JP5250895B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置に関し、特に、複数の半導体スイッチ素子を備える半導体装置に関する。
機能等の異なる複数の回路を切り替えて種々の問題を解決する技術として、たとえば、特許文献1には、以下のような構成が開示されている。すなわち、同一の機能または異なる機能を有する複数個のロジック回路を同一チップのアクティブ領域に搭載し、搭載された複数個のロジック回路のうち、1つのロジック回路のみを動作させる選択回路を備える。この選択回路は、入出力パッドを介して外部から入力された信号に基づき、動作する回路を選択する。
また、特許文献2には、以下のような構成が開示されている。すなわち、互いに出力インピーダンスの異なる複数の出力回路および外部負荷を検知する負荷検知回路を備え、外部負荷を検知してそれら複数の出力回路のうちの1つを選択する。
また、特許文献3には、以下のような構成が開示されている。すなわち、機能の異なる複数の回路と、外部から書き込み可能な不揮発性の記憶素子と、上記記憶素子の記憶情報を選択情報として上記回路を選択する手段とを備える。
また、特許文献4には、以下のような構成が開示されている。すなわち、入力に対して配置がそれぞれ90度異なる第1の回路および第2の回路と、第1の回路および第2の回路の各々の出力の特性を検出するための検出器と、検出器の結果により特性の良いほうの出力を選択するためのセレクタとを備える。
また、特許文献5には、以下のような構成が開示されている。すなわち、1つの集積回路チップに複数の機能ブロックを形成し、その各機能ブロックの外部接続端子と集積回路パッケージの外部接続端子との間を外部からの制御によってオンまたはオフが可能なスイッチ回路を介して接続する。
また、特許文献6には、以下のような構成が開示されている。すなわち、外部回路からIC(Integrated Circuit)に入力パルスを印加するために上記ICに配置される外付けピンと、上記外付けピンに外付けされ、上記パルスの振幅を変化させるためのスイッチ手段と、上記IC内に内蔵され上記パルスの振幅を検出する検出回路と、上記検出回路の出力信号に応じてセットされるフリップフロップ回路とを備え、上記フリップフロップ回路の出力信号に応じて上記ICの内部回路を切り替える。
また、特許文献7には、以下のような構成が開示されている。すなわち、論理ゲート素子内の合成抵抗を切り替える、または論理ゲート素子と駆動用トランジスタの制御電極との間の抵抗値を切り替える複数のトランジスタスイッチを設ける。これにより、動作周波数に応じて論理ゲート素子の特性を切り替えることが容易であるとともに、その装置サイズを大きくする必要がない。また、複数の動作周波数に応じて切換可能な半導体集積回路装置の小型化を図ることができる。
特開2002−246471号公報 特開平07−273632号公報 特開平02−5458号公報 特開2006−269797号公報 特開昭60−105252号公報 特開昭62−294327号公報 特開2005−12717号公報
ところで、パワーモジュールは、その内部に半導体デバイスを搭載しているが、半導体デバイスはその製造段階で電気的特性が決定される。このため、パワーモジュールに搭載された半導体デバイスの電気的特性を変更することは不可能である。
その一方で、パワーモジュールの要求仕様はユーザごとに異なり、さらに1ユーザにおいてもアプリケーションごとに異なる。
各要求仕様に対してパワーモジュールの電気的特性を最適化するためには、各要求仕様に適した半導体デバイスを予め選択してパワーモジュールに搭載する必要があることから、パワーモジュールの開発に時間を要していた。
また、パワーモジュールに搭載される半導体デバイスは、選択されたひとつの電気的特性のみを有するため、ユーザのアプリケーションに応じてパワーモジュールの仕様を追従させて変化させることは不可能であった。
ここで、特許文献1〜特許文献7には、機能等の異なる複数の回路を切り替える構成は開示されているが、要求仕様に応じて半導体デバイスの電気的特性を適切に切り替えるための構成は開示されていない。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、その目的は、要求仕様に応じて電気的特性を適切に切り替えることが可能な半導体装置を提供することである。
上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる半導体装置は、スイッチング損失および飽和電圧損失が互いに異なる複数の半導体スイッチ素子と、複数の半導体スイッチ素子のいずれかを選択し、選択した半導体スイッチ素子を駆動する選択駆動部と、複数の半導体スイッチ素子および選択駆動部を収容するケースとを備える。
本発明によれば、要求仕様に応じて電気的特性を適切に切り替えることができる。
本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子11,12のスイッチング損失特性および飽和電圧損失特性を示す図である。 (a)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置におけるIGBTのスイッチングタイミングを示す図である。(b)は、図3(a)に示すスイッチングタイミングに対応する、電子線照射量が多い場合におけるIGBTのスイッチング損失および飽和電圧損失を示す図である。 (a)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置におけるIGBTのスイッチングタイミングを示す図である。(b)は、図4(a)に示すスイッチングタイミングに対応する、電子線照射量が少ない場合におけるIGBTのスイッチング損失および飽和電圧損失を示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子11,12のスイッチング周波数とトータル損失との関係を示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体チップの構成を概念的に示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体チップの構造を概略的に示す図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子の製造方法を説明するための図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子の製造方法を説明するための図である。 本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子の製造方法を説明するための図である。 本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置における切り替え判定部の構成を示す図である。 本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置における切り替え判定部の構成を示す図である。 本発明の第5の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第6の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。 本発明の第7の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図1を参照して、半導体装置101は、選択駆動部51と、半導体スイッチ素子11,12と、ダイオード13と、ケースKと、端子T1,T3,T4とを備える。選択駆動部51は、ゲート駆動回路2と、切り替え判定部3と、切り替え制御部4と、スイッチSWとを含む。ゲート駆動回路2は、トランジスタ14,15と、抵抗16,17とを含む。
半導体スイッチ素子11,12は、たとえば1つの集積回路すなわち半導体チップCP1に含まれる。半導体スイッチ素子11,12は、電気的特性が互いに異なるように製造されている。
ダイオード13は、半導体スイッチ素子11,12のコレクタに接続されたカソードと、半導体スイッチ素子11,12のエミッタに接続されたアノードとを有する。ダイオード13は、半導体スイッチ素子11,12に逆電圧が印加されたときに半導体スイッチ素子11,12のエミッタ側からコレクタ側へ電流を流す。これにより、半導体スイッチ素子11,12が逆電圧によって壊れることを防ぐことができる。
選択駆動部51と、半導体スイッチ素子11,12と、ダイオード13とはモジュール化されている。すなわち、ケースKは、選択駆動部51と、半導体スイッチ素子11,12と、ダイオード13とを収容している。端子T1,T3,T4は、ケースKに取り付けられている。
端子T1は、ケースKに取り付けられ、半導体スイッチ素子11,12をオン・オフするためのオン・オフ制御信号をケースKの外部から受ける。このオン・オフ制御信号は、たとえば所定周期で論理ローレベルおよび論理ハイレベルを繰り返すデジタル信号である。
選択駆動部51は、半導体装置101の要求仕様に応じて半導体スイッチ素子11,12のいずれかを選択し、選択した半導体スイッチ素子に駆動信号を与える。
より詳細には、ゲート駆動回路2は、端子T1を介して受けたオン・オフ制御信号に基づいて、半導体スイッチ素子11,12を駆動するためのゲート駆動信号を生成し、スイッチSWを介して半導体スイッチ素子11,12へ出力する。たとえば、トランジスタ14は、論理ハイレベルのオン・オフ制御信号を受けてオンし、これにより、電源電圧VDが抵抗16およびスイッチSWを介して半導体スイッチ素子11,12のゲートに供給される。また、トランジスタ15は、論理ローレベルのオン・オフ制御信号を受けてオンし、これにより、接地電圧が抵抗17およびスイッチSWを介して半導体スイッチ素子11,12のゲートに供給される。
スイッチSWは、切り替え制御部4から受けた制御信号に基づいて、ゲート駆動回路2から受けたゲート駆動信号を半導体スイッチ素子11のゲートへ出力するか、半導体スイッチ素子12のゲートへ出力するかを切り替える。
切り替え判定部3は、種々の信号および設定等に基づいて半導体装置101の要求仕様を判定し、判定結果を示す信号を切り替え制御部4へ出力する。切り替え制御部4は、切り替え判定部3から受けた信号に基づいてスイッチSWへ制御信号を出力する。
図2は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子11,12のスイッチング損失特性および飽和電圧損失特性を示す図である。
半導体スイッチ素子11,12は、たとえばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)である。図2を参照して、IGBTでは、その電気的特性としてスイッチング損失特性と飽和電圧損失特性との間にトレードオフの関係がある。半導体スイッチ素子11は、図2のグラフ上の点SPAで表わされるスイッチング損失特性および飽和電圧損失特性を有する。また、半導体スイッチ素子12は、図2のグラフ上の点SPBで表わされるスイッチング損失特性および飽和電圧損失特性を有する。
図3(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置におけるIGBTのスイッチングタイミングを示す図である。図3(b)は、図3(a)に示すスイッチングタイミングに対応する、電子線照射量が多い場合におけるIGBTのスイッチング損失および飽和電圧損失を示す図である。
図4(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置におけるIGBTのスイッチングタイミングを示す図である。図4(b)は、図4(a)に示すスイッチングタイミングに対応する、電子線照射量が少ない場合におけるIGBTのスイッチング損失および飽和電圧損失を示す図である。
図3(a)および(b)ならびに図4(a)および(b)を参照して、IGBTがオンしてコレクタ電流Icが増加し、コレクタ−エミッタ間電圧Vceが減少するタイミングと、IGBTがオフしてコレクタ電流Icが減少し、コレクタ−エミッタ間電圧Vceが増加するタイミングとにおいて、スイッチング損失SWLが生じる。また、IGBTがオンしてからオフするまでの期間において、飽和電圧損失STLが生じる。
ここで、スイッチング損失SWLおよび飽和電圧損失STLは、たとえばIGBTチップの製造段階で照射するチップへの電子線の量によって変わる。すなわち、電子線照射量が多い場合にはスイッチング損失SWLが小さくなり、また、飽和電圧損失STLが大きくなる。一方、電子線照射量が少ない場合にはスイッチング損失SWLが大きくなり、また、飽和電圧損失STLが小さくなる。なお、図2に示す矢印Yは、電子線照射量が少なくなる方向を示している。
図5は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子11,12のスイッチング周波数とトータル損失との関係を示す図である。なお、半導体スイッチ素子11,12のスイッチング周波数は、オン・オフ制御信号の周波数と等しい。
図5を参照して、半導体スイッチ素子11,12のトータル損失は、スイッチング損失SWLおよび飽和電圧損失STLの和である。また、半導体スイッチ素子11のスイッチング損失SWLAおよび半導体スイッチ素子12のスイッチング損失SWLBは、それぞれ半導体スイッチ素子11および12のスイッチング周波数が高くなるにつれて大きくなる。また、半導体スイッチ素子11の飽和電圧損失STLAおよび半導体スイッチ素子12の飽和電圧損失STLBは、半導体スイッチ素子11および12のスイッチング周波数によらず略一定である。
このため、半導体スイッチ素子11のトータル損失TLAは、キャリア周波数すなわちスイッチング周波数が低い周波数帯F1において半導体スイッチ素子12のトータル損失TLBよりも小さくなる。一方、半導体スイッチ素子12のトータル損失TLBは、キャリア周波数が高い周波数帯F2において半導体スイッチ素子11のトータル損失TLAよりも小さくなる。
キャリア周波数は、ユーザおよびアプリケーションごとに異なる。このため、従来のパワーモジュールでは、ユーザおよびアプリケーションに対応する周波数においてトータル損失が最も小さくなるような特性を有する半導体スイッチ素子を予め選択してパワーモジュールに搭載する必要がある。半導体スイッチ素子の選択は、半導体スイッチ素子をパワーモジュールに搭載した後は行なうことができないため、ユーザおよびアプリケーションごとにパワーモジュールを開発しなければならない。
また、たとえばユーザのアプリケーションにおいてキャリア周波数が可変である場合、特定のキャリア周波数におけるトータル損失しか最小化できないことから、キャリア周波数に応じてパワーモジュールの仕様を変化させることは不可能であった。
しかしながら、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置では、半導体スイッチ素子11,12は、スイッチング損失および飽和電圧損失が互いに異なり、選択駆動部51は、半導体スイッチ素子11,12のいずれかを選択し、選択した半導体スイッチ素子を駆動する。
このような構成により、互いに電気的特性の異なる半導体スイッチ素子を選択して駆動することができるため、ユーザおよびアプリケーションごとに異なる要求仕様に応じて電気的特性を適切に切り替えることができる。
すなわち、ユーザおよびアプリケーションごとに異なるキャリア周波数に応じて、電力損失が小さくなる半導体スイッチ素子を選択的に駆動することができるため、キャリア周波数の相違に関わらず、常に低損失なパワーモジュールを提供することができる。そして、インバータなどのアプリケーションにおいて電力変換を行なう際に、パワーモジュールにおける電力損失を低減することができるため、電力変換時のエネルギー変換効率を向上させ、省エネルギー効果を得ることができる。
なお、選択駆動部51は、ゲート駆動回路2を含まない構成であってもよい。この場合、半導体装置101の外部からゲート駆動信号が直接与えられる。すなわち、端子T1は、半導体スイッチ素子11,12を駆動するためのゲート駆動信号をケースKの外部から受ける。
次に、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子の製造方法について説明する。
図6は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体チップの構成を概念的に示す図である。
図6を参照して、半導体スイッチ素子11,12は、たとえば1つの集積回路すなわち半導体チップCP1に含まれる。トランジスタセルCAおよびCBは、半導体チップCP1において形成され、半導体スイッチ素子11および12にそれぞれ対応する。
図7は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体チップの構造を概略的に示す図である。
図7を参照して、トランジスタセルCAおよびCBは、略矩形状であり、トランジスタセルCAおよびCBにおいて半導体スイッチ素子11のゲートG1および半導体スイッチ素子12のゲートG2がそれぞれ形成されている。
図8〜図10は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置における半導体スイッチ素子の製造方法を説明するための図である。
図8を参照して、トランジスタセルCAの電気的特性を電子線照射によって調整する場合には、トランジスタセルCBにマスクMKを被せた状態で、トランジスタセルCAに電子線を照射する。
図9を参照して、トランジスタセルCBの電気的特性を電子線照射によって調整する場合には、トランジスタセルCAにマスクMKを被せた状態で、トランジスタセルCBに電子線を照射する。これにより、トランジスタセルCAおよびCBに個別の電気的特性を持たせることができる。
図10を参照して、マスクMKを使わなくても、トランジスタセルCAへの電子線照射量とトランジスタセルCBへの電子線照射量とを異ならせることにより、トランジスタセルCAおよびCBに個別の電気的特性を持たせることが可能である。
このように、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置では、異なる電気的特性を有する半導体スイッチ素子11,12を1つの半導体チップによって製造することができるため、半導体スイッチ素子11,12の面積を小さくすることができ、小型化を図ることができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第2の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて半導体スイッチ素子の製造方法を変更した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図11は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図11を参照して、半導体装置102は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、半導体スイッチ素子11,12の代わりに半導体スイッチ素子21,22を備える。半導体スイッチ素子11,12は、電気的特性の異なる2つの集積回路すなわち半導体チップCP11,CP12にそれぞれ含まれる。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
したがって、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置は、複雑な半導体デバイス製造技術を用いることなく製造することができるため、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて製造コストの削減を図ることができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第3の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて要求仕様の判定方法を具体化した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図12は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図12を参照して、半導体装置103は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、端子T1と切り替え判定部3とが接続されている点が異なる。
切り替え判定部3は、端子T1を介して受けたオン・オフ制御信号の周波数を検出し、検出した周波数に基づいて半導体装置103の要求仕様を判定し、判定結果を示す信号を切り替え制御部4へ出力する。
図13は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置における切り替え判定部の構成を示す図である。
図13を参照して、切り替え判定部3は、コンパレータCMP1と、周波数カウンタCNTとを含む。
コンパレータCMP1は、端子T1を介して受けたオン・オフ制御信号を周波数カウンタCNTがカウント可能な電圧パルスに変換する。すなわち、コンパレータCMP1は、端子T1を介して受けたオン・オフ制御信号と基準電圧VREF1とを比較し、比較結果を示す信号を周波数カウンタCNTへ出力する。
周波数カウンタCNTは、コンパレータCMP1から受けた信号のたとえば立ち上がりエッジをカウントし、カウント値を示す信号を切り替え制御部4へ出力する。
切り替え制御部4は、周波数カウンタCNTから通知されたカウント値に基づいてスイッチSWへ制御信号を出力する。
スイッチSWは、切り替え制御部4から受けた制御信号に基づいて、ゲート駆動回路2から受けたゲート駆動信号を半導体スイッチ素子11のゲートG1へ出力するか、半導体スイッチ素子12のゲートG2へ出力するかを切り替える。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
したがって、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置では、キャリア周波数を検出し、検出したキャリア周波数に応じて最適な半導体スイッチ素子を自発的に選択駆動することができるため、電力損失を低減することができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第4の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて要求仕様の判定方法を具体化した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図14は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図14を参照して、半導体装置104は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、さらに、端子T2を備える。
端子T2は、ケースKに取り付けられ、ケースKの外部から半導体装置104の要求仕様を示す制御信号を受ける。
選択駆動部51は、端子T2を介して受けた制御信号に基づいて半導体スイッチ素子11,12のいずれかを選択し、選択した半導体スイッチ素子11,12に駆動信号を与える。
図15は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置における切り替え判定部の構成を示す図である。
図15を参照して、切り替え判定部3は、コンパレータCMP2を含む。コンパレータCMP2は、端子T2を介して受けた制御信号のレベルを判定する。すなわち、コンパレータCMP2は、端子T2を介して受けた制御信号と基準電圧VREF2とを比較し、比較結果を示す信号を切り替え制御部4へ出力する。
切り替え制御部4は、コンパレータCMP2から受けた信号に基づいてスイッチSWへ制御信号を出力する。
スイッチSWは、切り替え制御部4から受けた制御信号に基づいて、ゲート駆動回路2から受けたゲート駆動信号を半導体スイッチ素子11のゲートG1へ出力するか、半導体スイッチ素子12のゲートG2へ出力するかを切り替える。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
したがって、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置では、半導体装置の要求仕様に応じて外部から半導体装置へ制御信号を与えることにより、半導体装置の仕様を任意に変更することができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第5の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて半導体スイッチ素子の種類を変更した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図16は、本発明の第5の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図16を参照して、半導体装置105は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、半導体スイッチ素子11,12の代わりに半導体スイッチ素子31,32を備える。
半導体スイッチ素子31,32は、バイポーラトランジスタであり、たとえば1つの集積回路すなわち半導体チップCP31に含まれる。半導体スイッチ素子31,32は、電気的特性が互いに異なるように製造されている。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
バイポーラチップ製造プロセスはIGBTチップ製造プロセスより安価である。したがて、本発明の第5の実施の形態に係る半導体装置では、半導体装置の製造コストを低減することができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第6の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて半導体スイッチ素子の種類を変更した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図17は、本発明の第6の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図17を参照して、半導体装置106は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、半導体スイッチ素子11,12の代わりに半導体スイッチ素子41,42を備え、かつダイオード13を備えない。
半導体スイッチ素子41,42は、RC(Reverse Conducting:逆導通)−IGBTであり、たとえば1つの集積回路すなわち半導体チップCP41に含まれる。半導体スイッチ素子41,42は、電気的特性が互いに異なるように製造されている。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
したがって、本発明の第6の実施の形態に係る半導体装置では、IGBTチップおよびダイオードチップを1チップ化できるRC−IGBTを使用することにより、ダイオード13が不要となる。これにより、半導体装置を容易に製造することができ、製造コストを低減することができる。
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
<第7の実施の形態>
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて半導体スイッチ素子の種類を変更した半導体装置に関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様である。
図18は、本発明の第7の実施の形態に係る半導体装置の構成を示す図である。
図18を参照して、半導体装置107は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、半導体スイッチ素子11,12およびダイオード13の代わりに半導体スイッチ素子61,62およびダイオード63を備える。
半導体スイッチ素子61,62は、たとえば1つの集積回路すなわち半導体チップCP61に含まれる。半導体スイッチ素子61,62は、電気的特性が互いに異なるように製造されている。また、半導体スイッチ素子61,62およびダイオード63は炭化珪素(SiC)によって形成されている。
ここで、炭化珪素は、耐電圧性が高いため、許容される電流密度を大きくできることから、半導体スイッチ素子およびダイオードの小型化を図ることができる。したがって、本発明の第7の実施の形態に係る半導体装置では、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置と比べて、さらに小型化を図ることができる。
なお、本発明の第7の実施の形態に係る半導体装置では、半導体スイッチ素子61,62およびダイオード63は炭化珪素(SiC)によって形成されている構成であるとしたが、これに限定するものではなく、半導体スイッチ素子およびダイオードの少なくとも一方が炭化珪素(SiC)によって形成されている構成であってもよい。
その他の構成および動作は第1の実施の形態に係る半導体装置と同様であるため、ここでは詳細な説明を繰り返さない。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
2 ゲート駆動回路、3 切り替え判定部、4 切り替え制御部、11,12,21,22,31,32,41,42,61,62 半導体スイッチ素子、13,63 ダイオード、14,15 トランジスタ、16,17 抵抗、51 選択駆動部、101〜107 半導体装置、K ケース、T1,T2,T3,T4 端子、SW スイッチ、CP1,CP11,CP12,CP31 半導体チップ、CA,CB トランジスタセル、CMP1,CMP2 コンパレータ、CNT 周波数カウンタ。

Claims (9)

  1. スイッチング損失および飽和電圧損失が互いに異なる複数の半導体スイッチ素子と、
    前記複数の半導体スイッチ素子のいずれかを選択し、前記選択した半導体スイッチ素子を駆動する選択駆動部とを備え
    前記選択駆動部は、前記半導体スイッチ素子を駆動するための駆動信号を受け、前記駆動信号の周波数を検出し、前記検出した周波数に基づいて前記複数の半導体スイッチ素子のいずれかを選択し、前記選択した半導体スイッチ素子に前記駆動信号を与える、半導体装置。
  2. 前記複数の半導体スイッチ素子は、1つの半導体チップに含まれる請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記複数の半導体スイッチ素子は、電気的特性の異なる複数の半導体チップにそれぞれ含まれる請求項1に記載の半導体装置。
  4. 前記複数の半導体スイッチ素子はIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)である請求項1に記載の半導体装置。
  5. 前記複数の半導体スイッチ素子はバイポーラトランジスタである請求項1に記載の半導体装置。
  6. 前記半導体装置は、さらに、
    前記半導体スイッチ素子ごとに設けられ、対応の前記半導体スイッチ素子に並列接続され、炭化珪素によって形成されている複数のダイオードを備える請求項1に記載の半導体装置。
  7. 前記複数の半導体スイッチ素子は、炭化珪素によって形成されている請求項に記載の半導体装置。
  8. 前記複数の半導体スイッチ素子はRC(Reverse Conducting)−IGBTである請求項1に記載の半導体装置。
  9. 前記複数の半導体スイッチ素子は、炭化珪素によって形成されている請求項に記載の半導体装置。
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