JP5305550B2 - ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。この図に示すように、本実施形態のガスミスト圧浴システムは、酸素、炭酸ガス、又は酸素と炭酸ガスの混合ガス(以下、単に「ガス」という)を供給するガス供給手段10と、薬剤等の液体を供給する液体供給手段20と、ガスミスト生成手段としてのガスミスト生成器30と、供給されたガスミストを内部に封入する生体カバー手段としての生体圧浴カバー50と、制御装置(制御手段)60と、から構成される。
図11は、本発明の第2の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、生体圧浴カバー内の加圧を容易にする加圧手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図14は、本発明の第3の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための電荷付与手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図15は、本発明の第4の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、液体供給手段からの液体を加圧してガスミスト生成器に送る液体加圧手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
20 液体供給手段
30 ガスミスト生成器
31 生成器本体
32 液体貯留部
32A 遮蔽板
33 液体供給口
34 ノズル
34A ノズル先端開口
35 吸液管形成部材
35A 吸液管
35B 吸液管先端部
36 バッフル
38 中間部材
39 ガス供給部
41 ガス導入部
42 ガスミスト収集部
43 蓋部材
44 ガスミスト導出部
45 ガスミスト供給管
45A ジャバラ状の管
50、50A、50B、50C、50D、50E、50F 生体圧浴カバー
51、51A、51B、51C、51D、51E、51F ガスミスト供給口
52、52A、52B、52C、52D、52E、52F、53A 止着部
53F 固定部
54F カバー部
60 制御装置
71 圧力計
72 温度計
80、80A、80B、80C、80D 生体圧浴カバー
81、81A、81B、81C、81D ガスミスト供給口
82、82A、82B、82C、82D 止着部
83D 固定部
84D カバー部
90、90A、90B、90C、90D 加圧手段
91、91A、91B、91C、91D ガス溜部
92、92A、92B、92C、92D ガスミスト供給口
101 電源装置
102 電極
110 液体加圧手段
Claims (20)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガス、酸素又は炭酸ガスと酸素の混合ガス(以下、「ガス」という)と液体を粉砕溶解させたミスト(以下、「ガスミスト」という)を生体の皮膚又は粘膜に接触させるためのシステムであって、
ガス供給手段と、
該ガス供給手段と接続されると共に、液体を貯留する液体貯留部と、前記ガスを加圧供給するノズルと、該ノズル先端に前記液体を送液する吸液管と、を有し、ガスミストを生成するガスミスト生成手段と、
前記生体の皮膚及び粘膜を覆い、前記ガスミスト生成手段から供給されたガスミストを内部に封入する空間を形成する生体カバー手段と、を備え、
前記ガスミスト生成手段は、前記ノズルとは別途に前記ガスミスト生成手段内にガスを供給するガス導入手段を備え、前記生体カバー手段へのガスミストの供給圧を上昇させることを特徴とするガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー手段には、当該生体カバー手段内の前記ガスミストの圧力を加圧するための加圧手段が接続されることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー手段と連設され、該生体カバー手段内にガスミストを排出可能な中空のガス溜を有することを特徴とする請求項2に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記加圧手段が、前記生体カバー手段内に間歇的にガスミストを排出することによって、該生体カバー手段をインターバル加圧することを特徴とする請求項3に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガス、液体、及びガスミストの供給状態を計測するセンサと、
該センサの計測値に基づき前記ガス、液体、及びガスミストの供給制御を行う制御手段と、をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記制御手段により、前記ガスミストを間歇的に前記生体カバー手段内に供給することによって、該生体カバー手段をインターバル加圧することを特徴とする請求項5に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、前記生体カバー手段内の圧力値が所定値以上になった際は前記ガス供給手段からのガスの供給を停止することを特徴とする請求項5に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段は、ガスミスト圧浴時における前記生体カバー手段内の圧力を1.02乃至2.5気圧に保持することを特徴とする請求項5に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体貯留部に液体を供給する液体供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体供給手段からの液体を加圧して前記ガスミスト生成手段に供給する液体加圧手段をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、水、イオン水、オゾン水、生理食塩水、精製水、又は滅菌精製水の何れか一つ又は複数の組み合わせであることを特徴とする請求項1又は9に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC誘導体、レチノール、麻酔薬、シクロデキストリン、光触媒、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10、シードオイル、プロポリス、エタノール、グルコン酸クロルヘキシジン、両性界面活性剤、塩化ベンザルコニウム、酢酸アルキルジアミノエテルグリシン、次亜塩素酸ナトリウム、過酢酸、セスキ炭酸ナトリウム、シリカ、ポピドンヨード、炭酸水素ナトリウム、高濃度炭酸泉剤、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、抗インフルエンザウィルス剤、インフルエンザワクチン、ステロイド剤、抗ガン剤、血圧降下剤、化粧剤、増毛剤、発毛剤、又は育毛剤のうち、何れか一つ又は複数をさらに含有することを特徴とする請求項11に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段から前記生体カバー手段内に供給される前記ミストの粒径が、10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が供給するミストに電荷を付与する電荷付与手段をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記電荷が、マイナス電荷であることを特徴とする請求項14に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、前記生体カバー手段へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管が、管内に付着する液滴を除去するためのフィルターを備えることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト生成手段が、前記生体カバー手段へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管の全部又は一部がジャバラ状の管から構成されることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト生成手段が、前記生体カバー手段へガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記生体カバー手段のガスミスト供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、予め滅菌処理されていることを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
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