JP5332607B2 - 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 - Google Patents
反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5332607B2 JP5332607B2 JP2008501695A JP2008501695A JP5332607B2 JP 5332607 B2 JP5332607 B2 JP 5332607B2 JP 2008501695 A JP2008501695 A JP 2008501695A JP 2008501695 A JP2008501695 A JP 2008501695A JP 5332607 B2 JP5332607 B2 JP 5332607B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- hard coat
- refractive index
- antireflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G02B1/105—
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
一般式(1) C18H35−O(C2H4O)nH
式中、nは2〜40を表す。
2.前記反射防止層は、低屈折率層を有することを特徴とする前記1に記載の反射防止フィルム。
3.前記低屈折率層は、中空シリカ系微粒子を含有することを特徴とする前記2に記載の反射防止フィルム。
4.前記1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、透明樹脂フィルムの一方の面上に前記ハードコート層を塗布形成し、ロール状に巻き取った後再度繰り出して該ハードコート層上に反射防止層を塗布することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
5.前記4に記載の反射防止フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
6.透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層が下記一般式(1)で表される化合物、及び紫外線硬化樹脂を少なくとも含有することを特徴とするハードコートフィルム。
一般式(1) C18H35−O(C2H4O)nH
式中、nは2〜40を表す。
7.前記1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、前記5に記載の反射防止フィルム、または前記6に記載のハードコートフィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。
8.前記1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、前記5に記載の反射防止フィルム、前記6に記載のハードコートフィルム、または前記7に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示装置。
式中、nは2〜40を表す。
本発明の反射防止フィルムに用いられる光干渉による反射防止層について説明する。
本発明に用いられる反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でも、少なくとも1層の低屈折率層と少なくとも1層の高屈折率層を有する多層構成とすることが出来る。また3層以上の多層の屈折率層も構成出来る。
バックコート層/透明樹脂フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/透明樹脂フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
バックコート層/透明樹脂フィルム/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/透明樹脂フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率
層
バックコート層/透明樹脂フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
汚れや指紋のふき取りが容易となるように、最表面の低屈折率層の上に、更に防汚層を設けることも出来る。防汚層としては、含フッ素有機化合物が好ましく用いられる。
本発明は、透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面上にハードコート層が塗設される。
本発明では、ハードコート層が塗設されたフィルムをハードコートフィルムという。該ハードコート層は、前記ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物、及び活性線硬化樹脂を少なくとも含有することを特徴とする。
本発明のハードコートフィルムのハードコート層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、塗布やCVDなどによって、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正する為に設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設されることも好ましく、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせる為に微粒子が添加されることが好ましい。
コートフィルムは、ハードコート層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。
次いで、本発明に係る反射防止層について説明する。
(高屈折率層または中屈折率層の金属酸化物微粒子)
本発明に用いられる高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることが出来、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあっても良い。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、特に好ましくは酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモン酸亜鉛である。
本発明に用いられる高屈折率層では、金属化合物として下記一般式(2)で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることが好ましい。
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
電離放射線硬化型樹脂は金属酸化物微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることが出来る。官能基としては(メタ)アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を2個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることが出来る。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられ、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれる化合物であることが好ましい。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
本発明の高屈折率層をコーティングする際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。
本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、支持体である透明樹脂フィルムの屈折率より低く、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
(式中、Rはアルキル基である。)
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤(酸、金属キレート)、界面活性剤等を添加してもよい。
前記外殻層を有し、内部が多孔質または空洞である中空シリカ系微粒子について説明する。
られる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。このような多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、さらに屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
前記一般式(3)で表される有機珪素化合物は、式中、Rはアルキル基であり、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。
〜24の整数、cは0〜24の整数を示す。このようなRfとしては、フルオロアルキレン基とアルキレン基とを有する基が好ましい。具体的に、このような含フッ素シリコーン系化合物としては、(MeO)3SiC2H4C2F4C2H4Si(MeO)3、(MeO)3SiC2H4C4F8C2H4Si(MeO)3、(MeO)3SiC2H4C6F12C2H4Si(MeO)3、(H5C2O)3SiC2H4C4F8C2H4Si(OC2H5)3、(H5C2O)3SiC2H4C6F12C2H4Si(OC2H5)3で表されるメトキシジシラン化合物等が挙げられる。
本発明に係る低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
本発明では、前記高屈折率層及び低屈折率層にフッ素系界面活性剤、シリコーンオイルまたはシリコーン界面活性剤を含有することが出来る。上記界面活性剤を含有させることで、塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等
1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが、変性シリコーンオイル
2−1.非反応性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等、
アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基に置換えたシリコーンオイル、
ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンに導入したシリコーン系高分子界面活性剤、
高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイル、
アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル、
カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイル
2−2.反応性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等、
これらの内、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1,000〜100,000、好ましくは2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されないが、塗布により形成することが好ましい。反射防止層の各層は、ハードコート層表面上に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法を用いて、塗布により形成する。
本発明に係る反射防止フィルムの反射率は分光光度計により測定を行うことが出来る。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が1.5%以下であることが好ましく
、最低反射率は0.8%以下であることが好ましい。反射防止フィルムの可視光領域の波長における平均反射率が1.5%以下であれば、反射防止層を有していると見なすことが出来る。また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。
次ぎに、本発明に用いられる透明樹脂フィルムについて説明する。
0.1≦Y≦1.5
特に、2.5≦X+Y≦2.9
0.3≦Y≦1.2であることが好ましい。
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
セルロースエステルフィルムには、微粒子を含有することが好ましい。
リン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
次に、セルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
本発明の偏光板について述べる。
本発明の偏光板の反射防止フィルム面またはハードコート面を表示装置の鑑賞面側に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の反射防止フィルムは、反射型、透過型、半透過型LCDまたはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色ムラが著しく少なく、また、反射率が低く、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上の大画面の表示装置では、色ムラや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
〔ハードコート層の塗布〕
ロール状(長さ3000m)の厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(商品名:KC8UX2M、コニカミノルタオプト(株)社製)を透明樹脂フィルムとして繰り出し、下記ハードコート層塗布液を塗布幅1.4mでダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して硬化後の膜厚が6μmになるようにハードコート層を設けた。
アセトン 45質量部
酢酸エチル 45質量部
PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル) 10質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 30質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 45質量部
ウレタンアクリレート(商品名U−4HA 新中村化学工業社製) 25質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノ−1−オン
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 3質量部
BYK−331(シリコーン界面活性剤、ビックケミー・ジャパン(株)社製)
0.2質量部
〔バックコート層の塗布〕
上記ハードコート層を塗設した面の反対側に、下記バックコート層塗布液をウエット膜厚14μmになるようにダイコートし、70℃で乾燥し、巻き取ることでロール状のハードコートフィルム1を作製した。
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.2質量部
アセトン 35質量部
メタノール 30質量部
メチルエチルケトン 35質量部
超微粒子シリカ アエロジル200V(日本アエロジル(株)製)2%アセトン分散液
0.12質量部
ハードコートフィルム1の界面活性剤BYK−331(0.2質量部)の代わりに表1記載の化合物及び添加量に変えた以外は同様にして、表1記載のハードコートフィルム2〜30を作製した。
(ブロッキング性)
上記作製したハードコートフィルム3000mのロールを、30℃相対湿度80%の恒温槽で2日保存した。次ぎに保存後のブロッキング性を表面からの目視観察にて以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
上記30℃相対湿度80%の恒温槽で5日保存したロール状ハードコートフィルムを再び繰り出して、ハードコート層表面上に下記のようにして中屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗布し、反射防止フィルムを作製した。
ハードコート層表面上に、下記中屈折率層塗布液をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して、硬化後の膜厚が120nmとなるように中屈折率層を設けた。屈折率は1.60であった。
〈粒子分散液Aの作製〉
メタノール分散アンチモン複酸化物コロイド(固形分60%、日産化学工業(株)社製アンチモン酸亜鉛ゾル、商品名:セルナックスCX−Z610M−F2)6.0kgにイソプロピルアルコール12.0kgを攪拌しながら徐々に添加し、粒子分散液Aを調整した。
イソプロピルアルコール 25質量部
メチルエチルケトン 25質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート 0.9質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.0質量部
ウレタンアクリレート(商品名:U−4HA 新中村化学工業社製)
0.6質量部
粒子分散液A 20質量部
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 1.5質量部
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モノフォリノプロパン−1−オン(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.2質量部
10%FZ−2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液(日本ユニカー社製) 0.4質量部
(低屈折率層の塗布)
上記中屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液をダイコートし、80℃で乾燥した後、120mJ/cm2の紫外線を高圧水銀灯で照射して膜厚が80nmになるように低屈折率層を設け、反射防止フィルムを作製した。屈折率は1.38であった。
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン230g(商品名:KBE04、信越化学工業社製)とエタノール440gを混合し、これに2%酢酸水溶液120gを添加した後に、室温(25℃)にて26時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Aを調製した。
イソプロピルアルコール 430質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM503、信越化学工業社製) 3.0質量部
イソプロピルアルコール分散中空シリカゾル(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209) 2.0質量部
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート 3.0質量部
(川研ファインケミカル社製ALCH)
10%FZ−2207、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液(日本ユニカー社製) 3.0質量部
[反射防止フィルムの評価]
(外観評価)
上記作製した反射防止フィルムを150cm×50cmサイズでカットし、裏面に黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、表面から蛍光灯の反射を観察して、外観(斑点状のムラ)について以下の基準で目視にて評価した。この結果も表1に示す。
◎ 斑点状のムラが全く認められない
○ 斑点状のムラが僅かに認められる
△ 斑点状のムラがやや認められる
× 斑点状のムラが認められる
×× 明らかに斑点状のムラが認められる
(密着性)
反射防止フィルムを3cm×4cmサイズでカットし、反射防止層を表面にして耐候性試験機(アイ スーパーUV テスター、岩崎電気(株)社製)にて120時間光照射後、該反射防止層の表面に片刃のカミソリの刃を面に対して90°の角度で切り込みを1mm間隔で縦横に11本入れ、1mm角の碁盤目を100個作製した。この上に市販のセロハン製テープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引っ張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を目視で観察し、下記の基準で評価した。この結果も表1に示す。
○ 剥離された面積割合が5%未満であった
△ 剥離された面積割合が10%未満であった
× 剥離された面積割合が10%以上であった
BYK−UV3500:ポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン(ビックケミー・ジャパン(株)社製)
TSF4440:ポリエーテル変性シリコーンオイル(GE東芝シリコーン社製)
メガファックF−482:パーフルオロアルキル基・親油性基含有オリゴマー(大日本インキ社製)
メガファックF−479:パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー(大日本インキ社製)
エマルゲン108:ポリオキシエチレンラウリルエーテル(花王(株)社製)
エマルゲン306P:ポリオキシエチレンステアリルエーテル(花王(株)社製)
エマルゲン705:ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル(花王(株)社製)
エマルゲンMS−110:ポリオキシアルキレンアルキルエーテル(花王(株)社製)
表1の結果から判るようにポリオキシエチレンオレイルエーテル、及び活性線硬化樹脂を添加した試料は、従来の本発明以外の非イオン性界面活性剤、フッ素或いはシリコーン界面活性剤を用いた比較試料に対し、ブロッキング防止効果、斑点ムラ及び密着性に対し
て、良好な性能を発揮していることが判る。尚、ハードコートフィルムのハードコート層表面を倍率50倍のルーペを用いてハジキ及び抜けの状態の観察したところ、ハジキ、抜け等は全く見られず、良好な塗布性を示していた。
次いで、実施例1で作製した反射防止フィルム1〜30を用いて下記のようにして偏光板を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネル(画像表示装置)に組み込み、視認性を評価した。
けん化度99.95モル%、重合度2400のポリビニルアルコール(以下PVAと略す)100質量部に、グリセリン10質量部および水170質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Tダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理してPVAフィルムを得た。得られたPVAフィルムは平均厚みが40μm、水分率が4.4%、フィルム幅が3mであった。
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板1〜30を作製した。
度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
B:近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もなんとかと読める
C:遠くの蛍光灯の写りこみも気になり、フォントの大きさ8以下の文字を読むのは困難である
D:蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ8以下の文字を読むことは出来ない
評価の結果、本発明の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルは何れもB以上の評価結果であり、比較の反射防止フィルム、偏光板を用いた液晶パネルより視認性が良好であった。
Claims (8)
- 透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面上にハードコート層、反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、該ハードコート層が下記一般式(1)で表される化合物、及び紫外線硬化樹脂を少なくとも含有することを特徴とする反射防止フィルム。
一般式(1) C18H35−O(C2H4O)nH
式中、nは2〜40を表す。 - 前記反射防止層は、低屈折率層を有することを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記低屈折率層は、中空シリカ系微粒子を含有することを特徴とする請求項2に記載の反射防止フィルム。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、透明樹脂フィルムの一方の面上に前記ハードコート層を塗布形成し、ロール状に巻き取った後再度繰り出して該ハードコート層上に反射防止層を塗布することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
- 請求項4に記載の反射防止フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする反射防止フィルム。
- 透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層が下記一般式(1)で表される化合物、及び紫外線硬化樹脂を少なくとも含有することを特徴とするハードコートフィルム。
一般式(1) C18H35−O(C2H4O)nH
式中、nは2〜40を表す。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、請求項5に記載の反射防止フィルム、または請求項6に記載のハードコートフィルムを偏光子の少なくとも一方の面に貼合したことを特徴とする偏光板。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム、請求項5に記載の反射防止フィルム、請求項6に記載のハードコートフィルム、または請求項7に記載の偏光板を用いることを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008501695A JP5332607B2 (ja) | 2006-02-22 | 2007-02-16 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006045072 | 2006-02-22 | ||
JP2006045072 | 2006-02-22 | ||
JP2008501695A JP5332607B2 (ja) | 2006-02-22 | 2007-02-16 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
PCT/JP2007/052842 WO2007097258A1 (ja) | 2006-02-22 | 2007-02-16 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007097258A1 JPWO2007097258A1 (ja) | 2009-07-16 |
JP5332607B2 true JP5332607B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=38437298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008501695A Expired - Fee Related JP5332607B2 (ja) | 2006-02-22 | 2007-02-16 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7781070B2 (ja) |
JP (1) | JP5332607B2 (ja) |
KR (1) | KR101274848B1 (ja) |
CN (1) | CN101384927A (ja) |
WO (1) | WO2007097258A1 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009244382A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Sharp Corp | 機能性フィルム及び表示装置 |
US9200126B2 (en) * | 2010-03-30 | 2015-12-01 | Toray Industries, Inc. | Laminated film |
JP5757065B2 (ja) * | 2010-04-26 | 2015-07-29 | 日油株式会社 | ディスプレイ用フィルム及びこれを備えるディスプレイ |
CN102963085A (zh) * | 2011-09-01 | 2013-03-13 | 东莞市纳利光学材料有限公司 | 一种高透明防油污保护膜 |
CN102963054A (zh) * | 2011-09-01 | 2013-03-13 | 东莞市纳利光学材料有限公司 | 一种防眩目、油污和指纹印的保护膜 |
JP2013075955A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Tomoegawa Paper Co Ltd | ハードコートフィルム |
TWI598229B (zh) * | 2011-11-02 | 2017-09-11 | Kimoto Co Ltd | Electronic equipment, electronic equipment and the use of surface protection board |
KR101518495B1 (ko) * | 2011-11-07 | 2015-05-11 | 제일모직주식회사 | 광내구성을 향상시킨 편광자 및 그 제조방법 |
TWI464643B (zh) * | 2012-05-25 | 2014-12-11 | J Touch Corp | 偏光片之觸控感應元件製作方法與偏光裝置 |
JP2014091743A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-19 | Olympus Corp | 塗料、光学塗膜および光学素子 |
KR101557186B1 (ko) * | 2013-01-09 | 2015-10-05 | (주)엘지하우시스 | 투명 수지 적층체 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널 |
KR101578914B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2015-12-18 | 주식회사 엘지화학 | 플라스틱 필름 |
CN103984046B (zh) * | 2014-05-27 | 2015-08-12 | 山东力诺新材料有限公司 | 太阳能光伏玻璃双面单层增透膜的溶胶液及制备方法和镀膜方法 |
KR102363884B1 (ko) * | 2014-05-30 | 2022-02-15 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 복층 필름 및 권회체 |
KR102289082B1 (ko) * | 2014-08-13 | 2021-08-13 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 하드코팅층 형성용 조성물 |
EP3064540B1 (de) * | 2015-03-05 | 2018-05-23 | LANXESS Deutschland GmbH | Flammwidrige cellulose-ester-zubereitungen |
JP6339118B2 (ja) * | 2015-04-08 | 2018-06-06 | アイシン精機株式会社 | 車両用機械部品およびピストン |
CN106832373B (zh) * | 2015-12-03 | 2019-11-15 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种光学用预涂聚酯膜及其制备方法及一种增亮膜 |
KR102002831B1 (ko) * | 2016-07-11 | 2019-07-23 | (주)엘지하우시스 | 경화 후의 내마모성이 향상된 하드코팅 조성물 및 이를 포함하는 성형필름 |
CN106517217B (zh) * | 2016-11-16 | 2018-11-23 | 嘉兴昊特新材料科技有限公司 | 一种核壳型硅溶胶的制备方法 |
CN111742078B (zh) * | 2017-12-21 | 2023-07-04 | 埃科莱布美国股份有限公司 | 无荧光的经涂黑光学组件 |
TW202138198A (zh) * | 2020-01-29 | 2021-10-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 膜捲筒 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100443A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 |
JPH06175362A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | カラーレジスト用着色ペースト |
JPH08176466A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-09 | Nippon Ee R C Kk | 防曇性コーティング組成物と防曇性物品 |
JPH0961619A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JPH09281322A (ja) * | 1996-04-16 | 1997-10-31 | Mitsubishi Chem Corp | カラーフィルターの製造方法 |
JP2001272503A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 親水化ハードコートフィルム及び透明積層フィルム |
JP2003154616A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 積層フィルム及び表面保護フィルム |
JP2004075816A (ja) * | 2002-08-15 | 2004-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬化性組成物、それを用いたハードコート処理物品及び画像表示装置 |
JP2004354568A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Sony Corp | 微粒子分散組成物、光学部品、光学膜積層体、偏光分離素子及び光学部品の製造方法 |
JP2005283786A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Jsr Corp | マイクロレンズ反射防止膜用硬化性組成物及びこれを用いたマイクロレンズ用反射防止積層体 |
JP2005292203A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止積層体、偏光板及び表示装置 |
JP2005335173A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Sekisui Plastics Co Ltd | 積層シートの製造方法、積層シート及び成形品 |
JP2006021967A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Canon Inc | 結晶製造装置及び方法、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006023715A (ja) * | 2004-06-09 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6377914A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | (メタ)アクリル酸エステル混合物,樹脂組成物及びコ−テイング剤 |
KR100404289B1 (ko) * | 1995-06-09 | 2005-01-17 | 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 | 내찰상성유기경질코트층및흐림방지형유기경질코트층을가진수지성형품,그의제조방법및이를사용한피복재 |
JP2000334897A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 包装材料及びこれを用いた包装体 |
JP4216031B2 (ja) * | 2002-09-24 | 2009-01-28 | リンテック株式会社 | タッチパネル又はディスプレー用ハードコートフィルム |
JP2004361662A (ja) | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 導電性透明積層体 |
JP2005157037A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 |
KR101182002B1 (ko) * | 2005-02-16 | 2012-09-11 | 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 | 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및표시 장치 |
-
2007
- 2007-02-16 CN CNA2007800059906A patent/CN101384927A/zh active Pending
- 2007-02-16 KR KR1020087020130A patent/KR101274848B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-02-16 WO PCT/JP2007/052842 patent/WO2007097258A1/ja active Application Filing
- 2007-02-16 JP JP2008501695A patent/JP5332607B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-16 US US12/279,935 patent/US7781070B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100443A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | Nippon Kayaku Co Ltd | 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 |
JPH06175362A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-24 | Sekisui Chem Co Ltd | カラーレジスト用着色ペースト |
JPH08176466A (ja) * | 1994-12-22 | 1996-07-09 | Nippon Ee R C Kk | 防曇性コーティング組成物と防曇性物品 |
JPH0961619A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
JPH09281322A (ja) * | 1996-04-16 | 1997-10-31 | Mitsubishi Chem Corp | カラーフィルターの製造方法 |
JP2001272503A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 親水化ハードコートフィルム及び透明積層フィルム |
JP2003154616A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 積層フィルム及び表面保護フィルム |
JP2004075816A (ja) * | 2002-08-15 | 2004-03-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬化性組成物、それを用いたハードコート処理物品及び画像表示装置 |
JP2004354568A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Sony Corp | 微粒子分散組成物、光学部品、光学膜積層体、偏光分離素子及び光学部品の製造方法 |
JP2005283786A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Jsr Corp | マイクロレンズ反射防止膜用硬化性組成物及びこれを用いたマイクロレンズ用反射防止積層体 |
JP2005292203A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止積層体、偏光板及び表示装置 |
JP2005335173A (ja) * | 2004-05-26 | 2005-12-08 | Sekisui Plastics Co Ltd | 積層シートの製造方法、積層シート及び成形品 |
JP2006023715A (ja) * | 2004-06-09 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置 |
JP2006021967A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Canon Inc | 結晶製造装置及び方法、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080102371A (ko) | 2008-11-25 |
WO2007097258A1 (ja) | 2007-08-30 |
US20090002820A1 (en) | 2009-01-01 |
KR101274848B1 (ko) | 2013-06-13 |
JPWO2007097258A1 (ja) | 2009-07-16 |
US7781070B2 (en) | 2010-08-24 |
CN101384927A (zh) | 2009-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5332607B2 (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 | |
JP4992122B2 (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
KR101182002B1 (ko) | 반사 방지 필름, 반사 방지 필름의 제조 방법, 편광판 및표시 장치 | |
JP4655663B2 (ja) | 塗布層を有するロール状フィルムの製造方法、ロール状光学フィルム、偏光板、液晶表示装置 | |
JP4857801B2 (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP4924344B2 (ja) | 防眩フィルム、その製造装置、防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 | |
JP2009042351A (ja) | 光学フィルム、偏光板及び表示装置 | |
JP2009036818A (ja) | 防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP4622472B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルム、防眩性反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP2008224718A (ja) | 防眩性反射防止フィルム及び表示装置 | |
JP2006227162A (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP2007017946A (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2005309120A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2005338549A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2007025329A (ja) | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP2005266051A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2005157037A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP2005208477A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2009223129A (ja) | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、液晶表示装置 | |
JP2007062073A (ja) | 防眩性反射防止フィルム及びその製造方法と画像表示装置 | |
JP5299271B2 (ja) | 防眩性フィルム、その製造方法、防眩性フィルムを用いた偏光板、及び表示装置 | |
JP2007003766A (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP2010008757A (ja) | 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2005156683A (ja) | 防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 | |
JP2005165010A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091125 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110805 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130212 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130513 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130715 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |