。この待機位置にある状態では、最大ＮＡを規定する第１遮光部材ＳＴ１−１及び第２遮光部材ＳＴ２−１が、その先端（第１遮光部材にあっては上端、第２遮光部材にあっては下端）が瞳面ＰＰに設定されており、その他の第１遮光部材ＳＴ１−２〜ＳＴ１−５及び第２遮光部材ＳＴ２−２〜ＳＴ２−５の先端は、これらの第１遮光部材ＳＴ１−１及び第２遮光部材ＳＴ２−１により規定される光路の外側に設定されている。これにより、最大ＮＡに対応する開口部ＳＨが形成されている。 FIG. 5 shows a state in which all the first light shielding members ST1-1 to ST1-5 and all the second light shielding members ST2-1 to ST2-5 are set to the standby positions. In the standby position, the first light-shielding member ST1-1 and the second light-shielding member ST2-1 that define the maximum NA are at their tips (the upper end of the first light-shielding member and the second light-shielding member. Is set at the pupil plane PP, and the tips of the other first light shielding members ST1-2 to ST1-5 and the second light shielding members ST2-2 to ST2-5 are the first light shielding members ST1-. It is set outside the optical path defined by the first and second light shielding members ST2-1. Thereby, the opening SH corresponding to the maximum NA is formed.
なお、最大ＮＡを規定する第１遮光部材ＳＴ１−１及び第２遮光部材ＳＴ２−１は、この実施形態では、図５〜図９に示した位置で、固定されているものとする。但し、最大ＮＡを規定する第１遮光部材ＳＴ１−１及び第２遮光部材ＳＴ２−１は、その余の第１遮光部材ＳＴ１−２〜ＳＴ１−５及び第２遮光部材ＳＴ２−２〜ＳＴ２−５と同様にスライドできるように設けられていてもよい。 In this embodiment, the first light shielding member ST1-1 and the second light shielding member ST2-1 that define the maximum NA are fixed at the positions shown in FIGS. However, the first light shielding member ST1-1 and the second light shielding member ST2-1 that define the maximum NA are the first light shielding members ST1-2 to ST1-5 and the second light shielding members ST2-2 to ST2-5. It may be provided so that it can slide similarly to.
最大ＮＡよりも１段小さいＮＡを規定する場合には、図６に示されるように、第１遮光部材ＳＴ１−２及び第２遮光部材ＳＴ２−２を、それぞれの先端が瞳面ＰＰに位置するように、瞳面ＰＰに向けてスライドさせる。これにより、最大ＮＡよりも１段小さいＮＡに対応する開口部ＳＨが形成される。最大ＮＡよりも２段小さいＮＡを規定する場合には、図７に示されるように、第１遮光部材ＳＴ１−３及び第２遮光部材ＳＴ２−３を、それぞれの先端が瞳面ＰＰに位置するように、瞳面ＰＰに向けてスライドさせる。これにより、最大ＮＡよりも２段小さいＮＡに対応する開口部ＳＨが形成される。最小ＮＡよりも１段大きいＮＡを規定する場合には、図８に示されるように、第１遮光部材ＳＴ１−４及び第２遮光部材ＳＴ２−４を、それぞれの先端が瞳面ＰＰに位置するように、瞳面ＰＰに向けてスライドさせる。これにより、最小ＮＡよりもに１段大きいＮＡに対応する開口部ＳＨが形成される。最小ＮＡを規定する場合には、図９に示されるように、第１遮光部材ＳＴ１−５及び第２遮光部材ＳＴ２−５を、それぞれの先端が瞳面ＰＰに位置するように、瞳面ＰＰに向けてスライドさせる。これにより、最小ＮＡに対応する開口部ＳＨが形成される。 In order to define an NA that is one step smaller than the maximum NA, as shown in FIG. 6, the first light shielding member ST1-2 and the second light shielding member ST2-2 have their tips positioned on the pupil plane PP. In such a manner, it is slid toward the pupil plane PP. As a result, an opening SH corresponding to an NA that is one step smaller than the maximum NA is formed. In the case of defining an NA that is two steps smaller than the maximum NA, as shown in FIG. 7, the first light-shielding member ST1-3 and the second light-shielding member ST2-3 have their tips positioned on the pupil plane PP. In such a manner, it is slid toward the pupil plane PP. As a result, an opening SH corresponding to an NA that is two steps smaller than the maximum NA is formed. In the case of defining an NA that is one step larger than the minimum NA, as shown in FIG. 8, the first light-blocking member ST1-4 and the second light-blocking member ST2-4 have their tips positioned on the pupil plane PP. In such a manner, it is slid toward the pupil plane PP. As a result, an opening SH corresponding to a NA that is one step larger than the minimum NA is formed. In the case of defining the minimum NA, as shown in FIG. 9, the first light shielding member ST1-5 and the second light shielding member ST2-5 are arranged so that their respective tips are located on the pupil plane PP. Slide towards. Thereby, the opening SH corresponding to the minimum NA is formed.
なお、例えば、図１０に示されるように、より小さいＮＡを規定する場合（同図では最小ＮＡの場合を表示）には、それよりも大きいＮＡを規定する第１遮光部材（同図ではＳＴ１−２〜ＳＴ１−４及び第２遮光部材（同図ではＳＴ２−２〜ＳＴ２−４）の全部又は何れかは待機位置に待機させたままであってもよい。 For example, as shown in FIG. 10, when a smaller NA is defined (in the figure, the case of the minimum NA is displayed), a first light shielding member (ST1 in the figure) that defines a larger NA. All or any of −2 to ST1-4 and the second light shielding member (ST2-2 to ST2-4 in the figure) may remain in the standby position.
このように、対をなす第１遮光部材と第２遮光部材とを互いに相対するように逆方向にスライドさせることにより、開口絞りＳの開口形状を最大ＮＡに対応するものから最小ＮＡに対応するものまでの間で段階的に変更することができる。 In this way, by sliding the paired first light-shielding member and second light-shielding member in opposite directions so as to face each other, the aperture shape of the aperture stop S corresponds to the maximum NA from the one corresponding to the maximum NA. It can be changed step by step between things.
なお、投影光学系ＰＬによっては、いわゆる瞳の球面収差により、開口数ＮＡの可変により瞳面ＰＰの位置が光軸方向に若干ずれる（シフトする）場合もある。この場合において、開口絞りＳの位置を厳格に設定するには、投影光学系ＰＬの開口絞りＳは、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡの値に応じて光軸方向の位置を可変とできることが望ましい。本例では、このような場合に、特別な構成を採用することなく対応することができる。すなわち、例えば、図１１に示す如く、瞳面が符号ＰＰを付した位置から符号ＰＰ１を付した位置にずれ量ｄだけずれる場合には、一例として最小ＮＡを規定するものとして、第１遮光部材ＳＴ１−５及び第２遮光部材ＳＴ２−５を、それぞれの先端が瞳面ＰＰ１に位置するように、瞳面ＰＰ１に向けてスライドさせることにより、対応することができる。このように、開口数ＮＡの変更に応じて、瞳面の位置が変わる場合にも、特別な構成を採用することなく容易に対応することができる。 Note that, depending on the projection optical system PL, the position of the pupil plane PP may be slightly shifted (shifted) in the optical axis direction due to variable numerical aperture NA due to so-called spherical aberration of the pupil. In this case, in order to set the position of the aperture stop S strictly, the aperture stop S of the projection optical system PL can be made variable in the position in the optical axis direction according to the value of the numerical aperture NA of the projection optical system PL. desirable. In this example, such a case can be dealt with without adopting a special configuration. That is, for example, as shown in FIG. 11, when the pupil plane deviates from the position labeled PP by a shift amount d marked PP1, the first light shielding member defines the minimum NA as an example. ST1-5 and the second light-shielding member ST2-5 can be accommodated by sliding toward the pupil plane PP1 so that the respective distal ends are positioned on the pupil plane PP1. Thus, even when the position of the pupil plane changes in accordance with the change in the numerical aperture NA, it can be easily handled without adopting a special configuration.
次に、第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２からなる開口絞りＳの配置について説明する。図１２は、本実施形態の投影光学系ＰＬにおける第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２の配置を説明するための概略図である。上述したように、本例の開口絞りＳは、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との光路中に形成される投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰに開口部ＳＨを形成するものである。そして、複数の第１遮光部材ＳＴ１は、瞳面ＰＰにおいて光束を規定する開口絞りＳの開口形状の少なくとも一部（第１部分）を形成するようにそれぞれ配置される。さらに、複数の第２遮光部材ＳＴ２は、瞳面ＰＰにおいて光束を規定する開口絞りＳの開口形状の少なくとも一部（第２部分）を形成するようにそれぞれ配置される。 Next, the arrangement of the aperture stop S composed of the first light shielding member ST1 and the second light shielding member ST2 will be described. FIG. 12 is a schematic diagram for explaining the arrangement of the first light shielding member ST1 and the second light shielding member ST2 in the projection optical system PL of the present embodiment. As described above, the aperture stop S of this example forms the opening SH on the pupil plane PP of the projection optical system PL formed in the optical path between the first mirror PM1 and the second mirror PM2. The plurality of first light shielding members ST1 are respectively arranged so as to form at least a part (first portion) of the aperture shape of the aperture stop S that defines the light beam on the pupil plane PP. Further, the plurality of second light shielding members ST2 are respectively arranged so as to form at least a part (second portion) of the aperture shape of the aperture stop S that defines the light beam on the pupil plane PP.
ここで、本実施形態における投影光学系ＰＬは、図１に示す如く、光軸ＡＸに軸対称な共軸反射光学系である。このような光学系においては、マスクＭからウエハＷに至る光束は、複数のミラー（第１ミラーＰＭ１〜第６ミラーＰＭ６）によって順次反射されるとともに、その各光路は空間的に相当程度重複して、各ミラーの間を往復するものとなる。また、投影光学系ＰＬを構成するミラーであって光軸上に配置された円形のミラー（例えば第２ミラー）による遮蔽を回避するために、その視野の形状は、物体面上及び像面上において、光軸から所定の半径だけ離れた円弧状の領域の一部であることが一般的である。 Here, the projection optical system PL in the present embodiment is a coaxial reflection optical system that is axisymmetric with respect to the optical axis AX, as shown in FIG. In such an optical system, the light flux from the mask M to the wafer W is sequentially reflected by a plurality of mirrors (first mirror PM1 to sixth mirror PM6), and the respective optical paths overlap to a considerable extent in space. Thus, the mirror reciprocates between the mirrors. Further, in order to avoid shielding by a circular mirror (for example, the second mirror) arranged on the optical axis and constituting the projection optical system PL, the shape of the field of view is on the object plane and the image plane. In general, it is a part of an arc-shaped region separated from the optical axis by a predetermined radius.
本例の投影光学系ＰＬでは、その視野（領域）は、物体面（マスクＭ）上で、光軸ＡＸから＋Ｙ方向（第５方向）に離れた（偏心した）位置を中心とする円弧状の領域である。そして、投影光学系ＰＬが光軸対称な光学系であることから、各ミラー（第１ミラーＰＭ１〜第６ミラーＰＭ６）で反射された各光束は、光軸ＡＸを中心として収束方向に、または光軸ＡＸを中心として発散する方向に反射されることになる。 In the projection optical system PL of this example, the field of view (region) has an arc shape centered on a position that is separated (eccentric) from the optical axis AX in the + Y direction (fifth direction) on the object plane (mask M). It is an area. Since the projection optical system PL is an optical system that is optically symmetric, each light beam reflected by each mirror (the first mirror PM1 to the sixth mirror PM6) is converged around the optical axis AX, or The light is reflected in the direction of diverging around the optical axis AX.
その結果、図１２に示す如く、マスクＭを介して第１ミラーＰＭ１へ入射する光束は瞳面ＰＰに対して＋Ｙ方向に近接した部分Ｐ１を通過し、第２ミラーＰＭ２を介して第３ミラーＰＭ３へ入射する光束は、瞳面ＰＰに対して−Ｙ方向に近接した部分Ｐ２を通過することとなる。 As a result, as shown in FIG. 12, the light beam incident on the first mirror PM1 through the mask M passes through the portion P1 close to the pupil plane PP in the + Y direction, and passes through the second mirror PM2 to the third mirror. The light beam incident on PM3 passes through the portion P2 close to the pupil plane PP in the −Y direction.
このように、本実施形態における投影光学系ＰＬは共軸な反射光学系であるために、開口絞りを配置すべき瞳面の近傍においては、Ｙ方向に沿って複数の光路が近接しており、その間の部分（空間）Ｓｐ３，Ｓｐ４の部分は一般に小さい。しかし、図１２から理解できるように、瞳面ＰＰに対して交差する方向に沿っては、他の光路が近接して配置されない部分がある。すなわち、第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間の光路の下側であって、第１ミラーＰＭ１と第３ミラーＰＭ３との間の部分Ｓｐ１、及び第１ミラーＰＭ１と第２ミラーＰＭ２との間の光路の上側であって、マスクＭと第２ミラーＰＭ２との間の部分Ｓｐ２には、他の光路が配置されない十分に大きな空間が存在している。 As described above, since the projection optical system PL in this embodiment is a coaxial reflection optical system, a plurality of optical paths are close to each other along the Y direction in the vicinity of the pupil plane where the aperture stop is to be disposed. The portions (spaces) Sp3 and Sp4 in between are generally small. However, as can be understood from FIG. 12, there are portions where other optical paths are not arranged close to each other along the direction intersecting the pupil plane PP. That is, on the lower side of the optical path between the first mirror PM1 and the second mirror PM2, the portion Sp1 between the first mirror PM1 and the third mirror PM3, and the first mirror PM1 and the second mirror PM2. In the portion Sp2 between the mask M and the second mirror PM2, there is a sufficiently large space in which no other optical path is arranged.
従って、各ミラーで反射された各光束が、瞳面ＰＰに近接して配置される場合、瞳面ＰＰの周囲を取り囲むように配置する必要のある従来の開口絞りでは、それらの光束を遮蔽してしまうために、配置することが困難である。しかし、本例の開口絞りＳであれば、図１２に示す如く、複数の第１遮光部材ＳＴ１は、そのスライド方向が瞳面ＰＰに交差する第１方向（本例では、光軸ＡＸに略平行な方向）に設定されて空間Ｓｐ１に配置されているので、近接する他の光束を遮蔽することなく配置することができる。 Therefore, when the light beams reflected by the mirrors are arranged close to the pupil plane PP, the conventional aperture stop that needs to be arranged so as to surround the pupil plane PP shields the light beams. Therefore, it is difficult to arrange. However, in the case of the aperture stop S of this example, as shown in FIG. 12, the plurality of first light blocking members ST1 are arranged in a first direction in which the sliding direction intersects the pupil plane PP (in this example, approximately the optical axis AX). (Parallel direction) and disposed in the space Sp1, it is possible to dispose other adjacent light beams without shielding them.
同様に、図１２に示す如く、複数の第２遮蔽部材ＳＴ２は、そのスライド方向が瞳面ＰＰに交差する第３方向（本例では、第１方向と同じ光軸ＡＸに略平行な方向）に設定されて空間Ｓｐ２に配置されているので、近接する他の光束を遮蔽することなく配置することができる。 Similarly, as shown in FIG. 12, the plurality of second shielding members ST2 has a third direction in which the sliding direction intersects the pupil plane PP (in this example, a direction substantially parallel to the same optical axis AX as the first direction). Since it is set in the space Sp2, it can be arranged without blocking other adjacent light beams.
このように、例えば投影光学系ＰＬの光路が各ミラーＰＭ１〜ＰＭ６で折り返されることによって、投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰの近傍において投影光学系ＰＬの光路が近接するような構成であっても、本実施形態における開口絞りＳは、投影光学系ＰＬの光路を遮蔽することなく、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡを段階的に変えることができる。従って、投影光学系ＰＬの設計上の自由度を高くすることができるとともに、投影光学系ＰＬの小型化を図ることができる。 Thus, for example, even if the optical path of the projection optical system PL is folded by the mirrors PM1 to PM6, the optical path of the projection optical system PL is close to the vicinity of the pupil plane PP of the projection optical system PL. The aperture stop S in the present embodiment can change the numerical aperture NA of the projection optical system PL in a stepwise manner without shielding the optical path of the projection optical system PL. Therefore, the degree of freedom in designing the projection optical system PL can be increased, and the projection optical system PL can be downsized.
また、本実施形態においては、第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２は、図１２に符号Ｌ１で示す如く、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに略平行な方向に沿って相対的にスライドするようにそれぞれ配置されている。しかし、同図に符号Ｌ２で示す如く、投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰと交差する方向であって且つ投影光学系ＰＬの光路を遮蔽しない方向であれば如何なる方向であってもよい。また、第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２は、互いに異なる方向に沿ってスライドするように配置されてもよい。すなわち、第１方向と第３方向とは、互いに同一の方向に設定されている必要はなく、互いに異なる方向に設定されてもよい。 In the present embodiment, the first light shielding member ST1 and the second light shielding member ST2 are relatively slid along a direction substantially parallel to the optical axis AX of the projection optical system PL, as indicated by reference numeral L1 in FIG. Each is arranged to do. However, as indicated by reference numeral L2 in the figure, any direction may be used as long as it intersects the pupil plane PP of the projection optical system PL and does not block the optical path of the projection optical system PL. Further, the first light shielding member ST1 and the second light shielding member ST2 may be arranged to slide along different directions. That is, the first direction and the third direction need not be set in the same direction, and may be set in different directions.
また、上述した実施形態では、複数の第１遮光部材ＳＴ１及び複数の第２遮光部材ＳＴ２は、選択的に設定される開口数ＮＡに応じて、各駆動手段ＤＲ１、ＤＲ２（第１駆動部、第２駆動部）によってスライド駆動されるようにして、開口数ＮＡを自動的に変更し得るようにしたが、何れか一方又は双方を、手動によってスライドできるように構成してもよい。 Further, in the above-described embodiment, the plurality of first light shielding members ST1 and the plurality of second light shielding members ST2 are driven by the driving units DR1, DR2 (first driving unit, Although the numerical aperture NA can be automatically changed by being driven to slide by the second drive unit), either one or both may be configured to be manually slidable.
さらに、上述した実施形態では、形成すべき開口形状を２分割して、それぞれを半筒状の第１遮光部材ＳＴ１及び第２遮光部材ＳＴ２によって規定するようにしたが、形成すべき開口形状を３分割以上に分割して、それぞれを部分筒状の複数の遮光部材によって規定するようにしてもよい。例えば、４分割する場合には、図１３に示す如く、形成すべき開口形状の９０°に相当する円弧状断面を有する部分筒状の複数の遮光部材ＳＴ３を４組設けて、各開口数ＮＡに応じて４組の遮光部材ＳＴ３により開口形状を規定するようにしてもよい。但し、駆動手段を含めてその構成が複雑化し、スライド駆動により生じる粉塵や化学的な汚染物質の発生が懸念されるため、上述した実施形態のように、２分割が適切である。 Further, in the above-described embodiment, the opening shape to be formed is divided into two and each is defined by the semi-cylindrical first light shielding member ST1 and the second light shielding member ST2. You may make it divide | segment into three or more division | segmentation, and each may be prescribed | regulated by several partial cylindrical light-shielding members. For example, when dividing into four, as shown in FIG. 13, four sets of a plurality of partial cylindrical light shielding members ST3 having an arcuate cross section corresponding to 90 ° of the opening shape to be formed are provided, and each numerical aperture NA Accordingly, the opening shape may be defined by the four sets of light shielding members ST3. However, since the configuration including the driving means is complicated and there is a concern about generation of dust and chemical pollutants generated by the slide driving, the two division is appropriate as in the above-described embodiment.
なお、上述した実施形態においては、第１可変遮光部材ＶＲ１を構成する複数の第１遮光部材ＳＴ１及び第２可変遮光部材ＶＲ２を構成する複数の第２遮光部材ＳＴ２は、それぞれをスライド可能に構成したが、第２可変遮光部材ＶＲ２に代えて、開口形状の第２部分を規定する複数の固定遮光部材を準備し、これらの何れかを前記所定面に交換して固定し得るように構成してもよい。この場合、固定遮光部材としては、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡの範囲（例えば０．１５〜０．３５）で平均的で且つ最適な開口絞りＳの開口形状の少なくとも一部（第２部分）を形成するように構成する。そして、開口数ＮＡの段数に応じてその内径の異なるものを複数準備し、開口数ＮＡを変更する際には、該当する内径を有する固定遮光部材を交換して取り付けるようにする。 In the above-described embodiment, each of the plurality of first light shielding members ST1 constituting the first variable light shielding member VR1 and the plurality of second light shielding members ST2 constituting the second variable light shielding member VR2 is configured to be slidable. However, instead of the second variable light-shielding member VR2, a plurality of fixed light-shielding members that define the second part of the opening shape are prepared, and any one of these can be replaced and fixed to the predetermined surface. May be. In this case, as the fixed light-shielding member, at least a part of the aperture shape of the aperture stop S that is average and optimal in the range of the numerical aperture NA of the projection optical system PL (for example, 0.15 to 0.35) (second portion) ) To form. A plurality of members having different inner diameters are prepared in accordance with the number of steps of the numerical aperture NA, and when changing the numerical aperture NA, the fixed light shielding member having the corresponding inner diameter is replaced and attached.
なお、上述した複数の第２遮光部材ＳＴ２と同じ部材を、固定遮光部材として、投影光学系ＰＬのフレーム等に交換可能に固定してするようにしてもよい。このような場合においても、本実施形態における開口絞りＳは、その開口形状が複数の第１遮光部材ＳＴ１及び上記の固定遮光部材によって形成できるように構成されるので、投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰの周囲に渡って機械的な機構を配置することなく、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡを段階的に変えることができる。 Note that the same member as the plurality of second light shielding members ST2 described above may be fixed as a fixed light shielding member to the frame of the projection optical system PL or the like in a replaceable manner. Even in such a case, the aperture stop S in the present embodiment is configured such that the aperture shape can be formed by the plurality of first light shielding members ST1 and the above-described fixed light shielding member, and thus the pupil plane of the projection optical system PL. The numerical aperture NA of the projection optical system PL can be changed stepwise without arranging a mechanical mechanism around the periphery of the PP.
なお、上記の実施形態においては、第２遮光部材ＳＴ２に代えて、例えば円弧状のエッジ部を持つ部材が開口絞りＳの開口部ＳＨに向けて出入り可能に配置された１つの絞り羽根に置き換えることも可能である。この場合、その絞り羽根は、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡの範囲（例えば０．１５〜０．３５）で平均的で且つ最適な開口絞りＳの開口形状の少なくとも一部（第２部分）を形成するように構成すればよい。このような場合においても、本実施形態における開口絞りＳは、その開口形状が複数の第１遮光部材ＳＴ１及び上記の絞り羽根によって形成できるように構成されるので、投影光学系ＰＬの瞳面ＰＰの周囲に渡って機械的な機構を配置することなく、投影光学系ＰＬの開口数ＮＡを段階的に変えることができる。 In the above-described embodiment, instead of the second light shielding member ST2, for example, a member having an arcuate edge portion is replaced with one diaphragm blade arranged so as to be able to enter and exit toward the opening portion SH of the aperture stop S. It is also possible. In this case, the diaphragm blades are at least part of the aperture shape of the aperture stop S that is average and optimal in the range of the numerical aperture NA of the projection optical system PL (for example, 0.15 to 0.35) (second portion). What is necessary is just to comprise so that it may form. Even in such a case, the aperture stop S in the present embodiment is configured such that the aperture shape can be formed by the plurality of first light shielding members ST1 and the above-described aperture blades, and thus the pupil plane PP of the projection optical system PL. The numerical aperture NA of the projection optical system PL can be changed stepwise without disposing a mechanical mechanism around the periphery of the projection optical system PL.
また、本実施形態における投影光学系ＰＬは、上述の６枚の非球面の各ミラーＰＭ１〜ＰＭ６で構成される光学系に限られるものではなく、８枚のミラーや１０枚のミラーなど、他の枚数のミラーからなる反射光学系を用いることもできる。さらに、本発明は、反射光学素子としてのミラーからなる反射光学系のみならず、反射光学素子としてのミラーと屈折光学素子としてのレンズを組み合わせて構成される反射屈折光学系、屈折光学素子としてのレンズを組み合わせて構成される屈折光学系にも、適用することができる。 In addition, the projection optical system PL in the present embodiment is not limited to the optical system configured by the above-described six aspherical mirrors PM1 to PM6, but may include eight mirrors, ten mirrors, and the like. It is also possible to use a reflection optical system comprising a number of mirrors. Furthermore, the present invention is not only a reflective optical system comprising a mirror as a reflective optical element, but also a catadioptric optical system constituted by combining a mirror as a reflective optical element and a lens as a refractive optical element, as a refractive optical element. The present invention can also be applied to a refractive optical system configured by combining lenses.
なお、本実施形態における露光装置に用いられるミラー（例えば、コリメータミラー２、照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＬの各ミラー）は、ＥＵＶ光を反射させるために、反射面に多層膜が形成されている。例えば、この多層膜は、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜やＭｏ／Ｂｅ多層膜などで構成される。 Note that a mirror (for example, each mirror of the collimator mirror 2, the illumination optical system ILS, and the projection optical system PL) used in the exposure apparatus according to the present embodiment has a multilayer film formed on a reflection surface in order to reflect EUV light. ing. For example, the multilayer film is composed of a Mo / Si multilayer film, a Mo / Be multilayer film, or the like.
また、本実施形態の光源装置１から射出されるＥＵＶ光（露光光）の波長は、高解像度を達成するために５０ｎｍ以下とすることが望ましく、一例としては１１．８ｎｍ又は１３．５ｎｍを使用することが望ましい。
In addition, the wavelength of EUV light (exposure light) emitted from the
なお、上記形態の開口絞りＳは、照明光学系に対しても適用することができる。すなわち、図１において、上記の開口絞りＳを、照明光学系ＩＬＳの瞳面又は瞳面近傍に適用することもできる。この場合、複数の第１遮光部材ＳＴ１を、照明光学系ＩＬＳに配置される開口絞りＳの近傍面にそれぞれ配置することもできる。さらに、複数の第２遮光部材ＳＴ２を、照明光学系ＩＬＳに配置される開口絞りＳの近傍面にそれぞれ配置することもできる。 In addition, the aperture stop S of the said form is applicable also to an illumination optical system. That is, in FIG. 1, the aperture stop S can be applied to the pupil plane or the vicinity of the pupil plane of the illumination optical system ILS. In this case, the plurality of first light shielding members ST1 can be respectively disposed on the vicinity of the aperture stop S disposed in the illumination optical system ILS. Furthermore, the plurality of second light shielding members ST2 can be respectively disposed on the vicinity of the aperture stop S disposed in the illumination optical system ILS.
また、本実施形態における照明光学系ＩＬＳは、マスクＭのパターン面上の露光視野内を照明する構成であればよく、具体的な構成は特に制限されない。 Further, the illumination optical system ILS in the present embodiment may be configured to illuminate the exposure field on the pattern surface of the mask M, and the specific configuration is not particularly limited.
なお、以上の説明においては、露光対象となる基板として半導体ウエハＷを想定したが、露光対象となる基板は半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）、又はフィルム部材などであってもよい。 In the above description, the semiconductor wafer W is assumed as a substrate to be exposed. However, the substrate to be exposed is not only a semiconductor wafer for manufacturing a semiconductor device, but also a glass substrate for a display device and a thin film magnetic head. Or a mask or reticle original (synthetic quartz, silicon wafer) used in an exposure apparatus, or a film member.
また、その基板は、その形状が円形に限られるものではなく、矩形など他の形状でもよい。また、本実施形態の光学系を適用する露光装置の形態は、上述したマスクＭとウエハＷとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）に限らず、マスクＭとウエハＷとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）であってもよい。 Further, the shape of the substrate is not limited to a circle, and may be other shapes such as a rectangle. An exposure apparatus to which the optical system of the present embodiment is applied is a step-and-scan type scanning exposure apparatus that scans and exposes the pattern of the mask M by synchronously moving the mask M and the wafer W described above ( A step-and-repeat projection exposure apparatus (stepper) that collectively exposes the pattern of the mask M while the mask M and the wafer W are stationary and sequentially moves the wafer W stepwise. Also good.
また、本実施形態の走査型露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることは言うまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が完了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。 Further, the scanning exposure apparatus of the present embodiment assembles various subsystems including the respective constituent elements recited in the claims of the present application so as to maintain predetermined mechanical accuracy, electrical accuracy, and optical accuracy. It is manufactured by. In order to ensure these various accuracies, before and after assembly, various optical systems are adjusted to achieve optical accuracy, various mechanical systems are adjusted to achieve mechanical accuracy, and various electrical systems are Adjustments are made to achieve electrical accuracy. The assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus includes mechanical connection, electrical circuit wiring connection, pneumatic circuit piping connection and the like between the various subsystems. Needless to say, there is an assembly process for each subsystem before the assembly process from the various subsystems to the exposure apparatus. When the assembly process of the various subsystems to the exposure apparatus is completed, comprehensive adjustment is performed to ensure various accuracies as the entire exposure apparatus. The exposure apparatus is preferably manufactured in a clean room where the temperature, cleanliness, etc. are controlled.
次に、本実施形態における露光装置を用いた電子デバイスの製造方法について説明する。 Next, an electronic device manufacturing method using the exposure apparatus according to this embodiment will be described.
上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイス等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図１４に示す如く、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ１１１、この設計ステップ１１１に基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ１１２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造するステップ１１３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板へ露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチングエ程などを含む基板処理ステップ１１４、デバイス組み立てステップ（ダイシングエ程、ボンディングエ程、パッケージング工程などの加エプロセスを含む）１１５、並びに検査ステップ１１６等を経て製造される。言い換えると、このデバイスの製造方法は、リソグラフィ工程を含み、そのリソグラフィ工程で上記の実施形態の露光装置を用いて感光性基板を露光している。
When an electronic device (microdevice) such as a semiconductor device is manufactured using the exposure apparatus of the above-described embodiment, the electronic device is a
なお、本発明は上述した全ての構成要素を適宜組み合わせて用いる事が可能であり、また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 In the present invention, all the above-described constituent elements can be used in appropriate combination, and some constituent elements may not be used. The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
１…光源装置、ＩＬＳ…照明光学系、ＰＬ…投影光学系、ＰＭ１〜ＰＭ６…ミラー、Ｍ…マスク、Ｗ…ウエハ、ＩＬ…照明光、ＰＰ，ＰＰ１…瞳面、Ｓ…可変開口絞り、ＶＲ１…第１可変遮光部材、ＶＲ２…第２可変遮光部材、ＳＴ１（ＳＴ１−１〜ＳＴ１−１０）…第１遮光部材、ＳＴ２（ＳＴ２−１〜ＳＴ２−１０）…第２遮光部材、ＡＸ…光軸、ＳＨ…開口部。
DESCRIPTION OF
Claims (24)
前記第１可変遮光部材は、
互いに異なる開口形状のそれぞれに対応して設けられ、前記開口形状の一部を規定する複数の第１遮光部材と、
前記複数の第１遮光部材の少なくとも一つを、前記所定面と交差する第１方向に駆動する第１駆動部と、
を備えることを特徴とする光学系。 A predetermined surface, in an optical system having an aperture stop having a first variable light shielding member capable of changing the opening shape of the light flux passes,
The first variable light shielding member includes:
A plurality of first light-shielding members provided corresponding to each of different opening shapes, and defining a part of the opening shape ;
A first drive unit that drives at least one of the plurality of first light shielding members in a first direction intersecting the predetermined plane;
Optical system comprising: a.
前記第２可変遮光部材は、前記所定面に配置され、前記開口形状の一部とは異なる部分を規定する交換可能な固定遮光部材を有することを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載の光学系。 A second variable light shielding member defining a portion different from a part of the opening shape defined by the first variable light shielding member;
The said 2nd variable light-shielding member is arrange | positioned on the said predetermined surface, and has a replaceable fixed light-shielding member which prescribes | regulates a part different from a part of said opening shape , Any one of Claim 1-5 An optical system according to claim 1.
前記第２可変遮光部材は、
互いに異なる開口形状のそれぞれに対応して設けられ、前記開口形状の一部とは異なる部分を規定する複数の第２遮光部材と、
前記複数の第２遮光部材の少なくとも一つを、前記所定面と交差する第３方向に進退する第２駆動部と、を備えることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか一項に記載の光学系。 A second variable light shielding member defining a portion different from a part of the opening shape defined by the first variable light shielding member;
The second variable light-shielding member is
A plurality of second light shielding members that are provided corresponding to each of the different opening shapes, and that define a portion different from a part of the opening shape;
At least one of said plurality of second light-shielding member, any one of claims 5 and second drive unit for advancing and retracting the third direction crossing the predetermined plane, claim 1, characterized in that it comprises a The optical system described in 1.
請求項１から請求項２１の何れか一項に記載の光学系を備えることを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes an image of a first surface onto a second surface,
An exposure apparatus comprising the optical system according to any one of claims 1 to 21 .
前記リソグラフィ工程は、請求項２２または請求項２３に記載の露光装置を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 An electronic device manufacturing method including a lithography process,
24. A method of manufacturing an electronic device, wherein the lithography process uses the exposure apparatus according to claim 22 or 23 .
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