JP5329324B2 - Method for manufacturing liquid crystal display device and substrate for liquid crystal display device - Google Patents
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Description
本発明は液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板に係り、いわゆる1つのベース基板から複数の液晶セルを採取する際の液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device and a substrate for a liquid crystal display device, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal display device and a substrate for a liquid crystal display device when collecting a plurality of liquid crystal cells from a single base substrate.
液晶表示装置は、複数の液晶セルを採取できる大きさの一対のベース基板を前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させ、前記一対のベース基板のギャップ出しを行った後に、前記一対のベース基板の切断によって各液晶セルに分離する方法によって製造されている。 In the liquid crystal display device, a pair of base substrates sized to collect a plurality of liquid crystal cells are arranged opposite to each other with a sealant formed so as to surround a liquid crystal sealing region of the liquid crystal cells, and a gap is formed between the pair of base substrates. After the above, the liquid crystal cell is manufactured by cutting the pair of base substrates.
そして、この工程中、各液晶セルに分離する前に、ギャップ出しを行った一対のベース基板を所定の厚さに薄くするため、エッチング液に浸す（表面研磨）工程を経る場合がある。この場合、一対のベース基板の間の空間を密閉するため、前記一対のベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する工程を経るようになっている。 In this step, before separation into each liquid crystal cell, a step of immersing (surface polishing) in an etching solution may be performed in order to thin the pair of base substrates from which gaps are formed to a predetermined thickness. In this case, in order to seal the space between the pair of base substrates, a step of applying a sealing material to at least a part of the end side surfaces of the pair of base substrates is performed.
図６は、このように封止材が塗布された一対のベース基板（この明細書において、液晶表示装置用基板と称する場合がある）の平面図を示している。なお、図６は、本発明の実施例を示す図１と対応させて描いた図である。このため、図６の以下に示す説明以外の構成は図１における説明を参照されたい。 FIG. 6 shows a plan view of a pair of base substrates (sometimes referred to as liquid crystal display substrate in this specification) to which the sealing material is applied in this manner. FIG. 6 is a diagram corresponding to FIG. 1 showing an embodiment of the present invention. For this reason, refer to the description in FIG. 1 for configurations other than those described below in FIG.
図６において、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２が対向配置されている。これら第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の互いに対向する面には、たとえばマトリックス状に配置される複数の液晶セルＬＳＬを形成するための処理がなされ、その処理のうちの一つとして液晶セルＬＳＬ毎に液晶封入領域を囲むシール材ＳＬが形成されている。また、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｙ方向に平行な辺のそれぞれの近傍に図中ｙ方向に延在する外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば、前記シール材ＳＬと同材料からなり、前記シール材ＳＬの形成の際に同時に形成されるようになっている。 In FIG. 6, the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 are arranged to face each other. A process for forming, for example, a plurality of liquid crystal cells LSL arranged in a matrix is performed on the mutually opposing surfaces of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2, and one of the processes is performed. As shown, a sealing material SL surrounding the liquid crystal sealing region is formed for each liquid crystal cell LSL. Further, outer sealing materials OSL1 and OSL2 extending in the y direction in the drawing are formed in the vicinity of the sides parallel to the y direction in the drawing of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. The outer sealing materials OSL1 and OSL2 are made of the same material as the sealing material SL, for example, and are formed at the same time when the sealing material SL is formed.
シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば第１のベース基板ＬＳＢ１側に形成され、これらシール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を介して第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に対向配置させ、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２とのギャップ出しが行われる。ギャップ出しは、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されていない開口部（後の工程で封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２によって封止される部分）を通して第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の空間を減圧させるようにして行う。 The sealing material SL and the outer sealing materials OSL1 and OSL2 are formed, for example, on the first base substrate LSB1 side, and the second base substrate LSB2 is transferred to the first base substrate LSB2 via the sealing material SL and the outer sealing materials OSL1 and OSL2. A gap is formed between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 so as to face the base substrate LSB1. The gap is formed by opening the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 through openings (portions sealed by the sealing materials ECL1 and ECL2 in a later step) where the outer sealing materials OSL1 and OSL2 are not formed. The space between the two is decompressed.
その後、シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を硬化させる。そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｘ方向に平行な辺のそれぞれの端側面に封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を塗布し、前記封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の間隙に浸入させる。これにより、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２と、前記外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２によって、液晶セルＬＳＬが形成された第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の空間を密閉させる。 Thereafter, the sealing material SL and the outer sealing materials OSL1, OSL2 are cured. Then, the sealing materials ECL1 and ECL2 are applied to the end side surfaces of the sides parallel to the x direction in the drawing of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2, and the sealing materials ECL1 and ECL2 are applied to the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. The base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 are inserted into the gap. Thereby, the space between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 in which the liquid crystal cells LSL are formed is sealed by the sealing materials ECL1 and ECL2 and the outer sealing materials OSL1 and OSL2.
そして、このように構成された液晶表示装置用基板は、エッチング液に浸すことによって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面が研磨され、所定の板厚に薄く形成されるようになる。 Then, the substrate for a liquid crystal display device configured as described above is soaked in an etching solution that the surfaces of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 are polished and formed thin to a predetermined plate thickness. It becomes like this.
なお、本願発明に関連する文献としては、たとえば下記特許文献１、２がある。特許文献１には、対向配置される一対のベース基板の周囲に通気口を備えるシール材（外周シール材）が形成され、前記通気口が形成されている近傍のシール材と対向するようにして隔壁材を設けた記載がある。この隔壁材によって、前記通気口を塞ぐ封止材からの放出ガスを液晶セル側に入り込ませてしまうのを回避させるようにしている。特許文献２には、対向配置される一対のベース基板の周囲に間欠的に仮止め材を形成し、前記一対のベース基板の周縁の隙間を封止材によって塞ぐものにあって、前記封止材側から観て前記仮止め材の背部に前記仮止め材を囲うようなパターンからなる堰材を設けた記載がある。この堰材によって、前記封止材が仮止め材に接触する部分において充分に形成されていない場合、研磨液を液晶セル側に入り込ませてしまうのを回避させるようにしている。 In addition, as a literature relevant to this invention, there exist the following patent documents 1 and 2, for example. In Patent Document 1, a sealing material (peripheral sealing material) having a vent is formed around a pair of base substrates arranged to face each other, and is opposed to a neighboring sealing material in which the vent is formed. There is a description of providing a partition material. The partition material prevents the gas released from the sealing material that closes the vent from entering the liquid crystal cell side. In Patent Document 2, a temporary fixing material is intermittently formed around a pair of opposed base substrates, and a gap between the peripheral edges of the pair of base substrates is closed with a sealing material. There is a description in which a weir material having a pattern surrounding the temporary fixing material is provided on the back portion of the temporary fixing material when viewed from the material side. When the sealing material is not sufficiently formed in the portion in contact with the temporary fixing material by the weir material, it is possible to prevent the polishing liquid from entering the liquid crystal cell side.
しかし、図６に示した液晶表示装置用基板は、たとえば第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺のうち一方の辺にたとえば評価用あるいは検査用のマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が前記辺の一部に隣接して形成されている場合がある。これらマークＭＫ１、ＭＫ２、ＮＫ３、ＮＫ４は、第１ベース基板の各液晶セルの形成領域にパターン化されたたとえば絶縁膜等を形成する際に同時に形成されるようになっている。 However, the substrate for the liquid crystal display device shown in FIG. 6 has, for example, evaluation or inspection marks MK1, MK2, MK3 on one of the sides parallel to the x direction in the drawing of the first base substrate LSB1. MK4 may be formed adjacent to a part of the side. These marks MK1, MK2, NK3, and NK4 are formed at the same time when a patterned insulating film or the like is formed in the formation region of each liquid crystal cell of the first base substrate.
この場合、たとえば図６のVI（ａ）−VI（ａ）線における断面図である図７に示すように、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の隙間は、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２の撓みによって、さらに、第１のベース基板ＬＳＢ１の辺に隣接して形成された前記マークＭＫ３によって狭くなっているため、塗布された封止材が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入できないという不都合が生じる。これにより、前記マークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が形成された箇所において封止材による封止が信頼性よくなされない場合が生じ、前記表面研磨の際に、エッチング液（研磨液）が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に浸入する可能性を有する。 In this case, for example, as shown in FIG. 7 which is a cross-sectional view taken along line VI (a) -VI (a) in FIG. 6, the gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is the first gap. The base plate LSB1 or the second base substrate LSB2 is further bent by the mark MK3 formed adjacent to the side of the first base substrate LSB1, so that the applied sealing material is the first one. There arises a disadvantage that it cannot sufficiently enter between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. As a result, there is a case where the sealing with the sealing material is not reliably performed at the place where the marks MK1, MK2, MK3, and MK4 are formed, and the etching liquid (polishing liquid) is the first in the surface polishing. There is a possibility of entering between the base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2.
ちなみに、図８は、図６のVI（ｂ）−VI（ｂ）線における断面図で、マークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が形成されていない箇所になっている。この場合、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２がたとえ撓んでいても、前記マークＭＫが形成されていない分だけ第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の隙間が広くなっており、塗布された封止材が第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入できるようになる。 Incidentally, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VI (b) -VI (b) in FIG. 6 and is a place where the marks MK1, MK2, MK3, and MK4 are not formed. In this case, even if the first base substrate LSB1 or the second base substrate LSB2 is bent, the gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is as much as the mark MK is not formed. And the applied sealing material can sufficiently enter between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2.
本発明の目的は、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できる液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device and a substrate for a liquid crystal display device that can reliably prevent a polishing liquid from entering between the pair of base substrates during surface polishing of the pair of base substrates. There is to do.
本発明の液晶表示装置の製造方法は、封止材ＥＣＬ１側から観てマークＭＫの背部であって液晶セルＬＳＬよりも手前の部分にスペーサとして機能する材料層を形成するようにしたものである。これにより、マークＭＫが形成された箇所の第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２のギャップを保持し、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の隙間に封止材を浸入させ易くしている。 In the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a material layer that functions as a spacer is formed on the back of the mark MK and in front of the liquid crystal cell LSL when viewed from the sealing material ECL1 side. . Accordingly, the gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 where the mark MK is formed is held, and sealed in the gap between the peripheral edges of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. It makes it easy to infiltrate the material.
本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。 The configuration of the present invention can be as follows, for example.
（１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板を前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置させ、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板のギャップ出しを行う第１工程と、
前記第１工程の後に、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間を密閉するために前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する第２工程と、を行う液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１ベース基板には、前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して位置し、前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層が形成されており、
前記第２工程を行う前の段階で、前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記第１材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層を形成することを特徴とする。
(1) In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a first base substrate and a second base substrate having a size capable of collecting a plurality of liquid crystal cells are provided with a sealing material formed so as to surround the liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell. A first step of arranging the gap between the first base substrate and the second base substrate,
After the first step, a sealing material is applied to at least a part of end surfaces of the first base substrate and the second base substrate in order to seal a space between the first base substrate and the second base substrate. A liquid crystal display device manufacturing method for performing the second step of applying,
The first base substrate is positioned adjacent to a part of a side of the surface facing the second base substrate on the side where the sealing material is applied, and has a height smaller than the gap. material layer is formed,
In the stage before performing the second step, the first base substrate is located on the back portion of the first material layer as viewed from the side of the end surface and before the region where the liquid crystal cell is formed. A second material layer having a height higher than that of the material layer is formed.
（２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかで、あるいは、それらのうちのいくつかの積層で構成されていることを特徴とする。 (2) In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in (1), the first material layer is any one of a conductive film, an inorganic insulating film, an organic insulating film, and a semiconductor film, or a combination thereof. It is characterized by being composed of several of them.
（３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（２）において、前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする。 (3) The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, in (2), the first material layer constitutes a mark for evaluation or inspection.
（４）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする。 (4) The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, in (1), the second material layer is made of the same material as the sealing material.
（５）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする。 (5) In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in (1), a plurality of columnar spacers are formed in a liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell, and the second material layer is made of the same material as the columnar spacers. It is characterized by becoming.
（６）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする。 (6) In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, in (1), the second material layer is disposed 2 mm or more away from the end side surface of the first base substrate. .
（７）本発明の液晶表示装置用基板は、複数の液晶セルを採取できる大きさの第１ベース基板と第２ベース基板が前記液晶セルの液晶封入領域を囲んで形成されるシール材を介して対向配置され、
前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材が塗布されて前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間が密閉された液晶表示装置用基板であって、
前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層と、
前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層と、が形成されていることを特徴とする。
(7) The substrate for a liquid crystal display device of the present invention is provided with a first base substrate and a second base substrate having a size capable of collecting a plurality of liquid crystal cells through a sealing material formed so as to surround the liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell. Are opposed to each other,
A substrate for a liquid crystal display device, wherein a sealing material is applied to at least a part of end surfaces of the first base substrate and the second base substrate, and a space between the first base substrate and the second base substrate is sealed. Because
A first material layer having a height smaller than the gap adjacent to a part of a side of the first base substrate facing the second base substrate on the side where the sealing material is applied;
A second material layer having a height higher than that of the first material layer on a portion of the back side of the material layer as viewed from the end side surface of the first base substrate and before the region where the liquid crystal cell is formed; Are formed.
（８）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第１材料層は、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかで、あるいは、それらのうちのいくつかの積層で構成されていることを特徴とする。 (8) The substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is the substrate for a liquid crystal display device according to (7), wherein the first material layer is any one of a conductive film, an inorganic insulating film, an organic insulating film, and a semiconductor film. It is characterized by being composed of several layers.
（９）本発明の液晶表示装置用基板は、（８）において、前記第１材料層は、評価用あるいは検査用のマークを構成することを特徴とする。 (9) The substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, in (8), the first material layer constitutes a mark for evaluation or inspection.
（１０）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第２材料層は、前記シール材と同一の材料からなることを特徴とする。 (10) The substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, in (7), the second material layer is made of the same material as the sealing material.
（１１）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記液晶セルの液晶封入領域に複数の柱状スペーサが形成され、前記第２材料層は、前記柱状スペーサと同一の材料からなることを特徴とする。 (11) In the liquid crystal display substrate according to the present invention, in (7), a plurality of columnar spacers are formed in a liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell, and the second material layer is made of the same material as the columnar spacers. It is characterized by that.
（１２）本発明の液晶表示装置用基板は、（７）において、前記第２材料層は、前記第１ベース基板の前記端側面から２ｍｍ以上離間して配置されていることを特徴とする。 (12) The substrate for a liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that, in (7), the second material layer is disposed 2 mm or more away from the end side surface of the first base substrate.
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。 The above-described configuration is merely an example, and the present invention can be modified as appropriate without departing from the technical idea. Further, examples of the configuration of the present invention other than the above-described configuration will be clarified from the entire description of the present specification or the drawings.
上述した液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板によれば、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できるようになる。 According to the liquid crystal display device manufacturing method and the liquid crystal display device substrate described above, the polishing liquid can be reliably prevented from entering between the pair of base substrates during surface polishing of the pair of base substrates. Become.
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。 Other effects of the present invention will become apparent from the description of the entire specification.
本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each drawing and each example, the same or similar components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
図１は、本発明による液晶表示装置用基板の実施例１を示す平面図である。図１に示す液晶表示装置用基板は、第１のベース基板ＬＳＢ１および第２のベース基板ＬＳＢ２の表面研磨を行う直前のベースパネルの状態を示した構成となっている。
FIG. 1 is a plan view showing Example 1 of a substrate for a liquid crystal display device according to the present invention. Substrate for a liquid crystal display device shown in FIG. 1 has a structure showing a state of the base panel just before the surface polishing of the first base substrate LSB1 and second base substrates LSB 2.
図１において、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２が対向配置されている。第１のベース基板ＬＳＢ１は、その第２のベース基板ＬＳＢ２と対向する面において、たとえばマトリックス状に配置された複数の液晶セルＬＳＬの形成領域を有している。それぞれの液晶セルＬＳＬの形成領域には、図示していないが、信号線、薄膜トランジスタ、および電極等が形成されている。これら信号線、薄膜トランジスタ、および電極等は、フォトリソグラフィ技術による選択エッチングによって所定のパターンで形成された導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜等が所定の順序で積層されて形成されている。 In FIG. 1, a first base substrate LSB1 and a second base substrate LSB2 are arranged to face each other. The first base substrate LSB1 has a formation region of a plurality of liquid crystal cells LSL arranged in a matrix, for example, on the surface facing the second base substrate LSB2. Although not shown, signal lines, thin film transistors, electrodes, and the like are formed in the formation regions of the respective liquid crystal cells LSL. These signal lines, thin film transistors, electrodes, and the like are formed by laminating a conductive film, an inorganic insulating film, an organic insulating film, a semiconductor film, and the like formed in a predetermined order by selective etching using a photolithography technique in a predetermined order. Yes.
また、前記信号線、薄膜トランジスタ、および電極等が形成された液晶セルＬＳＬの形成領域には、それぞれ、液晶封入領域を囲むシール材ＳＬが形成されている。このシール材ＳＬは、液晶を一構成要素としてマトリックス状に配置された多数の画素からなる画像表示領域を囲むようにして構成されている。なお、各液晶セルＬＳＬにおけるシール材ＳＬには、開口部ＯＰが形成されている。この開口部ＯＰは、液晶セルＬＳＬの分離後において液晶を封入するための封入口として機能する。 In addition, a sealing material SL surrounding the liquid crystal sealing region is formed in the formation region of the liquid crystal cell LSL in which the signal line, the thin film transistor, the electrode, and the like are formed. The sealing material SL is configured to surround an image display region composed of a large number of pixels arranged in a matrix with liquid crystal as one component. Note that an opening OP is formed in the sealing material SL in each liquid crystal cell LSL. The opening OP functions as a sealing port for sealing the liquid crystal after separation of the liquid crystal cell LSL.
なお、第１のベース基板ＬＳＢ１は、後の工程における液晶セルの分離にあって、液晶セルＬＳＬごとに基板ＳＵＢ１（図中点線枠で示す）として切断されるようになっている。 Note that the first base substrate LSB1 is to be cut as a substrate SUB1 (indicated by a dotted frame in the drawing) for each liquid crystal cell LSL in the separation of the liquid crystal cell in a later step.
また、第１のベース基板ＬＳＢ１には、たとえば図中ｙ方向に平行な辺のそれぞれの近傍において、図中ｙ方向に延在する外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、たとえば前記シール材ＳＬと同材料からなり、前記シール材ＳＬの形成の際に同時に形成されるようになっている。この外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は、後述の第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に貼り合わせる際のシール材としての機能を有するともに、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁における隙間の一部を封止する機能を有するようになっている。 Further, on the first base substrate LSB1, outer sealing materials OSL1 and OSL2 extending in the y direction in the figure are formed, for example, in the vicinity of each side parallel to the y direction in the figure. The outer sealing materials OSL1 and OSL2 are made of the same material as the sealing material SL, for example, and are formed at the same time when the sealing material SL is formed. The outer sealing materials OSL1 and OSL2 have a function as a sealing material when a second base substrate LSB2 to be described later is bonded to the first base substrate LSB1, and the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB1. It has a function of sealing a part of the gap at the periphery of the substrate LSB2.
なお、この実施例１では、シール材ＳＬ、および外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２は第１のベース基板ＬＳＢ１に形成するようにしたものであるが、これに限定されることはなく、後述の第２のベース基板ＬＳＢ２に形成するようにしてもよい。 In the first embodiment, the sealing material SL and the outer sealing materials OSL1 and OSL2 are formed on the first base substrate LSB1. However, the present invention is not limited to this and will be described later. It may be formed on the second base substrate LSB2.
さらに、第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺のうち一方の辺（図中上側）にたとえば評価用、認識用あるいは検査用のマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４が前記辺の一部に隣接して形成されている。図１では、これらマークＭＫ（ＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４）は４個として示しているがこの数に限定されることはない。図２は、第２のベース基板ＬＳＢ２、および後述の封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を取り除いた第１のベース基板ＬＳＢ１のみを示した平面図である。この図から明らかなように、前記マークＭＫのそれぞれは、第１のベース基板ＬＳＢ１の図中ｘ方向に平行な辺に隣接し、前記辺に沿って並設されて形成されている。これらマークＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４は、液晶セルＬＳＬの形成領域において、前記信号線、薄膜トランジスタ、および電極等を形成する際に並行して形成されるもので、その材料としては、導電膜、無機絶縁膜、有機絶縁膜、半導体膜のうちのいずれかによって、あるいは、それらのうちのいくつかの積層によって構成されるようになっている。 Further, for example, evaluation, recognition or inspection marks MK1, MK2, MK3, and MK4 are arranged on one side (upper side in the drawing) of the first base substrate LSB1 in parallel with the x direction in the drawing. It is formed adjacent to a part. In FIG. 1, these marks MK (MK1, MK2, MK3, MK4) are shown as four, but the number is not limited to this. FIG. 2 is a plan view showing only the second base substrate LSB2 and the first base substrate LSB1 from which sealing materials ECL1 and ECL2 described later are removed. As is clear from this figure, each of the marks MK is formed adjacent to a side parallel to the x direction in the drawing of the first base substrate LSB1 and arranged along the side. These marks MK1, MK2, MK3, and MK4 are formed in parallel when forming the signal lines, thin film transistors, electrodes, and the like in the formation region of the liquid crystal cell LSL. It is configured by any one of an inorganic insulating film, an organic insulating film, and a semiconductor film, or by stacking some of them.
ここで、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面側から観て前記マークＭＫの背部であって前記液晶セルＬＳＬが形成される領域より手前の部分にスペーサＳＰとして機能するシール材が形成されている。このスペーサＳＰは、前記シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と同材料からなり、前記シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２の形成の際に同時に形成され、前記マークＭＫの形成領域の近傍において、第１ベース基板ＬＳＢ１と後述の第２ベース基板ＬＳＢ２とのギャップを保持できるようになっている。前記スペーサＳＰは、たとえばマークＭＫのそれぞれに対応して形成され、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面側から観て、マークＭＫの幅よりも大きな幅を有し、両端がマークＭＫよりもはみ出すようにして形成することが好ましい。また、前記スペーサＳＰは、第１ベース基板ＬＳＢ１の前記マークＭＫが形成されている辺の端側面から２ｍｍ以上離間して配置させることが好ましい。このようにする理由は、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２は、それぞれ、前記端側面から０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内で形成され、前記マークＭＫと重なることなく形成できるからである。 Here, the spacer SP is formed in a portion behind the mark MK and in front of the region where the liquid crystal cell LSL is formed as viewed from the end side surface of the side on which the mark MK is formed of the first base substrate LSB1. A functional sealing material is formed. The spacer SP is made of the same material as the seal material SL and the outer seal materials OSL1 and OSL2, and is formed simultaneously with the formation of the seal material SL and the outer seal materials OSL1 and OSL2, and the mark MK formation region. In the vicinity, a gap between the first base substrate LSB1 and a second base substrate LSB2 to be described later can be maintained. The spacer SP is formed corresponding to each of the marks MK, for example, and has a width larger than the width of the mark MK when viewed from the end side of the side where the mark MK of the first base substrate LSB1 is formed. However, it is preferable that both ends protrude beyond the mark MK. Further, it is preferable that the spacer SP is disposed at a distance of 2 mm or more from the end side surface of the side where the mark MK of the first base substrate LSB1 is formed. The reason for doing this is that the sealing materials ECL1 and ECL2 are each formed within a range of 0.1 mm to 2 mm from the end side surface and can be formed without overlapping the mark MK.
第２のベース基板ＬＳＢ２は、前記第１のベース基板ＬＳＢ１と対向する面液晶セルＬＳＬの形成領域において、図示しないが、ブラックマトリックス、カラーフィルタ、また必要とあれば電極等が形成されている。なお、第２のベース基板ＬＳＢ２は、後の工程における液晶セルの分離にあって、液晶セルＬＳＬごとに基板ＳＵＢ２（図中点線枠で示す）として切断されるようになっている。 Although not shown, the second base substrate LSB2 is formed with a black matrix, a color filter, and, if necessary, an electrode or the like in a formation region of the surface liquid crystal cell LSL facing the first base substrate LSB1. Note that the second base substrate LSB2 is to be cut as a substrate SUB2 (indicated by a dotted frame in the drawing) for each liquid crystal cell LSL in the separation of the liquid crystal cell in a later step.
ここで、第２のベース基板ＬＳＢ２を第１のベース基板ＬＳＢ１に対して貼り合わせる際、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の隙間を所定の値に設定するいわゆるギャップ出しが行われる。このギャップ出しは、対向配置される第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２において、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２が形成されていない開口部（後の工程で封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２によって封止される部分）を通して第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の空間を減圧させるようにして行われる。そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との隙間を所定の値に設定した後、シール材ＳＬ、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２、およびスペーサＳＰを硬化させる。 Here, when the second base substrate LSB2 is bonded to the first base substrate LSB1, a so-called gap for setting the gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 to a predetermined value. Take out. This gap is formed by the openings where the outer sealing materials OSL1 and OSL2 are not formed in the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 that are arranged opposite to each other (by the sealing materials ECL1 and ECL2 in a later step). The space between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is reduced through a sealed portion). Then, after setting the gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 to a predetermined value, the seal material SL, the outer seal materials OSL1, OSL2, and the spacer SP are cured.
そして、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の図中ｘ方向に平行な辺のそれぞれの端側面に封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を塗布し、前記封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２を第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間隙に浸入させる。これにより、封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２と、前記外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２によって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間の空間を密閉させる。 Then, the sealing materials ECL1 and ECL2 are applied to the end side surfaces of the sides parallel to the x direction in the drawing of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2, and the sealing materials ECL1 and ECL2 are applied to the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. The base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 are made to enter. Accordingly, the space between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is sealed by the sealing materials ECL1 and ECL2 and the outer seal materials OSL1 and OSL2.
このように構成された液晶表示装置用基板は、エッチング液に浸すことによって、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面が研磨され、所定の板厚に薄く形成できるようになる。 The substrate for a liquid crystal display device configured as described above is soaked in an etching solution that the surfaces of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 are polished and can be formed thinly to a predetermined plate thickness. .
図３は、図１のIII（ａ）−III（ａ）線における断面図を示した図である。ここの部分は、第１のベース基板ＬＳＢ１上にマークＭＫ３が形成されているが、このマークＭＫ３の背後（封止材ＥＣＬ１側から観て）にはスペーサＳＰ３が形成されているため、前記マークＭＫ３と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の間隙を充分に確保することができるようになる。このため、封止材ＥＣＬ１を塗布する場合に、前記封止材ＥＣＬ１は第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２（マークＭＫ３）の間に充分に浸入でき、封止の信頼性を充分に確保できる。ちなみに、図４は、図１のIII（ｂ）−III（ｂ）線における断面図で、マークＭＫが形成されていない部分を示しているが、前記マークＭＫが形成されていない分、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間の間隙は充分に確保されていることから、前記封止材ＥＣＬ１は第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の間に充分に浸入でき、封止の信頼性を充分に確保できる。したがって、上述した液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置用基板によれば、一対のベース基板の表面研磨の際に前記一対のベース基板の間に研磨液が浸入するのを信頼性よく防止できるようになる。 FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III (a) -III (a) of FIG. In this portion, the mark MK3 is formed on the first base substrate LSB1, but since the spacer SP3 is formed behind the mark MK3 (viewed from the sealing material ECL1 side), the mark A sufficient gap between the MK3 and the second base substrate LSB2 can be secured. For this reason, when the sealing material ECL1 is applied, the sealing material ECL1 can sufficiently enter between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 (mark MK3), thereby improving the sealing reliability. It can be secured sufficiently. Incidentally, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line III (b) -III (b) in FIG. 1 and shows a portion where the mark MK is not formed. Since the gap between the base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is sufficiently secured, the sealing material ECL1 is sufficiently provided between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2. It can be penetrated and the reliability of sealing can be sufficiently secured. Therefore, according to the above-described method for manufacturing a liquid crystal display device and the substrate for a liquid crystal display device, it is possible to reliably prevent the polishing liquid from entering between the pair of base substrates during surface polishing of the pair of base substrates. It becomes like this.
実施例１では、スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４は、シール材ＳＬおよび外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と同材料で、これらシール材ＳＬおよび外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２の形成の際に同時に形成するようにしたものである。 In the first embodiment, the spacers SP1, SP2, SP3, and SP4 are made of the same material as the sealing material SL and the outer sealing materials OSL1 and OSL2, and are formed at the same time when the sealing material SL and the outer sealing materials OSL1 and OSL2 are formed. It is what you do.
しかし、第１のベース基板ＬＳＢ１あるいは第２のベース基板ＬＳＢ２の液晶セルＬＳＬの形成領域に柱状スペーサを形成する場合において、前記スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４は、前記柱状スペーサＰＳＰと同材料で、前記柱状スペーサＰＳＰの形成の際に同時に形成するようにしてもよい。同様の効果が得られるからである。 However, when columnar spacers are formed in the formation region of the liquid crystal cell LSL of the first base substrate LSB1 or the second base substrate LSB2, the spacers SP1, SP2, SP3, SP4 are made of the same material as the columnar spacer PSP. The columnar spacers PSP may be formed at the same time. This is because the same effect can be obtained.
図５は、図１に示した液晶セルＬＳＬの形成領域の一つを拡大して示した図である。図５においては、シール材ＳＬで囲まれた領域（画像表示領域）内に柱状スペーサＰＳＰが散在して配置されていることを示している。この柱状スペーサＰＳＰは、液晶セルＬＳＬ毎に第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２との間のギャップを所定の値に確保するために設けられる。そして、前記柱状スペーサＰＳＰは、たとえば第２のベース基板ＬＳＢ２の第１のベース基板ＬＳＢ１と対向する側の面に、たとえば樹脂層を形成し、この樹脂層をフォトリソグラフィ技術による選択エッチングをすることにより形成するようになっている。 FIG. 5 is an enlarged view showing one of the formation regions of the liquid crystal cell LSL shown in FIG. FIG. 5 shows that columnar spacers PSP are scattered and arranged in an area (image display area) surrounded by the sealing material SL. This columnar spacer PSP is provided for each liquid crystal cell LSL in order to secure a gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 to a predetermined value. The columnar spacer PSP is formed, for example, by forming a resin layer on the surface of the second base substrate LSB2 facing the first base substrate LSB1, and selectively etching the resin layer by a photolithography technique. It comes to form by.
このように、前記柱状スペーサＰＳＰは、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２とのギャップを一定に保持する機能を有することから、前記スペーサＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４を、柱状スペーサＳＰの形成の際に同時に前記柱状スペーサＳＰと同材料で形成することができる。 Thus, since the columnar spacer PSP has a function of maintaining a constant gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2, the spacers SP1, SP2, SP3, SP4 are replaced with the columnar spacers. Simultaneously with the formation of SP, the columnar spacer SP can be formed of the same material.
実施例１では、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の表面研磨の際に、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の隙間を封止する材料として、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２と封止材ＥＣＬ１、ＥＣＬ２とで行うようにしたものである。しかし、封止材ＥＣＬ１を塗布する部分は、マークＭＫが形成されているベース基板ＬＳＢの一辺とし、他の三辺には外方シール材ＯＳＬを形成するようにしてもよい。また、外方シール材ＯＳＬ１、ＯＳＬ２を用いることなく、第１のベース基板ＬＳＢ１と第２のベース基板ＬＳＢ２の周縁の全域の隙間を封止材ＥＣＬで封止するようにしてもよい。 In the first embodiment, when the surface polishing of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is performed, the outer peripheral gap between the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 is used as a material for sealing. This is done with the side seal materials OSL1, OSL2 and the sealing materials ECL1, ECL2. However, the portion to which the sealing material ECL1 is applied may be one side of the base substrate LSB on which the mark MK is formed, and the outer sealing material OSL may be formed on the other three sides. In addition, the gaps around the peripheral edges of the first base substrate LSB1 and the second base substrate LSB2 may be sealed with the sealing material ECL without using the outer sealing materials OSL1 and OSL2.
以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。 The present invention has been described using the embodiments. However, the configurations described in the embodiments so far are only examples, and the present invention can be appropriately changed without departing from the technical idea. Further, the configurations described in the respective embodiments may be used in combination as long as they do not contradict each other.
ＬＳＢ１……第１のベース基板、ＬＳＢ２……第２のベース基板、ＳＬ……シール材、ＯＳＬ１、ＯＳＬ２……外方シール材、ＭＫ（ＭＫ１、ＭＫ２、ＭＫ３、ＭＫ４）……マーク、ＳＰ（ＳＰ１、ＳＰ２、ＳＰ３、ＳＰ４）……スペーサ、ＳＰＳ……柱状スペーサ、ＥＣＬ（ＥＣＬ１、ＥＣＬ２）……封止材。 LSB1 ... first base substrate, LSB2 ... second base substrate, SL ... seal material, OSL1, OSL2 ... outer seal material, MK (MK1, MK2, MK3, MK4) ... mark, SP ( SP1, SP2, SP3, SP4) ... spacer, SPS ... columnar spacer, ECL (ECL1, ECL2) ... sealing material.
Claims (12)
前記第１工程の後に、前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間を密閉するために前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材を塗布する第２工程と、を行う液晶表示装置の製造方法であって、
前記第１ベース基板には、前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して位置し、前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層が形成されており、
前記第２工程を行う前の段階で、前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記第１材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 A first base substrate and a second base substrate having a size capable of collecting a plurality of liquid crystal cells are disposed opposite to each other with a sealant formed surrounding a liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell, and the first base substrate and the first base substrate are disposed. A first step of creating a gap between two base substrates;
After the first step, a sealing material is applied to at least a part of end surfaces of the first base substrate and the second base substrate in order to seal a space between the first base substrate and the second base substrate. A liquid crystal display device manufacturing method for performing the second step of applying,
The first base substrate is positioned adjacent to a part of a side of the surface facing the second base substrate on the side where the sealing material is applied, and has a height smaller than the gap. material layer is formed,
In the stage before performing the second step, the first base substrate is located on the back portion of the first material layer as viewed from the side of the end surface and before the region where the liquid crystal cell is formed. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising forming a second material layer having a height higher than that of the material layer.
前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の端側面の少なくとも一部に封止材が塗布されて前記第１ベース基板と前記第２ベース基板の間の空間が密閉された液晶表示装置用基板であって、
前記第１ベース基板の前記第２ベース基板と対向する面の前記封止材が塗布される側の辺の一部に隣接して前記ギャップよりも小さな高さを有する第１材料層と、
前記第１ベース基板の前記端側面側から観て前記材料層の背部であって前記液晶セルが形成される領域より手前の部分に前記第１材料層よりも高さの大きな第２材料層と、が形成されていることを特徴とする液晶表示装置用基板。 A first base substrate and a second base substrate having a size capable of collecting a plurality of liquid crystal cells are disposed to face each other with a sealant formed surrounding a liquid crystal sealing region of the liquid crystal cell,
A substrate for a liquid crystal display device, wherein a sealing material is applied to at least a part of end surfaces of the first base substrate and the second base substrate, and a space between the first base substrate and the second base substrate is sealed. Because
A first material layer having a height smaller than the gap adjacent to a part of a side of the first base substrate facing the second base substrate on the side where the sealing material is applied;
A second material layer having a height higher than that of the first material layer on a portion of the back side of the material layer as viewed from the end side surface of the first base substrate and before the region where the liquid crystal cell is formed; And a substrate for a liquid crystal display device.
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