JP5338022B2 - 照射方向可変イオン照射装置および二次イオン質量分析装置 - Google Patents
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Description
固定されたイオン銃と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃に近い方の第一の偏向板と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃から遠い方の第二の偏向板と
を含んでおり、
当該第一の偏向板と第二の偏向板とが、それぞれ独立に、ある点を中心にして回転し得る機構を有する、
照射方向可変イオン照射装置が提供される。
試料台と、
質量分析器と
を含んでなる二次イオン質量分析装置が提供される。
固定されたイオン銃と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃に近い方の第一の偏向板と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃から遠い方の第二の偏向板と
を含んでなり、
当該第一の偏向板と第二の偏向板とが、それぞれ独立に、ある点を中心にして回転し得る機構を有する。
固定されたイオン銃と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃に近い方の第一の偏向板と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃から遠い方の第二の偏向板と
を含んでなり、
当該第一の偏向板と第二の偏向板とが、それぞれ独立に、ある点を中心にして回転し得る機構を有する、
照射方向可変イオン照射装置。
ある選択された点を中心とする円を描いて前記第二の偏向板を移動させ、かつ、その停止位置を制御することを可能とする機構を有する、付記1に記載の照射方向可変イオン照射装置。
前記照射されるイオンの進行方向の変化の制御が、前記第一および第二の偏向板の磁場、電場または磁場と電場の両方を変えることにより可能となる、付記1に記載の照射方向可変イオン照射装置。
付記1〜3のいずれかに記載の照射方向可変イオン照射装置と、
試料台と、
質量分析器と
を含んでなる二次イオン質量分析装置。
前記二次イオン質量分析装置がユーセントリック機能を有し、当該ユーセントリック機能の中心と前記選択された点とが一致している、付記4に記載の二次イオン質量分析装置。
前記試料台面に対し垂直なある一面において、試料に対し0〜180°の角度で一次イオンを照射することが可能である、付記4または5に記載の二次イオン質量分析装置。
前記照射方向可変イオン照射装置を複数組有してなる、付記4〜6のいずれかに記載の二次イオン質量分析装置。
2 試料ホルダー
3 酸素イオン銃(イオンガン)
4 セシウムイオン銃
5 検出器
6 測定装置
7 電子銃
8 イオン銃
9 第一の偏向板
10 レール
11 第二の偏向板
12 排気口
13 測定チャンバー
15 ゴニオステージ
16 O+またはCs+イオン
17 イオン銃
18 第一の偏向板
19 第二の偏向板
20 ギア
21 ステッピングモータ
22 レール
23 駆動機構
24 ギア
25 ステッピングモータ
26 二次イオン
27 検出器
28 測定装置
29 酸素ガス
30 ノズル
31 リークバルブ
Claims (3)
- 固定されたイオン銃と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃に近い方の第一の偏向板と、
照射されるイオンの進行方向の変化を制御可能な偏向板であって、照射経路において当該イオン銃から遠い方の第二の偏向板と
を含んでなり、
当該第一の偏向板と第二の偏向板とが、それぞれ独立に、第1と第2の点を中心にして回転し得る機構を有し、
更に、前記第二の偏向板を、前記第一の偏向板と第二の偏向板との回転とは独立に、前記第2の点とは異なる第3の点を中心とする円を描いて移動させ、かつ、その停止位置を制御することを可能とする機構を有する、
照射方向可変イオン照射装置。 - 前記照射されるイオンの進行方向の変化の制御が、前記第一および第二の偏向板の磁場、電場または磁場と電場の両方を変えることにより可能となる、請求項1に記載の照射方向可変イオン照射装置。
- 請求項1または2に記載の照射方向可変イオン照射装置と、
試料台と、
質量分析器と
を含んでなり、
前記第3の点が、前記試料台の台面上にある、
二次イオン質量分析装置。
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