JP5339044B2 - 真空成形用化粧シート - Google Patents
真空成形用化粧シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP5339044B2 JP5339044B2 JP2008255552A JP2008255552A JP5339044B2 JP 5339044 B2 JP5339044 B2 JP 5339044B2 JP 2008255552 A JP2008255552 A JP 2008255552A JP 2008255552 A JP2008255552 A JP 2008255552A JP 5339044 B2 JP5339044 B2 JP 5339044B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- sheet
- decorative sheet
- vacuum forming
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Blow-Moulding Or Thermoforming Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
本発明は、前記問題点を解決して真空成形用化粧シートが基材に隙間なく完全に密着しても、真空成形後の化粧シート表面に被着体であるMDF(中密度繊維板)、パーティクルボード等の表面の微細な凹凸の発生を抑制して、鏡面性に優れる化粧シートを提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(5)に関する発明である。
(1)非晶質ポリエステルフィルムからなる基材シート(A)と装飾層(B)から形成される印刷シート(E)と、非晶質ポリエステルフィルムからなる透明層(C)とが、接着層(F)を介して接着されてなる真空成形用の化粧シート(G)であって、
化粧シート(G)の120℃における貯蔵弾性率(JIS K7244−1及び7244−4に準拠し、試験片の幅5mm、長さ20mのシートを開始温度25℃、終了温度150℃、昇温速度3℃/分、測定周波数10Hzの条件下にて測定した値)が700万Pa以上であることを特徴とする、真空成形用化粧シート。
(2)前記接着層(F)がガラス転移温度(Tg)−40〜100℃のウレタン系接着剤からなる接着層であることを特徴とする前記(1)記載の真空成形用化粧シート。
(3)前記接着層(F)が1〜100μmの厚みに形成された層であることを特徴とする、前記(1)又は(2)に記載の真空成形用化粧シート。
(4)前記装飾層(B)が隠蔽層(B1)、絵柄層(B2)、又は隠蔽層(B1)と該隠蔽層(B1)上に設けられた絵柄層(B2)からなることを特徴とする、前記(1)ないし(3)のいずれかに記載の真空成形用化粧シート。
(5)前記基材シート(A)の厚みが50〜500μmであり、透明層(C)の厚みが50〜500μmである、前記(1)ないし(4)のいずれかに記載の真空成形用化粧シート。
図1において、非晶質ポリエステルフィルムからなる基材シート(A)15と装飾層(B)14から形成される印刷シート(E)と、非晶質ポリエステルフィルムからなる透明層(C)12に更に電離放射線硬化性樹脂層からなる表面保護層(D)11が形成された積層シートとが、接着層(F)13を介して接着されている。
尚、図1に示す通り、装飾層(B)14は、隠蔽層(B1)22と絵柄層(B2)21から形成することもできる。
以下に本発明の化粧シート(G)を構成する、印刷シート(E)、透明層(C)、及び接着層(F)について説明する。
(1)透明層(C)
透明層(C)は、少なくとも非晶質ポリエステルフィルムから形成される層である。
(i)透明層(C)を形成する非晶質ポリエステルフィルム
透明層(C)は、装飾層(B)が透視可能な様に、透明又は半透明(無着色又は着色)である樹脂層であって、ポリオレフィン系樹脂等の他の熱可塑性樹脂から形成することも可能ではある熱成形加工性、真空成形後の化粧シートの立体形状の角部における白化防止等の観点から本発明においては透明層(C)として非晶質ポリエステル樹脂を使用する。
また、ジオール成分としては、飽和二価アルコ−ルとしては、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−ル、トリメチレングリコ−ル、テトラメチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ル、ヘキサメチレングリコ−ル、ドデカメチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ−ル等の脂肪族グリコ−ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等の脂環族グリコ−ル、2.2−ビス(4′−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ナフタレンジオ−ル、ビスフェノ−ルA、ビスフェノ−ルS、その他の芳香族ジオ−ル等を使用することができる。更に、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸、その他を添加して共重縮合させて変成することもできる。非晶質ポリエステル樹脂は、通常、ジオール及び酸成分の合計が3種以上となる様に、これらの、1種又は2種以上のジオール成分と、1種又は2種以上の酸成分との共重合体として得られる。
上記非晶質ポリエステル樹脂として上記以外に市販されているものとして、例えば、鐘紡(株)製の「カネボウPETシート」(商品名)、帝人(株)製の「テイジンテトロンシート」(商品名)、電気化学工業(株)製の「デンカA−PETシート」(商品名)、東洋紡績(株)製の「東洋紡PETMAXシート」(商品名)、長瀬産業(株)製の「NAGASE A−PETシート」(商品名)、ポリテック(株)製の「ポリテックA−PETシート」(商品名)、SAEHAN社製の「SAEHAN APET SEET」(商品名)、三菱化学(株)の「ノバクリアー」(商品名)、三井・デュポンポリケミカル社製の「シーラーPT」(商品名)等が例示できる。
非晶質とは結晶化を全く起こさない様な樹脂でも良いが、本発明の次の文章に記載する硬化を奏する限り、非結晶性を呈する部分と共に結晶性を呈する部分を有する樹脂でも良く、また、非晶質ポリエステル樹脂には結晶性ポリエステル樹脂が混合されていても良い。
透明層(C)に非晶質ポリエステル樹脂を使用する事により、真空成形性等の成形性、折曲加工性、及び被着体への接着性が特に良好となる限り、透明層(C)に用いられるシートは、単層の他に2層、3層等の複層構成であっても良く、2種以上の非晶質ポリエステル樹脂からなる積層シートであっても良い。透明層(C)の厚さは、使用目的により通常、50〜500μm程度が好ましく、50〜300μmがより好ましい。
また、透明層(C)中には、その透明性又は半透明性を損なわない範囲で必要に応じ、充填剤、難燃剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等の各種の添加剤を添加しても良い。
なお、上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系等の有機物の紫外線吸収剤の他に、粒径0.2μm以下の微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化チタン等の無機物を用いることができる。光安定剤としては、ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート等のヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤、ピペリジン系ラジカル捕捉剤等のラジカル捕捉剤を用いることができる。
本発明の透明層(C)には、耐摩耗性、耐傷付性や耐汚染性等を付与する目的で、該透明層(C)上に表面保護層(D)を積層してもよい。表面保護層(D)は、電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して形成することが望ましい。
表面保護層(D)に用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物は、電磁波又は荷電粒子線の中で分子を架橋、重合させ得るエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線等を照射することにより、架橋、硬化する電離放射線硬化性樹脂と、その他の所望の成分とからなる組成物である。
表面保護層(D)に用いられる電離放射線硬化性樹脂としては、従来公知の化合物を適宜使用すれば良く、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用される重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができる。以下に代表例を記載する。
ペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジアクリレート等が挙げられる。これらの多官能性(メタ)アクリレートは1種を単独で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。
また、分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性オリゴマー等に対しては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられる。
また、光増感剤としては、例えばp−ジメチル安息香酸エステル、第三級アミン類、チオール系増感剤等を用いることができる。
本発明においては、電離放射線硬化性樹脂組成物として電子線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。電子線硬化性樹脂組成物は無溶剤化が可能であって、環境や健康の観点からより好ましく、また光重合用開始剤を必要とせず、安定な硬化特性が得られるからである。
上記シリコーン(メタ)アクリレートの含有量は、表面保護層(D)の表面張力が所望の範囲となるように適宜調節すれば良いが、耐汚染性の向上とその使用効果を十分に得る観点から、電離放射線硬化性樹脂100質量部に対して0.5〜4質量部が好ましく、1.0〜2.5質量部がより好ましい。また、シリコーン(メタ)アクリレートの官能基当量(分子量/官能基数)としては、例えば1000〜20000の条件を有するものが挙げられる。
前記耐候性改善剤としては、紫外線吸収剤や光安定剤を用いることができる。紫外線吸収剤は、無機系、有機系のいずれでも良い。有機系紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、具体的には、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコールの3−[3−(ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオン酸エステル等が挙げられる。一方、光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系、具体的には2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2'−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。また、紫外線吸収剤や光安定剤として、分子内に(メタ)アクリロイル基等の重合性基を有する反応性の紫外線吸収剤や光安定剤を用いることもできる。
前記重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、p−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、t−ブチルカテコール等が、架橋剤としては、例えばポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物等が用いられる。
前記充填剤としては、例えば硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム等が用いられる。
前記着色剤としては、例えばキナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラック等の公知の着色用顔料等が用いられる。
前記赤外線吸収剤としては、例えば、ジチオール系金属錯体、フタロシアニン系化合物、ジインモニウム化合物等が用いられる。
このようにして調製された電離放射線硬化性樹脂組成物を、透明層(C)の表面に、硬化後の厚さが1〜20μmになるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコート等の公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗工し、未硬化樹脂層を形成させる。硬化後の厚さが1μm以上であると、所望の機能を有する表面保護層(D)が得られる。硬化後の表面保護層(D)の厚さは、好ましくは2〜20μm程度である。
なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、基材として電子線により劣化する基材を使用する場合には、電子線の透過深さと樹脂層の厚さが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、基材への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による基材の劣化を最小限にとどめることができる。
また、照射線量は、樹脂層の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常5〜300kGy(0.5〜30Mrad)、好ましくは10〜50kGy(1〜5Mrad)の範囲で選定される。
さらに、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用いることができる。
このようにして、形成された表面保護層(D)には、各種の添加剤を添加して各種の機能、例えば、高硬度で耐擦傷性を有する、いわゆるハードコート機能、防曇コート機能、防汚コート機能、防眩コート機能、反射防止コート機能、紫外線遮蔽コート機能、赤外線遮蔽コート機能等を付与することもできる。
印刷シート(E)は、非晶質ポリエステルフィルムからなる基材シート(A)と装飾層(B)から形成される。装飾層(B)は、隠蔽層(B1)、絵柄層(B2)、又は隠蔽層(B1)と該隠蔽層(B1)上に設けられた絵柄層(B2)から形成される。
(i)基材シート(A)
本発明において、基材シート(A)は、非晶質ポリエステルフィルムにより形成される。
基材シート(A)は、成形加工性、真空成形後の化粧シート立体形状の角部の白化防止等の観点から、透明層(C)と同様に非晶質ポリエステル樹脂から形成される。
基材シート(A)の非晶質ポリエステル樹脂は、透明層(C)に用いる各種非晶質ポリエステル樹脂について記載したのと同様である。尚、基材シート(A)に用いられる非晶質ポリエステル樹脂は、透明層(C)に用いられる非晶質ポリエステル樹脂と同じであっても良いし、異なる非晶質ポリエステル樹脂であっても良い。また、単層の他に2層、3層等の複層構成であっても良く、2種以上の非晶質ポリエステル樹脂からなる基材シート(A)であっても良い。基材シート(A)に非晶質ポリエステル樹脂を使用する事により、真空成形性等の成形性、折曲加工性、及び被着体への接着性が特に良好となる。
本発明に係る基材シート(A)は、通常、樹脂シートとして用意され、その厚さは用途によるが、通常、50〜500μm程度が好ましく、50〜300μmがより好ましい。また、基材シート(A)は単層の他に2層、3層等の複層構成であっても良く、2種以上の非晶質ポリエステル樹脂からなる積層シートであっても良い点は、透明層(C)に用いる各種非晶質ポリエステル樹脂について記載したのと同様である。
本発明に係る装飾層(B)は、化粧シートの意匠性を高めるために設けられる層であり、隠蔽層(B1)、絵柄層(B2)、又は隠蔽層(B1)と該隠蔽層(B1)上に設けられた絵柄層(B2)から形成される。
(ii-1)隠蔽層(B1)
隠蔽層(B1)は、基材シート(A)又はMDF等の木質基材の着色を隠蔽する全面ベタ層、又は使用目的によって一部ベタ層であって、この隠蔽層(B1)の上に絵柄層(B2)を積層する場合には、絵柄層(B2)にあわせてその着色が選択される。また、基材シート(A)が隠蔽層として機能する場合は、隠蔽層(B1)を設けなくても良く、基材シート(A)表面上に絵柄層(B2)を印刷することもできる。
隠蔽層(B1)は、通常は印刷インキ或いは塗料でグラビア印刷等の公知の印刷又はグラビアコート、ロールコート等の塗工法により形成すれば良い。隠蔽層(B1)の厚さは実用上1〜10μm程度であり、通常4〜8μm程度である。
本発明において、所望により、隠蔽層(B1)又は基材シート(A)表面上に積層される絵柄層(B2)は、模様や文字等とパターン状の絵柄を表現する層である。絵柄層(B2)の絵柄は任意であるが、例えば、木目、石目、布目、砂目、幾何学模様、文字等からなる絵柄である。絵柄層(B2)は、通常は、印刷インキでグラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写シートからの転写印刷、昇華転写印刷、インキジェット印刷等公知の印刷法により形成する。
絵柄層(B2)の厚さは、絵柄模様に応じて適宜選択すれば良い。
本発明に係る装飾層(B)を構成する隠蔽層(B1)及び/又は絵柄層(B2)に用いられるインキ又は塗料のバインダーとして、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂、或いは、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等の塩素化ポリオレフィン樹脂等を、1種又2種以上混合して用いる。但し、塩素化ポリオレフィン樹脂は塩化ビニル樹脂と同様に塩素を含有する樹脂となる為、本発明の非塩化ビニル系の化粧シートとしては、好ましくは使用しない方が良い。上記インキ又は塗料は、上述の各種樹脂よりなるバインダーに加えて、顔料、染料などの着色剤、体質顔料、溶剤、安定剤、可塑剤、触媒、硬化剤などを適宜混合したものが使用される。
上述の隠蔽層(B1)又は絵柄層(B2)は、金属薄膜層等でも良い。金属薄膜層の形成は、アルミニウム、クロム、金、銀、銅等の金属を用い、真空蒸着、スパッタリング等の方法で製膜する。或いはこれらの組み合わせでも良い。該金属薄膜層は、全面に設けても、或いは、部分的にパターン状に設けても良い。
接着層(F)に使用するウレタン系接着剤は、硬化剤の種類選定により接着硬化時間・接着強度任意に変えることのできる2液型が好ましい。本発明において、接着層(F)に使用するウレタン系接着剤は、ポリエステルポリオールとイソシアネートとから成る2液硬化型ウレタン接着剤層が好ましい。
例えば、ウレタン系接着剤として、イソシアネートを硬化剤として用いる2液硬化型ウレタン、ポリエステルポリオール系2液硬化型ウレタンエチレン/アクリル酸コポリマー(EMA)、エチレン/ブチルアクリレートコポリマー(EBA)等を例示することができる。これらの中からドライラミネートによる接着が好ましいものを適宜選択することができる。
イソシアネートとしては、通常のポリウレタン樹脂の製造に用いられる種々のものを用いることができる。具体的には、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート等のTDI;ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート等のMDI;テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMHMDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、トリフェニルメタントリイソシアネート、ノルボルナン骨格を有するジイソシアネート(NBDI)、および、これらの変成品等が挙げられる。
上記ウレタンプレポリマーに用いられるポリオール化合物は、炭化水素の複数個の水素をヒドロキシ基で置換したアルコール類である。例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン等のアルキレンオキサイドの少なくとも1種を、分子中に活性水素を2個以上有する活性水素含有化合物に付加重合させた生成物が挙げられる。
上記ウレタンプレポリマーの製造時におけるポリオール化合物とイソシアネート基含有化合物とを混合する割合は、ポリオール化合物のヒドロキシ基の数に対するイソシアネート基含有化合物のイソシアネート基の数の比(NCO/OH)が、1.0以上であるのが好ましく、1.5〜2.0であるのがより好ましい。
例えば紫外線吸収剤を0.1〜5重量%程度含有させることができる。
紫外線吸収剤として例えばフェニルサリチレート(商品名:Salol)、2−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール(商品名:Tinuvin)、2−ヒドロキシベンゾフェノン、R1R2C=CCR3(R3電極陰性基)(商品名:UVinul N−35, N−539)等の紫外線吸収剤、Chiba Geigy製ヒンダードアミン系光安定剤(商品名: Tinuvin 700、Tinuvin 744、Tinuvin 765、Tinuvin 622、Tinuvin 144)、Chimosa製ヒンダードアミン系安定剤(商品名:Chimosasorb 944)、アデカ・アーガス化学製ヒンダードアミン系光安定剤(商品名:Mark LA−57、Mark LA−62、Mark LA−67、Mark LA−63、MarkLA−68)、B.F.Goodrich製ヒンダードアミン系光安定剤(商品名:Goodrite UV−3034)等のヒンダードアミン系光安定剤を適用し得る。
接着剤の塗布量は5〜30g/m2、好ましくは5〜20g/m2である。5g/m2以下のときは十分な接着強度は得られない。一方30g/m2を越えても接着強度の向上は認められないのみならずコスト的に高くなり、真空成形加工の支障をきたす場合がある。
本発明において、成形加工後の化粧シート表面の微細な凹凸の発生が抑制できるのは、基材シート(A)と透明層(C)とを単一層の非晶質ポリエステルフィルムから形成するよりは、該基材シート(A)と透明層(C)間に異なる樹脂から形成される接着層を設けて該層部分を少なくとも3層構造とすることにより、真空成形される温度条件下で該層部分において微細な凹凸の発生を抑制する物理的な作用が発揮されるためと推定される。
接着層(F)の厚みは、1〜100μm、好ましくは2〜50μm、更に好ましくは3〜30μmである。接着層(F)の厚みが薄すぎると鏡面が維持できず、一方、厚すぎると真空成形に支障を生ずる。
また、接着層(F)の形成方法は特に限定されるものではないが、通常は、上記樹脂を希釈溶剤で希釈した樹脂液からなるインキ又は塗液として、グラビア印刷、ロールコート等の公知の印刷又は塗工手段により形成する。実用的にはまた、接着剤層中には、更に、インキ(又は塗液)の印刷(又は塗工)適性等の諸物性を調整、向上させる為に、必要に応じて、その他の副材料、例えば、体質顔料等の各種添加剤を添加しても良い。
(1)真空成形用化粧シート
本発明の真空成形用の化粧シート(G)は、非晶質ポリエステルフィルムからなる基材シート(A)と装飾層(B)から形成される印刷シート(E)と、非晶質ポリエステルフィルムからなる透明層(C)とが、接着層(F)を介して接着されてなるシートであって、120℃における貯蔵弾性率(JIS K7244−1及び7244−4に準拠し、試験片の幅5mm、長さ20mのシートを開始温度25℃、終了温度150℃、昇温速度3℃/分、測定周波数10Hzの条件下にて測定した値)が700万Pa以上であることを特徴とする。
貯蔵弾性率を前記700万Pa以上とすることにより、本発明の化粧シート(G)表面に被着体であるMDF(中密度繊維板)、パーティクルボード等の表面の微細な凹凸の発生を抑制して、鏡面性に優れる真空成形用化粧シートを得ることが可能になる。
尚、本発明において、貯蔵弾性率は、JIS K7244−1及び7244−4に準拠し、試験片の幅5mm、長さ20mのシートを開始温度25℃、終了温度150℃、昇温速度3℃/分、測定周波数10Hzの条件下にて測定される値である。
本発明の真空成形用の化粧シート(G)を得る際の印刷シート(E)と、透明層(C)の貼り合わせ方法としては、接着剤を使用した貼り合せ方法であればよく、例えば、ドライラミネートなどのラミネート方法が使用できる。
(3)真空成形用化粧シート(G)の用途
本発明の化粧シート(G)の用途は特に限定されず、真空成形により積層可能な各種被着体に用いられる。被着体は各種素材の平板、曲面板等の板材、立体形状物品、シート(或いはフィルム)等である。
被着体としては、例えば、木材単板、木材合板、パーティクルボード、MDF(中密度繊維板)等の木質繊維板等の板材や立体形状物品が挙げられる。
被着体に本発明の化粧シート(G)を積層する真空成形方法としては、例えば、固定枠に固定した化粧シート(G)が軟化する所定の温度になるまでシリコーンゴムシートを介してヒーターで加熱し、加熱され軟化した化粧シート(G)を真空ポンプ等で空気を吸引して化粧材用基材の立体形状にしっかりと密着させる。必要に応じ、更に適宜シリコーンゴムシート側からの圧空押付けを併用しても良い。
化粧シート(G)が化粧材用基材に密着した後、シリコーンゴムシートを化粧シート(G)より放した後、固定枠から成形された化粧シート(G)をはずして真空成形化粧版を得る。真空成形は通常80〜130℃程度、好ましくは110〜125℃程度で行われる。
(1)原材料
(i)非晶質ポリエステル樹脂
イーストマンケミカル社製、非晶質ポリエステル樹脂、商標:Easter PETG 67631
(ii)電離放射線硬化性樹脂組成物
2官能ウレタンアクリレート(オリゴマー)と、熱可塑性樹脂であるポリメタクリル酸メチル(Tg:105℃、重量%平均分子量:62000、数平均分子量:37000)の45:55(重量比)混合物 100重量部
2官能シリコーンメタクリレート 1重量部
コロイダルシリカ(1次粒子径:10〜15nm) 10重量部
(iii)ウレタン樹脂接着剤(ポリエステルポリオールの2液硬化型樹脂)
(i)貯蔵弾性率
JIS K7244−1及び7244−4に準拠し、試験片の幅5mm、長さ20mの試験片を切り出し、動的粘弾性測定装置(UBM社製、型式:Rheogel-E4000)を用い、120℃の貯蔵弾性率を測定した。測定は、引張モードで行い、開始温度25℃、終了温度150℃、昇温速度3℃/分、測定周波数10Hzの条件下にて行った。
(ii)基材不陸性
真空成形後の成形品の基材不陸性を目視により、以下の基準で評価した。
◎:成形品の表面凹凸が軽微で、鏡面性が維持されていた。
○:成形品の表面凹凸が認められるものの、成形品の商品性が低下するほどではなかった。
△:成形品の表面凹凸が認められ、成形品の商品性が低下した。
(i)印刷シート(E)の作製
前記非晶質ポリエステル樹脂に着色剤としてチタン白、黄鉛、弁柄を主体とする着色含量を添加して、黄褐色に着色した溶融樹脂組成物をTダイから押出して、厚さ150μmの隠蔽性の着色樹脂シートを作製した。
次に、この着色樹脂シートの片面に、隠蔽層を全面ベタ層となるようにグラビアコートし、その上に木目模様の絵柄層をグラビア印刷により形成して印刷シートとした。装飾層の厚みは5μmとした。
尚、隠蔽層及び絵柄層は、バインダー樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とアクリル樹脂との1対1重量比の混合樹脂を使用し、着色剤に弁柄及びカーボンブラックを種々の配合比率で使用した着色インキを用いた。
前記非晶質ポリエステル樹脂をTダイからの溶融押出法により、厚さ250μmで無着色の透明樹脂層を製膜した。
更に、透明樹脂層の上に下記配合割合の電子線硬化性樹脂組成物をグラビアリバース法で塗工した。塗工後、加速電圧175kV、照射線量50kGy(5Mrd)の電子線を照射して、電子線硬化性樹脂組成物を架橋硬化させて厚み5μmの表面保護層を得た。
電子線硬化性樹脂組成物
・電子線硬化性樹脂(2官能ウレタンアクリレートと熱可塑性樹脂であるポリメタクリル酸メチル(Tg:105℃、重量平均分子量:62000、数平均分子量:37000)の45:55(重量比)) 100質量部
・2官能シリコンメタアクリレート 1質量部
・コロイダルシリカ(一次粒子径:10〜15nm) 10質量部
(iii)真空成形用化粧シートの形成と評価
次に印刷シート(E)側に乾燥後の膜厚が10μmとなるようにウレタン樹脂接着剤(ガラス転移点 −0.8)を塗布し、表面保護層を有した透明樹脂層とをドライラミネートして、図1に示す化粧シートを得た。
得られた化粧シートについて、貯蔵弾性率と基材不陸性の評価を行なった。
結果を表1と図4に示す。
印刷シート(E)の厚みを100μmとした以外は、実施例1で行なったと同様に、図1に示す化粧シートを作製し、貯蔵弾性率と基材不陸性の評価を行なった。結果を表1と図4に示す。
透明層(C)と印刷シート(E)間を接着剤層を設けないで熱融着により接着した以外は、実施例1で行なったと同様に、図2に示す化粧シートを作製し、貯蔵弾性率と基材不陸性の評価を行なった。結果を表1と図4に示す。
[比較例2]
透明層を非晶質ポリエステル樹脂とポリブチレンテレフタレートとの混合樹脂(配合割合80:20(重量比))よりなる厚み300μmのシートとし、その上に電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化させて厚み2μmの表面保護層を得、又、一方の非晶質ポリエステル樹脂の厚みを100μmとし、透明層(C)と印刷シート(E)間を接着剤層を設けないで熱融着により接着した以外は、実施例1で行なったと同様に、図3に示す化粧シートを作製し、貯蔵弾性率と基材不陸性の評価を行なった。結果を表1と図4に示す。
11 表面保護層(D)
12 透明層(C)
13 接着層(F)
14 装飾層(B)
15 基材シート(A)
21 絵柄層(B2)
22 隠蔽層(B1)
23 電離放射線硬化性樹脂
24 非晶質ポリエステル樹脂とポリブチレンテレフタレート樹脂の混合物
31 比較例1で作製した化粧シート
41 比較例2で作製した化粧シート
Claims (5)
- 非晶質ポリエステルフィルムからなる基材シート(A)と装飾層(B)から形成される印刷シート(E)と、非晶質ポリエステルフィルムからなる透明層(C)とが、接着層(F)を介して接着されてなる真空成形用の化粧シート(G)であって、
化粧シート(G)の120℃における貯蔵弾性率(JIS K7244−1及び7244−4に準拠し、試験片の幅5mm、長さ20mのシートを開始温度25℃、終了温度150℃、昇温速度3℃/分、測定周波数10Hzの条件下にて測定した値)が700万Pa以上であることを特徴とする、真空成形用化粧シート。 - 前記接着層(F)がガラス転移温度(Tg)−40〜100℃のウレタン系接着剤からなる接着層であることを特徴とする請求項1に記載の真空成形用化粧シート。
- 前記接着層(F)が1〜100μmの厚みに形成された層であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の真空成形用化粧シート。
- 前記装飾層(B)が隠蔽層(B1)、絵柄層(B2)、又は隠蔽層(B1)と該隠蔽層(B1)上に設けられた絵柄層(B2)からなることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の真空成形用化粧シート。
- 前記基材シート(A)の厚みが50〜500μmであり、透明層(C)の厚みが50〜500μmである、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の真空成形用化粧シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008255552A JP5339044B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 真空成形用化粧シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008255552A JP5339044B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 真空成形用化粧シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010083046A JP2010083046A (ja) | 2010-04-15 |
JP5339044B2 true JP5339044B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=42247477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008255552A Active JP5339044B2 (ja) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 真空成形用化粧シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5339044B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110315615B (zh) * | 2019-06-26 | 2021-09-03 | 天津大学 | 模压饰面门板的生产方法及生产*** |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4333154B2 (ja) * | 2003-02-10 | 2009-09-16 | 凸版印刷株式会社 | 立体成形用鏡面化粧シート |
JP4471592B2 (ja) * | 2003-06-12 | 2010-06-02 | 大日本印刷株式会社 | 化粧シート及び化粧部材 |
JP4270997B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2009-06-03 | 大日本印刷株式会社 | 仮着保護シート付き化粧シート及び化粧シート |
JP5076786B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2012-11-21 | 大日本印刷株式会社 | 真空成形用化粧シート及び真空成形用化粧シートの製造方法 |
-
2008
- 2008-09-30 JP JP2008255552A patent/JP5339044B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010083046A (ja) | 2010-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5076786B2 (ja) | 真空成形用化粧シート及び真空成形用化粧シートの製造方法 | |
JP5034205B2 (ja) | 化粧シート | |
JP4985288B2 (ja) | 三次元加工用加飾シート | |
WO2009113168A1 (ja) | 三次元加工用加飾シート | |
JP4597019B2 (ja) | 化粧シート | |
JP6561614B2 (ja) | 化粧シート及び化粧板 | |
JP5736101B2 (ja) | 真空成形用化粧シート | |
JP2006123495A (ja) | 化粧シート | |
JP5211616B2 (ja) | 真空成形用化粧シート | |
JP2006307142A (ja) | 耐候剤組成物 | |
JP5700100B2 (ja) | 床材用化粧シート及び床用化粧材 | |
JP2006007728A (ja) | 化粧シート | |
JP6060583B2 (ja) | 化粧シート及びその製造方法 | |
JP2008247016A (ja) | 鏡面化粧シート及びこれを用いた化粧板 | |
JP5343929B2 (ja) | 化粧シート | |
JP2006095992A (ja) | 化粧シート | |
JP5428424B2 (ja) | エンボス版及びそれを用いてエンボス加工された化粧シート | |
JP5720374B2 (ja) | 真空成形用化粧シート、及び該化粧シートを用いてなる化粧材 | |
JP5747614B2 (ja) | 真空成形用化粧シート、及び該化粧シートを用いてなる化粧材 | |
JP4899999B2 (ja) | 鏡面化粧シート及びこれを用いた化粧板 | |
JP5339044B2 (ja) | 真空成形用化粧シート | |
JP5786414B2 (ja) | 化粧シート及びその製造方法 | |
JP5035038B2 (ja) | 化粧シート | |
JP2008018579A (ja) | 化粧シートおよびそれを用いた化粧板 | |
JP2012116200A (ja) | 三次元加工用加飾シート |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110819 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120918 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130723 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5339044 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |