JP5257090B2 - 光導波路 - Google Patents
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Description
機器内部や機器間などの短距離で光信号を伝送するためには、フレキシブルなフィルム光導波路が望まれている。特に、携帯用小型機器の内部に光導波路を配線する場合には、省スペース化のために部品表面を這わせるようにして配線する場合も多く、小さな曲率半径で屈曲可能な、ポリマーフィルム光導波路が求められている。
フレキシブル光導波路の屈曲性、あるいは形状復元する際の界面における追従性を向上させるために、低弾性率材料を用いた光導波路の開発がなされている。例えば、特許文献1及び2では、光導波路の曲げ弾性率を1000MPa以下、膜厚を150μm以下とした、耐屈曲性、耐捻性の高いフィルム光導波路が提案されている。しかし、スタンパを用いて光導波路を作製していることから、設計の自由度が低く、設計の変更が難しいという欠点がある。
本発明は以上のような課題及び上記問題点に鑑み、耐屈曲耐久性が良好で、かつ溶剤現像による下部クラッド層の侵食の影響が少ない光導波路を提供することを目的とする。
すなわち本発明は、基板上に、下部クラッド層、パターニングされたコア層、及び上部クラッド層がこの順に積層された光導波路であって、下部クラッド層形成用樹脂組成物を乾燥後の厚みが20μmとなるように成膜したフィルムをコア層パターニング用溶剤に120秒浸漬した前後での膜厚の変化率が50%以下であり、かつ、上部クラッド層形成用樹脂組成物が、該上部クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる厚み110μmの硬化フィルムの、25℃での引張り降伏伸び率が5.5〜30%であることを特徴とする光導波路を提供するものである。
上記膜厚の変化率の測定方法は以下のとおりである。すなわち、例えば、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と表記することがある。)基材に、下部クラッド層形成用樹脂組成物を、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗工し、365nmの波長において4000mJ/cm2露光後、80℃で10分間乾燥して測定用試料を作製する。該測定用試料の塗工膜の厚さT1を測定する。次いで、該試料を、コア層をパターニングする際に用いられる溶剤に、23℃で120秒間浸漬させた後の膜厚T2を測定し、膜厚の変化率100×(T2−T1)/T1(%)を求めるものである。
この膜厚の変化率は、下部クラッド層形成用樹脂組成物の溶剤に対する膨潤率を表わす指標であり、この値が50%以下であると、コア層の溶剤現像によって、下部クラッド層が侵されることがなく、良好な光学特性を有する光導波路を得ることができる。以上の観点から、膜厚の変化率は40%以下であることがさらに好ましい。
また、下部クラッド層形成用樹脂組成物の溶剤に対する膨潤率があまりに高い場合には、PET基材から下部クラッド層形成用樹脂組成物により形成される塗工膜が剥がれる場合がある。この場合には、上記浸漬後の膜厚T2自体の測定が不可能であり、これは本発明における膜厚の変化率50%以下を達成し得ない場合に含まれる。
この上部クラッド層形成用樹脂組成物を光導波路に用いれば、機械的な引張り力が加わっても、上下クラッド層で吸収されるため、コアの変形を小さくすることができ、光導波路の伝送特性の劣化を抑制することができる。
また、上部クラッド層と下部クラッド層の比屈折率差が5%以下であることが好ましい。比屈折率差が5%以下であると、光導波路の光学特性が良好になるとともに、上部クラッド層と下部クラッド層の良好な接着性が得られる。以上の観点から、上部クラッド層と下部クラッド層の比屈折率差が4%以下であることがさらに好ましい。なお、比屈折率差は、以下に示す式により求めた(上部クラッド層の屈折率が高い場合)。
比屈折率差(%)=[(上部クラッド層の屈折率)2−(下部クラッド層の屈折率)2]/[2×(上部クラッド層の屈折率)2]×100
比屈折率差(%)=[(コア部の屈折率)2−(クラッド層の屈折率)2]/[2×(コア部の屈折率)2]×100
本発明の光導波路では、上部クラッドと下部クラッドの材質が同一でなくてもよいため、屈曲部又は湾曲部の外側により屈折率の低いクラッド層が配されるように湾曲させることが好ましい。例えば、フレキシブル光導波路の湾曲部の外側が上部クラッド層になるように曲げられる場合には、上部クラッド層により屈折率の低い材料を用いることが好ましい。
すなわち、上部クラッド層形成用樹脂が、(A)成分として、(メタ)アクリルポリマー、変性ポリアミドイミド、又はアクリロニトリル−ブタジエンゴムを含有し、(B)成分として、重合性化合物を含有し、必要に応じて(C)成分として、重合開始剤を含有し、かつ必要に応じて(D)成分としてエポキシ樹脂硬化剤を含有するものである。以下、各材料について詳細に説明する。
(A)反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーとしては、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、カルボキシル基、水酸基、エピスルフィド基などの官能基を含有するものが好ましく、中でも架橋性の点でエポキシ基が好ましい。具体的には、原料モノマーとしてエチレン性不飽和基を含有し、かつ重量平均分子量が10万以上であるエポキシ基含有(メタ)アクリルポリマーを挙げることができる。
共重合体モノマーとしては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリロニトリル等を挙げることができる。
エチレン性不飽和エポキシドとしては、特に制限はなく、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、α−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、α−ブチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、α−エチル−6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。この中で、透明性及び耐熱性の観点から、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレートが好ましい。
このような重量平均分子量が10万以上であるエポキシ基含有(メタ)アクリルポリマーは、上記モノマーから適宜モノマーを選択して製造することもできるし、市販品(例えばナガセケムテックス(株)製HTR−860P−3、HTR−860P−5等)もある。なお、HTR−860P−3は、重量平均分子量800,000、エポキシ当量(EEW)4,809g/eqであり、下記式の構造を有する。
シリコーン変性ポリアミドイミドは、シロキサン骨格、イミド結合及びアミド結合を有する重合体であり、例えば、下記一般式(A式)で表される全繰り返し単位中のR、R′として、下記一般式(A1)で表されるシロキサンユニットを有し、かつ、下記一般式(A2)で表される芳香族ユニット、下記一般式(A3)で表される脂環族ユニット、下記一般式(A4)で表される芳香族ユニットを有するものが挙げられる。
アクリロニトリル−ブタジエンゴムとしては、特に制限なく、公知のものを単独でまたは2種類以上を組み合わせて使用することができる。アクリロニトリル−ブタジエンゴムは、アクリロニトリルとブタジエンとの乳化共重合によって得られ、アクリロニトリルの含有量が5〜60質量%の範囲のものが好ましく、15〜40質量%の範囲のものがより好ましい。アクリロニトリルの含有量がこの範囲にあると(メタ)アクリレート及びエポキシ樹脂等との相溶性が良好であり、また他樹脂との密着性も良好である。
(A)アクリロニトリル−ブタジエンゴムとして、上記モノマーを共重合させる場合、その重合方法としては特に制限はなく、例えば、乳化重合、パール重合、溶液重合などの方法を使用することができる。
なお、(A)成分として用いられる上記成分は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(B)成分として、(メタ)アクリレートを用いることができ、(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、単官能のもの、2官能のもの又は3官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
単官能(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどの脂肪族(メタ)アクリレート;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどの脂環式(メタ)アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、p−クミルフェニル(メタ)アクリレート、o−ビフェニル(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレート、2−ナフチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(1−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(2−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレートなどの芳香族(メタ)アクリレート;2−テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−N−カルバゾールなどの複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び(メタ)アクリルポリマーとの相溶性の観点から、上記脂肪族(メタ)アクリレート;上記脂環式(メタ)アクリレート;上記複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体であることが好ましい。
これらの中でも、透明性及び(メタ)アクリルポリマーとの相溶性の観点から、上記脂肪族(メタ)アクリレート;上記脂環式(メタ)アクリレート;上記複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体;上記脂肪族エポキシ(メタ)アクリレート;上記脂環式エポキシ(メタ)アクリレートであることが好ましい。
これらの中でも、透明性及び(メタ)アクリルポリマーとの相溶性の観点から、上記脂肪族(メタ)アクリレート;上記複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体であることが好ましい。
以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、透明性及び(メタ)アクリルポリマーとの相溶性の観点から、ヒドロキノン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂などの2官能フェノールグリシジルエーテル型液状エポキシ樹脂;上記2官能脂環式液状エポキシ樹脂であることが好ましい。
以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
水酸基含有(メタ)アクリレートとポリイソシアネートとの反応で得られるウレタンアクリレートとしては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと2,5−または2,6−ビス(イソシアネートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンの反応生成物、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと2,4−トリレンジイソシアネートの反応生成物、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとイソフォロンジイソシアネートの反応生成物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートと2,4−トリレンジイソシアネートの反応生成物、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートとイソフォロンジイソシアネートの反応生成物、フェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物、フェニルグリシジルエーテルとトルエンジイソシアネートの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとトルエンジイソシアネートの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジシソシアネートの反応生成物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物等が挙げられる。
ポリエーテルジオールには、脂肪族、脂環族、芳香族の種類がある。
これらのポリオールは、単独でまたは二種以上を併用して用いることもできる。
これらのポリオールにおける各構造単位の重合様式は特に制限されず、ランダム重合、ブロック重合、グラフト重合のいずれであってもよい。
脂肪族ポリエーテルジオールとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコールおよび二種以上のイオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られるポリエーテルジオールなどが挙げられる。
脂環族ポリエーテルジオールとしては、例えば水添ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールのアルキレンオキシド付加ジオールなどが挙げられる。
熱ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシドなどのケトンパーオキシド;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール;p−メンタンヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド;α、α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシドなどのジアルキルパーオキシド;オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのジアシルパーオキシド;ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−3−メトキシブチルパーオキシカーボネートなどのパーオキシカーボネート;t−ブチルパーオキシピバレート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウリレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテートなどのパーオキシエステル;2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2’−ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物が挙げられる。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル、及びアゾ化合物であることが好ましい。
また、前記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体において、2つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン;上記グリオキシエステル;上記オキシムエステル;上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。
以上の熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
これらの中でも、硬化性及び透明性の観点から、上記ベンジルスルホニウム塩であることが好ましい。
これらの中でも、硬化性及び透明性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。
以上の熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
また、前記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体において、2つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
これらの中で、硬化性及び透明性の観点から、上記α−アミノケトンであることが好ましい。
以上の光塩基発生剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、その他の熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤、及び適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
これらの中でも、透明性及び(メタ)アクリルポリマーなどとの相溶性の観点から、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどの2官能フェノール;フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂などのノボラック樹脂であることが好ましい。
以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、透明性及び硬化性の観点から上記イミダゾール化合物;上記イミダゾール化合物のトリメリト酸付加体;上記イミダゾール化合物のイソシアヌル酸付加体であることが好ましい。
以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
なお、ここで光反応性モノマーとは、光の照射によって重合するモノマーであり、前述の多官能(メタ)アクリレートが好適なものとして挙げられる。
また、(B)脂環式エポキシ樹脂として、透明性及び(メタ)アクリルポリマーとの相溶性の観点から、(B)成分中、室温で液状の脂環式エポキシ樹脂を、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上さらに好ましくは85質量%以上含有し、(B)成分が室温で液状の脂環式エポキシ樹脂からなることが特に好ましい。
(A)成分としては、前述のシリコーン変性ポリアミドイミド及び/又はブタジエン変性ポリアミドイミドが好ましい。また、(B)成分としては、前述のビスフェノール型エポキシ樹脂及び/又はフェノールノボラック型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。また、(D)成分としては、前述のフェノール系エポキシ樹脂硬化剤及び/又はアミン系エポキシ樹脂硬化剤を用いることが好ましい。
本発明に使用されるビスマレイミドとしては、分子中にマレイミド基を2個以上含有するものであれば、特に制限はなく、例えば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N'−m−フェニレンビスマレイミド、N,N'−p−フェニレンビスマレイミド、N,N'−m−トルイレンビスマレイミド、N,N'−4,4'−ビフェニレンビスマレイミド、N,N'−4,4'−〔3,3'−ジメチルビフェニレン〕ビスマレイミド、N,N'−4,4'−〔3,3'−ジメチルジフェニルメタン〕ビスマレイミド、N,N'−4,4'−〔3,3'−ジエチルジフェニルメタン〕ビスマレイミド、N,N'−4,4'−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N'−4,4'−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N'−4,4'−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N'−3,3'−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N,N'−4,4'−ジフェニルスルホンビスマレイミド、2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−t−ブチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−s−ブチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、1,1−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕デカン、1,1−ビス〔2−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)−5−t−ブチルフェニル〕−2−メチルプロパン、4,4'−シクロヘキシリデン−ビス〔1−(4−マレイミドフェノキシ)−2−(1,1−ジメチルエチル)ベンゼン〕、4,4'−メチレン−ビス〔1−(4−マレイミドフェノキシ)−2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)ベンゼン〕、4,4'−メチレン−ビス〔1−(4−マレイミドフェノキシ)−2,6−ジ−s−ブチルベンゼン〕、4,4'−シクロヘキシリデン−ビス〔1−(4−マレイミドフェノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、4,4'−メチレン−ビス〔1−(マレイミドフェノキシ)−2−ノニルベンゼン〕、4,4'−(1−メチルエチリデン)−ビス〔1−(マレイミドフェノキシ)−2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)ベンゼン〕、4,4'−(2−エチルヘキシリデン)−ビス〔1−(マレイミドフェノキシ)−ベンゼン〕、4,4'−(1−メチルヘプチリデン)−ビス〔1−(マレイミドフェノキシ)−ベンゼン〕、4,4'−シクロヘキシリデン−ビス〔1−(マレイミドフェノキシ)−3−メチルベンゼン〕、2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−エチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−エチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、ビス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−エチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、3,8−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕−トリシクロ−〔5.2.1.02,6〕デカン、4,8−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕−トリシクロ−〔5.2.1.02,6〕デカン、3,9−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕−トリシクロ−〔5.2.1.02,6〕デカン、4,9−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕−トリシクロ−〔5.2.1.02,6〕デカン、1,8−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メンタン、1,8−ビス〔3−メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メンタン、1,8−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メンタン等が挙げられる。これらの中でも、透明性及び変性ポリアミドイミドとの相溶性の観点から、N,N'−m−フェニレンビスマレイミド等、芳香族の共役が少ないものが好ましい。以上の化合物は、単独又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
(A)アクリロニトリル−ブタジエンゴムは、上述のように、カルボキシル基含有繰り返し単位を0.5〜6質量%含有するカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴムであることが好ましい。
(B)成分として、エポキシ樹脂を加える場合には、(D)エポキシ樹脂硬化剤を含有することが好ましい。具体的には、フェノール系エポキシ樹脂硬化剤が好ましく、特にフェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち少なくとも1つを含むことが好ましい。
また、上部クラッド層形成用樹脂組成物と下部クラッド層形成用樹脂組成物は同一でも異なってもよいが、通常、下部クラッド層形成用樹脂組成物に求められる上記膜厚の変化率、及び上部クラッド層形成用樹脂組成物に求められる屈曲耐久性を制御するためには、異なる材料を用いることが有利である。
分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等の2官能芳香族グリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の多官能芳香族グリシジルエーテル;ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の2官能脂肪族グリシジルエーテル;水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂等の2官能脂環式グリシジルエーテル;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の多官能脂肪族グリシジルエーテル;フタル酸ジグリシジルエステル等の2官能芳香族グリシジルエステル;テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の2官能脂環式グリシジルエステル;N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の2官能芳香族グリシジルアミン;N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4−ジアミノジフェニルメタン、1,3−ビス(N,N−グリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,O−トリグリシジル−p−アミノフェノール等の多官能芳香族グリシジルアミン;アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の2官能脂環式エポキシ樹脂;ジグリシジルヒダントイン等の2官能複素環式エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート等の多官能複素環式エポキシ樹脂;オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等の2官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの(c)光重合開始剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。
これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常10〜80質量%であることが好ましい。
本発明のクラッド層形成用樹脂フィルムは、前記クラッド層形成用樹脂組成物を用い、好適な支持フィルムに塗布することにより容易に製造することができる。また、前記クラッド層形成用樹脂組成物が前記有機溶剤で希釈されている場合、樹脂組成物を支持フィルムに塗布し、有機溶剤を除去することにより製造することができる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性、及び強靭性の観点から、上記ポリエステル及び上記ポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな支持フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプの支持フィルムとして、東洋紡績(株)製コスモシャインA1517、コスモシャインA4100が挙げられる。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物などにより離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
本発明の光導波路の製造方法としては、基板上に下部クラッド層としての光導波路形成用樹脂層を形成する工程、コア層としての光導波路形成用樹脂層を形成する工程、所望のコアパターンを露光する工程、露光後に有機溶剤又はアルカリ性水溶液の現像液を用いて現像してコア部を形成する工程、上部クラッド層としての光導波路形成用樹脂層を形成する工程を有する。
光導波路用形成用樹脂ワニスを用いる場合は、必要に応じて樹脂層を形成後に、乾燥する工程を入れてもよい。乾燥方法として、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。また、必要に応じてこれらを併用してもよい。
これらの中で、生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
また、真空加圧式ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを基板上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性および追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、20〜130℃であることが好ましい。20℃以上であれば下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムと基板との密着性が向上し、130℃以下であれば樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、40〜100℃であることがさらに好ましい。圧力は0.2〜0.9MPaであることが好ましく、ラミネート速度は0.1〜3m/minであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
まず、第1の工程として、上記基板上に、下部クラッド層形成用の光導波路形成用樹脂組成物又はそれを用いた光導波路形成用樹脂ワニスをスピンコート法等により塗布するか、又は、下部クラッド層形成用の光導波路形成用フィルムをラミネート等により積層する。下部クラッド層形成用の光導波路形成用樹脂フィルムにカバーフィルムが存在する場合には、カバーフィルムを除去後に又は除去しながら積層することが好ましい。
基板上に塗布又は積層された下部クラッド層形成用樹脂組成物層を光硬化し、下部クラッド層を形成する(図1(a)参照)。下部クラッド層形成用の光導波路形成用樹脂フィルムにベースフィルムが存在する場合には、その後、除去してもよい。
下部クラッド層を形成する際の活性光線の照射量は、0.1〜5J/cm2とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。また、活性光線が基材を透過する場合、効率的に硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。
なお、光硬化後の処理として、必要に応じて、50〜200℃の加熱処理を行ってもよい。
コア部形成用樹脂層の膜厚は、光導波路の用途によって変化させることができるが、一般にマルチモード導波路の場合、20〜80μm程度が好ましい。
コアパターンを露光する際の活性光線の照射量は、0.01〜10J/cm2であることが好ましい。0.01J/cm2以上であれば、硬化反応が十分に進行し、後述する現像工程によりコアパターンが流失することがなく、10J/cm2以下であれば露光量過多によりコアパターンが太ることがなく、微細なコアパターンが形成でき好適である。以上の観点から、0.05〜5J/cm2であることがさらに好ましく、0.1〜3J/cm2であることが特に好ましい。
また、露光後に、コアパターンの解像度及び密着性向上の観点から、必要に応じて露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、10分以内であることが好ましい。10分以内であれば紫外線照射により発生した活性種が失活することがない。露光後加熱の温度は40〜160℃であることが好ましく、時間は30秒〜10分であることが好ましい。
現像液としては、有機溶剤、アルカリ性水溶液等の安全かつ安定であり、操作性が良好なものが好ましく用いられる。前記有機溶剤系現像液としては、例えば、1,1,1−トリクロロエタン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、各種アルコール類等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、1〜20質量%の範囲で水を添加してもよい。
また、現像に用いるアルカリ性水溶液としては、例えば、0.1〜5質量%炭酸ナトリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%炭酸カリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%水酸化ナトリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%四ホウ酸ナトリウムの希薄溶液等が好ましく挙げられる。
また、現像に用いるアルカリ性水溶液のpHは9〜11の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物の層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
現像液のpHは、レジストの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8〜12とすることが好ましく、pH9〜10とすることがより好ましい。
有機溶剤の濃度は、通常、2〜90質量%とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて調整することができる。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させることもできる。
物性測定方法
(1−1)引張り試験、屈曲耐久試験、全光線透過率及びヘイズ測定用硬化フィルムの作製
各実施例及び比較例で得られた上部クラッド層形成用樹脂ワニスを、表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製A53、厚み25μm)の離型処理面上に塗工機((株)ヒラノテクシード製マルチコーターTM−MC)を用いて塗布し、100℃で20分乾燥し、次いで保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製A31、厚み25μm)を貼付け、上部クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。樹脂層の厚みは、引張り試験、屈曲耐久試験、全光線透過率及びヘイズ測定用としては110μm、屈折率測定用硬化フィルムでは50μmとなるように調節した。
上記(1)で得られた硬化フィルム(幅10mm、長さ70mm)の引張り試験(つかみ具間距離50mm)を、引張り試験機((株)オリエンテック製 RTM−100)を用いて、温度25℃、引張り速度500mm/minで、JIS K 7127に準拠して行った。
初期弾性率(引張弾性率)、降伏強度(引張降伏強さ)、最大強度(引張強さ)、降伏伸び(引張降伏伸び)、破断伸び(引張破断伸び)は、JIS K 7127に準拠した計算法により求めた。
上記(1)で得られた硬化フィルム(幅5mm、長さ100mm)の屈曲耐久試験を、屈曲耐久試験機((株)大昌電子製)を用い、曲げ角度0〜180°、曲げ半径2mm、曲げ速度2回/秒の条件で屈曲耐久試験を行い、硬化フィルムが破断した時点での曲げ回数で評価した。
上記(1)で得られた硬化フィルムの全光線透過率及びヘイズを分色度・濁度測定器(日本電食工業(株)製COH 400)を用いて測定した。
厚さ25μmのPET基材に、下部クラッド層形成用樹脂組成物を、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗工し、365nmの波長において4000mJ/cm2露光後、80℃で10分間乾燥して測定用試料を作製した。該測定用試料の塗工膜の厚さT1を測定した。次いで、該試料を、コア層をパターニングする際に用いられる溶剤に、23℃で120秒間浸漬させた後の膜厚T2を測定し、膜厚の変化率100×(T2−T1)/T1(%)を求めた。
(2−1)光導波路の伝搬損失
各実施例及び比較例にて作製した光導波路の伝搬損失を、光源に850nmのVCSEL(EXFO社製、FLS−300−01−VCL)及び受光センサ((株)アドバンテスト製、Q82214)を用い、カットバック法(測定導波路長5、3、2cm、入射ファイバー;GI−50.525マルチモードファイバー(NA=0.20)、出射ファイバー;SI−114/125(NA=0.22))により測定した。
各実施例にて作製した光導波路について、上記(1−3)屈曲耐久試験と同様の方法で、光導波路の屈曲性試験を行い、耐屈曲性を評価した。
(1)下部クラッド層形成用樹脂ワニスの調製
(a)ベースポリマーとして、東都化成(株)製「フェノトートYP−70」35質量部、(b)光重合性化合物として、新中村化学工業(株)製「KRM−2110」63質量部、及び(c)重合開始剤として、東京化成工業(株)製「SP−170」2質量部を配合し、これに溶剤としてエチルセロソルブ40質量部を加え、下部クラッド層形成用樹脂ワニスを調製した。
(a)ベースポリマーとして、東都化成(株)製「フェノトートYP−70」20質量部、(b)光重合性化合物として、新中村化学工業(株)製「A−BPEF」39質量部及び(株)ADEKA製「EA−1020」39質量部、及び(c)ラジカル重合開始剤として、チバ・スペシャルティケミカルズ社製「イルガキュア819」1質量部とチバ・スペシャルティケミカルズ社製「イルガキュア2959」1質量部を配合し、これに溶剤としてエチルセロソルブ40質量部を加え、コア層形成用樹脂ワニスを調製した。
バインダー樹脂である(A)反応性官能基を有する(メタ)アクリルポリマーとして、ナガセケムテックス(株)製「HTR−860P−3」(重量平均分子量;800,000、EEW;4,809g/eq)60質量部、(B)ウレタン(メタ)アクリレートとして共栄社化学(株)製「AH−600」20質量部、(メタ)アクリレートとして共栄社化学(株)製「TMP−A」20質量部、(C)ラジカル重合開始剤として、チバ・スペシャルティケミカルズ社製「イルガキュア819」1質量部とチバ・スペシャルティケミカルズ社製「イルガキュア2959」1質量部を配合し、これに溶剤としてエチルセロソルブ40質量部を加え、上部クラッド層形成用樹脂ワニスを調製した。
PETフィルム(東洋紡績(株)、「コスモシャインA1517」、厚さ16μm)にアプリケーター(ヨシミツ精機(株)製「YBA−4」)を用いて、上記クラッド層形成用樹脂ワニス(上部クラッド層形成用及び下部クラッド層形成用)及びコア層形成用樹脂ワニスを塗布し(クラッド層形成用樹脂フィルム;巻内の接着処理面使用、コア層形成用樹脂フィルム;巻外の非処理面使用)、80℃、10分、その後100℃、10分で溶剤を乾燥させ、コア層形成用樹脂フィルム、上部クラッド層形成用樹脂フィルム、及び下部クラッド層形成用樹脂フィルムを作製した。このときのフィルムの厚さは、アプリケーターの間隙を調節することで、5〜100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では、硬化後の膜厚が、コア層40μm、下部クラッド層20μm、上部クラッド層70μmとなるように調節した。
上記下部クラッド層形成用樹脂フィルムに、紫外線露光機((株)オーク製作所「EXM−1172)にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射し、下部クラッド層形成用樹脂フィルムを光硬化させた(図1(a)参照)。次に、このクラッド層上に、真空加圧ラミネータ((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用い、圧力0.4MPa、温度70℃、加圧時間30秒の条件にて、コア層形成用樹脂フィルムをラミネートした(図1(b)参照)。続いて、幅40μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて、紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射した後(図1(c)参照)、N,N−ジメチルアセトアミドとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)の3対7(質量比)混合溶剤にて、コアパターンを現像した(図1(d)参照)。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。次いで、同様なラミネート条件にて上部クラッド形成用樹脂フィルムをラミネートし、紫外線照射及び160℃で加熱処理を行い、フレキシブル光導波路を製造した(図1(e)参照)。
なお、コア層及びクラッド層の屈折率をMetricon社製プリズムカプラー(Model 2010)で測定したところ、波長850nmにて、コア層が1.584、下部クラッド層が1.537、上部クラッド層が1.4895であった。光導波路の伝搬損失は0.08dB/cmであり、光導波路の屈曲性試験を行ったところ、100万回実施後も破断しなかった。
実施例1において、上部クラッド層形成用樹脂ワニスの(B)成分として、第1表に記載のものを用いたこと以外は実施例1と同様にして光導波路を製造した。
実施例1と同様に評価した結果を第1表に示す。
実施例2において、下部クラッド層形成用樹脂ワニスとして、第1表に記載のものを用いたこと以外は実施例2と同様にして光導波路を製造した。
実施例1と同様に評価した結果を第1表に示す。
第1表に記載の成分からなる下部クラッドを用い、実施例1と同様にして光導波路の製造を行おうとしたところ、コアパターンの露光・現像過程で、下部クラッドが大きく膨潤し、コアパターンが変化し次の工程に進めることができなかった。
第1表に記載の成分からなる下部クラッドを用い、実施例1と同様にして光導波路の製造を行おうとしたところ、コアパターンの露光・現像過程で、下部クラッドが大きく膨潤し、コアパターンが変化し次の工程に進めることができなかった。
上部クラッドの成分として、東都化成(株)製「フェノトートYP−70」を90質量部、(株)ADEKA製「KRM−2110」を10質量部、(株)ADEKA製「SP−170」2質量部用い、上部クラッドフィルムの屈曲耐久試験を行ったところ、1万回以下で破壊した。
*2 フェノトートYP−70;ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂、東都化成(株)製
*3 AH−600;ウレタン(メタ)アクリレート、共栄社化学(株)製
*4 792SH8K;ウレタン(メタ)アクリレート、日立化成工業(株)製
*5 UA160−TM;ウレタン(メタ)アクリレート、新中村化学工業(株)製
*6 TMP−A;(メタ)アクリレート、共栄社化学(株)製
*7 KRM−2110;エポキシ樹脂、(株)アデカ製
*8 イルガキュア819;チバ・スペシャルティケミカルズ社製
*9 イルガキュア2959;チバ・スペシャルティケミカルズ社製
*10 SP−170;東京化成工業(株)製
*11 A−BPEF;芳香族ジアクリレート、新中村化学工業(株)製
*12 EA−1020;(株)芳香族エポキシアクリレート、(株)ADEKA製
*13 DN631;カルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴム、日本ゼオン(株)製
*14 DN101L;高ニトリルアクリロニトリル−ブタジエンゴム、日本ゼオン(株)製
*15 YX8000;脂環式エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン(株)製
*16 A−9300;エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、新中村化学工業(株)製
*17 LF4871;ビスフェノールA型フェノール樹脂、大日本インキ化学工業(株)製
*18 2PZ−CN;1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、四国化成工業(株)製
2;下部クラッド層
3;コア部形成用樹脂層
4;ベースフィルム
5;フォトマスク
6;コアパターン(コア部)
7;上部クラッド層
8;ベースフィルム
Claims (25)
- 基板上に、下部クラッド層、パターニングされたコア層、及び上部クラッド層がこの順に積層された光導波路であって、下部クラッド層形成用樹脂組成物を乾燥後の厚みが20μmとなるように成膜したフィルムをコア層パターニング用溶剤に120秒浸漬した前後での膜厚の変化率が50%以下であり、かつ、上部クラッド層形成用樹脂組成物が、該上部クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる厚み110μmの硬化フィルムの、25℃での引張り降伏伸び率が5.5〜30%であることを特徴とする光導波路。
- 前記上部クラッド層と下部クラッド層の比屈折率差が5%以下である請求項1に記載の光導波路。
- 前記コアパターンと下部クラッド層の比屈折率差、及び前記コアパターンと上部クラッド層の比屈折率差が、それぞれ1〜10%である請求項1又は2に記載の光導波路。
- 前記上部クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる厚み110μmの硬化フィルムの、25℃での引張り弾性率が1〜2000MPaである請求項1〜3のいずれかに記載の光導波路。
- 前記上部クラッド層形成用樹脂組成物を硬化してなる厚み110μmの硬化フィルムの全光線透過率が50%以上である請求項1〜4のいずれかに記載の光導波路。
- 上部クラッド層形成用樹脂が、(A)成分として、(メタ)アクリルポリマー、変性ポリアミドイミド、及びアクリロニトリル−ブタジエンゴムからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有し、(B)成分として、重合性化合物を含有し、必要に応じて(C)成分として、重合開始剤を含有し、かつ必要に応じて(D)成分としてエポキシ樹脂硬化剤を含有する請求項1〜5のいずれかに記載の光導波路。
- 前記(A)成分が反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーであり、前記(B)成分がエポキシ樹脂であり、かつ前記(D)成分がフェノール系エポキシ樹脂硬化剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)成分が反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーであり、前記(B)成分がエポキシ樹脂及び光反応性モノマーであり、前記(C)成分が光塩基発生剤であり、かつ前記(D)成分がフェノール系エポキシ樹脂硬化剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)成分が反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーであり、前記(B)成分が(メタ)アクリレート及びエポキシ樹脂であり、前記(C)成分がラジカル重合開始剤であり、かつ前記(D)成分がフェノール系エポキシ樹脂硬化剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)成分が反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーであり、前記(B)成分がウレタン(メタ)アクリレートであり、かつ前記(C)成分がラジカル重合開始剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)成分が反応性官能基を有し、かつ重量平均分子量が10万以上である(メタ)アクリルポリマーであり、前記(B)成分が脂環式エポキシ樹脂であり、前記(C)成分がカチオン重合開始剤を含有する樹脂組成物であって、前記(B)脂環式エポキシ樹脂が、室温で液状のものを50質量%以上含む請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)成分が変性ポリアミドイミドであり、前記(B)成分がエポキシ樹脂であり、かつ前記(D)成分がエポキシ樹脂硬化剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)変性ポリアミドイミドが、シリコーン変性ポリアミドイミド又はブタジエン変性ポリアミドイミドである請求項12に記載の光導波路。
- 前記(B)エポキシ樹脂が、ビスフェノール型エポキシ樹脂又はフェノールノボラック型エポキシ樹脂を含む請求項12又は13に記載の光導波路。
- 前記(D)エポキシ樹脂硬化剤が、フェノール系エポキシ樹脂硬化剤又はアミン系エポキシ樹脂硬化剤である請求項12〜14のいずれかに記載の光導波路。
- さらに、(F)成分として、ビスマレイミドを含む請求項12〜15のいずれかに記載の光導波路。
- 前記(A)成分がアクリロニトリル−ブタジエンゴムであり、前記(B)成分が(メタ)アクリレートであり、かつ前記(C)成分がラジカル重合開始剤である請求項6に記載の光導波路。
- 前記(A)アクリロニトリル−ブタジエンゴムが、カルボキシル基含有繰り返し単位を0.5〜6質量%含有するカルボキシル基含有アクリロニトリル−ブタジエンゴムである請求項17に記載の光導波路。
- 前記(B)成分が(メタ)アクリレート及びエポキシ樹脂であり、かつ前記(D)成分がフェノール系エポキシ樹脂硬化剤である請求項17又は18に記載の光導波路。
- 前記(B)エポキシ樹脂が、ビスフェノール型エポキシ樹脂又はフェノールノボラック型エポキシ樹脂を含む請求項19に記載の光導波路。
- 前記(D)フェノール系エポキシ樹脂硬化剤が、フェノールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち少なくとも1つを含む請求項19又は20に記載の光導波路。
- 前記コアパターン形成用樹脂組成物及び前記下部クラッド層形成用樹脂組成物が、それぞれ(a)ベースポリマー、(b)光重合性化合物、及び(c)光重合開始剤を含有する請求項1〜21のいずれかに記載の光導波路。
- 前記(a)ベースポリマーが、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも1種である請求項22に記載の光導波路。
- 前記(b)光重合性化合物が、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物又は分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物である請求項22又は23に記載の光導波路。
- 前記下部クラッド層形成用樹脂が、(a)ベースポリマーとしてアクリロニトリル−ブタジエンゴムを含有し、(b)重合性化合物を含有し、かつ(c)光重合開始剤を含有する請求項1〜21のいずれかに記載の光導波路。
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