JP5275931B2

JP5275931B2 - Vibration isolation mechanism

Info

Publication number: JP5275931B2
Application number: JP2009163293A
Authority: JP
Inventors: 孝彦掛水
Original assignee: Olympus Corp
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 2009-07-10
Filing date: 2009-07-10
Publication date: 2013-08-28
Anticipated expiration: 2029-07-10
Also published as: JP2011017402A

Description

本発明は、精密機器本体に伝わる振動を防止する除振技術に関する。 The present invention relates to a vibration isolation technique for preventing vibration transmitted to a precision instrument body.

精密機器による観察や測定に誤りを発生させる要因のひとつとして、精密機器を設置した台（テーブルなど）の面や床から精密機器に伝わる振動が知られている。精密機器へ伝わる振動を防止する方法として、台（テーブルなど）と精密機器の間や、床と精密機器の間に除振台を設置する方法がある。しかし、除振台は高価であるとともに、除振台を設置すると精密機器を含む装置全体のサイズ及び重量が大きくなってしまう。そこで、精密機器の底部に除振用の弾性体を取り付けて、精密機器へ伝わる振動を防止する提案がされている。 As one of the factors that cause errors in observation and measurement by precision instruments, vibration transmitted from the surface of the table (table or the like) or floor on which the precision instrument is installed to the precision instrument is known. As a method of preventing vibration transmitted to precision equipment, there is a method of installing a vibration isolation table between a table (table or the like) and precision equipment, or between a floor and precision equipment. However, the vibration isolation table is expensive, and if the vibration isolation table is installed, the size and weight of the entire apparatus including the precision device are increased. Therefore, a proposal has been made to prevent vibration transmitted to the precision instrument by attaching an elastic body for vibration isolation to the bottom of the precision instrument.

例えば、顕微鏡などの精密機器の下に柔らかい弾性体を、テーブル等の顕微鏡搭載面に硬い弾性体を結合して組み合わせた除振機構を、顕微鏡本体の下の凹部に弾性体の側面と凹部の側面に隙間を空けて４箇所に組み込んだ顕微鏡が提案されている。（特許文献１）この提案では、顕微鏡が大きく揺れた際に、弾性体の側面と顕微鏡の底部の凹部の側面を接触させて顕微鏡の揺れを早く抑える。また、硬い弾性体がテーブル面に接触するため、テーブル面に吸着しないこと、硬い弾性体の表面抵抗を大きくして、顕微鏡設置後にテーブル上で顕微鏡の位置がズレない様にしている。 For example, an anti-vibration mechanism that combines a soft elastic body under a precision instrument such as a microscope and a hard elastic body combined with a microscope mounting surface such as a table and the like. Microscopes have been proposed that are incorporated in four places with gaps on the side. (Patent Document 1) In this proposal, when the microscope is greatly shaken, the side surface of the elastic body and the side surface of the concave portion at the bottom of the microscope are brought into contact with each other to quickly suppress the shaking of the microscope. In addition, since the hard elastic body comes into contact with the table surface, it is not attracted to the table surface, and the surface resistance of the hard elastic body is increased so that the position of the microscope on the table is not displaced after the microscope is installed.

しかしながら、重い顕微鏡をテーブル面に搭載する際に、４つの弾性体を同時にテーブル面に接地させるのは難しく、最初にテーブル面に接触した弾性体の表面抵抗が大きくなる。そのため、弾性体がテーブル面上で引っ掛かり、弾性体が曲がった状態で顕微鏡がテーブル面に設置される。特に顕微鏡が重たい場合にこの現象は発生し易すく、弾性体が曲がった状態になった場合には除振性能が劣化してしまう。また、一つでも弾性体が曲がると、曲がった弾性体の戻り力によって、他の正常に設置された弾性体も曲げの力が加わり、除振性能が劣化する。 However, when mounting a heavy microscope on the table surface, it is difficult to ground the four elastic bodies to the table surface at the same time, and the surface resistance of the elastic body that first contacts the table surface increases. Therefore, the microscope is installed on the table surface while the elastic body is caught on the table surface and the elastic body is bent. This phenomenon is likely to occur particularly when the microscope is heavy, and the vibration isolation performance deteriorates when the elastic body is bent. Further, when even one elastic body is bent, the return force of the bent elastic body causes a bending force to be applied to other normally installed elastic bodies, thereby degrading the vibration isolation performance.

実用新案登録第２６０４８５４号公報Utility Model Registration No. 2604854

上記のような実情に鑑みてなされたものであり、精密機器において除振性能の劣化を防止する除振機構を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a vibration isolation mechanism that prevents deterioration of vibration isolation performance in a precision instrument.

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を荷重方向に押すことにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、を備える除振機構である。 An anti-vibration mechanism provided at the bottom of the precision instrument, wherein the elastic body attenuates the vibration of the precision instrument, the elastic body is fixed to the top, and the elastic body swings between the elastic body and the side surface An upper support portion having a possible gap and having an upper guide portion on the side surface, fixed to the lower portion of the elastic body, and engaged with the upper guide portion by pushing the precision device in the load direction, and the elastic And a lower support portion that includes a lower guide portion that guides the body to a fixed position, and that slides on a surface on which the precision device is installed when the elastic body is guided.

また、前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有する。
また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。 The upper guide part has an inclination on the side surface, and the lower guide part has an inclination to contact the inclination of the upper guide part and guide the elastic body to a fixed position.
The elastic body may be a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面の底部に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を上方向に持ち上げることにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備える下支持部と、を備える除振機構である。 An anti-vibration mechanism provided at the bottom of the precision instrument, wherein the elastic body attenuates the vibration of the precision instrument, the elastic body is fixed to the top, and the elastic body swings between the elastic body and the side surface An upper support portion having an upper guide portion at the bottom of the side surface, and fixed to the lower portion of the elastic body, and engaged with the upper guide portion by lifting the precision device upward. And a lower support portion including a lower guide portion that guides the elastic body to a fixed position.

また、前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有する。
精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、前記弾性体の下部に載せ、回転することにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、を備える除振機構である。 The upper guide part has an inclination on the side surface, and the lower guide part has an inclination to contact the inclination of the upper guide part and guide the elastic body to a fixed position.
An anti-vibration mechanism provided at the bottom of the precision instrument, wherein the elastic body attenuates the vibration of the precision instrument, the elastic body is fixed to the top, and the elastic body swings between the elastic body and the side surface An upper support portion having a possible gap and having an upper guide portion on the side surface and a lower portion of the elastic body are placed and rotated to engage with the upper guide portion to guide the elastic body to a fixed position. And a lower support part that includes a lower guide part and slides on a surface on which the precision device is installed by guiding the elastic body.

また、前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に***して丸みをおびた凸部を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に***して丸みをおびた凸部を有する。 In addition, the upper guide part has a convex part that is raised and rounded in the direction of the elastic body on the side surface, and the lower guide part comes into contact with the upper guide part to place the elastic body in a fixed position. It has a convex part that is raised and rounded in the direction of the side surface to be guided.

また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。
また、前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に***して丸みをおびた凸部を、上方向に伸ばした形状を有し、前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に***して丸みをおびた凸部を有する。 The elastic body may be a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.
Further, the upper guide part has a shape in which a convex part that is raised and rounded on the side surface in the direction of the elastic body is extended upward, and the lower guide part is in contact with the upper guide part. And having a rounded convex portion raised in the direction of the side surface for guiding the elastic body to a fixed position.

また、前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせてもよい。
精密機器の底部に設けられる除振機構であって、前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有する上支持部と、前記弾性体の下部に固定された下部支持部を備え、前記上支持部と前記下支持部が相対的に移動するとともに、上支持部と下支持部の少なくともどちらか一方に前記弾性体の校正マーク、を備える除振機構である。 The elastic body may be a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.
An anti-vibration mechanism provided at the bottom of the precision instrument, wherein the elastic body attenuates the vibration of the precision instrument, the elastic body is fixed to the top, and the elastic body swings between the elastic body and the side surface An upper support portion having a possible gap and a lower support portion fixed to a lower portion of the elastic body, the upper support portion and the lower support portion relatively move, and the upper support portion and the lower support portion The vibration isolation mechanism includes at least one of the calibration marks for the elastic body.

精密機器において除振機構の除振性能の劣化を防止することができる。 It is possible to prevent the vibration isolation performance of the vibration isolation mechanism from deteriorating in the precision instrument.

顕微鏡（精密機器）と除振機構の一例を示す側面図と背面図である。It is the side view and back view which show an example of a microscope (precision apparatus) and a vibration isolation mechanism. 実施例１の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional view of the vibration isolator of Example 1, and the longitudinal cross-sectional view from line A-A '. Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは弾性体が荷重方向に縮み、上支持部が下支持部に接近し、上部誘導部と下部誘導部が接触することを示している。ＣはＢに示す状態からさらに、荷重方向に力を加え校正された状態を示す図である。A shows a state in which the vibration isolation performance is deteriorated. B indicates that the elastic body contracts in the load direction, the upper support portion approaches the lower support portion, and the upper guide portion and the lower guide portion come into contact with each other. C is a view showing a state in which a force is further applied in the load direction and calibrated from the state shown in B. FIG. 実施例２における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional view of the vibration isolator mechanism in Example 2, and the longitudinal cross-sectional view from line A-A '. Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは弾性体が縮み、上支持部が下支持部に接近し、上部誘導部と下部誘導部が接触することを示している。ＣはＢに示す状態から校正された状態を示す図である。A shows a state in which the vibration isolation performance is deteriorated. B indicates that the elastic body contracts, the upper support part approaches the lower support part, and the upper guide part and the lower guide part come into contact with each other. C is a diagram showing a state calibrated from the state shown in B. FIG. 実施例３における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional view of the vibration isolator in Example 3, and the longitudinal cross-sectional view from line A-A '. Ａは除振性能が劣化している状態を示している。Ｂは下部誘導部を回転させて上部誘導部と下部誘導部を接触させ校正したことを示している。ＣはＢに示す状態からさらに回転させた状態を示す図である。A shows a state in which the vibration isolation performance is deteriorated. B indicates that the lower guiding portion is rotated and the upper guiding portion and the lower guiding portion are brought into contact with each other for calibration. C is a view showing a state further rotated from the state shown in B. FIG. 上部誘導部のマークに下部誘導部のマークを回転させて合わせて校正することを示す図である。It is a figure which shows correcting by rotating the mark of a lower induction | guidance | derivation part to the mark of an upper induction | guidance | derivation part. 実施例４における除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。Ａは除振機構を持ち上げた状態を示している。Ｂは除振機構が設置された状態を示している。ＣはＢに示す状態からさらに回転させた状態を示す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional view of the vibration isolator in Example 4, and the longitudinal cross-sectional view from line A-A '. A shows a state where the vibration isolation mechanism is lifted. B shows a state where a vibration isolation mechanism is installed. C is a view showing a state further rotated from the state shown in B. FIG. Ａは正常に除振されている状態である。Ｂは除振機構の除振性能が劣化している状態を示している。A is a state of normal vibration isolation. B shows a state where the vibration isolation performance of the vibration isolation mechanism is deteriorated. 除振機構の取り付け位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the attachment position of a vibration isolation mechanism.

以下図面に基づいて、本発明の実施形態について詳細を説明する。
図１は、後述する実施例で説明する顕微鏡（精密機器）と除振機構との一例を示す図である。図１には顕微鏡１を設置台３に配置したときの側面図と背面図が示されている。なお、精密機器とは、分析機器、観察機器、測定機器などであり、以降の実施例では顕微鏡について説明をする。除振機構２ａ〜２ｄは、顕微鏡１の重心を中心として、顕微鏡１の底部に均等に配置され、顕微鏡１の底部４に差し込み固定して使用する。また、図１では顕微鏡１の底部４の４箇所に除振機構２ａ〜２ｄを内設しているが、除振機構は顕微鏡１を安定することができれば４箇所に限定するものではない。
また、図１では顕微鏡１の本体に除振機構２ａ〜２ｄが組み込まれて内設しているが、必ずしも内設しなくてもよい。
（実施例１）
図２は、実施例１の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図２に示す除振機構は、弾性体２１ａ、２１ｂ、上支持部５、下支持部６を備えている。弾性体２１ａ、２１ｂは顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体２１ａはバネを用い、弾性体２１ｂにはジェル状、又はゴム等の円柱形状のダンパを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。しかし、弾性体が柔らかいほど除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際の揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例１では図２に示したように、異なる固有値を有する弾性体（バネとダンパ）を組み合わせた構造の弾性体を採用している。なお、弾性体は本例のように必ずしも異なる固有値を有する弾性体を組み合わせなくてもよく、単一の弾性体を用いることもできる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a microscope (precision device) and a vibration isolation mechanism which will be described in an embodiment described later. FIG. 1 shows a side view and a rear view when the microscope 1 is placed on the installation table 3. Note that precision instruments are analytical instruments, observation instruments, measuring instruments, etc., and in the following examples, a microscope will be described. The anti-vibration mechanisms 2a to 2d are arranged evenly on the bottom of the microscope 1 with the center of gravity of the microscope 1 as the center, and are inserted into the bottom 4 of the microscope 1 and used. In FIG. 1, vibration isolation mechanisms 2 a to 2 d are provided at four locations on the bottom 4 of the microscope 1, but the vibration isolation mechanisms are not limited to four locations as long as the microscope 1 can be stabilized.
In FIG. 1, the vibration isolation mechanisms 2 a to 2 d are incorporated in the main body of the microscope 1 and installed therein.
Example 1
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a cross-sectional view of the vibration isolation mechanism of the first embodiment and a vertical cross-sectional view taken from line AA ′. The vibration isolation mechanism shown in FIG. 2 includes elastic bodies 21 a and 21 b, an upper support portion 5, and a lower support portion 6. The elastic bodies 21a and 21b attenuate the vibration of the microscope 1. For example, the elastic body 21a can be a spring, and the elastic body 21b can be a gel-like or cylindrical damper such as rubber. Note that the harder the elastic body, the lower the vibration isolation performance (higher eigenvalue), and the softer the elastic body, the higher the vibration isolation performance (lower eigenvalue). However, the softer the elastic body, the better the vibration isolation performance. However, when the elastic body is soft, it becomes difficult for the vibration when the precision instrument is operated to settle. Therefore, in the first embodiment, as shown in FIG. 2, an elastic body having a structure in which elastic bodies (springs and dampers) having different eigenvalues are combined is employed. The elastic bodies do not necessarily have to be combined with elastic bodies having different eigenvalues as in this example, and a single elastic body can be used.

上支持部５は、顕微鏡１の底部４に設けられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部５は、円錐台形状の穴２４を有し、穴２４の上部２４ａに、弾性体２１ａ、２１ｂの上部を固定し、弾性体２１ａの側面と上支持部５の穴２４の内部側面２５との間に弾性体２１ａ、２１ｂが揺動可能な隙間を有している。上部２４ａと弾性体２１ａ、２１ｂの上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。また、上支持部５の内部側面２５には上部誘導部を備えている。図１の例では上部誘導部は、円錐台の穴２４の上部２４ａ（上底）の外周からＬ（ｍｍ）ずつ広がって円錐台の下底の外周に達する傾斜を有する。
なお、顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの形状の穴が設けられており上支持部５の上面部２４ｂを固定する。上支持部５の上面部２４ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱、直方体形状でなくてもよく、上支持部５が取り付けられる形状を有していればよい。また、必ずしも穴である必要はない。なお、本例では上支持部５は、円錐台形状の穴を有し、円錐台の穴２４の上部２４ａに弾性体２１a、２１ｂを固定しているが、上支持部５を設けずに、弾性体２１a、２１ｂを直接、顕微鏡１の底部に固定してもよい。 The upper support portion 5 is fixed by being inserted into a hole provided in the bottom portion 4 of the microscope 1 and has, for example, a cylindrical shape or a rectangular parallelepiped shape. The upper support portion 5 has a truncated cone-shaped hole 24. The upper portions of the elastic bodies 21 a and 21 b are fixed to the upper portion 24 a of the hole 24, and the side surface of the elastic body 21 a and the inner side surface of the hole 24 of the upper support portion 5. There are gaps between the elastic bodies 21a and 21b. The upper portion 24a and the upper portions of the elastic bodies 21a and 21b may be fixed with screws or an adhesive or a wire, for example. Further, the inner side surface 25 of the upper support portion 5 is provided with an upper guide portion. In the example of FIG. 1, the upper guide portion has an inclination that extends by L (mm) from the outer periphery of the upper portion 24 a (upper bottom) of the hole 24 of the truncated cone and reaches the outer periphery of the lower bottom of the truncated cone.
In addition, the bottom part 4 of the microscope 1 is provided with a hole having a shape such as a cylinder or a rectangular parallelepiped, for example, and fixes the upper surface part 24 b of the upper support part 5. The upper surface portion 24b of the upper support portion 5 and the bottom portion 4 of the microscope 1 may be fixed by, for example, screws or using an adhesive or a wire. In addition, the hole provided in the bottom part 4 of the microscope 1 does not necessarily need to be a cylinder or a rectangular parallelepiped shape, and may have a shape to which the upper support part 5 is attached. Moreover, it does not necessarily need to be a hole. In this example, the upper support portion 5 has a truncated cone-shaped hole, and the elastic bodies 21a and 21b are fixed to the upper portion 24a of the truncated cone hole 24. However, without providing the upper support portion 5, The elastic bodies 21a and 21b may be directly fixed to the bottom of the microscope 1.

なお、本例では傾斜する穴２４の内部側面２５を上部誘導部としているが、必ずしも内部側面２５の傾斜は上部２４外周からすぐに傾斜させなくてもよく、後述する下支持部６の下部誘導部と係合して弾性体２１ａ、２１ｂが誘導され顕微鏡１が配置される設置台の面を滑動部２２が滑動する構造であればよい。例えば、内部側面２５の中間あたりから円錐台の下底の外周に向かって傾斜してもよい。 In this example, the inner side surface 25 of the inclined hole 24 is the upper guiding portion. However, the inner side surface 25 does not necessarily have to be inclined immediately from the outer periphery of the upper portion 24. Any structure may be used as long as the sliding portion 22 slides on the surface of the installation base on which the elastic bodies 21a and 21b are guided to engage the portion and the microscope 1 is disposed. For example, you may incline toward the outer periphery of the bottom bottom of a truncated cone from the middle of the inner side surface 25. FIG.

下支持部６は円柱形状であり、下支持部６の直径は上支持部５の底部開口の直径より短く、上支持部５に挿抜できる形状である。また、下支持部６は、上面２６と弾性体２１ａ、２１ｂの下部を固定し、顕微鏡１を荷重方向に押すことにより上支持部５の上部誘導部と係合して弾性体を定位置に誘導する傾斜部２８（下部誘導部）と、弾性体２１ａ、２１ｂが誘導されることにより顕微鏡１が配置される面を滑動する滑動部２２を備えている。ここで係合するとは、上部誘導部を荷重方向に押す力により、傾斜部２８の傾斜を上部誘導部の端部がずれるように移動して、適正な形状（円柱状）に弾性体２１ａ、２１ｂを校正（アライメント）させるように、上部誘導部と下支持部６が接触することをいう。また、滑動部２２の底面２７は低摩擦にする、例えば、テフロン（登録商標）をコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図２では上記コーティング、別部品などを符号２３により示している。 The lower support portion 6 has a cylindrical shape, and the diameter of the lower support portion 6 is shorter than the diameter of the bottom opening of the upper support portion 5 and can be inserted into and removed from the upper support portion 5. Further, the lower support portion 6 fixes the upper surface 26 and the lower portions of the elastic bodies 21a and 21b and engages with the upper guide portion of the upper support portion 5 by pushing the microscope 1 in the load direction to bring the elastic body into a fixed position. An inclined portion 28 (lower guiding portion) for guiding and a sliding portion 22 that slides on the surface on which the microscope 1 is arranged by guiding the elastic bodies 21a and 21b are provided. Engaging here means that the force of pushing the upper guiding portion in the load direction moves the inclination of the inclined portion 28 so that the end of the upper guiding portion is displaced, and the elastic body 21a has an appropriate shape (cylindrical shape). This means that the upper guide portion and the lower support portion 6 are in contact with each other so as to calibrate (align) 21b. Further, the bottom surface 27 of the sliding portion 22 may be coated with, for example, Teflon (registered trademark) to reduce friction. Moreover, when using low friction resin as another component, you may fix another component with a double-sided tape or an adhesive agent. In FIG. 2, the coating and other parts are indicated by reference numeral 23.

傾斜部２８は、下支持部６の上面２６の外周から側面２９のいずれかの位置までの傾斜である。また、傾斜部２８の形状は、丸（Ｒ）形状の傾斜にして、誘い込みができる形状であってもよい。上面２６と弾性体２１ａ、２１ｂの下部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。 The inclined portion 28 is an inclination from the outer periphery of the upper surface 26 of the lower support portion 6 to any position on the side surface 29. Moreover, the shape of the inclined portion 28 may be a round (R) shape and can be guided. The upper surface 26 and the lower portions of the elastic bodies 21a and 21b may be fixed with, for example, screws or an adhesive or a wire.

図３のＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、除振機構２ａ〜２ｄのうちのいずれかの弾性体２１ａ、２１ｂが斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。 3A shows that when the microscope 1 is installed on the installation table 3, any one of the elastic bodies 21a and 21b of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d is inclined, and the vibration isolation performance of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d is shown. Indicates a state of being deteriorated.

図３のＡに示す状態で、作業者が設置台３に設置された顕微鏡１を、顕微鏡１の荷重方向に押すと、図３のＢの状態になる。
図３のＢは、弾性体２１ａ、２１ｂが荷重方向に縮み、上支持部５が下支持部６に接近し、互いの傾斜部である内部側面２５（上部誘導部）と傾斜部２８（下部誘導部）が接触（図３のＢの破線範囲）することを示している。 In the state shown in FIG. 3A, when the operator pushes the microscope 1 installed on the installation table 3 in the load direction of the microscope 1, the state shown in FIG.
In FIG. 3B, the elastic bodies 21a and 21b contract in the load direction, the upper support portion 5 approaches the lower support portion 6, and the inner side surface 25 (upper guide portion) and the inclined portion 28 (lower portion) which are the inclined portions of each other. It is shown that the guiding portion is in contact (the broken line range in FIG. 3B).

図３のＢに示す状態からさらに、荷重方向に力を加えると図３のＣの状態になり、設置台３の上面を滑動部２２が滑り、下支持部６が上支持部５と同心となる様に校正される。すなわち、弾性体２１ａ、２１ｂの除振性能が劣化しない位置に校正される（図３のＣの破線範囲）。その後、作業者が顕微鏡１を押すのを止めると、顕微鏡１は、弾性体２１ａ、２１ｂによって浮上し、弾性体２１ａ、２１ｂが適正な形状になり除振が開始される。 When a force is further applied in the load direction from the state shown in FIG. 3B, the state becomes C in FIG. 3, the sliding portion 22 slides on the upper surface of the installation table 3, and the lower support portion 6 is concentric with the upper support portion 5. It is calibrated as follows. In other words, the elastic bodies 21a and 21b are calibrated to a position where the vibration isolation performance does not deteriorate (the broken line range in FIG. 3C). Thereafter, when the operator stops pressing the microscope 1, the microscope 1 is lifted by the elastic bodies 21a and 21b, and the elastic bodies 21a and 21b have an appropriate shape and vibration isolation is started.

上記のような除振機構を精密機器に取り付けることにより、精密機器設置後でも、簡単な構成で、重い精密機器を荷重方向に押すだけで、弾性体２１ａ、２１ｂの校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。 By attaching the vibration isolation mechanism as described above to a precision instrument, the elastic bodies 21a and 21b can be calibrated by simply pushing a heavy precision instrument in the load direction with a simple configuration even after the precision instrument is installed. Degradation of performance can be prevented.

また、滑動部２２を設けることにより、従来のように直接柔らかい弾性体が設置台の表面に接触しないため、弾性体が設置台の表面に吸着し、移設時に設置台の面上に跡をつけること、弾性体がちぎれること、を防止できる。
（実施例２）
図４、５を用い実施例２の説明をする。なお、図１と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。 Further, by providing the sliding portion 22, the soft elastic body does not directly contact the surface of the installation table as in the conventional case, so that the elastic body is adsorbed on the surface of the installation table and marks on the surface of the installation table at the time of transfer. And the elastic body can be prevented from being broken.
(Example 2)
The second embodiment will be described with reference to FIGS. Note that portions similar to those in FIG. 1 are described with the same reference numerals.

図４は、実施例２における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの一例を示す構成図あり、実施例２の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図を示す図である。図４に示す除振機構は、弾性体４３、上支持部４１、下支持部４２を備えている。 FIG. 4 is a configuration diagram illustrating an example of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d illustrated in FIG. 1 according to the second embodiment. A cross-sectional view of the vibration isolation mechanism according to the second embodiment and a vertical cross-sectional view from the line AA ′ are illustrated. FIG. The vibration isolation mechanism shown in FIG. 4 includes an elastic body 43, an upper support portion 41, and a lower support portion 42.

弾性体４３は顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体４３は円柱状の円形の除振ゴム、バネ、ダンパなどを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。弾性体が柔らかい方が除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際に大きく揺れたとき、揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例２では図４に示したように、最適となる固有値を有する弾性体を採用している。 The elastic body 43 attenuates the vibration of the microscope 1. For example, the elastic body 43 can be a circular circular vibration isolator, a spring, a damper, or the like. Note that the harder the elastic body, the lower the vibration isolation performance (higher eigenvalue), and the softer the elastic body, the higher the vibration isolation performance (lower eigenvalue). The softer the elastic body, the better the vibration isolation performance. However, when the elastic body is soft, it becomes difficult for the vibration to settle when it shakes greatly when operating a precision instrument. Therefore, in the second embodiment, as shown in FIG. 4, an elastic body having an optimum eigenvalue is employed.

上支持部４１は、顕微鏡１の底部４にあけられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部４１は、円柱形状の穴を有し、穴の下部に傾斜部４６を備えた形状をしている。弾性体４３の上部を穴４４の上部４４ａに固定して、同心となる様に支持する。また、上支持部４１は、弾性体４３の側面と上支持部４１の側面４５との間に弾性体４３が揺動可能な隙間を有している。上部４４と弾性体４３の上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。また、上支持部５の内部側面４５には上部誘導部を備えている。図４の例では上部誘導部は、内部側面４５の途中から上支持部４１の底面開口の内側に向かって傾斜を有している（傾斜部４６）。顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの穴が設けられており上支持部４１の上面部４４ｂと顕微鏡底部を固定する。上支持部４１の上面部４４ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱または直方体形状でなくてもよく、上支持部４１が取り付けられる形状を有していればよい、また、必ずしも穴である必要はない。 The upper support portion 41 is fixed by being inserted into a hole formed in the bottom portion 4 of the microscope 1 and has a shape such as a cylinder or a rectangular parallelepiped, for example. The upper support part 41 has a cylindrical hole, and has a shape including an inclined part 46 at the lower part of the hole. The upper part of the elastic body 43 is fixed to the upper part 44a of the hole 44 and supported so as to be concentric. Further, the upper support portion 41 has a gap in which the elastic body 43 can swing between the side surface of the elastic body 43 and the side surface 45 of the upper support portion 41. For example, the upper portion 44 and the upper portion of the elastic body 43 may be fixed by screws, or an adhesive or a wire may be used. Further, the inner side surface 45 of the upper support portion 5 is provided with an upper guide portion. In the example of FIG. 4, the upper guiding portion has an inclination from the middle of the inner side surface 45 toward the inside of the bottom opening of the upper support portion 41 (inclined portion 46). The bottom portion 4 of the microscope 1 is provided with a hole such as a cylinder or a rectangular parallelepiped, for example, and fixes the upper surface portion 44b of the upper support portion 41 and the microscope bottom portion. The upper surface portion 44b of the upper support portion 41 and the bottom portion 4 of the microscope 1 may be fixed by, for example, screws or using an adhesive or a wire. In addition, the hole provided in the bottom part 4 of the microscope 1 does not necessarily need to be a cylinder or a rectangular parallelepiped shape, and may have a shape to which the upper support part 41 is attached, and is not necessarily a hole.

この傾斜部４６は、顕微鏡１を上方向に持ち上げたときに後述する下支持部４２の傾斜部４９（下部誘導部）と係合して弾性体４３が定位置に誘導される構造であればよい。
下支持部４２の上部４８は上支持部４１の内部に入り、下部４１２は上支持部４１の外部に設けられる。また、下支持部４２は、弾性体４３の下部に固定されている。図４の例では、下支持部４２の上部４８は円柱形状をしており、円柱側面の途中から上部４８の底面に達する傾斜部４９（下部誘導部）を有している。また、中部４１１は上部４８の直径Ｌ１（ｍｍ）より小さい直径の円柱形状である。下支持部４２の下部４１２は中部４１１の直径より大きい円柱形状をしている。また、下支持部４２の形状は、下支持部４２の上部の直径Ｌ１（ｍｍ）は上支持部４１の底面開口の直径ｍ２（ｍｍ）より大きく、下支持部４２の下部の直径Ｌ２（ｍｍ）は上支持部４１の底面開口の直径ｍ２（ｍｍ）より大きい形状をしている。つまり、下支持部４２が上支持部４１から落下しない構造を有していればよい。 The inclined portion 46 is engaged with an inclined portion 49 (lower guiding portion) of the lower support portion 42 described later when the microscope 1 is lifted upward, and the elastic body 43 is guided to a fixed position. Good.
The upper part 48 of the lower support part 42 enters the upper support part 41, and the lower part 412 is provided outside the upper support part 41. Further, the lower support portion 42 is fixed to the lower portion of the elastic body 43. In the example of FIG. 4, the upper portion 48 of the lower support portion 42 has a cylindrical shape, and has an inclined portion 49 (lower guide portion) that reaches the bottom surface of the upper portion 48 from the middle of the side surface of the column. The middle part 411 has a cylindrical shape with a diameter smaller than the diameter L1 (mm) of the upper part 48. The lower part 412 of the lower support part 42 has a cylindrical shape larger than the diameter of the middle part 411. In addition, the shape of the lower support part 42 is such that the diameter L1 (mm) of the upper part of the lower support part 42 is larger than the diameter m2 (mm) of the bottom opening of the upper support part 41 and the diameter L2 (mm) of the lower part of the lower support part 42. ) Has a shape larger than the diameter m2 (mm) of the bottom opening of the upper support portion 41. That is, it is sufficient that the lower support portion 42 has a structure that does not fall from the upper support portion 41.

傾斜部４９の形状は、丸（Ｒ）形状の傾斜にして、誘い込みができる形状であってもよい。上面４７と弾性体４３の下部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。 The shape of the inclined portion 49 may be a round (R) inclined shape that can be guided. The upper surface 47 and the lower portion of the elastic body 43 may be fixed by, for example, screws or using an adhesive or a wire.

また、下支持部４２の下面にゴムシートを設けて、設置台３上での下支持部４２の座りを良くしてもよい。
図５のＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、除振機構２ａ〜２ｄのうちのいずれかの弾性体４３が斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。 Further, a rubber sheet may be provided on the lower surface of the lower support part 42 to improve the sitting of the lower support part 42 on the installation table 3.
In FIG. 5A, when the microscope 1 is installed on the installation table 3, any one of the elastic bodies 43 of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d is inclined, and the vibration isolation performance of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d is deteriorated. It shows the state.

図５のＡに示す状態で、作業者が設置台３に設置された顕微鏡１を、顕微鏡１の荷重方向と逆方向に持ち上げると図５のＢの状態になる。
図５のＢは、弾性体４３のバネ力と下支持部４２の自重により弾性体４３が伸び、その結果、互いの上支持部４１の傾斜部４６に下支持部４２の傾斜部４９に接近したのち接触することを示している（図５のＢの破線範囲）。 In the state shown in FIG. 5A, when the operator lifts the microscope 1 installed on the installation table 3 in the direction opposite to the load direction of the microscope 1, the state shown in FIG.
In FIG. 5B, the elastic body 43 extends due to the spring force of the elastic body 43 and the weight of the lower support portion 42, and as a result, the inclined portion 46 of the upper support portion 41 approaches the inclined portion 49 of the lower support portion 42. After that, contact is indicated (the broken line range of B in FIG. 5).

図５のＢに示す状態からさらに、バネ力と下支持部４２の自重により弾性体４３が伸びると図５のＣの状態になり、下支持部４２が上支持部４１と同心となる様に校正される。すなわち、弾性体４３の除振性能が劣化しない位置に校正される。その後、作業者が顕微鏡１を設置台３に上方から静置すると、顕微鏡１の荷重により弾性体４３が縮み、傾斜部４６と傾斜部４９が離れることにより除振が開始される。 When the elastic body 43 is further extended by the spring force and the weight of the lower support portion 42 from the state shown in FIG. 5B, the state of FIG. 5C is reached, and the lower support portion 42 is concentric with the upper support portion 41. It is calibrated. That is, the elastic body 43 is calibrated to a position where the vibration isolation performance does not deteriorate. After that, when the operator places the microscope 1 on the installation table 3 from above, the elastic body 43 contracts due to the load of the microscope 1 and the vibration is started when the inclined portion 46 and the inclined portion 49 are separated.

また、実施例２では、顕微鏡１を設置する前も、上記と同様に下支持部４２が上支持部４１と同心となるように校正されることになり、作業者が顕微鏡１を設置すると同時に、顕微鏡１は、弾性体４３によってのみ浮上し、校正が解除されて、除振が開始される。 Further, in Example 2, before the microscope 1 is installed, the lower support portion 42 is calibrated so as to be concentric with the upper support portion 41 in the same manner as described above, and at the same time when the operator installs the microscope 1. The microscope 1 is lifted only by the elastic body 43, the calibration is released, and the vibration isolation is started.

上記のようにすることで、精密機器を設置する前までに、簡単な構成で弾性体４３の校正が維持されるため、除振性能が劣化する可能性を低くできる。また、精密機器設置後でも、精密機器を持ち上げるだけで、弾性体４３の校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例３）
図６、７を用い実施例３の説明をする。なお、図１と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。 By doing as described above, since the calibration of the elastic body 43 is maintained with a simple configuration before the precision instrument is installed, the possibility that the vibration isolation performance is deteriorated can be reduced. In addition, even after the precision instrument is installed, the elastic body 43 can be calibrated simply by lifting the precision instrument, so that the vibration isolation performance can be prevented from deteriorating.
(Example 3)
Embodiment 3 will be described with reference to FIGS. Note that portions similar to those in FIG. 1 are described with the same reference numerals.

図６は、実施例３における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例３の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図６に示す除振機構は、弾性体６５ａ、６５ｂ、上支持部６１、下支持部６２を備えている。 FIG. 6 is a diagram illustrating the structure of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d illustrated in FIG. 1 according to the third embodiment, and an example of a cross-sectional view of the vibration isolation mechanism according to the third embodiment and a vertical cross-sectional view from line AA ′. FIG. The vibration isolation mechanism shown in FIG. 6 includes elastic bodies 65a and 65b, an upper support portion 61, and a lower support portion 62.

弾性体６５ａ、６５ｂは顕微鏡１の振動を減衰させ、例えば、弾性体６５ａはバネを用い、弾性体６５ｂには円柱形状のダンパを用いることができる。なお、弾性体が硬いほど除振性能が低く（固有値が高い）、弾性体が柔らかいほど除振性能が高くなる（固有値が低い）。弾性体が柔らかい方が除振性能はよくなるが、弾性体が柔らかいと、精密機器を操作した際に大きく揺れたとき、揺れがなかなか収まりにくくなる。よって、実施例３では図６に示したように、異なる固有値を有する弾性体を組み合わせた構造の弾性体を採用している。なお、弾性体は本例のように必ずしも異なる固有値を有する弾性体を組み合わせなくてもよく、単一の弾性体を用いることもできる。 The elastic bodies 65a and 65b attenuate the vibration of the microscope 1. For example, the elastic body 65a can be a spring, and the elastic body 65b can be a cylindrical damper. Note that the harder the elastic body, the lower the vibration isolation performance (higher eigenvalue), and the softer the elastic body, the higher the vibration isolation performance (lower eigenvalue). The softer the elastic body, the better the vibration isolation performance. However, when the elastic body is soft, it becomes difficult for the vibration to settle when it shakes greatly when operating a precision instrument. Therefore, in the third embodiment, as shown in FIG. 6, an elastic body having a structure in which elastic bodies having different eigenvalues are combined is employed. The elastic bodies do not necessarily have to be combined with elastic bodies having different eigenvalues as in this example, and a single elastic body can be used.

上支持部６１は、顕微鏡１の底部４に設けられた穴に差し込み固定され、例えば、円柱または直方体などの形状である。上支持部６１設けられた円柱形状の穴６３を有し、穴６３の下部に上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃを備えている。なお、上部誘導部は２つ以上あればよい。また、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃの下に、顕微鏡を持ち上げた際に、下支持部６２の抜けを防ぐための抜け防止部６１０を備えている。上支持部６１の穴６３の上部６３ａは、弾性体６５ａ、６５ｂの上部と固定して、同心となる様に支持する。また、上支持部６１は、弾性体６５ａの側面と上支持部６１の穴６３の内部側面６６との間に弾性体６５ａ、６５ｂが揺動可能な隙間を有している。穴６３の上部６３ａと弾性体６５ａ、６５ｂの上部との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。顕微鏡１の底部４には、例えば、円柱または直方体などの穴が設けられており上支持部６１の上面部６３ｂを顕微鏡底部に固定する。上支持部６１の上部６３ｂと顕微鏡１の底部４との固定は、例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。なお、顕微鏡１の底部４に設けられた穴は必ずしも円柱または直方体形状でなくてもよく、上支持部６１が取り付けられる形状を有していればよい、また、必ずしも穴である必要はない。 The upper support portion 61 is fixed by being inserted into a hole provided in the bottom portion 4 of the microscope 1 and has, for example, a cylindrical shape or a rectangular parallelepiped shape. It has a cylindrical hole 63 provided in the upper support portion 61, and upper guide portions 67 a, 67 b and 67 c are provided below the hole 63. Note that there may be two or more upper guide portions. Further, below the upper guide portions 67a, 67b, and 67c, a drop prevention portion 610 for preventing the lower support portion 62 from coming off when the microscope is lifted is provided. The upper part 63a of the hole 63 of the upper support part 61 is fixed to the upper part of the elastic bodies 65a and 65b and supported so as to be concentric. In addition, the upper support portion 61 has a gap in which the elastic bodies 65 a and 65 b can swing between the side surface of the elastic body 65 a and the inner side surface 66 of the hole 63 of the upper support portion 61. The upper portion 63a of the hole 63 and the upper portions of the elastic bodies 65a and 65b may be fixed by, for example, screws or using an adhesive or a wire. The bottom 4 of the microscope 1 is provided with a hole such as a cylinder or a rectangular parallelepiped, for example, and fixes the upper surface 63b of the upper support 61 to the bottom of the microscope. The upper part 63b of the upper support part 61 and the bottom part 4 of the microscope 1 may be fixed by, for example, screws or using an adhesive or a wire. In addition, the hole provided in the bottom part 4 of the microscope 1 does not necessarily need to be a cylinder or a rectangular parallelepiped shape, and may have a shape to which the upper support part 61 is attached, and is not necessarily a hole.

上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、図６の例では穴６３の内部側面６６の途中から弾性体６５ａ方向に***する丸みをおびた凸部形状をしている。例えば、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、半球、楕円体の一部である。また、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃは、後述する下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃと接触することにより弾性体６５ａ、６５ｂが誘導される構造であればよい。 In the example of FIG. 6, the upper guide portions 67a, 67b, and 67c have a rounded convex shape that protrudes from the middle of the inner side surface 66 of the hole 63 toward the elastic body 65a. For example, the upper guide portions 67a, 67b, and 67c are a hemisphere and a part of an ellipsoid. Further, the upper guide portions 67a, 67b, 67c may have a structure in which the elastic bodies 65a, 65b are guided by contacting lower guide portions 68a, 68b, 68c described later.

下支持部６２の上部６９は上支持部６１の内部に入り、下部６４（滑動部）は上支持部６１の外部に設けられる。図４の例では、下支持部６２の上部６９は下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃを側面に備えている。また、中部６１４は上部６９の直径より小さい直径の円柱形状である。下支持部６２の下部６４は中部６１４の直径より大きい円柱形状をしている。また、下支持部６２の形状は、下支持部６２の上部６９の直径は上支持部６１の底面開口の直径より大きく、下支持部６２の下部６４の直径は上支持部６１の底面開口の直径より大きい形状をしている。つまり、下支持部６２の抜けを防ぐための抜け防止部６１０により下支持部６２が上支持部６１から落下しない構造であればよい。 An upper portion 69 of the lower support portion 62 enters the upper support portion 61, and a lower portion 64 (sliding portion) is provided outside the upper support portion 61. In the example of FIG. 4, the upper portion 69 of the lower support portion 62 includes lower guide portions 68a, 68b, and 68c on the side surfaces. The middle part 614 has a cylindrical shape with a diameter smaller than that of the upper part 69. The lower part 64 of the lower support part 62 has a cylindrical shape larger than the diameter of the middle part 614. Further, the shape of the lower support portion 62 is such that the diameter of the upper portion 69 of the lower support portion 62 is larger than the diameter of the bottom opening of the upper support portion 61, and the diameter of the lower portion 64 of the lower support portion 62 is the diameter of the bottom opening of the upper support portion 61. The shape is larger than the diameter. That is, any structure may be used as long as the lower support part 62 does not fall from the upper support part 61 by the drop prevention part 610 for preventing the lower support part 62 from coming off.

下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの形状は、図６の例では上部６９の外周側面から上支持部６１の穴６３の内部側面６６方向に***する丸みをおびた凸部形状をしている。例えば、下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは、半球、楕円体の一部であり、誘い込みができる形状である。上部６９と弾性体６５ａ、６５ｂの下部とは、例えば、下支持部６２の上部６９に弾性体６５ａ、６５ｂの外径と隙間ハメアイ寸法になった凹みを設け、弾性体６５ａ、６５ｂの下部の面は下支持部６２の上部６９の面６１１の上に載せてあり、固定はされていない。 In the example of FIG. 6, the shapes of the lower guide portions 68 a, 68 b, and 68 c are rounded convex shapes that protrude from the outer peripheral side surface of the upper portion 69 toward the inner side surface 66 of the hole 63 of the upper support portion 61. For example, the lower guiding portions 68a, 68b, and 68c are a part of a hemisphere or an ellipsoid and have a shape that can be guided. The upper portion 69 and the lower portions of the elastic bodies 65a and 65b are, for example, provided in the upper portion 69 of the lower support portion 62 with recesses having outer diameters of the elastic bodies 65a and 65b and clearance gap dimensions, and the lower portions of the elastic bodies 65a and 65b. The surface is placed on the surface 611 of the upper portion 69 of the lower support portion 62 and is not fixed.

下支持部６２を、図６に示す矢印の方向に回転させることにより、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃと係合して弾性体６５ａ、６５ｂを定位置に誘導する。つまり、下支持部６２は弾性体６５ａ、６５ｂが誘導されることにより顕微鏡１が配置される面を滑動する。ここで係合するとは、下支持部６２を矢印の方向に回転させる力により、下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの端部が上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃの端部と接触し、適正な形状（円柱状）に弾性体６５ａ、６５ｂを校正させることをいう。また、底面６１２は低摩擦にする、例えば、テフロンをコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図６では上記コーティング、別部品などを符号６１３により示している。また、図６に示す下支持部６２と図６に示す箇所以外にある下支持部６２を、一つずつ回転させることにより弾性体を定位置に誘導してもよい。 By rotating the lower support portion 62 in the direction of the arrow shown in FIG. 6, the upper guide portions 67a, 67b, 67c and the lower guide portions 68a, 68b, 68c are engaged to bring the elastic bodies 65a, 65b into place. Induce. That is, the lower support portion 62 slides on the surface on which the microscope 1 is arranged by the elastic bodies 65a and 65b being guided. Engaging here means that the ends of the lower guide portions 68a, 68b, and 68c come into contact with the ends of the upper guide portions 67a, 67b, and 67c due to the force that rotates the lower support portion 62 in the direction of the arrow. This means that the elastic bodies 65a and 65b are calibrated into a shape (columnar shape). Further, the bottom surface 612 may be coated with low friction, for example, Teflon. Moreover, when using low friction resin as another component, you may fix another component with a double-sided tape or an adhesive agent. In FIG. 6, the above coating and other parts are indicated by reference numeral 613. Moreover, you may guide an elastic body to a fixed position by rotating the lower support part 62 shown in FIG. 6 and the lower support part 62 other than the location shown in FIG. 6 one by one.

図７ＡのＡは、顕微鏡１を設置台３に設置した際に、４つのうち一つの除振機構２ａ〜２ｄがずれて、弾性体６５ａ、６５ｂが斜めになり、除振機構２ａ〜２ｄの除振性能が劣化している状態を示している。 7A shows that when the microscope 1 is installed on the installation table 3, one of the four vibration isolation mechanisms 2a to 2d is displaced, and the elastic bodies 65a and 65b are inclined, so that the vibration isolation mechanisms 2a to 2d This shows a state where the vibration isolation performance is deteriorated.

図７ＡのＡの状態で、作業者が下支持部６２を図７ＡのＢに示す上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃの位置関係になるまで回転させて、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃを接触させる。つまり、図７ＡのＢの状態に、設置台３の上面を下支持部６２が滑り、下支持部６２が上支持部６１と同心となる校正がされる。その後、図７ＡのＣに示すように、作業者が下支持部６２を上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触しない位置まで回転させると、顕微鏡１は弾性体６５ａ、６５ｂによってのみ浮上し、除振が開始される。なお、下支持部６２の回転時に、弾性体６５ａ、６５ｂは、下支持部６２の面６１１の接触面上を滑ることにより、弾性体６５ａ、６５ｂがねじれることを防いでいる。 7A, the operator rotates the lower support portion 62 until the upper guide portions 67a, 67b, 67c and the lower guide portions 68a, 68b, 68c shown in FIG. Guide part 67a, 67b, 67c and lower guidance part 68a, 68b, 68c are made to contact. That is, in the state of B in FIG. 7A, calibration is performed in which the lower support portion 62 slides on the upper surface of the installation table 3 and the lower support portion 62 is concentric with the upper support portion 61. Thereafter, as shown in C of FIG. 7A, when the operator rotates the lower support portion 62 to a position where the upper guide portions 67a, 67b, 67c and the lower guide portions 68a, 68b, 68c do not contact, the microscope 1 is an elastic body. It floats only by 65a and 65b, and vibration isolation is started. The elastic bodies 65a and 65b prevent the elastic bodies 65a and 65b from being twisted by sliding on the contact surface of the surface 611 of the lower support section 62 when the lower support section 62 rotates.

ここで、実施例３では上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは３箇所としたが、３箇所にかぎらず下支持部６２を回転させた際に、上部誘導部６７ａ、６７ｂ、６７ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触する部分と、接触しない部分を持つ形状であればよい。 Here, in the third embodiment, the upper guide portions 67a, 67b, 67c and the lower guide portions 68a, 68b, 68c are provided at three locations, but the upper guide portion is not limited to three locations when the lower support portion 62 is rotated. What is necessary is just a shape with the part which 67a, 67b, 67c and the lower guidance | induction part 68a, 68b, 68c contact, and the part which does not contact.

また、図７ＡのＢと図７ＡのＣの状態を作業者に目視で分かるようにするために、例えば、上支持部６１と下支持部６２にマークをつけてもよい。例えば、図７Ｂに示すように顕微鏡１の底部から上支持部６１の下部が見えるようにし、上支持部６１と下支持部６２にマーク７１、７２、７３をつけ、下支持部６２を回転させることによって、上支持部６１と下支持部６２のマーク７１とマーク７２を一致させ、図７ＡのＢの状態を作業者に目視で分かるようにし、上支持部６１と下支持部６２のマーク７１とマーク７３を一致させ、図７ＡのＣの状態を作業者に目視で分かるようにしてもよい。なお、顕微鏡１の底部に上支持部６１を全て埋設するときは、顕微鏡側にマーク７２、７３をつけてもよい。
上記のように構成することにより、精密機器を設置した後でも、簡単な構成で、除振機構の下支持部６２を回転させるだけで、弾性体６５ａ、６５ｂの校正ができるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例４）
図８を用い実施例４の説明をする。なお、図６、７と同様な箇所は同じ符号を付けて説明する。 Moreover, in order to make an operator understand the state of B of FIG. 7A and C of FIG. 7A visually, you may mark the upper support part 61 and the lower support part 62, for example. For example, as shown in FIG. 7B, the lower part of the upper support part 61 can be seen from the bottom of the microscope 1, marks 71, 72, 73 are attached to the upper support part 61 and the lower support part 62, and the lower support part 62 is rotated. Accordingly, the marks 71 and 72 on the upper support 61 and the lower support 62 are made to coincide with each other so that the operator can visually recognize the state of B in FIG. 7A, and the marks 71 on the upper support 61 and the lower support 62. And the mark 73 may be matched so that the operator can visually recognize the state of C in FIG. 7A. In addition, when embedding all the upper support parts 61 in the bottom part of the microscope 1, you may attach the marks 72 and 73 to the microscope side.
By configuring as described above, the elastic bodies 65a and 65b can be calibrated by simply rotating the lower support portion 62 of the vibration isolation mechanism with a simple configuration even after the precision instrument is installed. Can be prevented.
Example 4
Embodiment 4 will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated for the location similar to FIG.

図８のＡ〜Ｃは、実施例４における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例４の除振機構の横断面図とラインＡ−Ａ’からの縦断面図の一例を示す図である。図８のＡ〜Ｃに示す除振機構は、弾性体６５ａ、６５ｂ、上支持部８１、下支持部８２を備えている。実施例４と実施例３の構造の違いは、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃである。 FIGS. 8A to 8C are diagrams showing the structures of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d shown in FIG. 1 in the fourth embodiment, and are a cross-sectional view of the vibration isolation mechanism of the fourth embodiment and a longitudinal section from the line AA ′. It is a figure which shows an example of a surface view. The vibration isolation mechanism shown in FIGS. 8A to 8C includes elastic bodies 65a and 65b, an upper support portion 81, and a lower support portion 82. The difference in structure between the fourth embodiment and the third embodiment is the upper guide portions 83a, 83b, 83c and the lower guide portions 68a, 68b, 68c.

上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃの形状は、図８の例では上部６９の外周側面から上支持部６１の側面６６方向に***する丸みをおびた形状をし、図６、７に示した下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃよりも上方に伸びた形状をしている。例えば、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃは、半球、楕円体の一部であり、誘い込みができる形状である。上部６９と弾性体６５ａ、６５ｂの下部とは、例えば、下支持部６２の上部６９に弾性体６５ａ、６５ｂの外径と隙間ハメアイ寸法になった凹みを設け、弾性体６５ａ、６５ｂの下部の面は下支持部６２の上部６９の面６１１の上に載せてあり、固定はされていない。 In the example of FIG. 8, the upper guide portions 83a, 83b, 83c have a rounded shape that protrudes from the outer peripheral side surface of the upper portion 69 toward the side surface 66 of the upper support portion 61, and the lower guide portions 83a, 83b, 83c shown in FIGS. It has a shape extending upward from the guide portions 68a, 68b, 68c. For example, the upper guide portions 83a, 83b, and 83c are hemispheres and a part of an ellipsoid and have a shape that can be guided. The upper portion 69 and the lower portions of the elastic bodies 65a and 65b are, for example, provided in the upper portion 69 of the lower support portion 62 with recesses having the outer diameters of the elastic bodies 65a and 65b and gap gap dimensions. The surface is placed on the surface 611 of the upper portion 69 of the lower support portion 62 and is not fixed.

ここで、実施例４では上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃは３箇所としたが、３箇所にかぎらず下支持部６２を回転させた際に、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃと下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触する部分と、接触しない部分を持つ形状であればよい。 Here, in the fourth embodiment, the upper guide portions 83a, 83b, and 83c and the lower guide portions 68a, 68b, and 68c are provided at three locations, but the upper guide portion is not limited to three locations when the lower support portion 62 is rotated. Any shape may be used as long as 83a, 83b, and 83c and the lower guide portions 68a, 68b, and 68c are in contact with each other and a portion that is not in contact.

図８のＡの状態は、作業者が顕微鏡１を持ち上げ、設置台３に設置する前の状態を示している。図８のＡの状態は、４つの除振機構２ａ〜２ｄは、顕微鏡１の荷重が弾性体６５ａ、６５ｂに掛かっていない状態であり、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃに下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触している。すなわち、下支持部８２が上支持部８１と同心になるように校正されている状態になる。 The state of A in FIG. 8 shows a state before the operator lifts the microscope 1 and installs it on the installation table 3. The state of A in FIG. 8 is a state in which the four vibration isolation mechanisms 2a to 2d are in a state in which the load of the microscope 1 is not applied to the elastic bodies 65a and 65b, and the lower guiding portions 68a and 83c are placed on the upper guiding portions 83a, 83b, and 83c. 68b and 68c are in contact. That is, the lower support portion 82 is calibrated so as to be concentric with the upper support portion 81.

図８のＡの状態から、作業者が顕微鏡１を設置台３に設置すると、顕微鏡１の荷重が弾性体６５ａ、６５ｂに掛かることで、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃが下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃに接触しながら荷重方向に移動する。それとともに、弾性体６５ａ、６５ｂが荷重方向に縮み、抜け防止部６１０と下部６４の距離が接近し、図８のＢの状態になる。すなわち、下支持部８２が上支持部８１と同心となるように、弾性体６５ａ、６５ｂが校正された状態を維持する。 When the operator installs the microscope 1 on the installation base 3 from the state of FIG. 8A, the load of the microscope 1 is applied to the elastic bodies 65a and 65b, so that the upper guiding portions 83a, 83b, and 83c are moved to the lower guiding portion 68a, It moves in the load direction while contacting 68b, 68c. At the same time, the elastic bodies 65a and 65b shrink in the load direction, the distance between the drop prevention part 610 and the lower part 64 approaches, and the state shown in FIG. That is, the elastic bodies 65 a and 65 b are maintained in a calibrated state so that the lower support portion 82 is concentric with the upper support portion 81.

図８のＢの状態から、作業者が下支持部８２を図８のＣの状態に、上部誘導部８３ａ、８３ｂ、８３ｃに下部誘導部６８ａ、６８ｂ、６８ｃが接触しない位置まで回転させると、顕微鏡１は、弾性体６５ａ、６５ｂによって浮上し、除振が開始される。 From the state of B in FIG. 8, when the operator rotates the lower support portion 82 to the state of C in FIG. 8 to a position where the lower guide portions 68a, 68b, 68c do not contact the upper guide portions 83a, 83b, 83c, The microscope 1 is levitated by the elastic bodies 65a and 65b, and vibration isolation is started.

また、図８のＡ、Ｂと図８のＣの状態を作業者に目視で分かるようにするために、例えば、上支持部８１と下支持部８２に目印をつけてもよい。
また、顕微鏡１を使用中に上記校正が崩れた場合は、実施例３で説明したように校正をすることで、除振性能を戻すことができる。 Moreover, in order to make an operator visually understand the states of A and B in FIG. 8 and C in FIG. 8, for example, the upper support portion 81 and the lower support portion 82 may be marked.
In addition, when the calibration is lost while the microscope 1 is in use, the vibration isolation performance can be restored by performing the calibration as described in the third embodiment.

上記のように簡単な構成で、精密機器設置後まで、弾性体６５ａ、６５ｂの校正が維持されるため、除振性能の劣化を防止することができる。
（実施例５）
図９のＡ、Ｂは、実施例５における図１に示した除振機構２ａ〜２ｄの構造を示す図あり、実施例５の除振機構の横断面図と縦断面図の一例を示す図である。図９のＡ、Ｂは実施例１の図２に示した除振機構の下支持部６の下に、さらに円柱形状の校正マーク部９０が設けられている。校正マーク部９０の上面９３と下支持部６の底面は同心となるように固定する。例えば、ビスにより固定してもよいし接着剤やワイヤーなどを用いてもよい。 Since the calibration of the elastic bodies 65a and 65b is maintained with a simple configuration as described above until the installation of the precision instrument, it is possible to prevent the vibration isolation performance from being deteriorated.
(Example 5)
9A and 9B are diagrams showing the structure of the vibration isolation mechanisms 2a to 2d shown in FIG. 1 according to the fifth embodiment, and are diagrams showing an example of a transverse sectional view and a longitudinal sectional view of the vibration isolation mechanism according to the fifth embodiment. It is. 9A and 9B, a cylindrical calibration mark portion 90 is further provided under the lower support portion 6 of the vibration isolation mechanism shown in FIG. 2 of the first embodiment. The upper surface 93 of the calibration mark portion 90 and the bottom surface of the lower support portion 6 are fixed so as to be concentric. For example, it may be fixed with screws, or an adhesive or a wire may be used.

また、校正マーク部９０の上面にはドーナツ状の校正マーク９１を備え、この校正マーク９１を目安に作業者は弾性体２１ａ、２１ｂが正常な状態であるか否かを判定する。
また、校正マーク部９０の底面９４は低摩擦にする（滑動部２２と同様）。例えば、テフロンをコーティングしてもよい。また、低摩擦の樹脂を別部品として用いる場合は、両面テープや、接着剤などにより別部品を固定してもよい。図９では上記コーティング、別部品などを符号９５により示している。 Further, a donut-shaped calibration mark 91 is provided on the upper surface of the calibration mark portion 90, and an operator determines whether or not the elastic bodies 21a and 21b are in a normal state based on the calibration mark 91.
Further, the bottom surface 94 of the calibration mark portion 90 is set to low friction (similar to the sliding portion 22). For example, Teflon may be coated. Moreover, when using low friction resin as another component, you may fix another component with a double-sided tape or an adhesive agent. In FIG. 9, the coating, another part, and the like are indicated by reference numeral 95.

図９のＡの状態は、顕微鏡１の荷重が弾性体２１ａ、２１ｂに掛かった正常に除振されている状態である。図９のＢの状態は、図９の顕微鏡１を設置台３に設置した際に、４つのうち一つの除振機構が、顕微鏡１の下支持部６がずれて、弾性体２１ａ、２１ｂが斜めになり、除振機構の除振性能が劣化している状態を示している。 The state of A in FIG. 9 is a state where the load of the microscope 1 is applied to the elastic bodies 21a and 21b and is normally isolated. The state of B in FIG. 9 is that when the microscope 1 in FIG. 9 is installed on the installation table 3, one of the four vibration isolation mechanisms is displaced by the lower support portion 6 of the microscope 1 so that the elastic bodies 21a and 21b It is slanted and shows a state where the vibration isolation performance of the vibration isolation mechanism is deteriorated.

図９のＢの状態で、作業者は、下支持部６の表面に印刷または彫られた校正マーク９１の円内に、上支持部５の外形が入るように下支持部６を移動させ、下支持部６が上支持部５と同心となる位置に校正する。すなわち、弾性体２１ａ、２１ｂの除振性能が劣化しない位置に校正される。図１０に示す図は図９のＡ、Ｂで説明した除振機構の取り付け位置の一例を示す上面図である。例えば、顕微鏡１の底部４の角に校正マーク９１が上方向から確認できるように配置する。 9B, the operator moves the lower support portion 6 so that the outer shape of the upper support portion 5 enters the circle of the calibration mark 91 printed or carved on the surface of the lower support portion 6. Calibration is performed at a position where the lower support 6 is concentric with the upper support 5. That is, the elastic bodies 21a and 21b are calibrated to positions where the vibration isolation performance does not deteriorate. The figure shown in FIG. 10 is a top view showing an example of the attachment position of the vibration isolation mechanism described in A and B of FIG. For example, the calibration mark 91 is arranged at the corner of the bottom 4 of the microscope 1 so that it can be confirmed from above.

上記のように、精密機器設置後に簡単な構成で、校正マークを指標にして弾性体２１ａ、２１ｂの校正ができる。
また、実施例１〜５によれば、高価な設置台がいらないため、精密機器を含む装置のコストを安価に抑えることができる。 As described above, the elastic bodies 21a and 21b can be calibrated using a calibration mark as an index with a simple configuration after installation of the precision instrument.
Moreover, according to Examples 1-5, since an expensive installation stand is unnecessary, the cost of the apparatus containing a precision instrument can be restrained cheaply.

また、除振機構の底部と接触する設置台３の部分に、低摩擦の材料でできたシートを置いて滑りを良くしてもよい。また、図９の上支持部、下支持部にはテーパ（誘導部）が設けられているが、なくてもよい。
また、本発明は、上記実施の形態に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変更が可能である。 In addition, a sheet made of a low-friction material may be placed on the part of the installation table 3 that contacts the bottom of the vibration isolation mechanism to improve the sliding. Moreover, although the taper (guidance | derivation part) is provided in the upper support part of FIG. 9, and the lower support part, it does not need to be.
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements and modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

１顕微鏡、
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ除振機構、
３設置台、４底部、
５上支持部、
６下支持部、
２１ａ、２１ｂ弾性体、
２２滑動部、
２４穴、２４ａ上部２４ｂ上面部、
２５内部側面、２６上面、
２７底面、２８傾斜部２９側面、
４１上支持部、
４２下支持部、
４３弾性体、
４４穴、４４ａ上部、４４ｂ上面部、
４５内部側面、４６傾斜部、
４７上面、４８上部、４９傾斜部、
４１１中部、４１２下部、
６１上支持部、
６２下支持部、
６３穴、６３ａ上部、６３ｂ上面部、
６４下部、
６５ａ、６５ｂ弾性体、
６６側面、
６７ａ、６７ｂ、６７ｃ上部誘導部、
６８ａ、６８ｂ、６８ｃ下部誘導部、
６９上部、
６１０抜け防止部、
６１１面、６１２底面、６１４中部、
７１、７２、７３マーク、
８１上支持部、
８２下支持部、
８３ａ、８３ｂ、８３ｃ上部誘導部、
９０校正マーク部、９１校正マーク、
９３上面、９４底面、 1 microscope,
2a, 2b, 2c, 2d vibration isolation mechanism,
3 installation stand, 4 bottom,
5 upper support,
6 Lower support part,
21a, 21b elastic body,
22 sliding part,
24 holes, 24a upper part 24b upper surface part,
25 internal side, 26 top surface,
27 bottom surface, 28 inclined part 29 side surface,
41 upper support,
42 Lower support part,
43 elastic body,
44 holes, 44a upper part, 44b upper surface part,
45 internal side, 46 slope,
47 upper surface, 48 upper part, 49 inclined part,
411 middle, 412 lower,
61 Upper support part,
62 Lower support part,
63 holes, 63a upper part, 63b upper surface part,
64 Bottom,
65a, 65b elastic body,
66 sides,
67a, 67b, 67c upper guide part,
68a, 68b, 68c lower guide part,
69 top,
610 omission prevention part,
611 face, 612 bottom face, 614 middle part,
71, 72, 73 marks,
81 upper support,
82 Lower support part,
83a, 83b, 83c upper guide part,
90 Calibration mark, 91 Calibration mark,
93 top surface, 94 bottom surface,

Claims

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、
前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を荷重方向に押すことにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、
を備えることを特徴とする除振機構。 A vibration isolation mechanism provided at the bottom of a precision instrument,
An elastic body that attenuates vibrations of the precision instrument;
An upper support portion that fixes the elastic body at an upper portion, has a gap that allows the elastic body to swing between the elastic body and a side surface, and includes an upper guide portion on the side surface;
The elastic body is guided by a lower guiding portion that is fixed to a lower portion of the elastic body and engages with the upper guiding portion by pushing the precision device in a load direction to guide the elastic body to a fixed position. A lower support portion that slides on the surface on which the precision device is installed,
An anti-vibration mechanism comprising:

前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、
前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有することを特徴とする請求項１に記載の除振機構。 The upper guiding portion has an inclination on the side surface,
2. The vibration isolation mechanism according to claim 1, wherein the lower guiding portion has an inclination that contacts the inclination of the upper guiding portion to guide the elastic body to a fixed position.

前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項１または２に記載の除振機構。 The vibration isolation mechanism according to claim 1, wherein the elastic body is a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面の底部に上部誘導部を備える上支持部と、
前記弾性体の下部に固定され、前記精密機器を上方向に持ち上げることにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備える下支持部と、
を備えることを特徴とする除振機構。 A vibration isolation mechanism provided at the bottom of a precision instrument,
An elastic body that attenuates vibrations of the precision instrument;
An upper support portion that fixes the elastic body to the top, has a gap that allows the elastic body to swing between the elastic body and the side surface, and has an upper guide portion at the bottom of the side surface;
A lower support portion, which is fixed to a lower portion of the elastic body and includes a lower guide portion that engages with the upper guide portion by lifting the precision device upward to guide the elastic body to a fixed position;
An anti-vibration mechanism comprising:

前記上部誘導部は前記側面に傾斜を有し、
前記下部誘導部は、前記上部誘導部の傾斜と接触して前記弾性体を定位置に誘導する傾斜を有することを特徴とする請求項４に記載の除振機構。 The upper guiding portion has an inclination on the side surface,
5. The vibration isolation mechanism according to claim 4, wherein the lower guiding portion has an inclination that contacts the inclination of the upper guiding portion to guide the elastic body to a fixed position.

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有し、前記側面に上部誘導部を備える上支持部と、
前記弾性体の下部に載せ、回転することにより前記上部誘導部と係合して前記弾性体を定位置に誘導する下部誘導部を備え、前記弾性体が誘導されることにより前記精密機器が設置される面を滑動する下支持部と、
を備えることを特徴とする除振機構。 A vibration isolation mechanism provided at the bottom of a precision instrument,
An elastic body that attenuates vibrations of the precision instrument;
An upper support portion that fixes the elastic body at an upper portion, has a gap that allows the elastic body to swing between the elastic body and a side surface, and includes an upper guide portion on the side surface;
The precision instrument is installed by providing a lower guide part that is placed on the lower part of the elastic body and engages with the upper guide part by rotating to guide the elastic body to a fixed position. A lower support that slides on the surface to be
An anti-vibration mechanism comprising:

前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に***して丸みをおびた凸部を有し、
前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に***して丸みをおびた凸部を有することを特徴とする請求項６に記載の除振機構。 The upper guide part has a rounded convex part raised in the direction of the elastic body on the side surface,
The said lower guide part has a convex part which protruded in the direction of the said side surface which contacts the said upper guide part and guides the said elastic body to a fixed position, and was rounded. Vibration isolation mechanism.

前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項６または７に記載の除振機構。 The vibration isolation mechanism according to claim 6 or 7, wherein the elastic body is a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.

前記上部誘導部は前記側面に前記弾性体の方向に***して丸みをおびた凸部を、上方向に伸ばした形状を有し、
前記下部誘導部は、前記上部誘導部と接触して前記弾性体を定位置に誘導する前記側面の方向に***して丸みをおびた凸部を有することを特徴とする請求項６に記載の除振機構。 The upper guide part has a shape in which the convex part that is raised and rounded in the direction of the elastic body on the side surface is extended upward,
The said lower guide part has a convex part which protruded in the direction of the said side surface which contacts the said upper guide part and guides the said elastic body to a fixed position, and was rounded. Vibration isolation mechanism.

前記弾性体は、固有値の異なる弾性体を複数組み合わせることを特徴とする請求項９の除振機構。 The vibration isolation mechanism according to claim 9, wherein the elastic body is a combination of a plurality of elastic bodies having different eigenvalues.

精密機器の底部に設けられる除振機構であって、
前記精密機器の振動を減衰させる弾性体と、
前記弾性体を上部に固定し、前記弾性体と側面との間に前記弾性体が揺動可能な隙間を有する上支持部と、
前記弾性体の下部に固定された下部支持部を備え、前記上支持部と前記下支持部が相対的に移動するとともに、上支持部と下支持部の少なくともどちらか一方に前記弾性体の校正マークを備える
ことを特徴とする除振機構。 A vibration isolation mechanism provided at the bottom of a precision instrument,
An elastic body that attenuates vibrations of the precision instrument;
An upper support portion that fixes the elastic body at an upper portion, and has a gap that allows the elastic body to swing between the elastic body and a side surface;
A lower support portion fixed to a lower portion of the elastic body, the upper support portion and the lower support portion move relatively, and at least one of the upper support portion and the lower support portion is calibrated A vibration isolation mechanism comprising a mark.