JP5270891B2 - 画像記録方法、および画像記録システム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 100
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 82
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 63
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 23
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 19
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000145845 chattering Species 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000003936 working memory Effects 0.000 description 1
Images
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Editing Of Facsimile Originals (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
10 デジタル露光機
11 光源ユニット
12 画像処理ユニット
13 制御装置
14 被描画体
15 アラインメントマーク
20 露光部
22 露光ヘッド
27 カメラ
40 DMD
71 RIP
72 調整変倍処理部
75 位置検出部
76 基準変倍処理部
Claims (8)
- デジタルデータで表される所定の描画パターンを、複数の被描画体に直接描画する画像記録システムにおいて、
前記複数の被描画体に共通する第一の変倍率で、前記デジタルデータに対して第一の電子変倍処理を施す第一変倍処理手段と、
前記複数の被描画体の個々で異なる第二の変倍率で、前記デジタルデータに対して第二の電子変倍処理を施す第二変倍処理手段と、
前記被描画体の基準サイズからのずれ量を実測する第二ずれ量計測手段とを備え、
前記第二の変倍率は、前記第一の変倍率、および前記第二ずれ量計測手段による前記ずれ量の実測値を元に設定され、
前記第一、第二変倍処理手段は、前記第一、第二の電子変倍処理によって、前記被描画体の基準サイズからのずれに起因する前記描画パターンの記録位置のずれを補正することを特徴とする画像記録システム。 - 前記第一変倍処理手段は、前記被描画体に前記描画パターンを描画する前の外段取りの作業として、前記第一の電子変倍処理を行い、
前記第二変倍処理手段は、前記被描画体に前記描画パターンを描画している最中の内段取りの作業として、前記第二の電子変倍処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の画像記録システム。 - 前記第一の変倍率は、前記被描画体の基準サイズからのずれ量の平均値、または最大、最小値の中間値を元に設定されることを特徴とする請求項1または2に記載の画像記録システム。
- 前記平均値、または前記中間値は、前記被描画体の過去の製造実績から経験的に求められるものであることを特徴とする請求項3に記載の画像記録システム。
- 前記被描画体の基準サイズからのずれ量を実測する第一ずれ量計測手段を備え、
前記平均値、または前記中間値は、前記第一ずれ量計測手段による前記ずれ量の実測値から求められるものであることを特徴とする請求項3または4に記載の画像記録システム。 - 前記第一変倍処理手段は、その機能をソフトウエアで実現され、
前記第二変倍処理手段は、その機能をハードウエアで実現されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の画像記録システム。 - 前記描画パターンのベクトルデータをラスタライズして、前記デジタルデータとしてラスターデータを生成するラスターイメージプロセッサを備え、
前記第一変倍処理手段は、前記ラスタライズの際にRIP解像度を調整することで、前記ラスターデータに前記第一の電子変倍処理を施すことを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の画像記録システム。 - デジタルデータで表される所定の描画パターンを、複数の被描画体に直接描画する画像記録方法において、
前記複数の被描画体に共通する第一の変倍率で、前記デジタルデータに対して第一の電子変倍処理を施す第一変倍処理工程と、
前記複数の被描画体の個々で異なる第二の変倍率で、前記デジタルデータに対して第二の電子変倍処理を施す第二変倍処理工程と、
前記被描画体の基準サイズからのずれ量を実測するずれ量計測工程とを備え、
前記第二の変倍率は、前記第一の変倍率、および前記ずれ量計測工程で実測された前記ずれ量の実測値を元に設定され、
前記第一、第二変倍処理工程では、前記第一、第二の電子変倍処理によって、前記被描画体の基準サイズからのずれに起因する前記描画パターンの記録位置のずれを補正することを特徴とする画像記録方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007254359A JP5270891B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 画像記録方法、および画像記録システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007254359A JP5270891B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 画像記録方法、および画像記録システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009088848A JP2009088848A (ja) | 2009-04-23 |
JP5270891B2 true JP5270891B2 (ja) | 2013-08-21 |
Family
ID=40661702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007254359A Active JP5270891B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 画像記録方法、および画像記録システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5270891B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9852876B2 (en) | 2016-02-08 | 2017-12-26 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6318572B2 (ja) * | 2013-11-19 | 2018-05-09 | 株式会社リコー | 画像処理装置及び方法、並びに画像形成装置 |
JP6480680B2 (ja) * | 2014-08-02 | 2019-03-13 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 照度割合変更方法及び露光方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000079518A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動組立装置における画像認識装置および画像認識方法 |
JP2005157326A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-06-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置及び画像記録方法 |
JP4438651B2 (ja) * | 2005-03-17 | 2010-03-24 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置および露光方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007254359A patent/JP5270891B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9852876B2 (en) | 2016-02-08 | 2017-12-26 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and multi charged particle beam writing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009088848A (ja) | 2009-04-23 |
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