JP5302138B2 - Imaging apparatus and electronic endoscope - Google Patents

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Description

本発明は、撮像素子、基板、撮像素子用受動素子、能動素子、及び能動素子用受動素子を備えた撮像装置に関する。     The present invention relates to an imaging element, a substrate, a passive element for an imaging element, an active element, and an imaging device including the passive element for an active element.

医療分野及び工業分野において、内視鏡が広く利用されている。内視鏡には観察光学系として撮像装置を備えた所謂電子内視鏡がある。電子内視鏡では、患者の体腔内、或いはジェットエンジン内部等の内視鏡画像を、外部装置であるモニタ等の表示装置に表示させて観察を行える。   Endoscopes are widely used in the medical field and the industrial field. There is a so-called electronic endoscope provided with an imaging device as an observation optical system. In an electronic endoscope, an endoscopic image inside a patient's body cavity or inside a jet engine can be displayed on a display device such as a monitor as an external device for observation.

例えば、特許文献1には、固体撮像素子と、対物レンズユニットと、能動素子であるICと、受動素子である電源用電子部品等が搭載された回路基板と、信号ケーブルとを備える固体撮像装置が示されている。この撮像装置では、撮像素子の駆動電圧が例えば8V〜10Vの範囲で、ICの駆動電圧が例えば10V〜12Vの範囲であった場合、電源用電子部品によって双方に共通な10Vを供給している。この構成では、1つの電源用電子部品を、撮像素子と能動素子とで共用することによって、撮像装置の小型化を図れる構成になっていた。   For example, Patent Document 1 discloses a solid-state imaging device including a solid-state imaging element, an objective lens unit, an IC that is an active element, a circuit board on which power supply electronic components that are passive elements are mounted, and a signal cable. It is shown. In this imaging apparatus, when the driving voltage of the imaging element is in the range of 8V to 10V, for example, and the driving voltage of the IC is in the range of 10V to 12V, for example, 10V common to both is supplied by the power supply electronic components. . In this configuration, the image pickup apparatus can be downsized by sharing one power supply electronic component between the image pickup element and the active element.

近年、電子内視鏡、特に医療用の電子内視鏡においては、挿入部の細径化と共に内視鏡画像の高画質化が求められている。   In recent years, electronic endoscopes, particularly medical electronic endoscopes, have been demanded to improve the image quality of endoscope images as well as to reduce the diameter of the insertion portion.

特開2003−305004号公報JP 2003-305004 A

しかしながら、高画質化が望まれる電子内視鏡では、撮像装置に搭載される能動素子等電子部品の数が多くなることによって撮像装置が大型になるおそれがあると共に、複数の能動素子から発生する熱によって撮像装置の温度が上昇する懸念があった。そのため、高画質化が望まれる電子内視鏡の撮像装置においては、小型化を損なうことなく、ノイズ等の温度依存する特性をいかに改善するかが課題になっている。   However, in an electronic endoscope where high image quality is desired, the number of electronic components such as active elements mounted on the imaging apparatus may increase, and the imaging apparatus may become large, and may be generated from a plurality of active elements. There was a concern that the temperature of the imaging device would rise due to heat. Therefore, in an imaging apparatus for an electronic endoscope where high image quality is desired, there is a problem of how to improve temperature-dependent characteristics such as noise without impairing downsizing.

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、小型で、高画質の画像を得る撮像装置を提供することを目的にしている。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an imaging apparatus that obtains a small, high-quality image.

本発明の撮像装置は、撮像素子と、この撮像素子が接続され、前記撮像素子の背面側に延出される第1の基板と、前記撮像素子専電源を構成する撮像素子用受動素子と、少なくとも前記撮像素子の出力信号を処理する能動素子と、前記能動素子の専用電源を構成する能動素子用受動素子と、前記第1の基板接続される撮像素子固定領域、前記撮像素子用受動素子と前記能動素子と前記能動素子用受動素子が搭載される素子実装領域、及び複数のケーブル接続用ランドとして少なくとも撮像素子電源用電線の電源線が接続される撮像素子用電源ランドと能動素子用電線の電源線が接続される能動素子用電源ランドとが設けられるケーブル接続領域を備える第2の基板と、を具備し前記第2の基板に、前記撮像素子の背面側から順に、前記撮像素子用受動素子、前記能動素子、前記能動素子用受動素子、前記ケーブル接続領域を配置している。 Imaging apparatus of the present invention includes an imaging element, the imaging element is connected, a first substrate and to an imaging device for a passive configuration the power for the imaging element dedicated to extend to the rear side of the imaging device element and, an active element for processing the output signals of at least the image sensor, and the ability kinematic elements for passive elements constituting the dedicated power of the active element, the first image sensor fixing region in which the substrate is Ru is connected, the imaging element mounting region and the image pickup device for the passive element and the front Symbol active element and the active element for passive elements Ru are mounted, and at least the image sensor power line of the power supply wire as a plurality of cable connection lands are connected A second substrate having a cable connection region provided with an element power land and an active element power land to which a power line of the active element electric wire is connected, and the image sensor on the second substrate. from the back side in order The imaging device for a passive element, the active element, the active element for a passive element, are placed the cable connection area.

この構成によれば、撮像素子用受動素子、能動素子、能動素子用受動素子、ケーブル接続用ランドを、撮像素子の背面側に各素子の機能に最適な順で配置したことによって、配線の取り回しを単純化して撮像装置の小型化を図れる。また、撮像素子及び能動素子に専用の電源である撮像素子用受動素子及び能動素子用受動素子を設けたことによって、撮像素子及び能動素子をそれぞれ最低限の電圧で駆動させて、省電力化を実現して発熱量の低減を図れる。   According to this configuration, by arranging the passive element for the image sensor, the active element, the passive element for the active element, and the cable connection land in the optimal order for the function of each element on the back side of the image sensor, the wiring is routed. Thus, the imaging apparatus can be reduced in size. In addition, by providing the image sensor and the active element with the image sensor passive element and the active element passive element, which are dedicated power sources, the image sensor and the active element can be driven with a minimum voltage, thereby saving power. This can be achieved to reduce the amount of heat generation.

本発明によれば、小型化が可能で、高画質の画像を得られる撮像装置を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to realize an imaging apparatus that can be downsized and obtain a high-quality image.

図1から図8は本発明の第1実施形態に係り、図1は撮像装置を備える電子内視鏡を含む内視鏡システムを説明する図1 to 8 relate to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a diagram illustrating an endoscope system including an electronic endoscope including an imaging device. 撮像装置の構成を説明する図The figure explaining the structure of an imaging device 図2の撮像素子ユニットを矢印A方向から見たときの図The figure when the image pick-up element unit of FIG. 2 is seen from the arrow A direction ケーブル接続領域に設けられたケーブル接続用ランドを説明する図The figure explaining the land for cable connection provided in the cable connection area 駆動系の信号を伝送する同軸線の構成を説明する斜視図The perspective view explaining the structure of the coaxial line which transmits the signal of a drive system 図5の同軸線の中心軸に対して直交する断面図Sectional view orthogonal to the central axis of the coaxial line in FIG. 撮像素子用バイパスコンデンサを第2回路基板に設けた構成の撮像素子ユニットを説明する図The figure explaining the image pick-up element unit of the structure which provided the bypass capacitor for image pick-up elements in the 2nd circuit board 撮像素子の直近で積層基板側に電気的に接続される第1インナーリードと、それ以外のインナーリードとを交互にした第1回路基板を説明する図The figure explaining the 1st circuit board by which the 1st inner lead electrically connected to the multilayer substrate side in the immediate vicinity of an image sensor, and the other inner lead were alternated 撮像素子の直近で積層基板側に電気的に接続される第1インナーリードを一側面側に集約した第1回路基板を説明する図The figure explaining the 1st circuit board which put together the 1st inner lead electrically connected to the multilayer substrate side in the immediate vicinity of an image sensor on one side. 図10−図13は本発明の第2実施形態に係り、図10は2つの能動素子を第2回路基板に搭載した構成の撮像素子ユニットを説明する図10 to 13 relate to a second embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a diagram for explaining an image sensor unit having a configuration in which two active elements are mounted on a second circuit board. 凹部の開口側から見える基板面にグランド層及び電源層を設けた基板を説明する図The figure explaining the board | substrate which provided the ground layer and the power supply layer in the board | substrate surface seen from the opening side of a recessed part ケーブル接続用ランドに接続される各線と接続状態を説明する図The figure explaining each line connected to the land for cable connection and the connection state 図12の構成と異なるケーブル接続用ランドに接続される各線とその接続状態を説明する図The figure explaining each line connected to the land for cable connection different from the structure of FIG. 12, and its connection state

以下、図面を参照して本発明の撮像装置を説明する。
図1に示す電子内視鏡システム1は、本発明の撮像装置を備える電子内視鏡(以下、内視鏡と略記する)2と、光源装置3と、ビデオプロセッサ4と、表示装置であるモニタ5とを備えて構成されている。内視鏡2は、長尺で細長な挿入部9と、操作部10と、電気ケーブルであるユニバーサルケーブル17とを備えて構成されている。
The imaging apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings.
An electronic endoscope system 1 shown in FIG. 1 is an electronic endoscope (hereinafter abbreviated as an endoscope) 2, a light source device 3, a video processor 4, and a display device including the imaging device of the present invention. And a monitor 5. The endoscope 2 includes a long and narrow insertion portion 9, an operation portion 10, and a universal cable 17 that is an electric cable.

内視鏡2の挿入部9は、先端から順に、先端部6、湾曲部7、可撓管部8を連設して構成されている。操作部10は、挿入部9を構成する可撓管部8の基端側に連設されている。操作部10には、挿入部9の湾曲部7を湾曲操作するための湾曲操作ノブ11、送気送水ボタン14a、吸引ボタン14b、各種内視鏡機能のスイッチ15等が設けられている。湾曲操作ノブ11は、湾曲部7を上下方向に湾曲操作するための上下湾曲操作ノブ12と、湾曲部7を左右方向に湾曲操作するための左右湾曲操作ノブ13とを備えている。   The insertion portion 9 of the endoscope 2 is configured by connecting a distal end portion 6, a bending portion 7, and a flexible tube portion 8 in order from the distal end. The operation part 10 is connected to the proximal end side of the flexible tube part 8 constituting the insertion part 9. The operation section 10 is provided with a bending operation knob 11 for bending the bending section 7 of the insertion section 9, an air / water supply button 14a, a suction button 14b, switches 15 for various endoscope functions, and the like. The bending operation knob 11 includes an up / down bending operation knob 12 for bending the bending portion 7 in the up / down direction and a left / right bending operation knob 13 for bending the bending portion 7 in the left / right direction.

符号16は処置具チャンネル挿通部であり、処置具チャンネルに連通する開口である。各種処置具は、処置具チャンネル挿通部16を介して処置具チャンネルに挿通される。   Reference numeral 16 denotes a treatment instrument channel insertion portion, which is an opening communicating with the treatment instrument channel. Various treatment tools are inserted into the treatment tool channel via the treatment tool channel insertion portion 16.

操作部10から延出されるユニバーサルケーブル17は、その端部に光源装置3に着脱自在な内視鏡コネクタ18を有している。内視鏡コネクタ18には映像用ケーブル19の映像用コネクタ19Bが着脱自在に接続される。映像用ケーブル19の他端部にはプロセッサ用コネクタ19Aが備えられており、ビデオプロセッサ4に着脱自在である。   The universal cable 17 extending from the operation unit 10 has an endoscope connector 18 that can be attached to and detached from the light source device 3 at its end. A video connector 19B of a video cable 19 is detachably connected to the endoscope connector 18. A processor connector 19A is provided at the other end of the video cable 19 and is detachable from the video processor 4.

ビデオプロセッサ4は、内視鏡画像を表示するモニタ5と電気的に接続される。ビデオプロセッサ4は、内視鏡2の撮像装置によって光電変換されて伝送された撮像信号を最適な映像信号に処理してモニタ5に出力する。   The video processor 4 is electrically connected to a monitor 5 that displays an endoscopic image. The video processor 4 processes the imaging signal that has been photoelectrically converted and transmitted by the imaging device of the endoscope 2 into an optimal video signal, and outputs it to the monitor 5.

なお、本実施形態の内視鏡2は、ライトガイドバンドルによって、光源装置3から先端部6まで照明光を伝送するタイプである。符号21は観察窓を構成する第1レンズであり、撮像装置を構成する。符号22は照明窓であり、ライトガイドバンドルによって伝送された照明光が観察部位に向けて照射される。符号23は先端開口であり、処置具チャンネルの先端側開口と吸引用開口とを兼ねている。符号24はノズルであり、第1レンズ21に向けて洗浄液、或いは空気を噴出して、第1レンズ21の表面に付着した体液等を除去する。   Note that the endoscope 2 of the present embodiment is a type that transmits illumination light from the light source device 3 to the distal end portion 6 by a light guide bundle. Reference numeral 21 denotes a first lens constituting an observation window, which constitutes an imaging device. Reference numeral 22 denotes an illumination window, and the illumination light transmitted by the light guide bundle is irradiated toward the observation site. Reference numeral 23 denotes a distal end opening, which serves as both the distal end side opening and the suction opening of the treatment instrument channel. Reference numeral 24 denotes a nozzle that ejects cleaning liquid or air toward the first lens 21 to remove body fluid and the like attached to the surface of the first lens 21.

図2に示すように撮像装置30は、対物レンズユニット40と撮像素子ユニット50とを備えて構成されている。対物レンズユニット40は、第1レンズ21、第2レンズ41、第3レンズ42、第4レンズ43等の光学レンズと、フレア絞り44、複数の調整絞り45、間隔環46、固定環47等の光学部材と、これらレンズ21、41、42、43、絞り44、45及び環46、47を固設するレンズ枠48とを備えて構成されている。   As shown in FIG. 2, the imaging device 30 includes an objective lens unit 40 and an imaging element unit 50. The objective lens unit 40 includes optical lenses such as the first lens 21, the second lens 41, the third lens 42, and the fourth lens 43, a flare stop 44, a plurality of adjustment stops 45, a spacing ring 46, a fixed ring 47, and the like. The optical member and the lens 21, 41, 42, 43, the diaphragms 44, 45 and the lens frame 48 to which the rings 46, 47 are fixed are configured.

本実施形態において、フレア絞り44の開口は例えばφAであり、調整絞り45の開口はφAより十分に大きなφBである。この構成において、フレア絞り44には通常の黒処理が施される。一方、調整絞り45については厚み寸法及び径寸法が黒処理の厚みの分、公差等に微妙な影響を与えることを防止するため、黒処理を不要にしている。   In the present embodiment, the opening of the flare stop 44 is φA, for example, and the opening of the adjustment stop 45 is φB sufficiently larger than φA. In this configuration, the flare stop 44 is subjected to normal black processing. On the other hand, the adjustment diaphragm 45 is not required to have a black process in order to prevent the thickness dimension and the diameter dimension from having a subtle effect on the tolerance due to the thickness of the black process.

また、本実施形態において、レンズ枠48に配設されるレンズ41、42、43、間隔環46は、その周囲に接着剤を塗布することなく、固定環47で最後部の第4レンズ43を押圧し、その押圧状態を保持するように接着剤49で固定環47をレンズ枠48に固定して、レンズ41、42、43、間隔環46を所定の位置に配置させる構成にしている。   In this embodiment, the lenses 41, 42, 43 and the spacing ring 46 arranged in the lens frame 48 are formed by fixing the fourth lens 43 at the rearmost portion with the fixed ring 47 without applying an adhesive around the lenses 41, 42, 43. The fixing ring 47 is fixed to the lens frame 48 with an adhesive 49 so that the pressing state is maintained, and the lenses 41, 42, 43 and the interval ring 46 are arranged at predetermined positions.

この構成によれば、固定環47をレンズ枠48に固定してレンズ41、42、43等をレンズ枠48に対して固定する構成であるため、レンズ42とレンズ43との接合面を接着剤49が硬化する際に生じる膨張、収縮によって剥離する不具合を防止することができる。   According to this configuration, the fixing ring 47 is fixed to the lens frame 48, and the lenses 41, 42, 43, etc. are fixed to the lens frame 48. Therefore, the bonding surface between the lens 42 and the lens 43 is bonded to the adhesive. The trouble which peels by the expansion | swelling and shrinkage | contraction which arise when 49 hardens | cures can be prevented.

一方、撮像素子ユニット50は、撮像ホルダ51と、撮像素子52と、第1基板53と、第2の基板である積層基板54と、複合ケーブル55と、撮像装置外装枠(以下、撮像枠と記載する)撮像枠56とを主に備えて構成されている。   On the other hand, the imaging device unit 50 includes an imaging holder 51, an imaging device 52, a first substrate 53, a laminated substrate 54 as a second substrate, a composite cable 55, an imaging device exterior frame (hereinafter referred to as an imaging frame). (To be described) and an imaging frame 56.

なお、撮像枠56内には例えば絶縁性の封止樹脂(不図示)が充填される。封止樹脂は、基板53、54と撮像素子52との電気的な接続部の周囲、積層基板54に実装された素子の周囲、及び撮像素子52の周囲、複合ケーブル55と積層基板54との接続部を封止する。   The imaging frame 56 is filled with, for example, an insulating sealing resin (not shown). The sealing resin is formed around the electrical connection between the substrates 53 and 54 and the image sensor 52, around the element mounted on the multilayer substrate 54, and around the image sensor 52, and between the composite cable 55 and the multilayer substrate 54. Seal the connection.

図2−図4を参照して撮像素子ユニット50の詳細を説明する。
図2に示す撮像素子52は、CCD(Charge Coupled Device)、CMOS(Complementary Metal−Oxide Semiconductor)等である。撮像素子52の撮像面側には、例えば2枚の光学部材であるガラスリッド57a、芯出しカバーガラス57bが接着固定されている。撮像素子52の撮像面側にガラスリッド57aが配置されている。
Details of the image sensor unit 50 will be described with reference to FIGS.
2 is a CCD (Charge Coupled Device), a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor), or the like. For example, two glass lids 57a and a centering cover glass 57b, which are optical members, are bonded and fixed to the imaging surface side of the imaging element 52. A glass lid 57 a is disposed on the imaging surface side of the imaging element 52.

撮像ホルダ51は、例えばステンレス鋼で形成されている。撮像ホルダ51の内面所定位置には、撮像素子52に配設された芯出しカバーガラス57bが接着によって一体的に固定される。また、ガラスリッド57aの周囲にも接着剤25が均等に塗布されている。つまり、撮像素子52は、芯出しカバーガラス57b、ガラスリッド57aを介して撮像ホルダ51に固定される。   The imaging holder 51 is made of, for example, stainless steel. A centering cover glass 57b disposed in the image pickup device 52 is integrally fixed to a predetermined position on the inner surface of the image pickup holder 51 by adhesion. In addition, the adhesive 25 is evenly applied around the glass lid 57a. That is, the imaging device 52 is fixed to the imaging holder 51 via the centering cover glass 57b and the glass lid 57a.

撮像ホルダ51の先端部内面には、レンズ枠48の基端部が嵌合して配置される。レンズ枠48と撮像ホルダ51とは、ピント等の位置調整を完了した後、例えば接着剤、或いは半田26によって接合固定される。   The proximal end portion of the lens frame 48 is fitted and disposed on the inner surface of the distal end portion of the imaging holder 51. The lens frame 48 and the imaging holder 51 are joined and fixed by, for example, an adhesive or solder 26 after completing the position adjustment such as focusing.

本実施形態において、撮像ホルダ51の嵌合部内周面、又はレンズ枠48の嵌合部外周面の一方にだけ黒処理が施されている。この構成によれば、撮像ホルダ51の嵌合部内周面、及びレンズ枠48の嵌合部外周面の両面に黒処理を施した場合に比べて、黒処理の厚みによって嵌合部の嵌め合いが変化する不具合を防止することができる。また、撮像ホルダ51とレンズ枠48との位置調整を行った際に、黒処理部がこすれることによって黒処理されたメッキがゴミとして発生してユニット内に混入することを防止することができる。   In the present embodiment, black processing is performed only on one of the inner peripheral surface of the fitting portion of the imaging holder 51 or the outer peripheral surface of the fitting portion of the lens frame 48. According to this structure, compared with the case where black processing is performed on both the inner peripheral surface of the fitting portion of the imaging holder 51 and the outer peripheral surface of the fitting portion of the lens frame 48, the fitting portion is fitted according to the thickness of the black processing. Can be prevented from changing. Further, when the positions of the imaging holder 51 and the lens frame 48 are adjusted, it is possible to prevent the black-treated plating from being generated as dust and being mixed into the unit by rubbing the black processing portion.

第1基板53は、柔軟性を有する例えばフレキシブルプリント基板であり、撮像素子52の撮像面の裏面である撮像素子背面側に延出されている。第1基板53は折り曲げ部53aを有し、その折り曲げ部53aで折り曲げられて撮像素子52の撮像面側に設けられている素子側ランド(不図示)と基板一端側に設けられた基板側ランドとが接続されている。   The first substrate 53 is a flexible printed circuit board having flexibility, for example, and extends to the back side of the imaging element, which is the back side of the imaging surface of the imaging element 52. The first substrate 53 has a bent portion 53a. The device-side land (not shown) provided on the image pickup surface side of the image pickup device 52 by being bent by the bent portion 53a and the substrate-side land provided on one end side of the substrate. And are connected.

本実施形態において、第1基板53は、撮像素子52と積層基板54とを接続する接続部と、一体に固定する固定部とを兼ねている。   In the present embodiment, the first substrate 53 serves as both a connection portion that connects the image pickup device 52 and the multilayer substrate 54 and a fixing portion that is integrally fixed.

図2、図3に示す積層基板54は、撮像素子固定領域60aと、素子実装領域60bと、ケーブル接続領域60cとを備えている。
撮像素子固定領域60aには第1基板接続ランド(不図示)が設けられ、第1基板53の図示しない配線に設けられたランドが接続される。素子実装領域60bには後述するランド71、72、73が設けられ、撮像素子電源用バイパスコンデンサ(以下、撮像素子用パスコンと略記する)61と、IC62と、IC電源用バイパスコンデンサ(以下、IC用パスコンと略記する)63とが搭載される。ケーブル接続領域60cには後述する複数のケーブル接続用ランドが設けられている。複数のケーブル接続用ランドには、複合ケーブル55内を挿通する複数の信号線のうち、それぞれに対応する信号線が接続される。複合ケーブル55内には電源線及びグランド線を備える撮像素子電源用電線55a、IC電源用電線55bと、映像信号用同軸線56aと、駆動信号用同軸線とが挿通されている。
The multilayer substrate 54 shown in FIGS. 2 and 3 includes an image sensor fixing area 60a, an element mounting area 60b, and a cable connection area 60c.
A first substrate connection land (not shown) is provided in the image sensor fixing region 60a, and a land provided on a wiring (not shown) of the first substrate 53 is connected thereto. Lands 71, 72, and 73, which will be described later, are provided in the element mounting region 60b. The imaging element power supply bypass capacitor (hereinafter abbreviated as an imaging element bypass capacitor) 61, an IC 62, and an IC power supply bypass capacitor (hereinafter referred to as an IC power supply). 63 (abbreviated as bypass capacitor). The cable connection region 60c is provided with a plurality of cable connection lands described later. A signal line corresponding to each of a plurality of signal lines inserted through the composite cable 55 is connected to the plurality of cable connection lands. In the composite cable 55, an image sensor power supply wire 55a, an IC power supply wire 55b, a video signal coaxial wire 56a, and a drive signal coaxial wire having a power supply line and a ground line are inserted.

撮像素子用パスコン61は、撮像素子52に配線(不図示)及びビアホール(不図示)を介して接続された撮像素子専用電源を構成する撮像素子用受動素子である。撮像素子用パスコン61は、破線に示す撮像素子用パスコンランド71に接続されて、撮像素子52の直近である撮像素子背面近傍に配置される。撮像素子用パスコン61は、撮像素子52に対して最適な規格なものが使用され、本実施形態の撮像素子用パスコン61は撮像素子52の幅寸法と同一寸法以下の長辺を有している。そして、その長辺を撮像素子52の幅方向に一致させて、積層基板54に搭載されている。   The image sensor bypass capacitor 61 is an image sensor passive element that constitutes an image sensor dedicated power source connected to the image sensor 52 via wiring (not shown) and via holes (not shown). The image sensor bypass capacitor 61 is connected to the image sensor bypass capacitor land 71 indicated by a broken line, and is disposed in the vicinity of the rear surface of the image sensor adjacent to the image sensor 52. The image sensor bypass capacitor 61 has an optimum standard for the image sensor 52, and the image sensor bypass capacitor 61 of the present embodiment has a long side equal to or smaller than the width dimension of the image sensor 52. . Then, the long side thereof is mounted on the multilayer substrate 54 so as to coincide with the width direction of the image sensor 52.

IC62は能動素子であって、撮像素子52から出力される撮像素子出力信号の処理を行う出力信号処理素子である。IC62は、多数の接続端子(不図示)を有し、それぞれの接続端子を所定のIC用ランド72にバンプ(不図示)を介して接続して、撮像素子用パスコン61の後方であるケーブル接続領域60c側に配設されている。IC62も、撮像素子52の幅寸法と同一寸法以下の長辺を有しており、その長辺を撮像素子52の幅方向に一致させて、積層基板54に搭載されている。
なお、接続端子は、IC62が素子実装領域60b実装面に対して傾くことなく所定の状態で確実に配置されるように積層基板54に形成されたビアホール74にかからないように形成されている。
The IC 62 is an active element and is an output signal processing element that processes an image sensor output signal output from the image sensor 52. The IC 62 has a large number of connection terminals (not shown), and each connection terminal is connected to a predetermined IC land 72 via a bump (not shown) to connect a cable that is behind the image sensor bypass capacitor 61. It is disposed on the region 60c side. The IC 62 also has a long side that is equal to or smaller than the width dimension of the image sensor 52, and is mounted on the multilayer substrate 54 with the long side aligned with the width direction of the image sensor 52.
Note that the connection terminal is formed so as not to reach the via hole 74 formed in the laminated substrate 54 so that the IC 62 is reliably arranged in a predetermined state without being inclined with respect to the mounting surface of the element mounting region 60b.

IC用パスコン63は、IC62に配線及びビアホールを介して接続されたIC専用電源を構成する能動素子用受動素子である。IC用パスコン63は、破線に示すIC用パスコンランド73に接続されて、IC62の直近であってIC62の後方であるケーブル接続領域60c側に配設される。IC用パスコン63は、IC62に対して最適な規格なものが使用される。そのため、本実施形態においてIC用パスコン63は、撮像素子用パスコン61に比べて小型であり、長手方向を幅方向に向けて、積層基板54に搭載されている。   The IC bypass capacitor 63 is a passive element for an active element that constitutes an IC-dedicated power source connected to the IC 62 via wiring and via holes. The IC bypass capacitor 63 is connected to the IC bypass capacitor land 73 indicated by a broken line, and is disposed on the cable connection region 60c side immediately behind the IC 62 and behind the IC 62. As the IC bypass capacitor 63, a standard that is optimal for the IC 62 is used. Therefore, in this embodiment, the IC bypass capacitor 63 is smaller than the imaging element bypass capacitor 61, and is mounted on the multilayer substrate 54 with the longitudinal direction facing the width direction.

このように、撮像素子用パスコン61、IC62の幅寸法を撮像素子52の幅寸法と同一寸法以下とすることによって、積層基板54の長さが必要以上に長くなることを防止している。また、積層基板54に撮像素子用パスコン61、IC62、IC用パスコン63を撮像素子52側から順に容易に整列させて配設することができる。   Thus, by making the width dimension of the image sensor bypass capacitors 61 and IC 62 equal to or smaller than the width dimension of the image sensor 52, the length of the multilayer substrate 54 is prevented from becoming unnecessarily long. Further, the image sensor bypass capacitor 61, the IC 62, and the IC bypass capacitor 63 can be easily arranged on the multilayer substrate 54 in order from the image sensor 52 side.

ケーブル接続領域60cは、IC用パスコン63の後方に位置して、素子実装領域60bより基端側である。図3、図4に示すようにケーブル接続領域60cの一面64u側及び他面64d側には、例えば7つのケーブル接続用ランド65a、65b、65c、66a、66b、66c、66dが設けられている。   The cable connection region 60c is located behind the IC bypass capacitor 63 and is on the proximal end side with respect to the element mounting region 60b. As shown in FIGS. 3 and 4, for example, seven cable connection lands 65a, 65b, 65c, 66a, 66b, 66c, 66d are provided on the one surface 64u side and the other surface 64d side of the cable connection region 60c. .

例えば、符号65aは撮像素子用電源ランドであり、符号65bはIC用電源ランド、符号65cは電源用グランドランド、符号66aは映像信号用グランドランド、符号66bは映像信号用ランド、符号66cは駆動信号用ランド、符号66dは駆動信号用グランドランドである。   For example, reference numeral 65a is an image sensor power land, reference numeral 65b is an IC power land, reference numeral 65c is a power ground land, reference numeral 66a is a video signal ground land, reference numeral 66b is a video signal land, and reference numeral 66c is a drive. The signal land 66d is a drive signal ground land.

一面64u側のランド65a、65b、65cには単線である撮像素子電源用電線55a及びIC電源用電線55bが接続される。具体的には、撮像素子電源用電線55aの電源線55a1が撮像素子用電源ランド65aに接続され、そのグランド線55a2が電源用グランドランド65cに接続される。また、IC電源用電線の電源線55b1がIC用電源ランド65bに接続され、そのグランド線55b2が電源用グランドランド65cに接続される。つまり、電源用グランドランド65cには、撮像素子電源用電線及びIC電源用電線のグランド線55a2、55b2が接続される。   The image sensor power supply wire 55a and the IC power supply wire 55b, which are single wires, are connected to the lands 65a, 65b, and 65c on the one surface 64u side. Specifically, the power supply line 55a1 of the image sensor power supply electric wire 55a is connected to the image sensor power supply land 65a, and the ground line 55a2 is connected to the power supply ground land 65c. Further, the power line 55b1 of the IC power line is connected to the IC power land 65b, and the ground line 55b2 is connected to the power ground land 65c. In other words, the power supply ground land 65c is connected to the ground wires 55a2 and 55b2 of the imaging element power supply wire and the IC power supply wire.

他面64d側のランド66a、66b、66c、66dには映像信号用同軸線56a及び駆動信号用同軸線が接続される。具体的には、映像信号用同軸線56aの外部導体が映像信号用グランドランド66aに接続され、その内部導体が映像信号用ランド66bに接続される。また、駆動信号用同軸線の内部導体が駆動信号用ランド66cに接続され、その外部導体が駆動信号用グランドランド66dに接続される。   A video signal coaxial line 56a and a drive signal coaxial line are connected to the lands 66a, 66b, 66c, 66d on the other surface 64d side. Specifically, the outer conductor of the video signal coaxial line 56a is connected to the video signal ground land 66a, and the inner conductor thereof is connected to the video signal land 66b. The inner conductor of the drive signal coaxial line is connected to the drive signal land 66c, and the outer conductor is connected to the drive signal ground land 66d.

そして、ケーブル接続用ランド65a、65b、65cと撮像素子用パスコン61の撮像素子用パスコンランド71及びIC用パスコン63のIC用パスコンランド73とは積層基板54に設けられている図示しない配線、ビアホール等を介して接続されている。   The cable connection lands 65a, 65b, and 65c, the image sensor bypass capacitor land 71 of the image sensor bypass capacitor 61, and the IC bypass capacitor land 73 of the IC bypass capacitor 63 are wirings and via holes (not shown) provided on the multilayer substrate 54. Etc. are connected through.

また、ケーブル接続用ランド66a、66b、66c、66dと撮像素子52の図示しない素子側ランドとが、回路基板53、54にそれぞれ設けられている図示しない配線、積層基板54に設けられている図示しないビアホール、積層基板54に搭載されたIC62を介して接続されている。   In addition, cable connection lands 66a, 66b, 66c, 66d and element side lands (not shown) of the image pickup element 52 are provided on the circuit boards 53 and 54, respectively, on the circuit board 53 and 54, and on the laminated board 54. The via holes are not connected to each other via the IC 62 mounted on the laminated substrate 54.

複合ケーブル55内には、ケーブル接続用ランド65a、65b、65c、66a、66b、66c、66dにそれぞれ接続される複数の単線、或いは同軸線が挿通されている。本実施形態において、駆動系の信号を伝送する同軸線は、複合ケーブル55の中心軸近傍に配置される。すなわち、駆動系の信号を伝送する同軸線の周囲に、他の単線、他の同軸線を配置して、駆動系の信号を伝送する同軸線の内部導体をより強固に遮蔽している。   A plurality of single wires or coaxial wires connected to the cable connection lands 65a, 65b, 65c, 66a, 66b, 66c, 66d are inserted into the composite cable 55. In the present embodiment, the coaxial line for transmitting the drive system signal is disposed in the vicinity of the central axis of the composite cable 55. That is, other single wires and other coaxial lines are arranged around the coaxial line that transmits the drive system signal, thereby more firmly shielding the inner conductor of the coaxial line that transmits the drive system signal.

一般に、同軸線の外部導体は、細い銅線を編んだ編組線として構成されている。しかし、本実施形態において、駆動系の信号を伝送する同軸線は、図5、図6に示す構成である。   In general, the outer conductor of the coaxial wire is configured as a braided wire knitted with a thin copper wire. However, in the present embodiment, the coaxial line for transmitting the drive system signal has the configuration shown in FIGS.

図5、図6に示すように本実施形態の同軸線31は、内部導体32と、内部導体32の周囲に設けられた絶縁体33と、外部導体34と、外部導体34を被覆するシース35とで構成されている。本実施形態の外部導体34は、遮蔽効果を高めるために、銅線を例えば径方向に対して二重巻きにして構成されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the coaxial line 31 of the present embodiment includes an inner conductor 32, an insulator 33 provided around the inner conductor 32, an outer conductor 34, and a sheath 35 that covers the outer conductor 34. It consists of and. In order to enhance the shielding effect, the outer conductor 34 of the present embodiment is configured by, for example, double-winding a copper wire in the radial direction.

このことによって、絶縁体33に巻回された一巻き目34aの隣り合う銅線が形成する凹み部に、二巻き目34bを構成する銅線を配置することによって、隣り合う銅線同士の間の隙間が銅線によって塞がれて、遮蔽効果を大幅に向上させて放射ノイズを低減することができる。
そして、本実施形態の複合ケーブル55においては、このように構成した同軸線31を複合ケーブル55の中心軸近傍に配置している。
Thus, by arranging the copper wire constituting the second winding 34b in the recess formed by the adjacent copper wire of the first winding 34a wound around the insulator 33, the distance between the adjacent copper wires can be reduced. The gap is closed by the copper wire, so that the shielding effect can be greatly improved and radiation noise can be reduced.
In the composite cable 55 of the present embodiment, the coaxial line 31 configured as described above is disposed in the vicinity of the central axis of the composite cable 55.

撮像枠56は、撮像素子52、電子部品を実装した積層基板54、複合ケーブル55、の先端部等を覆い包む。撮像枠56は、例えば、ステンレス製で長方形状の1枚の薄板を丸めて、或いは折り曲げて所定形状に形成される。   The imaging frame 56 covers the imaging element 52, the laminated substrate 54 on which electronic components are mounted, the distal end portion of the composite cable 55, and the like. The imaging frame 56 is formed in a predetermined shape, for example, by rounding or bending one rectangular thin plate made of stainless steel.

このように、撮像素子を駆動する電源及びICを駆動する電源を、それぞれ専用に設けたことによって、撮像素子及びICをそれぞれ最低の電圧で駆動させて小電力化を実現できると共に、電源ノイズ低減を図ることができる。   As described above, the power supply for driving the image pickup device and the power supply for driving the IC are provided exclusively, so that the image pickup device and the IC can be driven with the lowest voltage to reduce the power consumption and reduce the power noise. Can be achieved.

このことによって、撮像装置の発熱が防止されることによって撮像素子の温度依存特性の改善、及び電源電圧を安定化することにより、電源ノイズが映像信号を劣化させることを防止して高画質の画像を安定して得られる。   This prevents the heat generation of the image pickup device, improves the temperature-dependent characteristics of the image pickup element, and stabilizes the power supply voltage, thereby preventing the power supply noise from degrading the video signal and improving the image quality. Can be obtained stably.

また、撮像素子の背面側に配置される積層基板に撮像素子固定領域、素子実装領域、ケーブル接続領域を設け、撮像素子側から順に撮像素子用パスコンランド、IC用ランド、IC用パスコンランド、及び複数のケーブル接続用ランドを設け、各素子を所定の方向に向けて配置する構成にしたことによって、撮像素子からケーブル接続部に至る配線の取り回しを効率良く、言い換えれば単純化することができる。   In addition, an imaging element fixing area, an element mounting area, and a cable connection area are provided on the multilayer substrate disposed on the back side of the imaging element, and the imaging element bypass land, the IC land, the IC bypass path, By providing a plurality of cable connection lands and arranging each element in a predetermined direction, it is possible to efficiently route the wiring from the image sensor to the cable connection portion, in other words, to simplify it.

このことによって、撮像素子、ICを駆動する電源をそれぞれ専用に設けることによって、素子点数が増加する構成にもかかわらず、基板上から配線を引き戻すためのスペース、配線を迂回させるためのスペースを無くして、基板が長くなること、或いは面積が大きくなることを防止して撮像装置の小型化を図れる。   This eliminates the space for pulling back the wiring from the board and the space for bypassing the wiring, despite the configuration in which the number of elements increases by providing dedicated power sources for driving the imaging device and the IC. Thus, the image pickup apparatus can be reduced in size by preventing the length of the substrate or the area from increasing.

また、配線密度の高い素子実装領域を撮像素子固定領域及びケーブル接続領域よりも広く形成することで、積層基板内に信号間のクロストークを防止するグランド層を十分に形成することができるので、画質向上を図れる。   In addition, by forming a device mounting region with a high wiring density wider than the image sensor fixing region and the cable connection region, a ground layer that prevents crosstalk between signals can be sufficiently formed in the laminated substrate. Improve image quality.

なお、図7に示すように第1基板をTABテープである第1回路基板53Aで構成して、この第1回路基板53Aに撮像素子用パスコン61を搭載する一方、第1回路基板53Aに対向する積層基板54Aの撮像素子固定領域60a側に撮像素子用パスコン61が収納される凹部54cを設けて撮像素子ユニット50Aを構成するようにしてもよい。   As shown in FIG. 7, the first substrate is composed of a first circuit board 53A, which is a TAB tape, and the image sensor bypass capacitor 61 is mounted on the first circuit board 53A, while facing the first circuit board 53A. The image sensor unit 50A may be configured by providing a recess 54c in which the image sensor bypass capacitor 61 is accommodated on the image sensor fixing region 60a side of the laminated substrate 54A.

撮像素子ユニット50Aにおいて、撮像素子52に電気的に接続されている第1回路基板53Aは、図8に示すように複数のインナーリード53c、53dを備えている。インナーリード53c、53dは、撮像素子52の直近で積層基板54A側に電気的に接続される第1インナーリード53cと、それ以外の例えば撮像素子用パスコン61に電気的に接続される第2インナーリード53dとである。本実施形態において、第1インナーリード53cと、第2インナーリード53dとは交互に配置している。即ち、図9の撮像素子ユニット50A1に示すように第1インナーリード53cを一側面側に偏ること無く配置してある。   In the image sensor unit 50A, the first circuit board 53A electrically connected to the image sensor 52 includes a plurality of inner leads 53c and 53d as shown in FIG. The inner leads 53c and 53d are a first inner lead 53c that is electrically connected to the multilayer substrate 54A side in the immediate vicinity of the image sensor 52, and a second inner that is electrically connected to the other image sensor bypass capacitor 61, for example. Lead 53d. In the present embodiment, the first inner leads 53c and the second inner leads 53d are alternately arranged. That is, as shown in the image sensor unit 50A1 in FIG. 9, the first inner leads 53c are arranged without being biased toward one side surface.

これらの構成によれば、撮像素子用パスコン61が元あった位置側に、二点鎖線に示すようにIC62、IC用パスコン63を移動させることによって、撮像素子ユニット50Aにおいては、積層基板54Aの長さを二点鎖線に示すように短くしてさらなる小型化を図ることができる。また、撮像素子ユニット50Aにおいては、インナーリード53c、53dを一方側に偏ることなくリード配置バランスを考慮した上で、電気的に接続している。このことによって、TABテープ接続の強度を撮像素子ユニット50A1に比べて高め、安定した保持状態を得ることができる。
その他の作用及び効果は上述した実施形態と同様であり、上述した実施形態と同様の構成の部材には同符号を付して説明を省略している。
According to these configurations, the image sensor unit 50A moves the IC 62 and the IC bypass capacitor 63 to the position where the image sensor bypass capacitor 61 was originally located. Further length reduction can be achieved by shortening the length as shown by a two-dot chain line. In the image sensor unit 50A, the inner leads 53c and 53d are electrically connected in consideration of the lead arrangement balance without being biased to one side. As a result, the strength of the TAB tape connection can be increased as compared with the imaging element unit 50A1, and a stable holding state can be obtained.
Other operations and effects are the same as those of the above-described embodiment, and members having the same configurations as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図10−図13は本発明の第2実施形態に係り、図10は2つの能動素子を第2回路基板に搭載した構成の撮像素子ユニットを説明する図、図11は撮像素子用パスコンが搭載される基板表面に形成されたパターンを説明する図、図12はケーブル接続用ランドに接続される各線と接続状態を説明する図、図13は図12の構成と異なるケーブル接続用ランドに接続される各線とその接続状態を説明する図である。
図10に示すように本実施形態の撮像素子ユニット50Bの積層基板54Bは、両面に素子実装領域60b1、60b2を備えている。
10 to 13 relate to a second embodiment of the present invention, FIG. 10 is a diagram for explaining an image sensor unit having a configuration in which two active elements are mounted on a second circuit board, and FIG. 11 is mounted with a bypass capacitor for the image sensor. FIG. 12 is a diagram for explaining the patterns formed on the surface of the substrate to be connected, FIG. 12 is a diagram for explaining the connection state and each line connected to the cable connection land, and FIG. 13 is connected to a cable connection land different from the configuration of FIG. It is a figure explaining each line and its connection state.
As shown in FIG. 10, the multilayer substrate 54B of the image sensor unit 50B of the present embodiment includes element mounting regions 60b1 and 60b2 on both sides.

第2素子実装領域60b2側には、凹部54c1が設けられており、その凹部54c1には撮像素子用パスコン61Aが搭載されている。
凹部54c1に搭載される撮像素子用パスコン61は、撮像素子52の背面に近接して配設されている。
このことによって、撮像素子52と撮像素子用パスコン61との隙間に侵入する封止樹脂の量が少なくなる。すると、撮像素子52を薄板状に構成した場合に、封止樹脂の応力によって、撮像素子52が反る不具合、或いは撓む不具合等の変形を抑えて、撮像素子52とガラスリッド57aとの剥離を低減することができる。
A recess 54c1 is provided on the second element mounting region 60b2 side, and an image sensor bypass capacitor 61A is mounted in the recess 54c1.
The image sensor bypass capacitor 61 mounted in the recess 54c1 is disposed in proximity to the back surface of the image sensor 52.
As a result, the amount of sealing resin that enters the gap between the image sensor 52 and the image sensor bypass capacitor 61 is reduced. Then, when the imaging element 52 is configured in a thin plate shape, the imaging element 52 and the glass lid 57a are separated from each other by suppressing deformation such as a problem that the imaging element 52 warps or bends due to the stress of the sealing resin. Can be reduced.

第1素子実装領域60b1側には、第1IC62Aと第1IC用パスコン63Aとが搭載され、第2素子実装領域60b2側には第2IC62Bと第2IC用パスコン63Bとが搭載されている。
第1IC62Aは能動素子であって、撮像素子52から出力される撮像素子出力信号の処理を行う相関二重サンプリング回路を構成する。IC62Aは、多数の接続端子(不図示)を有し、それぞれの接続端子を所定のIC用ランド(不図示)に接続して、撮像素子用パスコン61Aの後方であるケーブル接続領域60c側に配設されている。
The first IC 62A and the first IC bypass capacitor 63A are mounted on the first element mounting region 60b1 side, and the second IC 62B and the second IC bypass capacitor 63B are mounted on the second element mounting region 60b2 side.
The first IC 62A is an active element and constitutes a correlated double sampling circuit that processes the image sensor output signal output from the image sensor 52. The IC 62A has a large number of connection terminals (not shown), and each connection terminal is connected to a predetermined IC land (not shown) and arranged on the cable connection region 60c side behind the image sensor bypass capacitor 61A. It is installed.

第2IC62Bは能動素子であって、撮像素子駆動用素子であるタイミングジェネレータである。第2IC62Bは、同期信号及びタイミングジェネレータ制御信号の入力に基づいて撮像素子駆動信号及び相関二重サンプリング回路用のサンプリング信号を発生し、撮像素子52及び第1IC62Aのそれぞれに撮像素子駆動信号及びサンプリング信号を供給する。つまり、本実施形態において、第1IC62Aと第2IC62Bとは信号授受を行う。   The second IC 62B is an active element, and is a timing generator that is an image sensor driving element. The second IC 62B generates an imaging element driving signal and a sampling signal for the correlated double sampling circuit based on the input of the synchronization signal and the timing generator control signal, and the imaging element driving signal and the sampling signal are respectively supplied to the imaging element 52 and the first IC 62A. Supply. That is, in the present embodiment, the first IC 62A and the second IC 62B perform signal exchange.

第2IC62Bは、多数の接続端子(不図示)を有し、それぞれの接続端子を所定のIC用ランド(不図示)に接続して、撮像素子用パスコン61Aの後方であるケーブル接続領域60c側に配設されている。
多数の接続端子を有するIC62A、62Bは、積層基板54Bのうち層数の最も多い、素子実装領域中に配置されている。
The second IC 62B has a large number of connection terminals (not shown), and each connection terminal is connected to a predetermined IC land (not shown) to the cable connection region 60c side behind the image sensor bypass capacitor 61A. It is arranged.
The ICs 62A and 62B having a large number of connection terminals are arranged in the element mounting region having the largest number of layers in the multilayer substrate 54B.

また、第1素子実装領域60b1に搭載された第1IC62Aと、第2素子実装領域60b2に搭載された第2IC62Bとは、配線層に対して垂直な方向において第1IC62Aと第2IC62Bとが長手方向で重なるオーバーラップ部70を有するように配設されている。オーバーラップ部70には、第1IC62Aと第2IC62Bとを直線的に接続するビアホール75が設けられている。   The first IC 62A mounted in the first element mounting area 60b1 and the second IC 62B mounted in the second element mounting area 60b2 are such that the first IC 62A and the second IC 62B are longitudinal in the direction perpendicular to the wiring layer. The overlapping portion 70 is disposed so as to overlap. The overlap portion 70 is provided with a via hole 75 that linearly connects the first IC 62A and the second IC 62B.

第1IC用パスコン63Aは、第1IC62Aに配線を介して接続された第1IC専用電源を構成する能動素子用受動素子である。第1IC用パスコン63Aは、第1IC62Aの直近であって第1IC62Aの後方であるケーブル接続領域60c側に配設されている。   The first IC bypass capacitor 63A is a passive element for an active element that constitutes a power supply dedicated to the first IC connected to the first IC 62A via a wiring. The first IC bypass capacitor 63A is disposed near the first IC 62A and on the cable connection region 60c side behind the first IC 62A.

第2IC用パスコン63Bは、第2IC62Bに配線を介して接続された第2IC専用電源を構成する能動素子用受動素子である。第2IC用パスコン63Bは、第2IC62Bの直近であって第2IC62Bの後方であるケーブル接続領域60c側に配設されている。   The second IC bypass capacitor 63B is a passive element for an active element that constitutes a power supply dedicated to the second IC connected to the second IC 62B via a wiring. The second IC bypass capacitor 63B is disposed near the second IC 62B and on the cable connection region 60c side behind the second IC 62B.

図11示すように凹部54c1の開口側基板54d面上には、グランド層76と電源層77とが設けられている。電源層77の撮像素子側には、撮像素子52に入力するためのビアホール77aが所定数設けられ、ケーブル接続領域側には図12で説明するケーブル接続用ランド65a1、65b1、65c1に対応するビアホール77bが設けられている。   As shown in FIG. 11, a ground layer 76 and a power supply layer 77 are provided on the opening-side substrate 54d surface of the recess 54c1. A predetermined number of via holes 77a for inputting to the image sensor 52 are provided on the image sensor side of the power supply layer 77, and via holes corresponding to the cable connection lands 65a1, 65b1, 65c1 described in FIG. 77b is provided.

一方、グランド層76の撮像素子側には撮像素子52に入力するためのビアホール76aが所定数設けられ、ケーブル接続領域側には図12で説明するケーブル接続用ランド66a1、66b1、66c1、66d1に対応するビアホール76bが設けられている。加えて、このグランド層76の中央付近には、第1IC62Aと第2IC62Bとを直線的に接続する前記ビアホール75が設けられている。そして、これらビアホール75の周囲にはグランド用のビアホール78gがそれぞれ設けられている。   On the other hand, a predetermined number of via holes 76a for inputting to the image sensor 52 are provided on the image sensor side of the ground layer 76, and cable connection lands 66a1, 66b1, 66c1, 66d1 described in FIG. Corresponding via holes 76b are provided. In addition, the via hole 75 for linearly connecting the first IC 62A and the second IC 62B is provided near the center of the ground layer 76. Around these via holes 75, ground via holes 78g are respectively provided.

なお、積層基板54Bを構成する他の基板にも図示は省略するが、信号用の配線が形成されていない面には、グランド層及び電源層が設けられており、各グランド層同士は複数のビアホールを介して接続され、各電源層同士は複数のビアホールを介して接続されている。
そして、ビアホール75を囲むように、グランド用のビアホール78g、或いはビアホール76を設けることによって、ビアホール75によるクロストークを低減できる。
Although not shown in the other substrate constituting the laminated substrate 54B, a ground layer and a power supply layer are provided on the surface where the signal wiring is not formed, and each ground layer includes a plurality of ground layers. The power supply layers are connected to each other through a plurality of via holes.
Then, by providing the ground via hole 78g or the via hole 76 so as to surround the via hole 75, crosstalk due to the via hole 75 can be reduced.

このように、第2基板の両面に素子実装領域を設け、それぞれの素子実装領域に信号授受を行う第1ICと第2ICを配設する場合、オーバーラップ部を設け、そのオーバーラップ部に第1ICと第2ICとを接続する配線を設ける。すると、第1ICと第2ICとが最短距離で接続されて、第1ICと第2ICとの間における信号授受に遅延が発生することを確実に防止することができる。   As described above, when the device mounting areas are provided on both surfaces of the second substrate and the first IC and the second IC for transmitting and receiving signals are provided in the respective device mounting areas, an overlap portion is provided, and the first IC is provided in the overlap portion. And a wiring for connecting the second IC. Then, the first IC and the second IC are connected with the shortest distance, and it is possible to reliably prevent a delay from occurring in signal exchange between the first IC and the second IC.

このことによって、たとえ、ビデオプロセッサから出力された信号が鈍って送信された場合でも、撮像装置に設けられたタイミングジェネレータにて、撮像素子を駆動するのに十分な波形形状の信号を再生すると共に、劣化のない映像出力信号を出力することができる。   As a result, even when the signal output from the video processor is transmitted bluntly, the timing generator provided in the imaging device reproduces a signal having a waveform shape sufficient to drive the imaging device. A video output signal without deterioration can be output.

また、接続端子の多い第1IC、第2ICを層数の最も多い領域に配設したことによって、能動素子を追加した構成にもかかわらず、複数の基板を用いて配線を単純化して、基板の長さが長くなること、或いは基板の面積が大きくなることを防止して撮像装置の小型化を図ることができる。
また、基板の層数が最も厚く剛性の高い領域にICを実装することで、ICと基板との接続不良による画質劣化を防止することができる。
In addition, by arranging the first IC and the second IC having many connection terminals in the region having the largest number of layers, the wiring is simplified using a plurality of substrates in spite of the configuration in which the active element is added. The imaging device can be reduced in size by preventing the length or the area of the substrate from increasing.
Further, by mounting the IC in an area where the number of layers of the substrate is the thickest and the rigidity is high, it is possible to prevent image quality deterioration due to poor connection between the IC and the substrate.

なお、本実施形態の複合ケーブル55Bは、複合ケーブル55が有する電源線及びグランド線を有する撮像素子電源用同軸線及び第1IC電源用同軸線と、映像信号用同軸線と、第1IC信号用同軸線とに加え、追加された第2IC62Bに接続される第2IC信号用同軸線、第2IC用パスコン63に接続される、電源線及びグランド線を有する、第2IC電源用同軸線とが備えられている。つまり、第2IC信号用同軸線及び第2IC電源用電線の分だけ複合ケーブル55B内に挿通される線が増加している。   Note that the composite cable 55B of the present embodiment includes an imaging device power supply coaxial line and a first IC power supply coaxial line, a video signal coaxial line, and a first IC signal coaxial line, each having a power supply line and a ground line. In addition to the line, a second IC signal coaxial line connected to the added second IC 62B, a second IC power coaxial line having a power line and a ground line connected to the second IC bypass capacitor 63 are provided. Yes. That is, the number of lines inserted into the composite cable 55B is increased by the amount of the second IC signal coaxial line and the second IC power supply wire.

本実施形態のケーブル接続領域60cは、凸字形状の突部であって、前記第1実施形態と同様、凸部一側面64u1側及び凸部他側面64d1側には、7つのケーブル接続用ランド65a1、65b1、65c1、66a1、66b1、66c1、66d1が設けられている。   The cable connection region 60c of the present embodiment is a convex-shaped protrusion, and, similar to the first embodiment, there are seven cable connection lands on the convex one side 64u1 side and the convex other side 64d1 side. 65a1, 65b1, 65c1, 66a1, 66b1, 66c1, 66d1 are provided.

本実施形態において、例えば、符号65a1は第1実施形態と同様に撮像素子用電源ランドであり、符号65b1は第1実施形態と同様に第1IC用電源ランドであり、符号65c1は第1実施形態のグランドランドに変えて構成された第2IC用電源ランドであり、符号66a1は第1実施形態と略同様な同軸線外部導体用ランドであり、符号66b1は第1実施形態と同様に映像信号用ランドであり、符号66c1は第1実施形態と同様に第1IC信号用ランドであり、符号66d1は第1実施形態の駆動信号用グランドランドに変えて構成された第2IC信号用ランドである。   In the present embodiment, for example, reference numeral 65a1 is an image sensor power land as in the first embodiment, reference numeral 65b1 is a first IC power land as in the first embodiment, and reference numeral 65c1 is the first embodiment. The power land for the second IC is configured in place of the ground land, and reference numeral 66a1 is a land for a coaxial line outer conductor that is substantially the same as that of the first embodiment, and reference numeral 66b1 is for a video signal as in the first embodiment. Similarly to the first embodiment, the reference numeral 66c1 is a first IC signal land, and the reference numeral 66d1 is a second IC signal land configured in place of the drive signal ground land of the first embodiment.

この結果、複合ケーブル55B内を挿通する単線及び同軸線の数に比べて、ランドの数が少なくなっている。そのため、本実施形態においては、第2IC62Bに接続されるジェネレータ用同軸線36を単線として使用するため、この同軸線36の内部導体37に外部導体38を絡げた単線みなし部39を構成している。
なお、上述したようにランドの変更及びIC、パスコンの配置位置の変更に伴って、積層基板内の配線、ビアホールも適宜変更されている。
As a result, the number of lands is smaller than the number of single wires and coaxial wires inserted through the composite cable 55B. Therefore, in this embodiment, since the generator coaxial line 36 connected to the second IC 62B is used as a single line, a single wire deemed part 39 in which the outer conductor 38 is entangled with the inner conductor 37 of the coaxial line 36 is configured. .
As described above, with the change of the land and the change of the arrangement position of the IC and the bypass capacitor, the wiring and the via hole in the multilayer substrate are also appropriately changed.

図12に示すように各単線及び各同軸線の内部導体、外部導体を各ランド65a1、65b1、65c1、66a1、66b1、66c1、66d1に接続している。
すなわち、図11に示すように撮像素子電源用同軸線の内部導体である電源線81aが撮像素子用電源ランド65a1に接続され、その同軸線の外部導体であるグランド線81bは同軸線外部導体用ランド66a1に接続される。また、第1IC電源用同軸線の内部導体である電源線82aが第1IC用電源ランド65b1に接続され、その同軸線の外部導体であるグランド線82bが同軸線外部導体用ランド66a1に接続される。さらに、第2IC電源用同軸線の内部導体である電源線83aが第2IC用電源ランド65c1に接続され、その同軸線の外部導体であるグランド線83bが同軸線外部導体用ランドに接続される。
As shown in FIG. 12, the inner conductor and the outer conductor of each single line and each coaxial line are connected to each land 65a1, 65b1, 65c1, 66a1, 66b1, 66c1, 66d1.
That is, as shown in FIG. 11, the power supply line 81a, which is the inner conductor of the imaging element power supply coaxial line, is connected to the imaging element power supply land 65a1, and the ground line 81b, which is the outer conductor of the coaxial line, is for the coaxial line outer conductor. Connected to the land 66a1. Further, the power line 82a that is the inner conductor of the first IC power supply coaxial line is connected to the first IC power supply land 65b1, and the ground line 82b that is the outer conductor of the coaxial line is connected to the coaxial line outer conductor land 66a1. . Further, the power line 83a that is the inner conductor of the second IC power supply coaxial line is connected to the second IC power supply land 65c1, and the ground line 83b that is the outer conductor of the coaxial line is connected to the coaxial line outer conductor land.

一方、映像信号用同軸線の外部導体84b及び第1IC信号用同軸線の外部導体85bを一纏めにした外部導体部86は、同軸線外部導体用ランド66a1に接続される。そして、映像信号用同軸線の内部導体84aは、映像信号用ランド66b1に接続され、駆動信号用同軸線の内部導体85aが第1IC信号用ランド66c1に接続される。そして、同軸線36の単線みなし部39が第2IC信号用ランド66d1に接続される。   On the other hand, the outer conductor portion 86 in which the outer conductor 84b of the video signal coaxial line and the outer conductor 85b of the first IC signal coaxial line are connected together is connected to the coaxial line outer conductor land 66a1. The inner conductor 84a of the video signal coaxial line is connected to the video signal land 66b1, and the inner conductor 85a of the drive signal coaxial line is connected to the first IC signal land 66c1. The single wire deemed portion 39 of the coaxial line 36 is connected to the second IC signal land 66d1.

つまり、同軸線外部導体用ランド66a1には、外部導体部86が接続されると共に、その外部導体部86にグランド線81b、82b、83bが俵積み状態で配設され接続されている。   That is, the outer conductor portion 86 is connected to the coaxial line outer conductor land 66a1, and the ground wires 81b, 82b, and 83b are arranged and connected to the outer conductor portion 86 in a stacked state.

本実施形態においては、単線みなし部39が接続される第2IC信号用ランド66d1を同軸線外部導体用ランド66a1から離間した幅広なランドに接続している。   In the present embodiment, the second IC signal land 66d1 to which the single wire deemed portion 39 is connected is connected to a wide land spaced from the coaxial line outer conductor land 66a1.

このことによって、半田付け作業の際の熱が、予め外部導体部86が接続されている同軸線外部導体用ランド66a1に伝達されて半田を溶かす不具合が防止されるので、半田付け作業性の向上を図れる。   As a result, the heat at the time of the soldering work is transmitted to the coaxial line outer conductor land 66a1 to which the outer conductor portion 86 is connected in advance, thereby preventing the problem of melting the solder, thereby improving the soldering workability. Can be planned.

また、接続される信号線が太い、同軸線外部導体ランド66a1と第2IC信号用ランド66d1とが離間した位置に形成されているので、半田ごてを誤って意図しない信号線に接触させることを防止することができるので、半田付け作業性の向上を図れる。   In addition, since the signal line to be connected is thick and the coaxial line outer conductor land 66a1 and the second IC signal land 66d1 are formed at positions separated from each other, the soldering iron is erroneously brought into contact with an unintended signal line. Therefore, the soldering workability can be improved.

また、束ねられて太径に構成された単線みなし部39、或いは外部導体部86が配置される積層基板54Bの段差高さhを太径部の外形Hを考慮して設定することにより、半田作業の際、単線みなし部39、外部導体部86に半田ごてを当てやすくすることができる。   Also, by setting the step height h of the laminated substrate 54B on which the single wire deemed portion 39 or the outer conductor portion 86, which is bundled and configured to have a large diameter, is set in consideration of the outer shape H of the large diameter portion, During the operation, it is possible to easily apply a soldering iron to the single wire deemed portion 39 and the outer conductor portion 86.

なお、第1実施形態の撮像素子ユニット50の構成において、部品の共通化を図るために複合ケーブル55Bを使用する場合、余分な信号線はグランドランドに接続する。このことによって、余分な信号線が導体部に接触して発生する短絡を防止することができる。   In the configuration of the image sensor unit 50 according to the first embodiment, when the composite cable 55B is used to share parts, the extra signal line is connected to the ground land. As a result, it is possible to prevent a short circuit that occurs when an extra signal line contacts the conductor.

また、図13に示すように同軸線を単線化した信号線を接続するケーブル接続用ランド66d1を、ケーブル接続用ランドの数が少ない側の面に設けることによって、ケーブル接続用ランド66d1とケーブル接続用ランド65b1との距離を十分に確保することができるので、半田付け作業性の向上を図ることができる。本実施形態においては、ケーブル接続用ランド66d1以外のケーブル接続用ランドの幅寸法を同一寸法に設定してある。なお、同軸線外部導体ランド66a1に接続される信号線は、映像信号用同軸線の外部導体84b及び第1IC信号用同軸線の外部導体85bを一纏めにした外部導体部86、撮像素子電源用同軸線のグランド線81b、第1IC電源用同軸線のグランド線82b、第2IC電源用同軸線のグランド線83bを撚り束ねたジャンパー線87である。   Further, as shown in FIG. 13, the cable connection land 66d1 for connecting the signal line obtained by converting the coaxial line into a single line is provided on the surface having the smaller number of cable connection lands, so that the cable connection land 66d1 and the cable connection are connected. Since a sufficient distance from the land for use 65b1 can be secured, the soldering workability can be improved. In this embodiment, the width dimensions of the cable connection lands other than the cable connection land 66d1 are set to the same dimension. The signal line connected to the coaxial line outer conductor land 66a1 includes an outer conductor part 84b in which the outer conductor 84b of the video signal coaxial line and the outer conductor 85b of the first IC signal coaxial line are grouped together, and a coaxial for the imaging device power supply. A jumper wire 87 in which a ground wire 81b of the wire, a ground wire 82b of the first IC power supply coaxial wire, and a ground wire 83b of the second IC power supply coaxial wire are twisted and bundled.

尚、本発明は、以上述べた実施形態のみに限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.

1…電子内視鏡システム 2…内視鏡 30…撮像装置 50…撮像素子ユニット
51…撮像ホルダ 52…撮像素子 53…第1基板 54…積層基板
55…複合ケーブル 55a…撮像素子電源用電線 55b…電源用電線
56…撮像枠 56a…映像信号用同軸線 57a…ガラスリッド
60a…撮像素子固定領域 60b…素子実装領域 60c…ケーブル接続領域
61…撮像素子用パスコン 62…IC 63…IC用パスコン
70…オーバーラップ部 71…撮像素子用パスコンランド
73…IC用パスコンランド 74、75…ビアホール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electronic endoscope system 2 ... Endoscope 30 ... Imaging device 50 ... Image pick-up element unit 51 ... Image pick-up holder 52 ... Image pick-up element 53 ... 1st board | substrate 54 ... Laminated board 55 ... Composite cable 55a ... Electric wire for image pick-up element power supply 55b ... Power supply wires
56 ... Imaging frame 56a ... Video signal coaxial line 57a ... Glass lid 60a ... Imaging element fixing area 60b ... Element mounting area 60c ... Cable connection area 61 ... Imaging element bypass capacitor 62 ... IC 63 ... IC bypass capacitor
70 ... Overlap part 71 ... Pass-conland for image sensor
73 ... IC passcon land 74, 75 ... Via hole

Claims (10)

撮像素子と、
この撮像素子が接続され、前記撮像素子の背面側に延出される第1の基板と、
前記撮像素子専電源を構成する撮像素子用受動素子と、
少なくとも前記撮像素子の出力信号を処理する能動素子と、
前記能動素子の専用電源を構成する能動素子用受動素子と、
前記第1の基板接続される撮像素子固定領域、前記撮像素子用受動素子と前記能動素子と前記能動素子用受動素子が搭載される素子実装領域、及び複数のケーブル接続用ランドとして少なくとも撮像素子電源用電線の電源線が接続される撮像素子用電源ランドと能動素子用電線の電源線が接続される能動素子用電源ランドとが設けられるケーブル接続領域を備える第2の基板と、を具備し
前記第2の基板に、前記撮像素子の背面側から順に、前記撮像素子用受動素子、前記能動素子、前記能動素子用受動素子、前記ケーブル接続領域を配置したことを特徴とする撮像装置。
An image sensor;
A first substrate connected to the image sensor and extending to the back side of the image sensor;
A passive element for IMAGING elements constituting the power supply for the imaging element dedicated,
An active element that processes at least the output signal of the imaging element;
A passive element for ability kinematic elements forming a dedicated power supply of the active element,
Image sensor fixing region in which the first substrate is Ru is connected, as the imaging device for the passive element and the front Symbol active element and said element mounting region and active elements for passive elements Ru are mounted and a plurality of cable connection lands, A second substrate including a cable connection region provided with at least an imaging element power land to which an imaging element power source power line is connected and an active element power land to which an active element power line is connected ; Comprising
On the second substrate, in order from the back side of the imaging device, the imaging device for a passive element, the active element, the active element for a passive element, an image pickup apparatus characterized by being placed the cable connection area .
前記ケーブル接続領域は、グランド線が接続されるグランドランドと、その他の信号線が接続される信号線ランドと、を具備することを特徴とする請求項1記載の撮像装置。The imaging apparatus according to claim 1, wherein the cable connection region includes a ground land to which a ground line is connected and a signal line land to which another signal line is connected. 前記撮像素子用受動素子は、前記第1の基板、若しくは前記第2の基板と同一寸法以下の辺を有することを特徴とする請求項1記載の撮像装置。   The image pickup apparatus according to claim 1, wherein the passive element for the image pickup element has a side having the same dimension or less as the first substrate or the second substrate. 前記能動素子は、前記第1の基板、若しくは前記第2の基板と同一寸法以下の辺を有することを特徴とする請求項1記載の撮像装置。   The imaging device according to claim 1, wherein the active element has a side having the same dimension or less as the first substrate or the second substrate. 前記第2の基板は積層基板であり、この積層基板に前記撮像素子固定領域と、前記素子実装領域と、前記ケーブル接続領域とを設ける構成において、
前記素子実装領域内の最も基板の層数が多い領域に、接続端子の多い能動素子を配置することを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
In the configuration in which the second substrate is a multilayer substrate and the multilayer substrate is provided with the imaging element fixing region, the element mounting region, and the cable connection region.
2. The imaging apparatus according to claim 1, wherein active elements having a large number of connection terminals are arranged in an area where the number of layers of the substrate is the largest in the element mounting area.
前記積層基板の両面に前記素子実装領域を設ける構成において、
前記素子実装領域は、双方の面において、前記ケーブル接続領域及び前記撮像素子固定領域よりも面積が大きいことを特徴とする請求項記載の撮像装置。
In the configuration in which the element mounting area is provided on both surfaces of the multilayer substrate,
The imaging device according to claim 5 , wherein the element mounting area has an area larger than the cable connection area and the imaging element fixing area on both sides.
前記能動素子の接続端子は、前記積層基板に形成されたビアホールにかからないように形成されることを特徴とする請求項又は請求項に記載の撮像装置。 Connection terminals of the active element, an imaging apparatus according to claim 5 or claim 6, characterized in that it is formed so as not to via hole formed in the multilayer substrate. 前記積層基板の両面に素子実装領域を備え、それぞれの素子実装領域に素子間で信号の授受を行う能動素子をそれぞれ搭載する構成において、
一方の面に搭載される能動素子と他方の面に搭載される能動素子とは、前記積層基板の配線層に対して垂直な方向においてオーバーラップ部を有することを特徴とする請求項に記載の撮像装置。
In the configuration in which element mounting areas are provided on both surfaces of the multilayer substrate, and active elements that transmit and receive signals between the elements are mounted in the respective element mounting areas.
The active element mounted on the active element and the other surface to be mounted on one side, according to claim 6, characterized in that it comprises an overlapping portion in a direction perpendicular to the wiring layer of the multilayer substrate Imaging device.
前記積層基板が備える両面の前記素子実装領域にそれぞれ搭載される能動素子は、一方が前記撮像素子の出力信号を処理する出力信号処理素子であって、他方が撮像素子駆動用素子であることを特徴とする請求項記載の撮像装置。 One of the active elements mounted on each of the element mounting regions on both sides of the multilayer substrate is an output signal processing element that processes an output signal of the imaging element, and the other is an imaging element driving element. The imaging apparatus according to claim 8, characterized in that: 請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載した撮像装置を用いた電子内視鏡。 An electronic endoscope using the imaging device according to any one of claims 1 to 9 .
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