JP5360053B2 - Gas analyzer with calibration gas cell - Google Patents

Gas analyzer with calibration gas cell Download PDF

Info

Publication number
JP5360053B2
JP5360053B2 JP2010508053A JP2010508053A JP5360053B2 JP 5360053 B2 JP5360053 B2 JP 5360053B2 JP 2010508053 A JP2010508053 A JP 2010508053A JP 2010508053 A JP2010508053 A JP 2010508053A JP 5360053 B2 JP5360053 B2 JP 5360053B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
laser light
calibration
light source
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010508053A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2009128138A1 (en
Inventor
直樹 松田
直司 森谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Publication of JPWO2009128138A1 publication Critical patent/JPWO2009128138A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5360053B2 publication Critical patent/JP5360053B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/39Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction
    • G01N21/276Calibration, base line adjustment, drift correction with alternation of sample and standard in optical path
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/39Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
    • G01N2021/396Type of laser source
    • G01N2021/399Diode laser
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/128Alternating sample and standard or reference part in one path
    • G01N2201/1285Standard cuvette

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

本発明はレーザ吸収分光技術を使ったガス分析装置に関する。   The present invention relates to a gas analyzer using laser absorption spectroscopy.

レーザ吸収分光を用いたガス計測を行う場合、基本的にはランバート・ベールの法則に従って、論理的に濃度を求めることが可能である。しかし、光学調整には限界があり、理論と完全に一致させるのは困難である。現実的には、ゼロガスや既知濃度のガスを使って、検量線を作成して、吸光度を濃度に換算するのが一般的である。   When performing gas measurement using laser absorption spectroscopy, it is basically possible to determine the concentration logically according to Lambert-Beer's law. However, there is a limit to optical adjustment, and it is difficult to completely match the theory. In practice, it is common to create a calibration curve using zero gas or a gas with a known concentration and convert the absorbance to the concentration.

その際、計測用ガスセルに校正用ガスを導入して、その出力から感度校正を行っている。他の方法では、別の光学系、校正用ガスセル及び光検出器を常に設けておき、測定光としてのレーザ光の一部をハーフミラーで分離して取り出して校正用ガスセルに導くことによって校正値をモニタする機能をもたせている(特許文献1参照。)。
特開2005−106546号公報
At that time, a calibration gas is introduced into the measurement gas cell, and sensitivity calibration is performed from the output. In another method, another optical system, a calibration gas cell, and a photodetector are always provided, and a calibration value is obtained by separating a part of the laser beam as measurement light by a half mirror and guiding it to the calibration gas cell. (See Patent Document 1).
JP 2005-106546 A

吸光度を測定する場合、試料気体中の測定対象成分の濃度が低下してくるにしたがい、バックグラウンドとの区別が不明瞭になり、装置の不安定性などを理由にレーザ光源の波長ドリフトなどが起こると正しい吸収ピークを見つけ難くなり、S/N比が低下して測定精度が低下してくる。When measuring the absorbance, as the concentration of the component to be measured in the sample gas decreases, the distinction from the background becomes unclear and wavelength drift of the laser light source occurs due to instability of the device. Thus, it is difficult to find a correct absorption peak, and the S / N ratio is lowered and the measurement accuracy is lowered.

本発明は、低濃度試料測定時のS/N比を改良することを目的とするものである。 An object of the present invention is to improve the S / N ratio at the time of measuring a low concentration sample .

本発明では、これらの問題を解決するために、試料気体の計測用ガスセルが配置された光路上に既知濃度の測定対象成分ガスが封入された校正用ガスセルを挿入したIn the present invention, in order to solve these problems, it was inserted calibration gas cell measuring gas cell sample gas measurement target component gas of known concentration disposed light path is enclosed.

すなわち、本発明の分析装置は、試料気体中の測定対象成分により吸収される特定波長の測定光としてのレーザ光を発生するレーザ光源と、レーザ光源の駆動を制御するレーザ光源駆動制御装置と、レーザ光を受光する位置に配置された光検出器と、レーザ光源から光検出器に至るレーザ光の光路上に配置された試料気体の計測用ガスセルと、前記光路上に試料気体測定時にも配置され、既知濃度の測定対象成分ガスが封入された少なくとも1つの校正用ガスセルと、光検出器の検出信号に基づいて試料気体中の測定対象成分濃度を算出する演算装置と、を備えている。 That is, the analyzer of the present invention includes a laser light source that generates laser light as measurement light having a specific wavelength absorbed by a measurement target component in a sample gas, a laser light source drive control device that controls driving of the laser light source, A photodetector disposed at a position for receiving laser light, a gas cell for measuring a sample gas disposed on the optical path of the laser light from the laser light source to the photodetector, and disposed on the optical path for measuring the sample gas is provided with at least one of the calibration gas cell measurement target component gas of known concentration is sealed, an arithmetic unit for calculating a measurement target component concentration in the sample gas based on a detection signal of the photodetector, the.

以下の説明において、波長を具体的に示すときに波長に替えて波数を用いる。波数は波長に対応しているので、本発明では「波長」は「波数」を含む概念として使用している。   In the following description, the wave number is used instead of the wavelength when specifically indicating the wavelength. Since the wave number corresponds to the wavelength, “wavelength” is used as a concept including “wave number” in the present invention.

校正用ガスセルは、ガス種、濃度、圧力などのパラメータを変えることで様々が仕様のものを作製可能で、より高度な校正を実現できる手段となる。   The gas cell for calibration can be manufactured in various specifications by changing parameters such as gas type, concentration, pressure, etc., and is a means that can realize more advanced calibration.

レーザ光源としては単一波長の光のみを発生するレーザダイオードとすることもできるが、測定対象を広げたり、分析対象に汎用性をもたせたり、あるいはS/N比を向上させるための手段として、波長変更可能なレーザ光源を使用することができる。レーザ光源には発振スペクトル線幅が細いDFBレーザ(Distributed FeedBack Laser:分布帰還型レーザ)ダイオードを使用することが一般的であるが、同様のスペックを達成できるレーザ光源であればその種類は問わない。波長変更可能なレーザ光源を使用した場合は、レーザ光源駆動制御装置は測定対象成分測定時には特定波長のレーザ光を発生するようにレーザ光源の駆動を制御する。   As a laser light source, it can be a laser diode that generates only light of a single wavelength, but as a means for expanding the measurement object, making the analysis object versatile, or improving the S / N ratio, A laser light source capable of changing the wavelength can be used. As a laser light source, a DFB laser (Distributed FeedBack Laser) diode having a narrow oscillation spectrum line width is generally used, but any type of laser light source can be used as long as it can achieve the same specifications. . When a laser light source capable of changing the wavelength is used, the laser light source drive control device controls the drive of the laser light source so as to generate laser light having a specific wavelength when measuring the measurement target component.

波長可変レーザ光源では駆動電流やレーザ本体の温度といったパラメータを制御することにより発生するレーザ光の波長を調節することができる。そのため、レーザ光源駆動制御装置は発生するレーザ光の波長とパラメータとの関係を示す波長変動データを保持する波長変動データ保持部を備えていることが好ましく、測定対象成分測定時にはレーザ光源駆動制御装置は保持している波長変動データに基づいてレーザ光源が特定波長のレーザ光を発生するようにレーザ光源の駆動を制御する。   In the wavelength tunable laser light source, the wavelength of the laser beam generated can be adjusted by controlling parameters such as the drive current and the temperature of the laser body. For this reason, the laser light source drive control device preferably includes a wavelength variation data holding unit that holds wavelength variation data indicating the relationship between the wavelength of the generated laser light and the parameters. Controls the driving of the laser light source so that the laser light source generates laser light of a specific wavelength based on the held wavelength variation data.

波長可変レーザ光源の一例として、レーザ本体の温度を調節する温度調節機構を備えてレーザ本体の温度により発生レーザ波長を変化させうるものを使用することができる。その場合、レーザ光源駆動制御装置はレーザ光源を駆動するためのレーザ本体への一定の基準電流と、レーザ本体の温度を調節するための温度調節機構への温度制御用電流とを供給するように制御されるのが好ましい。波長可変レーザ光源からの発生レーザ波長を固定するときはレーザ本体の温度が一定になるように温度調節機構への電流供給が制御され、発生レーザ波長を変化させるときはレーザ本体の温度が変化するように温度調節機構への電流供給が制御される。   As an example of the wavelength tunable laser light source, a light source that includes a temperature adjustment mechanism that adjusts the temperature of the laser body and can change the generated laser wavelength depending on the temperature of the laser body can be used. In this case, the laser light source drive control device supplies a constant reference current to the laser body for driving the laser light source and a temperature control current to the temperature adjustment mechanism for adjusting the temperature of the laser body. It is preferably controlled. When the generated laser wavelength from the wavelength tunable laser light source is fixed, the current supply to the temperature adjustment mechanism is controlled so that the temperature of the laser main body becomes constant, and when the generated laser wavelength is changed, the temperature of the laser main body changes. Thus, the current supply to the temperature adjustment mechanism is controlled.

波長可変レーザ光源を使用して特定波長のレーザ光を発生させる場合、レーザ光源の駆動条件を正確に設定する必要があるので、駆動条件設定の基になる波長変動データを必要に応じて、又は任意の時に校正できるようになっていることが好ましい。分光器を使用すれば出力波長を正確に調整することができるが、本発明では分光器を使用しないでレーザ波長を正確に設定できるようにする。そのために、基準となるピーク波長を用いてレーザ本体温度などのパラメータと発生レーザ波長との関係から波長変動データを校正する。   When laser light having a specific wavelength is generated using a wavelength tunable laser light source, it is necessary to accurately set the driving condition of the laser light source. It is preferable that calibration can be performed at any time. If the spectroscope is used, the output wavelength can be adjusted accurately. However, in the present invention, the laser wavelength can be set accurately without using the spectroscope. For this purpose, the wavelength fluctuation data is calibrated from the relationship between the generated laser wavelength and parameters such as the laser body temperature using the reference peak wavelength.

ここで、本発明の好ましい一形態として、校正用ガスセルとして既知の吸収ピーク波長をもつガスが封入された波長校正用ガスセルを含む。その場合、レーザ光源駆動制御装置は波長校正用ガスセルが光路に装着されたときの吸収ピークの波長を基にして波長変動データを校正する波長変動データ校正部を備えていることが好ましい。   Here, a preferred embodiment of the present invention includes a wavelength calibration gas cell in which a gas having a known absorption peak wavelength is enclosed as a calibration gas cell. In this case, the laser light source drive control device preferably includes a wavelength variation data calibration unit that calibrates wavelength variation data based on the wavelength of the absorption peak when the wavelength calibration gas cell is attached to the optical path.

波長校正では複数の吸収ピークの波長を使用することにより、より精密に校正することができるようになる。   In wavelength calibration, it becomes possible to calibrate more precisely by using wavelengths of a plurality of absorption peaks.

そのような複数の吸収ピークは1つの波長校正用ガスセルから発生するものを使用してもよい。波長校正に使用する吸収ピークは他の吸収ピークに比べて強度が大きく急峻なものがよい。1つの波長校正用ガスセルから発生する吸収ピークにそのような適当なものが複数含まれていれば、それらを使用することができる。   Such a plurality of absorption peaks may be generated from one wavelength calibration gas cell. The absorption peak used for wavelength calibration should have a large and sharp intensity compared to other absorption peaks. If a plurality of such appropriate peaks are included in the absorption peak generated from one wavelength calibration gas cell, they can be used.

しかし、1つの波長校正用ガスセルから発生する適当な吸収ピークが1つである場合は、異なるガスが封入された複数の波長校正用ガスセルを使うのが好ましい。その場合、例えば、そのような波長校正用ガスセルとして、測定対象成分を測定するための特定波長よりも長波長側の吸収ピーク波長をもつガスが封入された第1の波長校正用ガスセルと、特定波長よりも短波長側の吸収ピーク波長をもつガスが封入された第2の波長校正用ガスセルを含むものとするのが好ましい。   However, when there is one appropriate absorption peak generated from one wavelength calibration gas cell, it is preferable to use a plurality of wavelength calibration gas cells in which different gases are sealed. In that case, for example, as such a wavelength calibration gas cell, a first wavelength calibration gas cell in which a gas having an absorption peak wavelength longer than a specific wavelength for measuring a measurement target component is enclosed, and a specific It is preferable to include a second wavelength calibration gas cell in which a gas having an absorption peak wavelength shorter than the wavelength is enclosed.

波長校正を行うことによる他の利点は、干渉の影響を最小限にとどめるような最適な波長のレーザ光が発生するようにレーザ装置を駆動できることである。   Another advantage of performing wavelength calibration is that the laser device can be driven to generate an optimal wavelength laser beam that minimizes the effects of interference.

他の1つの校正は検量線データを校正する感度校正である。そのため、校正用ガスセルとして互いに異なる既知濃度の測定対象成分が封入された少なくとも2個の感度校正用ガスセルを含む。この場合、演算装置は測定対象成分濃度を算出するための検量線データを保持する検量線データ保持部と、感度校正用ガスセルがレーザ光の光路に装着されたときの吸光度により検量線データ保持部の検量線データを校正する検量線データ校正部を備えている。   Another calibration is a sensitivity calibration for calibrating calibration curve data. Therefore, the calibration gas cell includes at least two sensitivity calibration gas cells in which measurement target components having different known concentrations are sealed. In this case, the computing device has a calibration curve data holding unit for holding calibration curve data for calculating the concentration of the measurement target component, and a calibration curve data holding unit based on the absorbance when the sensitivity calibration gas cell is mounted in the optical path of the laser beam. A calibration curve data calibration unit for calibrating the calibration curve data.

好ましい形態として、感度校正用ガスセルは試料気体測定時にもレーザ光の光路上に配置されるものとする。その場合、演算装置は光検出器から求められる吸光度から試料気体測定時にレーザ光の光路上に配置された感度校正用ガスセルによる吸光度を引く吸光度修正部を備える。 As a preferred embodiment, the sensitivity calibration gas cell is arranged on the optical path of the laser beam even when measuring the sample gas. In that case, the arithmetic unit obtaining Bei absorbance correcting unit subtracting the absorbance due to the laser light on the optical path on the arrangement sensitivity calibration gas cell from the absorbance obtained from the photodetector when the sample gas measurement.

本発明を用いることで、例えば、感度校正用ガスセルとして測定対象成分を1ppmの濃度で封入されたものをレーザ光の光路上に配置して試料気体の測定を行うと、仮に試料気体の測定対象成分濃度が0に近づいていっても光検出器は常に濃度1ppm以上の測定対象成分を透過したレーザ光を検出することになり、バックグラウンドに対してピーク位置が明瞭となり、S/N比の低下を抑えることができるようになるBy using the present invention, for example, when a sample gas is measured by placing a measurement target component sealed at a concentration of 1 ppm as a sensitivity calibration gas cell on the optical path of a laser beam, the measurement target of the sample gas is assumed. Even if the component concentration is close to 0, the photodetector always detects the laser beam that has passed through the component to be measured with a concentration of 1 ppm or more, the peak position becomes clear with respect to the background, and the S / N ratio It becomes possible to suppress the decrease .

レーザ吸収分光測定のための分析装置の基本的な構成を概略的に示すブロック図である。It is a block diagram which shows roughly the fundamental structure of the analyzer for laser absorption spectroscopy measurement .

構成における校正用ガスセル装着機構の付近を詳細に示した平面図である。It is the top view which showed the vicinity of the gas cell mounting mechanism for calibration in the same structure in detail.

校正用ガスセル装着機構としての支持機構を示す正面図である。It is a front view which shows the support mechanism as a gas cell mounting mechanism for calibration.

複数の校正用ガスセルを備えている校正用ガスセル装着機構の一例を模式的に示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows typically an example of the calibration gas cell mounting mechanism provided with the several calibration gas cell.

複数の校正用ガスセルを備えている校正用ガスセル装着機構の他の例を模式的に示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows typically the other example of the calibration gas cell mounting mechanism provided with the several gas cell for a calibration.

波長校正を可能にする制御部を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control part which enables wavelength calibration.

CH4が封入された波長校正用ガスセルによる吸収スペクトルを示すグラフである。CH 4 is a graph showing the absorption spectra due to encapsulated wavelength calibration gas cell.

2Oが封入された波長校正用ガスセルによる吸収スペクトルを示すグラフである。H 2 O is a graph showing the absorption spectra due to encapsulated wavelength calibration gas cell.

校正された波長変動データを示すグラフである。It is a graph which shows the calibrated wavelength variation data.

COの吸収スペクトルを示すグラフである。It is a graph which shows the absorption spectrum of CO.

感度校正を可能にする演算装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the arithmetic unit which enables sensitivity calibration.

検量線データの校正を示すグラフである。It is a graph which shows calibration of calibration curve data.

感度を高める測定方法を示すグラフである。It is a graph which shows the measuring method which raises a sensitivity.

符号の説明Explanation of symbols

2 レーザ光源
3 温度調節機構
6 制御部
4 レーザ駆動回路
8 光検出器
10 レーザ光の光路
12 試料気体計測用ガスセル
14,14a〜14d 校正用ガスセル
16 演算装置
22 校正用ガスセル装着機構の支持機構
23 セルホルダ
15 貫通穴
30 波長変動データ保持部
32 波長変動データ校正部
40 検量線データ保持部
42 検量線データ校正部
44 吸光度集西部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Laser light source 3 Temperature control mechanism 6 Control part 4 Laser drive circuit 8 Photodetector 10 Optical path of laser beam 12 Sample gas measurement gas cell 14, 14a-14d Calibration gas cell 16 Arithmetic device 22 Support mechanism of calibration gas cell mounting mechanism 23 Cell holder 15 Through hole 30 Wavelength variation data holding unit 32 Wavelength variation data calibration unit 40 Calibration curve data holding unit 42 Calibration curve data calibration unit 44 Absorbance collection unit

図1はレーザ吸収分光測定のための分析装置を概略的に表したものである。試料気体中の測定対象成分により吸収される特定波長の測定光としてのレーザ光を発生するレーザ光源2は、この分析装置では波長変更可能なDFBレーザダイオードである。波長変更可能なレーザ光源-の種類は特に限定されるものではない。レーザ光源2はレーザ本体の温度を調節するためにペルチェ素子からなる温度調節機構3を内蔵している。 FIG. 1 schematically shows an analyzer for laser absorption spectroscopy measurement . The laser light source 2 that generates laser light as measurement light having a specific wavelength that is absorbed by the measurement target component in the sample gas is a DFB laser diode whose wavelength can be changed in this analyzer . The type of the laser light source that can change the wavelength is not particularly limited. The laser light source 2 incorporates a temperature adjustment mechanism 3 composed of a Peltier element in order to adjust the temperature of the laser body.

レーザ光源2の駆動を制御するレーザ光源駆動制御装置として、レーザ駆動回路4と演算処理回路又は専用コンピュータ又は汎用のパーソナルコンピュータにてなる制御部6を備えている。レーザ駆動回路4は制御部6からの制御信号によりレーザ光源2を駆動する駆動電流として一定の基準電流Ioを供給する。制御部6はさらにレーザ光源2から発生するレーザ光の波長を調節するために温度調節機構3のペルチェ素子に対し温度制御用の電流Itを供給する。   As a laser light source drive control device that controls the drive of the laser light source 2, a laser drive circuit 4 and a control unit 6 including an arithmetic processing circuit, a dedicated computer, or a general-purpose personal computer are provided. The laser drive circuit 4 supplies a constant reference current Io as a drive current for driving the laser light source 2 by a control signal from the control unit 6. The controller 6 further supplies a current It for temperature control to the Peltier element of the temperature adjusting mechanism 3 in order to adjust the wavelength of the laser light generated from the laser light source 2.

レーザ光源2から発生するレーザ光の波長は試料気体中の測定対象成分濃度を測定するときは吸光度を測定しようとする特定波長になるように、あるいは特定波長を挟むように波長が走査されるように温度制御用電流Itが制御される。そのときレーザ本体の温度は特定波長に対応した一定温度に調節される。試料気体又は校正用ガスセル中のガスの吸収スペクトルを測定するときはレーザ光源2から発生するレーザ光の波長を走査させる。そのために、レーザ本体の温度が変化していくように制御部6により温度制御用電流Itが制御される。   The wavelength of the laser light generated from the laser light source 2 is scanned so as to be a specific wavelength for measuring the absorbance when the concentration of the measurement target component in the sample gas is measured or sandwiching the specific wavelength. Thus, the temperature control current It is controlled. At that time, the temperature of the laser body is adjusted to a constant temperature corresponding to the specific wavelength. When measuring the absorption spectrum of the sample gas or the gas in the calibration gas cell, the wavelength of the laser beam generated from the laser light source 2 is scanned. For this purpose, the temperature control current It is controlled by the controller 6 so that the temperature of the laser body changes.

レーザ光源2から発生する測定用レーザ光を受光する位置には光検出器8が配置されている。光検出器8はフォトダイオード又は光電子増倍管である。   A photodetector 8 is arranged at a position where the measurement laser beam generated from the laser light source 2 is received. The photodetector 8 is a photodiode or a photomultiplier tube.

レーザ光源2から光検出器8に至る測定用レーザ光の光路10上には試料気体計測用ガスセル12が配置されている。計測用ガスセル12はフローセルであり、試料気体が流される。   A sample gas measuring gas cell 12 is disposed on the optical path 10 of the measuring laser beam from the laser light source 2 to the photodetector 8. The measurement gas cell 12 is a flow cell, and a sample gas is flowed through it.

この分析装置は校正用ガスが封入された少なくとも1つの校正用ガスセル14を備えている。校正用ガスセル14の種類としては波長校正用ガスセルと感度校正用ガスセルがある。そして、校正用ガスセルのうちの1つを光路10上に着脱可能に配置することのできる校正用ガスセル装着機構(図1では図示を省略している。)が設けられている。   This analyzer includes at least one calibration gas cell 14 in which a calibration gas is sealed. The types of the calibration gas cell 14 include a wavelength calibration gas cell and a sensitivity calibration gas cell. A calibration gas cell mounting mechanism (not shown in FIG. 1) is provided that can detachably place one of the calibration gas cells on the optical path 10.

光検出器8の検出信号は演算処理回路、専用コンピュータ又は汎用のパーソナルコンピュータにてなる演算装置16に出力される。演算装置16は光検出器8の検出信号に基づいて試料気体中の測定対象成分濃度を算出するプログラムを備えている。   The detection signal of the photodetector 8 is output to the arithmetic unit 16 which is an arithmetic processing circuit, a dedicated computer or a general-purpose personal computer. The arithmetic device 16 includes a program for calculating the concentration of the measurement target component in the sample gas based on the detection signal of the photodetector 8.

制御部6と演算装置16は1つの装置により実現してもよく、別の装置により実現してもよい。   The control unit 6 and the arithmetic device 16 may be realized by one device or may be realized by another device.

レーザ光源2から発生するレーザ光の波長を校正する際には光検出器8の検出信号は制御部6にも出力される。   When the wavelength of the laser beam generated from the laser light source 2 is calibrated, the detection signal of the photodetector 8 is also output to the control unit 6.

図2Aは校正用ガスセル装着機構の付近を詳細に示した平面図である。計測用ガスセル12から出たレーザ光を光検出器8に導くために、レーザ光の光路10が折返しミラー18で方向が変えられ、集光ミラー20で集光されて光検出器8へ導かれる。レーザ光はレーザ光源2から出て計測用ガスセル12に入射させる光学系により平行光とされてセル12に導入される。セル12を出たレーザ光は平行光の状態を保ったまま折返しミラー18から集光ミラー20まで導かれ、集光ミラー20で光検出器であるフォトダイオード8上に集光される。レーザ光の光路10上には校正用ガスセル14が着脱可能に装着できるようになっている。この例では折返しミラー18と集光ミラー20の間の光路上に校正用ガスセル14が配置できるようになっている。校正用ガスセル14の挿入によってレーザ光にケラレが発生したり、光検出器8上の集光位置のズレが起こらない、またはズレがあっても光検出器8の出力が一定、あるいは補正が可能な状態になるよう設計されている。計測用ガスセル12と校正用ガスセル14が配置されている光路では、ガスセル12,14の窓板が平行になることで干渉が起こるのを避けるために、窓板にはウェッジが付いている。   FIG. 2A is a plan view showing in detail the vicinity of the calibration gas cell mounting mechanism. In order to guide the laser beam emitted from the measurement gas cell 12 to the photodetector 8, the direction of the optical path 10 of the laser beam is changed by the folding mirror 18, condensed by the collector mirror 20, and guided to the photodetector 8. . The laser light is converted into parallel light by an optical system that exits the laser light source 2 and enters the measurement gas cell 12 and is introduced into the cell 12. The laser light exiting the cell 12 is guided from the folding mirror 18 to the condensing mirror 20 while maintaining a parallel light state, and is condensed on the photodiode 8 which is a photodetector by the condensing mirror 20. A calibration gas cell 14 is detachably mounted on the optical path 10 of the laser beam. In this example, the calibration gas cell 14 can be disposed on the optical path between the folding mirror 18 and the condenser mirror 20. No vignetting occurs in the laser beam due to the insertion of the calibration gas cell 14, or there is no deviation of the condensing position on the photodetector 8, or the output of the photodetector 8 is constant or can be corrected even if there is a deviation. It is designed to be in good condition. In the optical path in which the measurement gas cell 12 and the calibration gas cell 14 are arranged, the window plate is provided with a wedge in order to avoid interference caused by the parallel window plates of the gas cells 12 and 14.

校正用ガスセル装着機構としての支持機構22は、図2Bに正面図が示されているように、校正用ガスセル14を上方から嵌め込んで装着できるように上部に開口した部分をもち、その開口部にセル14を装着すると光路10がガスセル14の中心部を透過するように位置決めされるようになっている。   As shown in the front view of FIG. 2B, the support mechanism 22 as a calibration gas cell mounting mechanism has a portion opened at the top so that the calibration gas cell 14 can be fitted and mounted from above. When the cell 14 is mounted, the optical path 10 is positioned so as to pass through the central portion of the gas cell 14.

図3は複数の校正用ガスセル14a〜14dを備えている場合を模式的に示したものである。ガスセル14a〜14dはいずれかが選択されて支持機構22に装着される。校正用ガスセルを使用しないときは、いずれのガスセル14a〜14dも支持機構22に装着されない。   FIG. 3 schematically shows a case where a plurality of calibration gas cells 14a to 14d are provided. Any one of the gas cells 14 a to 14 d is selected and attached to the support mechanism 22. When the calibration gas cell is not used, none of the gas cells 14 a to 14 d is attached to the support mechanism 22.

図4は校正用ガスセル装着機構の他のを示したものである。セルホルダ23はレーザ光の光軸10と平行な回転軸25により回転可能に支持されている。セルホルダ23はその回転軸25を円の中心とする円周上に1つの貫通穴15と、複数個の校正用ガスセル14a〜14cが配置されている。セルホルダ23を回転させることにより、貫通穴15又はいずれかのガスセル14a〜14cを光軸10上に配置することができる。通常の試料気体の測定時は貫通穴15が光軸上にくるように位置決めし、波長校正もしくは感度校正を行うとき、又は低濃度試料を測定するときに所定のガスセル14a〜14cのいずれかを光路10上に配置する。 FIG. 4 shows another example of the calibration gas cell mounting mechanism. The cell holder 23 is rotatably supported by a rotating shaft 25 parallel to the optical axis 10 of the laser beam. In the cell holder 23, one through hole 15 and a plurality of calibration gas cells 14a to 14c are arranged on the circumference with the rotation axis 25 as the center of the circle. By rotating the cell holder 23, the through hole 15 or any of the gas cells 14 a to 14 c can be arranged on the optical axis 10. When measuring a normal sample gas, the through hole 15 is positioned so as to be on the optical axis, and when performing wavelength calibration or sensitivity calibration, or when measuring a low concentration sample, one of the predetermined gas cells 14a to 14c is set. It is arranged on the optical path 10.

次に、図5から図9により波長校正について説明する。波長校正を可能にするために、図5に示されるように、制御部6はレーザ光源2の駆動条件を規定するパラメータと発生するレーザ波長との関係を示す波長変動データを保持する波長変動データ保持部30を備えている。この例では駆動条件を規定するパラメータはレーザ本体の温度、すなわちレーザ本体に内蔵された温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値Itである。波長変動データはペルチェ素子へ流す電流値と発生するレーザ波長との関係を示すものとなる。制御部6はさらに、波長校正用ガスセルがレーザ光の光路10に装着されたときの吸収ピークの波長を基にして波長変動データ保持部30の波長変動データを校正する波長変動データ校正部32を備えている。制御部6には、測定対象成分を測定するための波長を設定するための入力部34も備えている。   Next, wavelength calibration will be described with reference to FIGS. In order to enable the wavelength calibration, as shown in FIG. 5, the control unit 6 holds the wavelength variation data that holds the wavelength variation data indicating the relationship between the parameter that defines the driving condition of the laser light source 2 and the generated laser wavelength. A holding unit 30 is provided. In this example, the parameter that defines the driving condition is the temperature of the laser body, that is, the current value It flowing to the Peltier element of the temperature adjustment mechanism 3 built in the laser body. The wavelength variation data indicates the relationship between the current value flowing to the Peltier element and the generated laser wavelength. The control unit 6 further includes a wavelength variation data calibration unit 32 that calibrates the wavelength variation data of the wavelength variation data holding unit 30 based on the wavelength of the absorption peak when the wavelength calibration gas cell is attached to the optical path 10 of the laser beam. I have. The control unit 6 also includes an input unit 34 for setting a wavelength for measuring the measurement target component.

いま、試料気体中の一酸化炭素(CO)を測定対象成分とし、波長校正用ガスセルとしてメタン(CH4)が封入れたガスセルと水蒸気(H2O)が封入れたガスセルを用いるものとして説明する。It is assumed that carbon monoxide (CO) in a sample gas is a measurement target component, and a gas cell in which methane (CH 4 ) is enclosed and a gas cell in which water vapor (H 2 O) is enclosed are used as wavelength calibration gas cells. To do.

測定対象成分測定時には制御部6は波長変動データ保持部30に保持している波長変動データに基づいて、レーザ本体の温度がCOを測定するのに適した特定波長のレーザ光を発生する温度になるようにペルチェ素子へ流す電流値Itを制御する。レーザ駆動回路4からレーザ光源2に供給される駆動電流は、測定対象成分測定時も校正時も、常に一定の基準電流Ioである。   At the time of measuring the component to be measured, the control unit 6 sets the temperature of the laser body to a temperature that generates laser light of a specific wavelength suitable for measuring CO based on the wavelength variation data held in the wavelength variation data holding unit 30. Thus, the current value It flowing to the Peltier element is controlled. The drive current supplied from the laser drive circuit 4 to the laser light source 2 is always a constant reference current Io during measurement of the measurement target component and during calibration.

波長校正を行うときは、計測用ガスセル12には試料気体は流さないで計測用ガスセル12中を窒素ガスなどの測定対象成分を含まないガスで置換しておく。校正用ガスセルとして、CH4が封入された波長校正用ガスセルを光路10上に配置し、制御部6から温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値を制御してレーザ本体の温度を変化させていく。これにより、レーザ光源2から発生するレーザ光の波長が変化して波長走査がなされる。この波長走査により、図6に示される吸収スペクトルが得られる。CH4は図6中に矢印で示されるように、4294cm-1付近に突出した強い吸収線をもっている。その吸収線の詳細なピーク波長(波数)はよく知られている。制御部6の波長変動データ校正部32はそのピーク波長とそのときのレーザ本体の温度、すなわち温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値It1を波長変動データとして取り込む。When performing the wavelength calibration, the measurement gas cell 12 is not flowed into the measurement gas cell 12 and the measurement gas cell 12 is replaced with a gas that does not contain a measurement target component such as nitrogen gas. As a calibration gas cell, a wavelength calibration gas cell in which CH 4 is enclosed is disposed on the optical path 10, and the temperature of the laser main body is changed by controlling the current value flowing from the control unit 6 to the Peltier element of the temperature adjustment mechanism 3. Go. As a result, the wavelength of the laser beam generated from the laser light source 2 changes and wavelength scanning is performed. By this wavelength scanning, the absorption spectrum shown in FIG. 6 is obtained. CH 4 has a strong absorption line protruding in the vicinity of 4294 cm −1 as indicated by an arrow in FIG. The detailed peak wavelength (wave number) of the absorption line is well known. The wavelength variation data calibrating unit 32 of the control unit 6 takes in the peak wavelength and the temperature of the laser body at that time, that is, the current value It 1 flowing to the Peltier element of the temperature adjusting mechanism 3 as the wavelength variation data.

次に校正用ガスセルとして、H2Oが封入された波長校正用ガスセルを光路10上に配置し、同様にして制御部6から温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値を制御してレーザ本体の温度を変化させていく。これにより、レーザ光源2から発生するレーザ光の波長が変化して波長走査がなされ、この波長走査により、図7に示される吸収スペクトルが得られる。H2Oは図7中に矢印で示されるように、4270-1付近に突出した強い吸収線をもっている。その吸収線の詳細なピーク波長(波数)もよく知られている。制御部6の波長変動データ校正部32はそのピーク波長とそのときのレーザ本体の温度、すなわち温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値It2を波長変動データとして取り込む。Next, as a calibration gas cell, a wavelength calibration gas cell in which H 2 O is sealed is disposed on the optical path 10, and the current value flowing from the control unit 6 to the Peltier element of the temperature control mechanism 3 is similarly controlled to control the laser body. Let's change the temperature. As a result, the wavelength of the laser beam generated from the laser light source 2 is changed and wavelength scanning is performed, and the absorption spectrum shown in FIG. 7 is obtained by this wavelength scanning. H 2 O has a strong absorption line protruding in the vicinity of 4270 −1 as indicated by an arrow in FIG. The detailed peak wavelength (wave number) of the absorption line is also well known. The wavelength variation data calibrating unit 32 of the control unit 6 captures the peak wavelength and the temperature of the laser body at that time, that is, the current value It 2 flowing to the Peltier element of the temperature adjusting mechanism 3 as the wavelength variation data.

このように2種類の校正用ガスセルによって2つの波長のレーザ光を発生するときの電流値It1,It2がパラメータとして得られる。波長変動データ校正部32はその2つのパラメータにより波長変動データ保持部30に保持されている波長変動データを校正する。校正された波長変動データを図示すると図8のようになる。もちろん、3つ以上のピーク波長を用いて波長校正を行ってもよい。In this way, the current values It 1 and It 2 when two wavelengths of laser light are generated by the two types of calibration gas cells are obtained as parameters. The wavelength variation data calibration unit 32 calibrates the wavelength variation data held in the wavelength variation data holding unit 30 by using the two parameters. The corrected wavelength variation data is illustrated in FIG. Of course, wavelength calibration may be performed using three or more peak wavelengths.

その校正された波長変動データに基づいて測定対象成分を測定するための波長(波数)を入力部34から入力すると、その波長のレーザ光を発生するためのレーザ本体温度になるように制御部6により温度調節機構3のペルチェ素子へ流す電流値Itが制御される。   When a wavelength (wave number) for measuring the measurement target component is input from the input unit 34 based on the calibrated wavelength variation data, the control unit 6 is set so that the laser body temperature for generating laser light of that wavelength is obtained. Thus, the current value It flowing to the Peltier element of the temperature adjustment mechanism 3 is controlled.

測定対象成分であるCOについて説明すると、COは図9に示されるように波数4270cm-1から4300cm-1までに9本の特徴的な吸収線をもつ。いずれの吸収線でもCOガスの濃度は計測できるが、CH4、H2Oの吸収線もこの周波数近傍に多数存在するため、吸収線の干渉によるノイズが無視できず、干渉の影響の少ない吸収線をうまく選択する必要がある。そのような干渉の影響の少ない吸収線の波長(波数)を入力部34から入力することにより、校正された波長変動データに基づいてレーザ光源2から発生するレーザ光の波長が制御部6により制御される。また、それらのCOの複数の吸収線のうちの何番目の吸収線を使って測定しているのかも正確に知ることが可能となる。このように、干渉の影響のあるガス種に対し、COの吸収線を使い分けることで、干渉の影響を最小限にとどめることが可能になる。Referring to the measurement target component CO, CO has nine characteristic absorption lines in the wave number 4270cm -1 as shown in FIG. 9 to 4300cm -1. The CO gas concentration can be measured with any of the absorption lines, but since there are many absorption lines of CH 4 and H 2 O in the vicinity of this frequency, the noise due to the interference of the absorption lines cannot be ignored and the absorption is less affected by interference. It is necessary to select the line well. By inputting the wavelength (wave number) of such an absorption line that is less affected by interference from the input unit 34, the control unit 6 controls the wavelength of the laser light generated from the laser light source 2 based on the calibrated wavelength variation data. Is done. In addition, it is possible to accurately know the number of absorption lines among the plurality of absorption lines of CO. In this way, the influence of interference can be minimized by properly using the CO absorption line for the gas species that are affected by interference.

次に感度校正について図10と図11を参照して説明する。感度校正とは測定された吸光度を濃度値に変換するための検量線データを校正することである。感度校正時は、校正用ガスセルとして互いに異なる既知濃度の測定対象成分が封入された少なくとも2個の感度校正用ガスセルを用いる。演算装置16は、図10に示されるように、測定対象成分濃度を算出するための検量線データを保持する検量線データ保持部40と、感度校正用ガスセルがレーザ光の光路10に装着されたときの吸光度により検量線データ保持部40の検量線データを校正する検量線データ校正部42を備えている。   Next, sensitivity calibration will be described with reference to FIGS. Sensitivity calibration is calibration of calibration curve data for converting measured absorbance into a concentration value. At the time of sensitivity calibration, at least two sensitivity calibration gas cells in which components to be measured having different known concentrations are sealed are used as calibration gas cells. As shown in FIG. 10, the arithmetic device 16 includes a calibration curve data holding unit 40 that holds calibration curve data for calculating a measurement target component concentration, and a sensitivity calibration gas cell mounted on the optical path 10 of the laser beam. The calibration curve data calibration unit 42 calibrates the calibration curve data of the calibration curve data holding unit 40 according to the absorbance at that time.

感度校正を行う際、レーザ光源2から発生するレーザ光の波長はその測定対象成分を測定するための特定波長に固定しておく。感度校正を行うときは、計測用ガスセル12には試料気体は流さないで計測用ガスセル12中を窒素ガスなどの測定対象成分を含まないガスで置換しておく。検量線データ保持部40には、図11にAoとして示される検量線データが保持されているとする。   When performing sensitivity calibration, the wavelength of the laser beam generated from the laser light source 2 is fixed to a specific wavelength for measuring the measurement target component. When performing sensitivity calibration, the measurement gas cell 12 is not flowed into the measurement gas cell 12, but the measurement gas cell 12 is replaced with a gas that does not contain a measurement target component such as nitrogen gas. It is assumed that the calibration curve data holding unit 40 holds calibration curve data indicated as Ao in FIG.

感度校正用ガスセル14として、測定対象成分のCOが既知の濃度C1で封入された感
度校正用ガスセルを光路10上に配置して吸光度Ab1を測定する。次に、感度校正用ガスセル14としてCOが既知の濃度C2で封入された感度校正用ガスセルを光路10上に配置して吸光度Ab2を測定する。検量線データ校正部42は得られた2つのCO濃度C1,C2での吸光度Ab1,Ab2を用いて検量線データ保持部40に保持されている検量線データを図11中にA1で示されるように校正する。もちろん、3つ以上の濃度の異なる感度校正用ガスセルを使用して感度校正を行ってもよいし、検量線が原点を通ることを仮定して1つ感度校正用ガスセルで感度校正してもよい。
As the sensitivity calibration gas cell 14, a sensitivity calibration gas cell in which CO as a measurement target component is sealed at a known concentration C 1 is arranged on the optical path 10 to measure the absorbance Ab 1 . Next, a sensitivity calibration gas cell in which CO is sealed at a known concentration C 2 is arranged on the optical path 10 as the sensitivity calibration gas cell 14 and the absorbance Ab 2 is measured. The calibration curve data calibration unit 42 uses the obtained absorbances Ab 1 and Ab 2 at the two CO concentrations C 1 and C 2 as the calibration curve data held in the calibration curve data holding unit 40 in FIG. Calibrate as shown in 1 . Of course, sensitivity calibration may be performed using three or more sensitivity calibration gas cells having different concentrations, or sensitivity calibration may be performed with one sensitivity calibration gas cell on the assumption that the calibration curve passes through the origin. .

試料気体のCO濃度を測定するときは、感度校正用ガスセル14を光路10から除去し、計測用ガスセル12に試料気体を流して、吸光度Abを測定する。演算装置16は測定された吸光度Abに対して、校正された検量線データを適用して濃度を算出する。   When measuring the CO concentration of the sample gas, the sensitivity calibration gas cell 14 is removed from the optical path 10, the sample gas is allowed to flow through the measurement gas cell 12, and the absorbance Ab is measured. The computing device 16 calculates the concentration by applying the calibrated calibration curve data to the measured absorbance Ab.

感度校正用ガスセル14を用いて低濃度の測定対象成分を測定する場合に、S/N比を向上させる形態を説明する。この場合は、試料気体測定時にもレーザ光の光路10上に適当な既知濃度の測定対象成分が封入された感度校正用ガスセル14が配置される。測定対象成分はこの場合はCOであり、その感度校正用ガスセルに封入されたCO濃度は例えば1ppmであるとする。計測用ガスセル12に試料気体を流さずに感度校正用ガスセル14による吸光度測定値がAboであったとする。   An embodiment for improving the S / N ratio when measuring a low concentration measurement target component using the sensitivity calibration gas cell 14 will be described. In this case, a sensitivity calibration gas cell 14 in which a measurement target component having an appropriate known concentration is sealed is arranged on the optical path 10 of the laser beam even when measuring the sample gas. In this case, the component to be measured is CO, and the CO concentration enclosed in the sensitivity calibration gas cell is, for example, 1 ppm. It is assumed that the absorbance measurement value by the sensitivity calibration gas cell 14 is Abo without flowing the sample gas into the measurement gas cell 12.

感度校正用ガスセル14を光路10上に配置せずに計測用ガスセル12に試料気体を流して吸光度を測定すると、試料気体中の測定対象成分濃度に対する吸光度測定値は図12のBoで示されるように変化する。そのような測定方法によれば、測定対象成分濃度が吸光度Ab1をもつような0に近い低濃度の場合には、吸収ピークが小さくなり、バックグラウンドとの区別が不明瞭となり、波長ドリフトによって正確な濃度測定を行うことができなくなる。When the sample gas is flowed into the measurement gas cell 12 without measuring the sensitivity calibration gas cell 14 on the optical path 10 and the absorbance is measured, the absorbance measurement value with respect to the concentration of the measurement target component in the sample gas is indicated by Bo in FIG. To change. According to such a measurement method, when the concentration of the measurement target component is a low concentration close to 0 with the absorbance Ab 1 , the absorption peak becomes small, the distinction from the background becomes unclear, and the wavelength drift causes Accurate concentration measurement cannot be performed.

それに対し、この形態により感度校正用ガスセル14を光路10上に配置して計測用ガスセル12に試料気体を流して吸光度を測定すると、測定対象成分濃度が吸光度Ab1をもつような0に近い低濃度の場合であっても吸光度測定値としてはAboだけ加算された吸光度Ab1'として検出されるので、吸収ピークを見失うことなく、正しい濃度測定に十分なS/N比で測定を行うことができるようになる。On the other hand, when the sensitivity calibration gas cell 14 is arranged on the optical path 10 and the sample gas is flowed into the measurement gas cell 12 and the absorbance is measured according to this embodiment, the concentration of the measurement target component is as low as 0 having the absorbance Ab 1. Even in the case of the concentration, since the absorbance Ab 1 ′ obtained by adding only Abo is detected as the absorbance measurement value, it is possible to perform measurement with a sufficient S / N ratio for correct concentration measurement without losing sight of the absorption peak. become able to.

この場合、演算装置16は、図10に示されているように、吸光度修正部44を備えている。吸光度修正部44は光検出器8から求められる吸光度Ab1'から感度校正用ガスセルによる吸光度Aboを引く演算を行った後に検量線データに基づいて濃度を算出させる。In this case, the arithmetic unit 16 includes an absorbance correction unit 44 as shown in FIG. The absorbance correction unit 44 calculates the concentration based on the calibration curve data after performing an operation of subtracting the absorbance Abo from the sensitivity calibration gas cell from the absorbance Ab 1 ′ obtained from the photodetector 8.

上の説明では、測定対象成分をCOとし、波長校正用ガスセルに封入するガスとしてCH4とH2Oを取りあげているが、これは一例であって、本発明は他のガスにも適用できることはいうまでもない。In the above description, the component to be measured is CO, and CH 4 and H 2 O are taken up as gases sealed in the wavelength calibration gas cell. However, this is an example, and the present invention can be applied to other gases. Needless to say.

Claims (7)

試料気体中の測定対象成分により吸収される特定波長の測定光としてのレーザ光を発生するレーザ光源と、
前記レーザ光源の駆動を制御するレーザ光源駆動制御装置と、
前記レーザ光を受光する位置に配置された光検出器と、
前記レーザ光源から光検出器に至るレーザ光の光路上に配置された試料気体の計測用ガスセルと、
前記光路上に試料気体測定時にも配置され、既知濃度の測定対象成分ガスが封入された少なくとも1つの校正用ガスセルと、
前記光検出器の検出信号に基づいて試料気体中の測定対象成分濃度を算出する演算装置と、
を備えたレーザ吸収分光測定のための分析装置。
A laser light source that generates laser light as measurement light of a specific wavelength that is absorbed by the measurement target component in the sample gas;
A laser light source drive control device for controlling the drive of the laser light source;
A photodetector disposed at a position for receiving the laser beam;
A gas cell for measuring a sample gas disposed on an optical path of laser light from the laser light source to a photodetector;
At least one calibration gas cell which is also arranged at the time of sample gas measurement on the optical path and in which a measurement target component gas having a known concentration is enclosed;
An arithmetic unit for calculating a measurement target component concentration in the sample gas based on a detection signal of the photodetector,
Analyzing device for laser absorption spectroscopy measurement.
前記レーザ光源は波長変更可能なレーザ光源であり、
前記レーザ光源駆動制御装置は前記レーザ光源の駆動条件を規定するパラメータと発生するレーザ波長との関係を示す波長変動データを保持する波長変動データ保持部を備えており、
測定対象成分測定時には前記レーザ光源駆動制御装置は保持している波長変動データに基づいて前記レーザ光源が特定波長のレーザ光を発生するように前記レーザ光源の駆動を制御するものである請求項1に記載の分析装置。
The laser light source is a laser light source capable of changing a wavelength,
The laser light source drive control device includes a wavelength fluctuation data holding unit that holds wavelength fluctuation data indicating a relationship between a parameter that defines a driving condition of the laser light source and a generated laser wavelength,
2. The laser light source drive control device controls driving of the laser light source so that the laser light source generates laser light of a specific wavelength based on wavelength variation data held at the time of measurement of a measurement target component. The analyzer described in 1.
前記波長変更可能なレーザ光源はレーザ本体の温度を調節する温度調節機構を備えてレーザ本体の温度により発生レーザ波長を変化させうるものであり、
前記レーザ光源駆動制御装置はレーザ光源を駆動するためのレーザ本体への一定の基準電流と、レーザ本体の温度を調節するための前記温度調節機構への電流とを供給するものであり、
前記波長変更可能なレーザ光源からの発生レーザ波長を固定するときはレーザ本体の温度が一定になるように前記温度調節機構への電流供給を制御し、発生レーザ波長を変化させるときはレーザ本体の温度が変化するように前記温度調節機構への電流供給を制御するものである請求項2に記載の分析装置。
The laser light source capable of changing the wavelength is provided with a temperature adjusting mechanism for adjusting the temperature of the laser body, and can change the generated laser wavelength according to the temperature of the laser body,
The laser light source drive control device supplies a constant reference current to the laser main body for driving the laser light source and a current to the temperature adjustment mechanism for adjusting the temperature of the laser main body,
When fixing the generated laser wavelength from the laser light source capable of changing the wavelength, the current supply to the temperature adjusting mechanism is controlled so that the temperature of the laser main body becomes constant, and when changing the generated laser wavelength, The analyzer according to claim 2, wherein current supply to the temperature adjusting mechanism is controlled so that the temperature changes.
既知の吸収ピーク波長をもつガスが封入され、前記光路上に着脱可能に装着される波長校正用ガスセルをさらに備え
前記レーザ光源駆動制御装置は前記波長校正用ガスセルが前記光路に装着されたときの吸収ピークの波長を基にして前記波長変動データ保持部の波長変動データを校正する波長変動データ校正部を備えている請求項3に記載の分析装置。
Gas having a known absorption peak wavelength is sealed, further comprising a wavelength calibration gas cell which is detachably mounted on the optical path,
The laser light source drive control device includes a wavelength variation data calibration unit that calibrates the wavelength variation data of the wavelength variation data holding unit based on the wavelength of the absorption peak when the wavelength calibration gas cell is attached to the optical path. The analyzer according to claim 3.
前記波長校正用ガスセルとして前記特定波長よりも長波長側の吸収ピーク波長をもつガスが封入された第1の波長校正用ガスセルと、前記特定波長よりも短波長側の吸収ピーク波長をもつガスが封入された第2の波長校正用ガスセルを含む請求項4に記載の分析装置。   As the wavelength calibration gas cell, a first wavelength calibration gas cell in which a gas having an absorption peak wavelength longer than the specific wavelength is sealed, and a gas having an absorption peak wavelength shorter than the specific wavelength are included. The analyzer according to claim 4, comprising an enclosed second wavelength calibration gas cell. 前記校正用ガスセルを感度校正用ガスセルとして用い、又は互いに異なる既知濃度の測定対象成分が封入され、前記光路上に着脱可能に装着される複数個の感度校正用ガスセルをさらに備え
前記演算装置は測定対象成分濃度を算出するための検量線データを保持する検量線データ保持部と、前記感度校正用ガスセルが前記光路に装着されたときの吸光度により前記検量線データ保持部の検量線データを校正する検量線データ校正部を備えている請求項1に記載の分析装置。
The use of a calibration gas cell as sensitivity calibration gas cell, or together are measured components of different known concentrations encapsulation, further comprising a plurality of sensitivity calibration gas cell which is detachably mounted on the optical path,
The arithmetic unit includes a calibration curve data holding unit for holding calibration curve data for calculating a measurement target component concentration, and a calibration curve data holding unit based on absorbance when the sensitivity calibration gas cell is attached to the optical path. 2. The analyzer according to claim 1, further comprising a calibration curve data calibration unit that calibrates the line data.
前記演算装置は計測用ガスセルに試料気体を流す時に前記光検出器から求められる吸光度から、計測用ガスセルに試料気体を流さない時に前記光検出器から求められる吸光度を引く吸光度修正部を備えている請求項に記載の分析装置。 The arithmetic unit includes an absorbance correction unit that subtracts the absorbance obtained from the photodetector when the sample gas is not flowed into the measurement gas cell from the absorbance obtained from the photodetector when the sample gas is caused to flow into the measurement gas cell . The analyzer according to claim 1 .
JP2010508053A 2008-04-15 2008-04-15 Gas analyzer with calibration gas cell Expired - Fee Related JP5360053B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2008/057320 WO2009128138A1 (en) 2008-04-15 2008-04-15 Gas analyzing apparatus with built-in calibration gas cell

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2009128138A1 JPWO2009128138A1 (en) 2011-08-04
JP5360053B2 true JP5360053B2 (en) 2013-12-04

Family

ID=41198849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010508053A Expired - Fee Related JP5360053B2 (en) 2008-04-15 2008-04-15 Gas analyzer with calibration gas cell

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5360053B2 (en)
CN (1) CN102007397B (en)
WO (1) WO2009128138A1 (en)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102252982A (en) * 2011-04-29 2011-11-23 安徽皖仪科技股份有限公司 Wavelength drift compensation method for laser gas analyzer
US8837540B2 (en) * 2011-06-29 2014-09-16 Honeywell International Inc. Simple, low power microsystem for saturation spectroscopy
JP2013113664A (en) * 2011-11-28 2013-06-10 Yokogawa Electric Corp Laser gas analyzer
JP6116117B2 (en) * 2011-12-22 2017-04-19 株式会社堀場製作所 Calibration method and calibration apparatus for moisture concentration measuring apparatus
JP5809961B2 (en) * 2011-12-22 2015-11-11 株式会社堀場製作所 Sample gas analyzer and program for sample gas analyzer
CN102538967A (en) * 2012-03-28 2012-07-04 科纳技术(苏州)有限公司 High precision multi-wavelength calibration system for spectrograph
CN102735644A (en) * 2012-07-06 2012-10-17 北京大方科技有限责任公司 Online calibration method of in-situ type laser gas analyzer
CN102751658B (en) * 2012-07-11 2013-11-13 重庆市电力公司电力科学研究院 Method and system for calibrating light source wavelength of laser device
CN103575695B (en) * 2012-07-20 2015-12-09 无锡凯睿传感技术有限公司 A kind of the GN 2 oxide content pick-up unit
EP2936118B1 (en) * 2012-12-20 2023-06-21 Radiometer Medical ApS An apparatus for detecting the concentration of a component in a sample
JP6314605B2 (en) * 2014-03-31 2018-04-25 株式会社島津製作所 Gas analyzer
CN103969203B (en) * 2014-05-15 2018-01-30 北京龙源欣盛科技有限公司 The method for self-calibrating of TDLAS gas detecting systems
KR101623845B1 (en) * 2014-10-22 2016-06-08 주식회사 이엘 Gas Analysis Calibration Automation System and Greenhouse Gases Mitigation Amount Analysis Automation System
CN105388439A (en) * 2015-11-03 2016-03-09 山东浪潮华光光电子股份有限公司 Multiband calibration method for LED chip test
CN105699325A (en) * 2016-01-28 2016-06-22 贾林 Internet intelligent vehicle-mounted carbon monoxide detection system
DE102016226215A1 (en) 2016-12-23 2018-06-28 Siemens Aktiengesellschaft Method for correcting the wavelength and the tuning range of a laser spectrometer
US10788420B2 (en) * 2018-04-25 2020-09-29 Yokogawa Electric Corporation Gas analyzer
CN109030363A (en) * 2018-08-17 2018-12-18 杭州因诺维新科技有限公司 A kind of laser gas analyzer
CN109596566A (en) * 2018-10-29 2019-04-09 中国科学院合肥物质科学研究院 A kind of gas detection absorption inside cavity temperature and pressure integrated control unit
JP7275581B2 (en) * 2019-01-08 2023-05-18 株式会社島津製作所 Fourier transform infrared spectrometer
KR102154671B1 (en) * 2019-03-27 2020-09-10 주식회사 이엘 Reduction efficiency measurement and analysis automation system for reduction facility of greenhouse gas emissions in semiconduct and display process
JP7221127B2 (en) * 2019-04-26 2023-02-13 株式会社堀場エステック Absorption spectrometer and program for spectrophotometer
CN110927100B (en) * 2019-11-26 2022-11-29 宁波海尔欣光电科技有限公司 System for measuring gas flux and method of measuring gas flux
JP7388269B2 (en) * 2020-03-30 2023-11-29 株式会社島津製作所 gas detection device
CN111982849A (en) * 2020-07-15 2020-11-24 国网山东省电力公司电力科学研究院 Online calibration system and method for ammonia escape analysis instrument
CN112345528A (en) * 2020-11-18 2021-02-09 北京凯尔科技发展有限公司 Gas analysis device with automatic calibration function and calibration method
CN112697740B (en) * 2020-12-10 2022-09-23 山东省科学院海洋仪器仪表研究所 Detection system and detection method for dissolved methane in surface seawater
CN112857571A (en) * 2021-02-10 2021-05-28 王世有 Photoacoustic spectrum detection system and calibration method for automatically calibrating working wavelength of laser
CN115436329A (en) * 2021-06-04 2022-12-06 株式会社岛津制作所 Gas measuring device
CN113686814A (en) * 2021-08-24 2021-11-23 中煤科工集团重庆研究院有限公司 Single-light-path concentration demodulation and self-correction laser gas detection method
CN114112963A (en) * 2021-11-30 2022-03-01 青岛崂应海纳光电环保集团有限公司 Gas telemetering telescope

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56163442A (en) * 1980-05-22 1981-12-16 Fujitsu Ltd Method for detecting gas concentration
JPS61129154U (en) * 1985-01-30 1986-08-13
JPS63290947A (en) * 1987-05-25 1988-11-28 Natl Res Inst For Metals Instrument for measuring air pollution
JPH03505782A (en) * 1988-07-07 1991-12-12 アルトップトロニック アクチボラゲット Method and apparatus for measuring gas concentration by spectrometry
JP2002107299A (en) * 2000-09-29 2002-04-10 Yokogawa Electric Corp Gas measuring device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3904880A (en) * 1973-05-10 1975-09-09 Honeywell Inc Multi-component infrared analyzer
JPS582638A (en) * 1981-06-29 1983-01-08 Fujitsu Ltd Gas concentration detecting system
JPS5890147A (en) * 1981-11-25 1983-05-28 Fujitsu Ltd Detecting system for gaseous material
JP3059661B2 (en) * 1995-03-15 2000-07-04 アンリツ株式会社 Gas concentration measurement device
JP2001235418A (en) * 2000-02-24 2001-08-31 Anritsu Corp Instrument for measuring concentration of gas
CN1462874A (en) * 2003-06-24 2003-12-24 清华大学 Method and device for measuring density of carbon monoxide in flue gases of combustion equipment
JP4460404B2 (en) * 2004-09-16 2010-05-12 アンリツ株式会社 Gas detector calibration device
CN100543457C (en) * 2007-03-02 2009-09-23 聚光科技(杭州)有限公司 A kind of semi-conductor laser absorption spectrum gas analyzing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56163442A (en) * 1980-05-22 1981-12-16 Fujitsu Ltd Method for detecting gas concentration
JPS61129154U (en) * 1985-01-30 1986-08-13
JPS63290947A (en) * 1987-05-25 1988-11-28 Natl Res Inst For Metals Instrument for measuring air pollution
JPH03505782A (en) * 1988-07-07 1991-12-12 アルトップトロニック アクチボラゲット Method and apparatus for measuring gas concentration by spectrometry
JP2002107299A (en) * 2000-09-29 2002-04-10 Yokogawa Electric Corp Gas measuring device

Also Published As

Publication number Publication date
CN102007397A (en) 2011-04-06
CN102007397B (en) 2016-08-17
JPWO2009128138A1 (en) 2011-08-04
WO2009128138A1 (en) 2009-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5360053B2 (en) Gas analyzer with calibration gas cell
EP3218695B1 (en) Target analyte detection and quantification in sample gases with complex background compositions
JP5983779B2 (en) Gas absorption spectroscopy apparatus and gas absorption spectroscopy method
JPH11258156A (en) Apparatus and method for spectral analysis of gas
US9557261B2 (en) Spectroscopic analysis method and spectroscopic analyzer
KR20000016360A (en) Analysis method for gases and apparatus therefor
US9347878B2 (en) Method and apparatus for external cavity laser absorption spectroscopy
JP2000283841A (en) Method and device for wavelength calibration of light spectrum analyzer
US7847935B2 (en) Method and apparatus for gas concentration quantitative analysis
US5202560A (en) System for measuring the concentration of a gaseous component by detecting positions of mode jumps in a laser diode
JP2013050403A (en) Gas analyzer
JP2018096974A (en) Analysis device, analysis device program and analysis method
KR100316487B1 (en) Method of spectrochemical analysis of impurity in gas
CN115127998A (en) Gas analysis device with automatic calibration function and calibration method
JP6421388B2 (en) Isotope concentration calculation method
US20220244176A1 (en) Sample analyzing apparatus
De Tommasi et al. An Intensity-Stabilized Diode-Laser Spectrometer for Sensitive Detection of $\hbox {NH} _ {3} $
CN110806395A (en) Gas concentration measuring method, device, equipment and system
Sun et al. Using wavelength modulation spectroscopy technique to detect trace ammonia gas in near-infrared spectral region
KR102525096B1 (en) High sensitive Gas Sensor System
JP2013127385A (en) Laser gas analyzer
CN115684081B (en) Laser gas analysis system
EP4375643A1 (en) Apparatus for quantitatively detecting isotopologue of carbon dioxide using dual-photon absorption and spectrometer
JP2686698B2 (en) Isotope ratio analysis method and device
JP2909954B2 (en) Carbon isotope analyzer

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130806

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130819

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5360053

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees