JP5255024B2 - ラジアルアンテナ及びそれを用いたプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態であるエッチング装置の構成を示す図である。この図1には、一部構成について断面構造が示されている。
図5は、図1,図2に示したラジアルアンテナ30よりも開口面積が大きいラジアルアンテナの構成例を示す断面図であり、図2に相当する断面が示されている。また、図6は、隣り合う仕切り板の間隔設定を説明するための図である。図5,図6において、図2,図3と同一部分を同一符号をもって示し、適宜その説明を省略する。開口面積が大きいラジアルアンテナ30Aを構成するとき、図6に示すように隣り合う仕切り板37A,37Bの間隔L2がL2≧λg となってしまう場合がある。このような場合には、仕切り板37A,37Bの間隔L2がL2≧λg となる領域の一部に、新たに仕切り板38を配置すればよい。このとき、仕切り板37A,37Bと仕切り板38との間隔を、およそL3≧λg /2、L4<λg に設定する。
図9は、本発明の第3の実施の形態であるエッチング装置の構成を示す図である。この図において、図1と同一部分を同一符号をもって示し、適宜その説明を省略する。また、図10は、図9において点線で囲まれた部分Xを拡大して示す拡大断面図である。ただし、説明の都合上、誘電板13とラジアルアンテナ30と間隔を誇張して示してある。図9に示すエッチング装置では、リング状のシールド材17の内面から処理容器11Aの側壁内面までの距離Dが、処理容器11Aの側壁上面とラジアルアンテナ30との間にできる空間(図10において梨子地模様を付した領域であり、誘電板13を含む)18におけるマイクロ波MWの波長λg のおよそN/2倍(Nは自然数)に相当する長さに設定されている。ここで、シールド材17を配置する位置は、空間18を構成する部材、例えば誘電板13の比誘電率を考慮して決定される。
Claims (7)
- 複数のスロットが形成された第1の導電板と、マイクロ波導入口を有し前記第1の導電板に対向配置された第2の導電板と、前記第1及び第2の導電板の周縁を接続するリング部材とを備えたラジアルアンテナにおいて、
前記第1及び第2の導電板により形成されるラジアル導波路内に平面視放射状に配置され、前記第1の導電板と前記第2の導電板との間に延在する導電性の仕切り板を複数備え、
前記マイクロ波導入口を通って前記第1の導電板に接続された中心導体と、前記マイクロ波導入口において前記第2の導電板に接続された外部導体とからなる同軸線路をさらに備え、
前記仕切り板は、前記第1の導電板及び前記第2の導電板の両者と線接触して前記ラジアル導波路内の空間を電気的に仕切ることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 請求項1記載のラジアルアンテナにおいて、
隣り合う前記仕切り板の間隔は、前記ラジアル導波路内を伝搬するマイクロ波の略半波長に相当する長さ以上であることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 請求項1又は2記載のラジアルアンテナにおいて、
隣り合う前記仕切り板の間隔は、前記マイクロ波の略1波長に相当する長さ未満であることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 請求項1〜3いずれか1項記載のラジアルアンテナにおいて、
前記仕切り板のそれぞれの平面形状は、直線状をしていることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 請求項1〜4いずれか1項記載のラジアルアンテナにおいて、
前記仕切り板は、前記スロットを避けて配置されていることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 請求項1〜5いずれか1項記載のラジアルアンテナにおいて、
前記マイクロ波導入口は、前記第2の導電板の中央に形成されていることを特徴とするラジアルアンテナ。 - 気密な処理容器内に配置されて被処理体を載置する載置台と、前記載置台の上方位置に配設され前記処理容器内にマイクロ波を供給するアンテナ手段とを備えたプラズマ処理装置において、
前記アンテナ手段は、請求項1〜6いずれか1項記載のラジアルアンテナであることを特徴とするプラズマ処理装置。
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