JP5319954B2 - Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face - Google Patents

Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face Download PDF

Info

Publication number
JP5319954B2
JP5319954B2 JP2008110363A JP2008110363A JP5319954B2 JP 5319954 B2 JP5319954 B2 JP 5319954B2 JP 2008110363 A JP2008110363 A JP 2008110363A JP 2008110363 A JP2008110363 A JP 2008110363A JP 5319954 B2 JP5319954 B2 JP 5319954B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inclined end
optical waveguide
end surface
router bit
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008110363A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009258563A (en
Inventor
徹 中芝
優一 藤澤
眞治 橋本
直幸 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2008110363A priority Critical patent/JP5319954B2/en
Priority to PCT/JP2009/058220 priority patent/WO2009131231A1/en
Publication of JP2009258563A publication Critical patent/JP2009258563A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5319954B2 publication Critical patent/JP5319954B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083—Constructional arrangements
    • G02B2006/12104—Mirror; Reflectors or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、ミラー等の形成に用いられる傾斜端面を有する光導波路の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface used for forming a mirror or the like.

光ファイバーや平面型光導波路といった光導波路には、光導波路から光を入出力すること等を目的として、例えば９０度に光路を変更するような４５度のマイクロミラー等が、所定の領域に形成される。   In an optical waveguide such as an optical fiber or a planar optical waveguide, for example, a 45-degree micromirror that changes the optical path to 90 degrees is formed in a predetermined region for the purpose of inputting and outputting light from the optical waveguide. The

このようなミラーを形成する方法としては、ダイシングブレードで光導波路を切り込む方法等により傾斜端面を形成させる方法が広く用いられている。   As a method of forming such a mirror, a method of forming an inclined end face by a method of cutting an optical waveguide with a dicing blade is widely used.

例えば、下記特許文献１には、頂角が９０°の断面形状となっている刃先や、頂角が略４５°の略楔型断面となっている片刃形状の刃先を備えたダイシングブレードを光導波路に対して垂直に当てて切削加工を行うことにより、光導波路に少なくとも片側内面が傾斜面となっているＶ状の溝を形成することによりマイクロミラーを形成することが記載されている。そして、このようなマイクロミラーを用いることにより、光導波路を伝搬する光を光導波路の平面外に出射したり、あるいは光導波路の平面外から入射する光の光路を光導波路に結合させることが記載されている。   For example, in Patent Document 1 below, a dicing blade including a cutting edge having a cross-sectional shape with an apex angle of 90 ° or a single-edged blade having a substantially wedge-shaped cross section with an apex angle of approximately 45 ° is used as a light guide. It is described that a micromirror is formed by forming a V-shaped groove having an inclined inner surface at least on one side in an optical waveguide by performing a cutting process perpendicularly to the waveguide. It is also described that by using such a micromirror, light propagating through the optical waveguide is emitted out of the plane of the optical waveguide, or the optical path of light incident from outside the plane of the optical waveguide is coupled to the optical waveguide. Has been.

また、下記特許文献２には、切削の際にブレードのブレや形状摩耗の影響をうけにくくするために、刃先先端部に平面部を有するダイシングブレードを用いて切削加工することにより、マイクロミラーとして用いられる傾斜端面を形成することが記載されている。
特開平１０−３００９６１号公報 特開２００６−２３５１２６号公報 Moreover, in the following Patent Document 2, in order to make it less susceptible to blade blurring and shape wear during cutting, a micromirror is obtained by cutting using a dicing blade having a flat portion at the tip of the blade tip. It is described that the inclined end face used is formed.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-300961 JP 2006-235126 A

ダイシングによる切削加工は円形の回転刃を使用するため、接触幅が広くなりがちであり、かつ、その接触幅は切削深さが深くなるほど広がってしまう。このために、狭い領域に複数本の光導波路が形成されているような場合に特定の光導波路のみに傾斜端面を形成しようとした場合でも、図９に示すように、ダイシングブレード９０が本来切削すべき光導波路９１以外に、本来切削すべきではない光導波路９２，９３までも切削してしまうという問題があった。このように、ダイシングによる切削加工を用いた場合には、ある限られた領域のみを正確に切削して、特定の光導波路のみに正確に傾斜端面を形成するような、微細な加工が困難であった。   Since cutting by dicing uses a circular rotary blade, the contact width tends to be widened, and the contact width increases as the cutting depth increases. For this reason, as shown in FIG. 9, the dicing blade 90 originally cuts even when an inclined end face is formed only on a specific optical waveguide when a plurality of optical waveguides are formed in a narrow region. In addition to the optical waveguide 91 that should be cut, the optical waveguides 92 and 93 that should not be cut are also cut. In this way, when cutting by dicing is used, it is difficult to perform fine processing such as precisely cutting only a limited area and forming an inclined end face accurately only on a specific optical waveguide. there were.

また、ダイシングによる切削加工によれば、図１０に示すようにダイシングブレード９０の進行方向が矢印方向の一方向に制限されてしまう。そのために、互いに垂直に配設されるような複数の光導波路（図１０におけるＡとＢ）にそれぞれミラーを形成するような場合には、一旦、処理対象を取り外して、９０度方向に向きを変更してセットした後に、新たに切削加工を開始する必要があり、切削効率が悪いという問題があった。   Moreover, according to the cutting process by dicing, the advancing direction of the dicing blade 90 is limited to one direction of the arrow as shown in FIG. Therefore, when forming a mirror in each of a plurality of optical waveguides (A and B in FIG. 10) arranged perpendicularly to each other, the object to be processed is once removed and oriented in the direction of 90 degrees. After changing and setting, there is a problem that it is necessary to newly start cutting, and cutting efficiency is poor.

本発明は上記課題を解決すべく、目的とする傾斜端面形成部のみに正確に、且つ効率よく傾斜端面を形成することができる、傾斜端面を有する光導波路の製造方法を提供することを目的とする。   In order to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface, which can accurately and efficiently form an inclined end surface only on a target inclined end surface forming portion. To do.

本発明の傾斜端面を有する光導波路の製造方法は、光導波路中の傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、先端部分に所定の傾斜面を有するルータービットを該光導波路に対して略垂直方向に切削させながら侵入させる工程と、前記侵入させたルータービットの高さを維持しながら光導波路の長手方向に対して垂直方向に走査することにより傾斜端面を形成する工程とを備える。このような構成によれば、図１に示すように、所定の傾斜面３aを有する先端部分を備えた矢印方向に回転するルータービット３を基材１０上に形成された光導波路１の所定の傾斜端面を形成しようとする領域に侵入させ、その高さを維持しながら水平方向（図１中の白抜矢印方向）に走査することにより、目的とする傾斜端面形成部のみに正確に傾斜端面を形成することができる。また、ルータービットは図２の矢印で示すように、２次元方向に自由に可動しうるために、例えば、互いに異なる角度を持って配置されたような複数の光導波路（図２におけるＡ、Ｂ、Ｃ）にそれぞれ傾斜端面を形成するような場合には、ダイシングによる切削加工を用いる場合のように、処理対象を取り外して方向を変えてセットしなおすことなく、連続的に効率よく傾斜端面を形成することができる。   The method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface according to the present invention is a method in which a router bit having a predetermined inclined surface at a tip portion is substantially perpendicular to the optical waveguide from above a region where the inclined end surface is to be formed in the optical waveguide. And a step of forming an inclined end surface by scanning in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the optical waveguide while maintaining the height of the penetrated router bit. According to such a configuration, as shown in FIG. 1, the router bit 3 having a tip portion having a predetermined inclined surface 3a and rotating in the direction of the arrow has a predetermined optical waveguide 1 formed on the base material 10. By intruding into the region where the inclined end face is to be formed and scanning in the horizontal direction (in the direction of the white arrow in FIG. 1) while maintaining its height, the inclined end face is accurately applied only to the target inclined end face forming portion. Can be formed. Further, since the router bit can freely move in a two-dimensional direction as indicated by an arrow in FIG. 2, for example, a plurality of optical waveguides (A, B in FIG. 2) arranged at different angles from each other. In the case where the inclined end faces are respectively formed in C, C), the inclined end faces are continuously and efficiently removed without removing the object to be processed and changing the direction as in the case of using cutting by dicing. Can be formed.

また、前記ルータービットを侵入させる工程が、前記光導波路表面から所定の切削深さＤだけ侵入させる工程である場合には、前記傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近に、該ルータービットにより窪みを形成する工程と、該窪みの開口径Ｗを計測する工程と、該窪みの深さＤ０を、計測された開口径Ｗに基づいて該ルータービットの先端部分の径と高さとの関係から特定する工程と、該窪みを形成したときのルータービットの基準座標Ｚ０に基づいて求められる、高さ方向の終点座標Ｚ１＝Ｚ０−（Ｄ−Ｄ０）の位置までルータービットを侵入させる工程とを備えることが好ましい。光導波路が、例えば、フレキシブルプリント配線基板に用いられるようなフィルム基材上に形成されているような場合には、切削ステージに処理対象を正確にセットしたとしても、フィルム基材のわずかな撓み等によりズレが生じて、フィルム面内の各点の表面の高さが均一にならないことが多い。このような場合においては、図３（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近にルータービット３を切削しながら侵入させて窪み３１を形成し、（図３（Ａ）、（Ｂ））、その開口径Ｗを測定することにより、ルータービットの先端部分における径と高さとの関係から窪みの深さＤ０を算出することができる（図３（Ｃ））。そして、窪みを形成したときのルータービットの基準座標Ｚ０を基準として、そこから所定の距離（Ｄ−Ｄ０）だけルータービットをさらに侵入させることにより正確な深さで傾斜端面を形成することができる。また、図７に示すように、略平行に配設されたような複数の光導波路７０ａ〜７０ｅにルータービットを横断的に走査することにより互いに略一列に配置されるような傾斜端面７１ａ〜７１ｅを各光導波路に形成するような場合においては、複数の光導波路のうちの少なくとも２つの光導波路における前記終点座標（Ｚ１）をそれぞれ特定し、特定された複数の終点座標Ｚ１を結ぶようにルータービットを横断的に水平方向に走査させることにより複数の光導波路それぞれに容易且つ正確に傾斜端面を形成することができる。   Further, when the step of intruding the router bit is a step of intruding by a predetermined cutting depth D from the surface of the optical waveguide, the router bit is placed near the center of the region where the inclined end surface is to be formed. The step of forming the depression, the step of measuring the opening diameter W of the depression, and the depth D0 of the depression based on the relationship between the diameter and height of the tip of the router bit based on the measured opening diameter W A step of specifying, and a step of intruding the router bit to the position of the end point coordinate Z1 = Z0− (D−D0) in the height direction, which is obtained based on the reference coordinate Z0 of the router bit when the depression is formed It is preferable to provide. For example, when the optical waveguide is formed on a film base material used for a flexible printed wiring board, even if the processing target is accurately set on the cutting stage, the film base material is slightly bent. In many cases, the surface of each point in the film plane does not become uniform due to misalignment. In such a case, as shown in FIGS. 3 (A) to (C), the router bit 3 is inserted into the vicinity of the center of the region where the inclined end face is to be formed while being cut to form the recess 31 ( 3 (A) and 3 (B)), by measuring the opening diameter W, the depth D0 of the depression can be calculated from the relationship between the diameter and the height at the tip of the router bit (FIG. 3C )). The inclined end face can be formed with an accurate depth by further intruding the router bit by a predetermined distance (D-D0) from the reference coordinate Z0 of the router bit when the recess is formed. . Further, as shown in FIG. 7, inclined end faces 71a to 71e that are arranged in a substantially line with each other by scanning the router bits across a plurality of optical waveguides 70a to 70e arranged substantially in parallel. Is formed in each optical waveguide, the end point coordinates (Z1) in at least two of the plurality of optical waveguides are respectively specified, and the router is connected so as to connect the plurality of specified end point coordinates Z1. By making the bit scan across the horizontal direction, an inclined end face can be easily and accurately formed in each of the plurality of optical waveguides.

また、形成されたミラー面に対しては、エネルギー線を照射して溶融させること、または、樹脂コーティングすることにより平滑化処理を行うことが、ミラーとして好ましく用いられうる、高い反射率を有する傾斜端面が得られる点から好ましい。   In addition, the formed mirror surface can be preferably used as a mirror by performing an energy ray irradiation and melting, or performing a smoothing process by resin coating. This is preferable because an end face can be obtained.

また、別のミラー面を有する光導波路の製造方法としては、基材表面に第１クラッド層を形成する第１工程と、前記第１クラッド層表面にコア部を形成する第２工程と、前記コア部に傾斜端面を形成する第３工程と、前記コア部を埋設するように第２クラッド層を形成する第４工程とを順に含む傾斜端面を有する光導波路の製造方法であって、前記第３工程が、傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、先端部分に所定の傾斜面を有するルータービットを該コア部に対して略垂直方向に切削させながら侵入させる工程と、前記侵入させたルータービットの高さを維持しながら該コア部の長手方向に対して垂直方向に走査することにより傾斜端面を形成する工程と、を備えることを特徴とする。コア部を被覆するように第２クラッド層を形成する場合においては、図４に示すように表面高さが不均一になる。このような表面高さの不均一さにより、コア部にルータービットを正確な深さで侵入させることが困難な場合がある。本方法によれば、第２クラッド層を形成する前に直接コア部に傾斜端面を形成することができるために、第２クラッド層を形成することによる表面高さの不均一さを考慮することなく、高い位置精度でコア部に傾斜端面を形成することができる。また、第２クラッド層を切削する必要がないために、ルータービットの寿命が延び、また、切削屑も大幅に低減できる。さらに、傾斜端面を形成した後に第２クラッドを形成することにより、傾斜端面が第２クラッド層で保護されるために、別工程として傾斜端面を保護するようなプロセスを追加する必要がなくなる点からも好ましい。   In addition, as a method of manufacturing an optical waveguide having another mirror surface, a first step of forming a first cladding layer on the surface of a substrate, a second step of forming a core portion on the surface of the first cladding layer, A method for manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface, which includes a third step of forming an inclined end surface in a core portion and a fourth step of forming a second cladding layer so as to embed the core portion. The three steps are a step of intruding a router bit having a predetermined inclined surface at the tip portion from above the region where the inclined end surface is to be formed while cutting in a substantially vertical direction with respect to the core portion; Forming an inclined end face by scanning in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the core part while maintaining the height of the router bit. In the case where the second cladding layer is formed so as to cover the core portion, the surface height becomes nonuniform as shown in FIG. Due to the unevenness of the surface height, it may be difficult to allow the router bit to enter the core portion with an accurate depth. According to this method, since the inclined end face can be formed directly on the core portion before forming the second cladding layer, the nonuniformity of the surface height due to the formation of the second cladding layer is taken into consideration. In addition, the inclined end face can be formed on the core portion with high positional accuracy. In addition, since it is not necessary to cut the second cladding layer, the life of the router bit is extended, and cutting waste can be greatly reduced. Furthermore, since the inclined end face is protected by the second cladding layer by forming the second cladding after forming the inclined end face, there is no need to add a process for protecting the inclined end face as a separate step. Is also preferable.

本発明によれば、光導波路の目的とする傾斜端面の形成領域のみに傾斜端面を形成することができる。また、互いに異なる角度を持って配設されるような複数の光導波路に、それぞれ傾斜端面を形成するような場合にも、ダイシングによる切削加工を用いる場合のように処理対象を取り外して方向を変えてセットしなおすことなく、連続して効率よく傾斜端面を形成することができる。   According to the present invention, the inclined end face can be formed only in the target inclined end face forming region of the optical waveguide. Also, even when inclined end surfaces are formed in a plurality of optical waveguides that are arranged at different angles, the processing object is removed and the direction is changed as in the case of using cutting by dicing. The inclined end face can be formed continuously and efficiently without re-setting.

［第１実施形態］
本発明に係る傾斜端面を有する光導波路の製造方法の一実施形態を図面を参照しながら詳しく説明する。 [First Embodiment]
An embodiment of a method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end face according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図５は本発明に係る製造方法の一実施形態を説明するための工程図であり、両末端にミラーとして用いられる傾斜端面２を有する平板型光導波路１の製造工程を模式的に示している。図５（Ａ）〜（Ｅ）中、２は傾斜端面、３はルータービット、１０は基材、１１は下部クラッド層（第１クラッド層）、１２はコア部、１３は上部クラッド層（第２クラッド層）、２０は切欠き溝である。   FIG. 5 is a process diagram for explaining an embodiment of the manufacturing method according to the present invention, and schematically shows a manufacturing process of a flat optical waveguide 1 having inclined end surfaces 2 used as mirrors at both ends. . 5A to 5E, 2 is an inclined end face, 3 is a router bit, 10 is a base material, 11 is a lower cladding layer (first cladding layer), 12 is a core portion, and 13 is an upper cladding layer (first cladding layer). 2 cladding layers) and 20 are notched grooves.

本製造工程においては、はじめに基材１０上に下部クラッド層１１が形成される（図５（Ａ））。   In this manufacturing process, first, the lower clad layer 11 is formed on the base material 10 (FIG. 5A).

基材１０としては、各種有機基材や無機基材が特に限定なく用いられる。有機基材の具体例としては、エポキシ基材、アクリル基材、ポリカーボネート基材、ポリイミド基材等が挙げられ、無機基材としては、シリコン基材やガラス基材等が挙げられる。また、基材上に予め回路が形成されたプリント回路基材のようなものを用いてもよい。   As the substrate 10, various organic substrates and inorganic substrates are used without particular limitation. Specific examples of the organic substrate include an epoxy substrate, an acrylic substrate, a polycarbonate substrate, and a polyimide substrate, and examples of the inorganic substrate include a silicon substrate and a glass substrate. Moreover, you may use a thing like the printed circuit base material by which the circuit was previously formed on the base material.

下部クラッド層１１の形成方法としては、基材１０の表面に、下部クラッド層１１を形成するための所定の屈折率を有する硬化性樹脂材料からなる樹脂フィルムを貼り合せた後、硬化させる方法や、下部クラッド層１１を形成するための液状の硬化性樹脂材料を塗布した後、硬化させる方法等が挙げられる。   As a method for forming the lower clad layer 11, a method in which a resin film made of a curable resin material having a predetermined refractive index for forming the lower clad layer 11 is bonded to the surface of the substrate 10 and then cured, For example, a method of applying a liquid curable resin material for forming the lower cladding layer 11 and then curing it may be used.

下部クラッド層１１を形成するための硬化性樹脂材料としては、コア部１２を形成するための硬化性樹脂材料よりも導波光の伝送波長における屈折率が低いものが用いられ、その伝送波長における屈折率としては、例えば、１．５〜１．５４程度のものが挙げられる。このような硬化性樹脂材料としては、上記のような屈折率を有する、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。   As the curable resin material for forming the lower cladding layer 11, a material having a lower refractive index at the transmission wavelength of the guided light than the curable resin material for forming the core portion 12 is used. As a rate, the thing of about 1.5-1.54 is mentioned, for example. Examples of such curable resin materials include epoxy resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyimide resins, and the like having the above-described refractive index.

下部クラッド層１１の厚みは特に限定されないが、例えば、５〜１５μｍ程度であることが好ましい。   Although the thickness of the lower clad layer 11 is not specifically limited, For example, it is preferable that it is about 5-15 micrometers.

下部クラッド層１１を形成する具体的な方法としては、例えば、以下のような方法が用いられる。   As a specific method for forming the lower cladding layer 11, for example, the following method is used.

はじめに、基材１０表面に下部クラッド層１１を形成するための硬化性樹脂材料からなる樹脂フィルムを重ねるように載置した後、加熱プレスにより貼り合せる。そして、貼り合せられた樹脂フィルムに光を照射すること、または、加熱することにより硬化させる。また、下部クラッド層１１を形成するための液状の硬化性樹脂材料を塗布した後、硬化させる方法としては、基材１０表面に液状の硬化性樹脂材料または硬化性樹脂材料のワニスを、スピンコート法、バーコート法、又は、ディップコート法等を用いて塗布した後、光を照射すること、または加熱により硬化させる方法が用いられる。   First, a resin film made of a curable resin material for forming the lower clad layer 11 is placed on the surface of the base material 10 so as to be stacked, and then bonded by a hot press. And it hardens | cures by irradiating light to the bonded resin film, or heating. Further, as a method of curing after applying a liquid curable resin material for forming the lower clad layer 11, a liquid curable resin material or a varnish of a curable resin material is spin-coated on the surface of the substrate 10. For example, a method of irradiating with light or curing by heating after coating using a method, a bar coating method, a dip coating method or the like is used.

次に、形成された下部クラッド層１１上にコア部１２を形成する（図５（Ｂ））。   Next, the core portion 12 is formed on the formed lower clad layer 11 (FIG. 5B).

コア部１２の形成方法としては、下部クラッド層１１の外表面に、コア部１２を形成するための所定の屈折率を有する硬化性樹脂材料からなる樹脂フィルムを貼り合せた後、又はコア部１２を形成するための液状の硬化性樹脂材料を塗布した後、フォトマスクを介してコア部１２を形成させる部分のみを選択的に露光して硬化させる方法等が用いられる。   As a method for forming the core portion 12, a resin film made of a curable resin material having a predetermined refractive index for forming the core portion 12 is bonded to the outer surface of the lower cladding layer 11, or the core portion 12. After applying a liquid curable resin material for forming the film, a method of selectively exposing and curing only a portion where the core portion 12 is formed through a photomask is used.

コア部１２を形成するための硬化性樹脂材料としては、下部クラッド層１１の材料よりも導波光の伝送波長における屈折率が高いものが用いられ、その伝送波長における屈折率としては、例えば、１．５４〜１．６程度のものが挙げられる。このような硬化性樹脂材料の種類としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。   As the curable resin material for forming the core portion 12, a material having a higher refractive index at the transmission wavelength of the guided light than the material of the lower cladding layer 11 is used. The refractive index at the transmission wavelength is, for example, 1 The thing of about .54-1.6 is mentioned. Examples of such curable resin materials include epoxy resins, acrylic resins, polycarbonate resins, and polyimide resins.

コア部１２の厚みは特に限定されないが、例えば、２０〜１００μｍ程度であることが好ましい。   Although the thickness of the core part 12 is not specifically limited, For example, it is preferable that it is about 20-100 micrometers.

選択的露光は、従来から知られたフォトマスクを介して、光硬化性樹脂材料を硬化させうる波長の光を硬化に必要な光量で露光する方法であれば、特に限定なく用いられうる。   The selective exposure can be used without particular limitation as long as it is a method of exposing light having a wavelength capable of curing the photo-curable resin material with a light amount necessary for curing through a conventionally known photomask.

コア部の選択的露光が行われた後、現像処理を行うことにより、図５（Ｂ）に示すようなコア部１２が形成される。現像処理は、ポジ形の場合には露光処理されなかった部分、ネガ型の場合には露光処理された部分を現像液で洗い流すことにより、不要な部分を除去する処理である。現像液としては、例えば、アセトンやイソプロピルアルコール、トルエン、エチレングリコール、または、これらを所定割合で混合させたもの等が挙げられる。さらに、例えば、特開２００７−２９２９６４号公報で開示されているような水系の現像液も好ましく用いられうる。現像方法としてはスプレーにより噴射する方法、超音波洗浄を利用する方法等が挙げられる。   After the core portion is selectively exposed, the development processing is performed to form the core portion 12 as shown in FIG. The development process is a process of removing unnecessary portions by washing away a portion that has not been exposed in the case of a positive type and a portion that has been exposed in the case of a negative type with a developing solution. Examples of the developer include acetone, isopropyl alcohol, toluene, ethylene glycol, or a mixture of these at a predetermined ratio. Further, for example, an aqueous developer as disclosed in JP-A-2007-292964 can be preferably used. Examples of the developing method include a method of spraying and a method using ultrasonic cleaning.

次に、コア部１２を被覆するように上部クラッド層（第２クラッド層）１３を形成することにより光導波路１が形成される（図５（Ｃ））。   Next, an optical waveguide 1 is formed by forming an upper clad layer (second clad layer) 13 so as to cover the core portion 12 (FIG. 5C).

上部クラッド層１３の形成方法としては、コア部１２を埋設するように、上部クラッド層１３を形成するための液状の硬化性樹脂材料を塗布した後、硬化させる方法や、上部クラッド層１３を形成するための所定の屈折率を有する硬化性樹脂材料からなる樹脂フィルムを貼り合せた後、硬化させる方法等が挙げられる。   As a method for forming the upper clad layer 13, a liquid curable resin material for forming the upper clad layer 13 is applied and then cured so as to embed the core 12, or the upper clad layer 13 is formed. For example, there may be mentioned a method in which a resin film made of a curable resin material having a predetermined refractive index is cured and then cured.

上部クラッド層１３を形成するための硬化性樹脂材料としては、コア部１２の材料よりも導波光の伝送波長における屈折率が低い硬化性樹脂材料であれば特に限定なく用いられ、通常は、下部クラッド層１１の材料と同様の硬化性樹脂材料が用いられる。   The curable resin material for forming the upper cladding layer 13 is not particularly limited as long as it is a curable resin material having a lower refractive index at the transmission wavelength of the guided light than the material of the core portion 12. A curable resin material similar to the material of the cladding layer 11 is used.

また、上部クラッド層１３の厚みも特に限定されないが、下部クラッド層１１の厚みと同程度の厚みであることが好ましい。   Further, the thickness of the upper cladding layer 13 is not particularly limited, but is preferably about the same as the thickness of the lower cladding layer 11.

このような工程を経て、図５（Ｃ）に示すような光導波路１が形成される。   Through such steps, the optical waveguide 1 as shown in FIG. 5C is formed.

次に、形成された光導波路１の傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、所定の傾斜面を有する先端部分を備えたルータービット３を、該先端部分の先端が所定の高さに位置するように該光導波路に略垂直に侵入させて切削深さＤだけ切削し、侵入されたルータービット３を略水平方向に走査することにより傾斜端面が形成される（図５（Ｄ）、（Ｅ））。   Next, a router bit 3 having a tip portion having a predetermined inclined surface is positioned above a region where the inclined end surface of the formed optical waveguide 1 is to be formed, and the tip of the tip portion is positioned at a predetermined height. In this manner, the inclined end face is formed by penetrating the optical waveguide substantially vertically and cutting it by the cutting depth D and scanning the penetrated router bit 3 in the substantially horizontal direction (FIG. 5D, (D)). E)).

ルータービットの先端部分は、図６（Ａ）または図６（Ｂ）に示すように、所定の傾斜面３ａを有する。この傾斜面の傾斜角により形成される傾斜端面の角度が調整される。なお、４５度ミラーを形成する場合には、通常、４５度の傾斜面を有するものが用いられる。また、ルータービットの先端部が、図６（Ｂ）に示すような平坦部３ｂを有する断面形状のものを用いた場合には、摩耗によるルータービット先端の形状崩れを抑えることができる点から好ましい。   The tip portion of the router bit has a predetermined inclined surface 3a as shown in FIG. 6 (A) or FIG. 6 (B). The angle of the inclined end surface formed by the inclination angle of the inclined surface is adjusted. In addition, when forming a 45 degree | times mirror, what has a 45 degree inclined surface is used normally. In addition, when the end portion of the router bit has a cross-sectional shape having a flat portion 3b as shown in FIG. 6B, it is preferable because the shape of the end portion of the router bit due to wear can be suppressed. .

なお、光導波路は通常、基材上に形成されている。基材として、例えば、フレキシブルプリント配線基板に用いられるような薄いフィルムを基材とする場合には、切削ステージに処理対象を正確にセットしたとしても、フィルムのわずかな撓みにより処理対象の表面の高さにわずかなズレが生じる。このような場合には、加工領域全体において正確な表面高さを把握することが困難である。また、図４に示すように上部クラッド層の形成時にも表面高さに不均一さが生じる。このような場合においては、図３に示すように、傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近にルータービットを用いて窪み３１を形成した後、窪み３１の開口径Ｗを測定することにより、図６に示すようにルータービットの先端部分の径Ｗ１と高さＨとの関係から窪みの深さＤ０を算出することができる。そして、窪み３１を形成したときのルータービットの基準座標がＺ０である場合に、基準座標Ｚ０から、所定の距離（Ｄ―Ｄ０）だけルータービットを侵入させることにより切削深さＤの傾斜端面を正確に形成することができる。より具体的には、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に示すように、ルータービットにより、傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近に、所定の切削深さＤよりも浅い深さの窪み３１を形成する。そして、この時点におけるルータービット３の高さ方向の基準座標Ｚ０を特定する。一方、窪み３１の開口径Ｗを計測し、開口径Ｗに基づいて窪み３１の深さＤ０を求める。深さＤ０は、図６に示すように、ルータービットの先端部分の径Ｗ１が開口径Ｗと同じときの、ルータービットの高さＨから特定することができる。そして、切削深さＤを得るために、ルータービット３を高さ方向の終点座標Ｚ１（Ｚ１＝Ｚ０−（Ｄ−Ｄ０））の位置まで侵入させる。そして、終点座標Ｚ１を維持しながら、ルータービットを略水平方向に走査させることにより、切削深さＤの切込みを正確に形成することができる。なお、窪み３１の深さＤ０は特に限定されないが、例えば、所定の切削深さＤに対して１／６〜２／３程度、好ましくは１／３〜１／２程度であることが好ましい。具体的には、切削深さＤが９０μｍの場合には、Ｄ０は６０μｍ以下程度であることが好ましい。このように、終点座標Ｚ１を特定して切削処理することにより、精度良く傾斜端面を形成することができる。このような方法によれば、例えば、ルータービットをコア部１２を越えて下部クラッド層１１にまで到達させたくないような場合にも精度よく切削することができる。また、傾斜端面２の水平位置精度は、切り込み深さの影響を受けるために、数ミクロンレベルの高精度な位置決め加工が実現できる。   The optical waveguide is usually formed on a base material. As a base material, for example, when a thin film used for a flexible printed circuit board is used as a base material, even if the processing target is accurately set on the cutting stage, the surface of the processing target is slightly deformed by the film. A slight deviation occurs in the height. In such a case, it is difficult to grasp the accurate surface height in the entire processing region. Also, as shown in FIG. 4, the surface height is non-uniform when the upper cladding layer is formed. In such a case, as shown in FIG. 3, after forming the depression 31 using the router bit in the vicinity of the center of the region where the inclined end face is to be formed, by measuring the opening diameter W of the depression 31, As shown in FIG. 6, the depth D0 of the dent can be calculated from the relationship between the diameter W1 and the height H of the tip portion of the router bit. Then, when the reference coordinate of the router bit when the recess 31 is formed is Z0, the inclined end face having the cutting depth D is formed by intruding the router bit by a predetermined distance (D-D0) from the reference coordinate Z0. It can be formed accurately. More specifically, as shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B), a depth smaller than the predetermined cutting depth D near the center of the region where the inclined end face is to be formed by the router bit. The recess 31 is formed. Then, the reference coordinate Z0 in the height direction of the router bit 3 at this time is specified. On the other hand, the opening diameter W of the depression 31 is measured, and the depth D0 of the depression 31 is obtained based on the opening diameter W. As shown in FIG. 6, the depth D0 can be specified from the height H of the router bit when the diameter W1 of the tip portion of the router bit is the same as the opening diameter W. Then, in order to obtain the cutting depth D, the router bit 3 is inserted to the position of the end point coordinate Z1 (Z1 = Z0− (D−D0)) in the height direction. Further, by cutting the router bit in the substantially horizontal direction while maintaining the end point coordinate Z1, it is possible to accurately form the cut of the cutting depth D. The depth D0 of the recess 31 is not particularly limited. For example, it is preferably about 1/6 to 2/3, preferably about 1/3 to 1/2 with respect to the predetermined cutting depth D. Specifically, when the cutting depth D is 90 μm, D0 is preferably about 60 μm or less. Thus, by specifying the end point coordinate Z1 and performing the cutting process, the inclined end face can be formed with high accuracy. According to such a method, for example, even when it is not desired that the router bit reaches the lower cladding layer 11 beyond the core portion 12, cutting can be performed with high accuracy. Further, since the horizontal position accuracy of the inclined end surface 2 is affected by the depth of cut, a highly accurate positioning process on the order of several microns can be realized.

なお、図７に示すように、所定の間隔で略平行に並んでいる複数の光導波路７０ａ〜７０ｅのそれぞれに対して、一列に並ぶような位置に傾斜端面７１ａ〜７１ｅを形成する場合、上記のように、光導波路７０ａ〜７０ｅ毎に正確に高さ方向の終点座標（Ｚ１ａ〜Ｚ１ｅ）を設定し、光導波路７０ａ〜７０ｅ毎にルータービットを上下させて切削加工することは操作が煩雑になる。このような場合においては、少なくとも２つの光導波路における傾斜端面を形成しようとする領域において、切り込み深さＤを得るためのルータービット３の終点座標（Ｚ１１及びＺ１２）を特定し、特定された終点座標を結ぶようにルータービットを横断的に走査させることにより複数の光導波路それぞれに傾斜端面を形成することができる。もちろん、Ｚ１の数を増やせば、面内精度ばらつきを低減することができるが、これはスループットとのバランスで設定するとよい。 As shown in FIG. 7, when the inclined end surfaces 71 a to 71 e are formed in positions aligned in a row with respect to each of the plurality of optical waveguides 70 a to 70 e that are arranged substantially in parallel at a predetermined interval, As described above, the end point coordinates (Z1 a to Z1 e ) in the height direction are accurately set for each of the optical waveguides 70a to 70e, and the cutting is performed by moving the router bit up and down for each of the optical waveguides 70a to 70e. It becomes complicated. In such a case, the end point coordinates (Z1 1 and Z1 2 ) of the router bit 3 for obtaining the cutting depth D are specified and specified in the region where the inclined end faces of at least two optical waveguides are to be formed. The inclined end face can be formed in each of the plurality of optical waveguides by traversing the router bit so as to connect the end point coordinates. Of course, if the number of Z1 is increased, the in-plane accuracy variation can be reduced, but this may be set in balance with the throughput.

このようにして形成された傾斜端面２はそのままミラーとして用いてもよいが、傾斜端面２の反射率を高めるために、傾斜端面２の表面に対して平滑化処理を施して用いることが好ましい。このような平滑化処理により、より反射率の高いミラーとして用いられる傾斜端面が得られる。   The inclined end surface 2 formed in this way may be used as a mirror as it is, but it is preferable to use the surface of the inclined end surface 2 after smoothing it in order to increase the reflectance of the inclined end surface 2. By such a smoothing process, an inclined end face used as a mirror with higher reflectivity is obtained.

平滑化処理の具体例としては、赤外線レーザ等の各種エネルギー線を照射して表面を溶融させる方法が好ましく用いられる。ルータービットを用いて切削されたミラー面には、切削痕としての微細な凹凸がミクロン〜サブミクロンのオーダーで存在している。このような切削痕は光の乱反射の原因にもなる。平滑化処理により、このような微細な凹凸を消失させることができる。   As a specific example of the smoothing treatment, a method of melting the surface by irradiating various energy rays such as an infrared laser is preferably used. On the mirror surface cut with the router bit, fine irregularities as cutting marks are present on the order of micron to submicron. Such cutting marks also cause irregular reflection of light. Such fine irregularities can be eliminated by the smoothing treatment.

エネルギー線の照射は、非接触式に比べて装置が簡単で接触のさせ方によるばらつきもなく、またエネルギー線の照射範囲を制限することにより目的とする傾斜端面のみを処理することができる。なお、赤外線レーザは、取り扱いが容易でありながら、高密度のエネルギーを供与することができ、特に被照射面の分子振動を生じさせることにより、効率よく傾斜端面を熱溶融させることができる。高分子においては、通常、波長１０μｍ近傍に分子振動による吸収があるために、波長１０μｍ近傍の炭酸ガスレーザは特に有効であり、またコストも低い。   The energy beam irradiation is simpler than the non-contact type, has no variation depending on the contact method, and can limit only the target inclined end face by limiting the irradiation range of the energy beam. In addition, the infrared laser can provide high-density energy while being easy to handle. In particular, by causing molecular vibration of the irradiated surface, the inclined end face can be efficiently melted by heat. In a polymer, since absorption is usually caused by molecular vibration in the vicinity of a wavelength of 10 μm, a carbon dioxide laser having a wavelength of about 10 μm is particularly effective and the cost is low.

上記のエネルギー線の照射のほか、樹脂のコーティングで平滑性を上げるようにしてもよい。この場合に用いられる樹脂は、コアもしくはクラッドの形成に用いられたものと同様のものであり、屈折率が近似するものをコーティング用に適するように希釈したものが好ましく用いられる。このような場合には、下地との物性値（熱膨張率など）の適合性に優れ、また、屈折率も同等であることから、光学特性を劣化させることがない。また、希釈したものを用いることにより、コーティング作業性を良好に保つことができる。さらに必要最小限の量だけコーティングすることができるために、傾斜端面を充分に平坦化することができる。   In addition to the above-mentioned irradiation with energy rays, the smoothness may be increased by resin coating. The resin used in this case is the same as that used for the formation of the core or the clad, and a resin whose refractive index is approximated and diluted so as to be suitable for coating is preferably used. In such a case, the compatibility of the physical property values (thermal expansion coefficient, etc.) with the base is excellent, and the refractive index is also equivalent, so that the optical characteristics are not deteriorated. Also, by using a diluted one, the coating workability can be kept good. Furthermore, since it can coat only the minimum necessary amount, the inclined end face can be sufficiently flattened.

また、形成された傾斜端面２の反射率を高めることを目的として、公知の蒸着法やスパッタ法、ナノペースト法などの方法を用いて、傾斜端面２の表面に金属や誘電体多層膜等からなる反射膜を形成してもよい。このような反射膜を形成することにより、全反射では不可能な特定の方向に対する反射を行うこともできるものとなる。   Further, for the purpose of increasing the reflectivity of the formed inclined end face 2, the surface of the inclined end face 2 is made of a metal, a dielectric multilayer film, or the like by using a known vapor deposition method, sputtering method, nano paste method or the like. A reflective film may be formed. By forming such a reflective film, it is possible to perform reflection in a specific direction that is impossible by total reflection.

なお、一例として、図６（Ａ）で示したような形状のルータービット（ＲＦＤＡＭ ３１７５ ０９０ ケンマージャパン（株）製）を用いて４５度のミラー面（傾斜端面）を形成した後、このミラー面の法線方向から、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ（波長９．８μｍ）をエネルギー密度９ｍｊ／ｍｍ2、照射エリア１００μｍ□、照射パルス数４、パルス幅９．３μｓ、繰り返し周波数１００Ｈｚの条件で照射したところ、ミラー面の面粗度は３００ｎｍ（ｒｍｓ）から１００ｎｍ（ｒｍｓ）に向上した。また、上記のように平滑化処理されたミラー面に金を蒸着することにより反射膜を形成した後、ミラー面における損失評価をしたところ、波長８５０μｍで１．２ｄＢであった。なお、損失評価は、ミラー面の形成位置より１ｃｍ内側の導波路位置で切断研磨し、ミラー面から光を入射させ、切り出し端面から出射させたときの反射損失を評価した。 As an example, a mirror bit (inclined end surface) of 45 degrees is formed using a router bit (RFDAM 3175 090 Kenmer Japan Co., Ltd.) having a shape as shown in FIG. From the normal direction of the surface, a TEA-CO 2 laser (wavelength: 9.8 μm) was irradiated under the conditions of an energy density of 9 mj / mm 2 , an irradiation area of 100 μm □, an irradiation pulse number of 4, a pulse width of 9.3 μs, and a repetition frequency of 100 Hz. However, the surface roughness of the mirror surface was improved from 300 nm (rms) to 100 nm (rms). Moreover, after forming a reflective film by vapor-depositing gold on the mirror surface smoothed as described above, the loss evaluation on the mirror surface was 1.2 dB at a wavelength of 850 μm. The loss evaluation was performed by cutting and polishing at a waveguide position 1 cm inward from the mirror surface formation position, and evaluating reflection loss when light was incident from the mirror surface and emitted from the cut end face.

エネルギー線の照射は、上述のように傾斜端面の法線方向から行うことにより、最も強いエネルギー密度での照射を行うことができる。この場合には、エネルギー効率が高く、また、傾斜端面以外の部分においてはエネルギー密度が低くなるために、周囲への影響を小さくすることができる。また、光導波路そのものの法線方向から照射してもよい。この場合には、エネルギー線照射に際しての設備を簡略化することができる。   Irradiation of energy rays can be performed at the strongest energy density by performing from the normal direction of the inclined end face as described above. In this case, the energy efficiency is high, and the energy density is low in a portion other than the inclined end face, so that the influence on the surroundings can be reduced. Moreover, you may irradiate from the normal line direction of optical waveguide itself. In this case, facilities for energy beam irradiation can be simplified.

また、別の例としては、上記と同様のミラー面に、ＰＧＭＥＡ（プロピレン・グリコール・モノメチルエーテル・アセテート）であるコア部形成用硬化性樹脂材料を２質量％の濃度に希釈したワニス中に浸漬し、ワニス中から引き上げた後、ミラー面に付着したＰＧＭＥＡを紫外線硬化させることによる、コーティング層を形成した場合、ミラー面の面粗度が３００ｎｍ（ｒｍｓ）から６２ｎｍ（ｒｍｓ）に向上した。そして平滑化処理後、金蒸着により反射膜が形成されたミラー面の損失評価を行ったところ、波長８５０ｎｍの場合では、１．０ｄＢであった。   As another example, the core surface forming curable resin material, which is PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate), is immersed in a varnish diluted to a concentration of 2% by mass on the same mirror surface as described above. When the coating layer was formed by UV curing the PGMEA adhering to the mirror surface after pulling up from the varnish, the surface roughness of the mirror surface was improved from 300 nm (rms) to 62 nm (rms). After the smoothing treatment, loss evaluation of the mirror surface on which the reflective film was formed by gold vapor deposition was performed. As a result, it was 1.0 dB in the case of the wavelength of 850 nm.

［第２実施形態］
第２実施形態においては、光導波路を形成した後ミラー面を形成する代わりに、光導波路の形成過程においてコア部の形成後、コア部をクラッド層で被覆する前にミラー面を形成する、本発明に係る製造方法について説明する。なお、第１実施形態と共通する部分については、詳細な説明は省略する。 [Second Embodiment]
In the second embodiment, instead of forming the mirror surface after forming the optical waveguide, the mirror surface is formed after the core portion is formed in the optical waveguide formation process and before the core portion is covered with the cladding layer. The manufacturing method according to the invention will be described. Detailed description of portions common to the first embodiment will be omitted.

図８は第２実施形態の製造方法を説明するための工程図である。図８中、８２は傾斜端面、３はルータービット、１０は基材、１１は下部クラッド層（第１クラッド層）、１２はコア部、１３は上部クラッド層（第２クラッド層）、３０は切欠き溝である。   FIG. 8 is a process diagram for explaining the manufacturing method of the second embodiment. In FIG. 8, 82 is an inclined end face, 3 is a router bit, 10 is a base material, 11 is a lower cladding layer (first cladding layer), 12 is a core portion, 13 is an upper cladding layer (second cladding layer), and 30 is It is a notch groove.

本製造工程においては、はじめに基材１０上に下部クラッド層１１が形成される（図８（Ａ））。次に、形成された下部クラッド層１１上にコア部１２を形成する（図８（Ｂ））。本工程までは第１実施形態と同様の方法で行うことができる。   In this manufacturing process, first, the lower clad layer 11 is formed on the base material 10 (FIG. 8A). Next, the core part 12 is formed on the formed lower clad layer 11 (FIG. 8B). The process up to this step can be performed by the same method as in the first embodiment.

そして、形成されたコア部１２の傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、第一実施形態で用いたのと同様の、先端部分に所定の傾斜面を有するルータービットをコア部に対して略垂直方向に切削させながら侵入させ、侵入させたルータービットの高さを維持しながら光導波路の長手方向に対して垂直方向に走査することにより傾斜端面８２を形成する（図８（Ｃ）（Ｄ））。そして、形成された傾斜端面には、第１実施形態と同様にして、必要に応じて平滑化処理や反射膜形成処理を施してもよい。   Then, from above the region where the inclined end surface of the formed core portion 12 is to be formed, a router bit having a predetermined inclined surface at the tip portion is used with respect to the core portion, similar to that used in the first embodiment. The inclined end face 82 is formed by intrusion while cutting in a substantially vertical direction, and scanning in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the optical waveguide while maintaining the height of the entered router bit (FIG. 8C). D)). Then, the formed inclined end face may be subjected to a smoothing process or a reflective film forming process as necessary, similarly to the first embodiment.

最後に、傾斜端面８２が形成されたコア部１２を被覆するように上部クラッド層（第２クラッド層）１３を形成することにより光導波路８１が形成される（図８（Ｅ））。   Finally, the optical waveguide 81 is formed by forming the upper clad layer (second clad layer) 13 so as to cover the core 12 on which the inclined end face 82 is formed (FIG. 8E).

第２実施形態の製造方法においては、傾斜端面８２の形成が第２クラッド層１３で覆われていない状態のコア部１２に対して直接行われる。このようにコア部１２に対して直接傾斜端面８２を形成する場合には、次のような利点がある。すなわち、コア部を被覆するように第２クラッド層を形成する場合においては、図４に示すように第２クラッド層１３の表面高さが不均一になる。このような表面高さの不均一さにより、コア部１２にルータービットを正確な深さで侵入させることが困難な場合がある。本製造方法によれば、第２クラッド層１３を形成する前に直接コア部１２に傾斜端面を形成することができるために、第２クラッド層１３の表面高さの不均一さを考慮することなく、高い位置精度でコア部１２に傾斜端面を形成することができる。また、第２クラッド層１３を切削する必要がないために、ルータービットの寿命が延び、また、切削屑も大幅に低減できる。さらに、傾斜端面を形成した後に第２クラッドを形成することにより、傾斜端面が第２クラッド層で保護されるために、別工程として傾斜端面を保護するようなプロセスを追加する必要がなくなる点からも好ましい。   In the manufacturing method of the second embodiment, the inclined end face 82 is formed directly on the core portion 12 that is not covered with the second cladding layer 13. In this way, when the inclined end face 82 is directly formed on the core portion 12, the following advantages are obtained. That is, when the second cladding layer is formed so as to cover the core portion, the surface height of the second cladding layer 13 becomes nonuniform as shown in FIG. Due to such uneven surface height, it may be difficult to allow the router bit to enter the core portion 12 at an accurate depth. According to this manufacturing method, since the inclined end face can be formed directly on the core portion 12 before the second cladding layer 13 is formed, the unevenness of the surface height of the second cladding layer 13 is taken into consideration. In addition, the inclined end face can be formed on the core portion 12 with high positional accuracy. In addition, since it is not necessary to cut the second cladding layer 13, the life of the router bit is extended and cutting waste can be greatly reduced. Furthermore, since the inclined end face is protected by the second cladding layer by forming the second cladding after forming the inclined end face, there is no need to add a process for protecting the inclined end face as a separate step. Is also preferable.

以上本発明について、光導波路が基材上にコア部をクラッド層に埋設するようにして形成された平板型のものを代表例として詳しく説明したが、本発明は基材上に光ファイバーを固定したようなタイプのものにも限定なく適用することができる。   Although the present invention has been described in detail as a representative example of a flat plate type in which the optical waveguide is formed so that the core portion is embedded in the clad layer on the base material, the present invention fixes the optical fiber on the base material. The present invention can be applied to such types without limitation.

本発明の実施形態における、ルータービットによる傾斜端面の形成工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the formation process of the inclined end surface by a router bit in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、ルータービットの可動方向を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the movable direction of a router bit in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における、切り込み深さを制御する方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the method to control the cutting depth in embodiment of this invention. 基材上に形成された光導波路の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the optical waveguide formed on the base material. 本発明の第１実施形態のプロセスを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the process of 1st Embodiment of this invention. 図６（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ本発明の実施形態における、ルータービットの断面模式図である。6A and 6B are schematic cross-sectional views of router bits in the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態における、略平行に配置された複数の光導波路に一列に配置されるような複数の傾斜端面を形成する方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the method to form the some inclined end surface arrange | positioned in a line in the some optical waveguide arrange | positioned substantially parallel in embodiment of this invention. 本発明の第２実施形態のプロセスを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the process of 2nd Embodiment of this invention. ダイシングブレードによる傾斜端面の形成工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the formation process of the inclined end surface by a dicing blade. ダイシングブレードで光導波路を切り込むときの可動方向を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the movable direction when cutting an optical waveguide with a dicing blade.

符号の説明Explanation of symbols

１，７０ａ，７０ｂ，７０ｃ，７０ｄ，７０ｅ，９１，９２ 光導波路
２，７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄ，７１ｅ，８２ 傾斜端面
３ ルータービット
３a 傾斜面
３ｂ 平坦部
１０ 基材
１１ 下部クラッド層（第１クラッド層）
１２ コア部
１３ 上部クラッド層（第２クラッド層）
３０ 切り欠き溝
９０ ダイシングブレード 1, 70a, 70b, 70c, 70d, 70e, 91, 92 Optical waveguide 2, 71a, 71b, 71c, 71d, 71e, 82 Inclined end surface 3 Router bit 3a Inclined surface 3b Flat portion 10 Base material 11 Lower clad layer (first 1 clad layer)
12 Core part 13 Upper clad layer (second clad layer)
30 Notch groove 90 Dicing blade

Claims (10)

光導波路中の傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、先端部分に所定の傾斜面を有するルータービットを該光導波路に対して略垂直方向に切削させながら侵入させる工程と、前記侵入させたルータービットの高さを維持しながら光導波路の長手方向に対して垂直方向に走査することにより傾斜端面を形成する工程と、を備えること、並びに、
前記ルータービットとして、先端部分が平坦部を有する断面形状を有するルータービットを使用することを特徴とする傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 A router bit having a predetermined inclined surface at the tip portion from above the region where the inclined end surface is to be formed in the optical waveguide and entering the optical waveguide while being cut in a direction substantially perpendicular to the optical waveguide; Forming an inclined end face by scanning in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the optical waveguide while maintaining the height of the router bit , and
A method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface, wherein a router bit having a cross-sectional shape having a flat portion at a tip portion is used as the router bit . 前記ルータービットを侵入させる工程が、
前記光導波路表面から所定の切削深さＤだけ侵入させる工程であり、前記傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近に、該ルータービットにより窪みを形成する工程と、該窪みの開口径Ｗを計測する工程と、該窪みの深さＤ０を、計測された開口径Ｗに基づいて該ルータービットの先端部分の径と高さとの関係から特定する工程と、該窪みを形成したときのルータービットの基準座標Ｚ０に基づいて求められる、高さ方向の終点座標Ｚ１＝Ｚ０−（Ｄ−Ｄ０）の位置までルータービットを侵入させる工程とを備える請求項１に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 The step of intruding the router bit comprises:
A step of entering a predetermined cutting depth D from the surface of the optical waveguide, a step of forming a recess by the router bit in the vicinity of the center of the region where the inclined end surface is to be formed, and an opening diameter W of the recess A step of measuring, a step of identifying the depth D0 of the depression based on the measured opening diameter W from the relationship between the diameter and height of the tip portion of the router bit, and a router bit when the depression is formed 2. A step of intruding a router bit to a position of an end point coordinate Z1 = Z0− (D−D0) in a height direction, which is obtained based on the reference coordinate Z0, of the optical waveguide having an inclined end surface according to claim 1 Production method. 略平行に配置された複数の光導波路に前記ルータービットを横断的に走査することにより互いに略一列に配置されるような傾斜端面を各光導波路に形成する場合において、
前記複数の光導波路のうちの少なくとも２つの光導波路における前記終点座標（Ｚ１）をそれぞれ特定し、特定された終点座標を結ぶようにルータービットを横断的に、且つ、各光導波路の長手方向に対して垂直方向に走査させることにより複数の光導波路それぞれに傾斜端面を形成する請求項２に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 In the case where each optical waveguide is formed with inclined end faces that are arranged in substantially one row by scanning the router bits across a plurality of optical waveguides arranged substantially in parallel,
The end point coordinates (Z1) in at least two of the plurality of optical waveguides are respectively specified, the router bits are crossed so as to connect the specified end point coordinates, and in the longitudinal direction of each optical waveguide 3. The method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface according to claim 2, wherein the inclined end surface is formed in each of the plurality of optical waveguides by scanning in a vertical direction. 形成された傾斜端面に対して、エネルギー線を照射して溶融させることにより平滑化処理を行う工程をさらに備える請求項１〜３のいずれか１項に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。   The method for producing an optical waveguide having an inclined end surface according to any one of claims 1 to 3, further comprising a step of performing a smoothing process by irradiating and melting an energy ray on the formed inclined end surface. . 形成された傾斜端面に対して、樹脂コーティングすることにより平滑化処理を行う工程をさらに備える請求項１〜３のいずれか１項に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。   The manufacturing method of the optical waveguide which has an inclined end surface of any one of Claims 1-3 further provided with the process of performing the smoothing process by resin-coating with respect to the formed inclined end surface. 基材表面に第１クラッド層を形成する第１工程と、前記第１クラッド層表面にコア部を形成する第２工程と、前記コア部に傾斜端面を形成する第３工程と、前記コア部を埋設するように第２クラッド層を形成する第４工程とを順に含む傾斜端面を有する光導波路の製造方法であって、
前記第３工程が、傾斜端面を形成しようとする領域の上方から、先端部分に所定の傾斜面を有するルータービットを該コア部に対して略垂直方向に切削させながら侵入させる工程と、前記侵入させたルータービットの高さを維持しながら該コア部の長手方向に対して垂直方向に走査することにより傾斜端面を形成する工程と、を備えること、並びに、
前記ルータービットとして、先端部分が平坦部を有する断面形状を有するルータービットを使用することを特徴とする傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 A first step of forming a first cladding layer on the surface of the substrate; a second step of forming a core portion on the surface of the first cladding layer; a third step of forming an inclined end surface on the core portion; and the core portion A method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end face, which sequentially includes a fourth step of forming a second cladding layer so as to embed
The third step is a step of causing a router bit having a predetermined inclined surface at a tip portion to enter while cutting in a direction substantially perpendicular to the core portion from above the region where the inclined end surface is to be formed; Forming a tilted end face by scanning in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the core part while maintaining the height of the router bit , and
A method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface, wherein a router bit having a cross-sectional shape having a flat portion at a tip portion is used as the router bit . 前記ルータービットを侵入させる工程が、
前記コア部表面から所定の切削深さＤ１だけ侵入させる工程であり、前記傾斜端面を形成しようとする領域の中心付近に、該ルータービットにより窪みを形成する工程と、該窪みの開口径Ｗを計測する工程と、該窪みの深さＤ０を、計測された開口径Ｗに基づいて該ルータービットの先端部分の径と高さとの関係から特定する工程と、該窪みを形成したときのルータービットの基準座標Ｚ０に基づいて求められる、高さ方向の終点座標Ｚ１＝Ｚ０−（Ｄ１−Ｄ０）の位置までルータービットを侵入させる工程とを備える請求項６に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 The step of intruding the router bit comprises:
A step of entering a predetermined cutting depth D1 from the surface of the core portion, a step of forming a recess by the router bit near the center of the region where the inclined end surface is to be formed, and an opening diameter W of the recess A step of measuring, a step of identifying the depth D0 of the depression based on the measured opening diameter W from the relationship between the diameter and height of the tip portion of the router bit, and a router bit when the depression is formed And a step of intruding a router bit to a position of an end point coordinate Z1 = Z0− (D1−D0) in the height direction , which is obtained based on the reference coordinate Z0 of the optical waveguide having an inclined end surface according to claim 6. Production method. 略平行に配置された複数のコア部に前記ルータービットを横断的に走査することにより互いに略一列に配置されるような傾斜端面を各コア部に形成する場合において、
前記複数のコア部のうちの少なくとも２つのコア部における前記終点座標（Ｚ１）をそれぞれ特定し、特定された終点座標を結ぶようにルータービットを横断的に、且つ、各コア部の長手方向に対して垂直方向に走査させることにより複数のコア部それぞれに傾斜端面を形成する請求項７に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。 In the case where each core portion is formed with inclined end surfaces that are arranged in a substantially single row by scanning the router bits across a plurality of core portions arranged substantially in parallel,
The end point coordinates (Z1) in at least two core portions of the plurality of core portions are respectively specified, the router bits are crossed so as to connect the specified end point coordinates, and in the longitudinal direction of each core portion The method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface according to claim 7, wherein the inclined end surface is formed in each of the plurality of core portions by scanning in the vertical direction. 形成された傾斜端面に対して、エネルギー線を照射して溶融させることにより平滑化処理を行う工程をさらに備える請求項６〜８の何れか１項に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。   The method of manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface according to any one of claims 6 to 8, further comprising a step of performing a smoothing process by irradiating and melting an energy ray on the formed inclined end surface. . 形成された傾斜端面に対して、樹脂コーティングすることにより平滑化処理を行う工程をさらに備える請求項６〜９の何れか１項に記載の傾斜端面を有する光導波路の製造方法。   The method for manufacturing an optical waveguide having an inclined end surface according to any one of claims 6 to 9, further comprising a step of performing a smoothing process by resin coating on the formed inclined end surface.
JP2008110363A 2008-04-21 2008-04-21 Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face Expired - Fee Related JP5319954B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008110363A JP5319954B2 (en) 2008-04-21 2008-04-21 Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face
PCT/JP2009/058220 WO2009131231A1 (en) 2008-04-21 2009-04-20 Method for manufacturing optical waveguide having inclined end surface

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008110363A JP5319954B2 (en) 2008-04-21 2008-04-21 Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009258563A JP2009258563A (en) 2009-11-05
JP5319954B2 true JP5319954B2 (en) 2013-10-16

Family

ID=40872263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008110363A Expired - Fee Related JP5319954B2 (en) 2008-04-21 2008-04-21 Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5319954B2 (en)
WO (1) WO2009131231A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10558003B2 (en) 2016-02-01 2020-02-11 Sony Corporation Optical waveguide sheet, optical transmission module, and manufacturing method for an optical waveguide sheet

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012088634A (en) * 2010-10-22 2012-05-10 Ngk Spark Plug Co Ltd Optical waveguide device and method for manufacturing the same
JP2012103381A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Panasonic Corp Manufacturing method for photoelectric composite wiring board, and photoelectric composite wiring board manufactured by the same
JP2012103380A (en) * 2010-11-09 2012-05-31 Panasonic Corp Manufacturing method for photoelectric composite wiring board, and photoelectric composite wiring board manufactured by the same
JP5550535B2 (en) * 2010-11-26 2014-07-16 新光電気工業株式会社 Optical waveguide device and manufacturing method thereof
JP5667862B2 (en) * 2010-12-20 2015-02-12 新光電気工業株式会社 Two-layer optical waveguide, its manufacturing method and mounting structure
JP5810533B2 (en) * 2011-01-18 2015-11-11 日立化成株式会社 Manufacturing method of optical waveguide with mirror, optical waveguide with mirror, and optoelectric composite substrate with mirror
JP2015087712A (en) * 2013-11-01 2015-05-07 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, opto-electric hybrid substrate, and electronic apparatus
CN113285201B (en) * 2021-05-31 2022-02-15 济南量子技术研究院 Preparation method and system of micron-sized rectangular waveguide

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6274917U (en) * 1985-10-28 1987-05-13
JPH0349814A (en) * 1989-07-12 1991-03-04 Toshiba Corp Machining method for printed circuit board
US5710854A (en) * 1994-04-13 1998-01-20 Photonic Integration Research, Inc. Multi-mode optical T-splitter and method of fabricating same
JPH09290314A (en) * 1996-04-24 1997-11-11 Toa Corp Manufacture of cabinet
JP3753508B2 (en) * 1996-07-31 2006-03-08 日本電信電話株式会社 Optical path conversion element manufacturing method and optical path conversion element manufacturing blade
JP3647173B2 (en) * 1996-11-25 2005-05-11 花王株式会社 Mold for blow molding
JP4539031B2 (en) * 2002-05-28 2010-09-08 パナソニック電工株式会社 Manufacturing method of opto-electric hybrid board
JP2004100264A (en) * 2002-09-10 2004-04-02 Sumitomo Kinzoku Kozan Siporex Kk Alc panel and method of manufacturing the same
JP2004114742A (en) * 2002-09-24 2004-04-15 Nippon Plast Co Ltd Interior trim material for automobile
JP4442463B2 (en) * 2005-02-23 2010-03-31 パナソニック電工株式会社 Manufacturing method of deflecting mirror to optical waveguide
JP3111276U (en) * 2005-04-11 2005-07-14 株式会社デッケル・グラインダー ジャパン Chamfering end mill
JP2007183469A (en) * 2006-01-10 2007-07-19 Hitachi Cable Ltd Optical waveguide for optical path conversion
JP3125166U (en) * 2006-06-29 2006-09-07 株式会社丹青社 Rotating tool for processing plasterboard
JP2009103804A (en) * 2007-10-22 2009-05-14 Fuji Xerox Co Ltd Optical waveguide and method of manufacturing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10558003B2 (en) 2016-02-01 2020-02-11 Sony Corporation Optical waveguide sheet, optical transmission module, and manufacturing method for an optical waveguide sheet

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009258563A (en) 2009-11-05
WO2009131231A1 (en) 2009-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5319954B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide having inclined end face
Thomas et al. Inscription of fiber Bragg gratings with femtosecond pulses using a phase mask scanning technique
US6322958B1 (en) Laser marking method and apparatus, and marked member
JP4442463B2 (en) Manufacturing method of deflecting mirror to optical waveguide
EP1522882A1 (en) Optical waveguide having mirror surface formed by laser beam machining
TWI435127B (en) Method of manufacturing optical waveguide core, method of manufacturing optical waveguide, optical waveguide, and optoelectric composite wiring board
JPH10133055A (en) Photocoupler and its production
US8236374B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide device
US7967663B2 (en) Process of forming a deflection mirror in a light waveguide
US20100104251A1 (en) Optical waveguide and manufacturing method thereof
US7912332B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide device and optical waveguide device obtained thereby
JP2007183467A (en) Optical waveguide with mirror and its manufacturing method
JP4155160B2 (en) Manufacturing method of opto-electric hybrid board
JP3469111B2 (en) Processing method of optical waveguide device
JP4263506B2 (en) Manufacturing method of optical fiber array
KR102204376B1 (en) Optical fiber fixing method and measuring device using the same
JP2005156945A (en) Optical fiber type component and manufacturing method therefor
JP5499418B2 (en) Etching apparatus and mold manufacturing method
JP2005128319A (en) Optical functional element and its manufacturing method
JP2007041122A (en) Method of manufacturing polymer optical waveguide, polymer optical waveguide, and optical module using the same
JP4343732B2 (en) Planar optical circuit and manufacturing method thereof
JP2003344680A (en) Optical waveguide and method for manufacturing the same
JP4265437B2 (en) Optical circuit board manufacturing method and optical circuit board
JP2002311270A (en) Vertical transmission type optical waveguide and production method therefor
JP2012093564A (en) Method of manufacturing optical waveguide

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101222

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20120111

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130118

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130709

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130712

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5319954

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees