JP5249245B2 - 原子間力顕微鏡法用のビデオレートを可能とするプローブ - Google Patents
原子間力顕微鏡法用のビデオレートを可能とするプローブ Download PDFInfo
- Publication number
- JP5249245B2 JP5249245B2 JP2009548316A JP2009548316A JP5249245B2 JP 5249245 B2 JP5249245 B2 JP 5249245B2 JP 2009548316 A JP2009548316 A JP 2009548316A JP 2009548316 A JP2009548316 A JP 2009548316A JP 5249245 B2 JP5249245 B2 JP 5249245B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- silicon
- cantilever
- layer
- probe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims description 108
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 title description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 142
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 141
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 140
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 103
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 44
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 24
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 76
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 54
- 230000008569 process Effects 0.000 description 36
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000347 anisotropic wet etching Methods 0.000 description 1
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q70/00—General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
- G01Q70/08—Probe characteristics
- G01Q70/10—Shape or taper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y35/00—Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/24—AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
- G01Q60/38—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q70/00—General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
- G01Q70/08—Probe characteristics
- G01Q70/14—Particular materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q70/00—General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
- G01Q70/16—Probe manufacture
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
本発明は、高速イメージング(ビデオレートまで)が所望される用途を含む、プローブベースの機器に使用するためのプローブを製造する方法に関する。
[請求項101]
エッチング変動を区別するようにシリコン基板を通してエッチングする工程、エッチング処理変動を把握しながらエッチングされた表面にシャドーマスクを位置合わせする工程、および蒸着を使用して不均一な表面上に先端と共にカンチレバーを印刷する工程により、取っ手、カンチレバーおよび先端を含む、高周波低バネ定数のプローブを製造する方法。
本発明の目的である高周波低バネ定数のプローブを製造するプロセスは、上面側および底面側を有する(100)シリコン基板に端を発する。(111)面に制約される(100)表面を備える膜は、任意の適切なリソグラフィ処理によって形成された一つまたは複数のフィルムによってマスクされているシリコン基板の底面側を異方性ウェットエッチングすることにより、この基板から形成されている。膜の厚みは、タイムドエッチング(timed etch)を使用して選択され、その結果、所望の高さの先端が膜から形成され得る。基板の底面側は、カンチレバー形成に適している一つまたは複数のフィルムで被覆されている。一つまたは複数のフィルムは、膜の(111)面および(100)面の交差直線に対してシリコン基板の底面側にシャドーマスクを位置合わせすることによってカンチレバーに形成され、その結果、制御された長さのカンチレバーが、この交差部分でありかつ[110]方位の点から延在する。この長さは、カンチレバーをアンダーカットエッチングする処理においてさらに短縮され得る。これは、カンチレバーによって被覆される領域を除いて底面側のシリコン膜を露出する。最後の工程は、シリコン膜から先端を形成することである。
Claims (5)
- (A)第一の側面と該第一の側面の反対側の第二の側面とを有する、第一の材料である結晶基板を提供する工程と、
(B)基板の前記第一の側面上に第一の層を形成する工程であって、前記第一の層の第一の側面が、前記基板の第一の側面と隣接し、前記第一の層の第二の側面が、前記第一の層の第一の側面の反対側にある工程と、
(C)前記第一の層の少なくとも一部の真下である、基板の前記第一の側面上の第一の部分をアンダーカットして、基板の該第一の部分に段、および該第一の層の一部と基板の該第一の部分との間の空間を形成する工程と、
(D)前記段にわたって基板の前記第二の側面の第二の部分を除去して、前記第一の材料からできた、前記第一の層に結合する先端を形成し、該第一の層の少なくとも一部が、基板の残った部分に取り付けられたカンチレバーを形成する工程と
を含む、プローブを作製する方法。 - 基板がシリコン基板またはシリコン・オン・インシュレータ基板であり、第一の材料がシリコンであり、
基板の前記第一の側面が不均一な表面を有し、エッチングされたピットにより規定される基板に膜を形成するため、第一の層を形成する前に基板の前記第一の側面にピットをエッチングする工程をさらに含み、
アンダーカットする工程の前に前記第一の層をパターニングする工程をさらに含み、該パターニングがプローブの長さを規定し、パターニングする工程が、基板の前記第一の側面に沿って位置合わせされたシャドーマスクを介して少なくとも一つのマスク層を付着させ、該第一の層のマスクされていない部分を除去することをさらに含み、
エッチングされたピットおよび非膜領域により規定される基板の第一の部分に膜を形成するために基板の前記第一の側面上にピットをエッチングする工程をさらに含み、前記付着させる工程が、非膜領域上のマスク幅が膜上のマスク幅よりも大きくなるように少なくとも一つのマスク層を前記膜および非膜領域に付着させることを含み、
第一の層が、窒化シリコン、ポリマー、金属、または合成物のカンチレバーを含むカンチレバー層を含み、かつ
第一の層がカンチレバー延伸部層をさらに含み、前記段がカンチレバー層と該カンチレバー延伸部層との境界位置に形成され、アンダーカットする工程の後に前記カンチレバー延伸部層を除去する工程をさらに含む、請求項1記載の方法。 - 基板がシリコン基板であり、第一の材料がシリコンであり、段が2つの交差する{411}Si結晶面表面を含み、かつ形成された先端が1つの{111}Si面表面に交差する2つの交差する{411}Si面表面を含み、基板の第二の側面の第二の部分の除去が、先端の{111}Si面の形成を含み、かつ基板の前記第一の側面上の第一の部分をアンダーカットする工程が異方性エッチングを含む、請求項1記載の方法。
- 請求項3記載の方法により作製されたプローブであって、
(a)カンチレバーと、
(b)2つの交差する{411}Si面表面を含む、前記カンチレバー上の四面体Si先端と
を含むプローブ。 - カンチレバーが窒化シリコン、ポリマー、金属、または合成物のカンチレバーを含み、かつ先端が交差する{111}Si面表面をさらに含む、請求項4記載のプローブ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US89849207P | 2007-01-31 | 2007-01-31 | |
US60/898,492 | 2007-01-31 | ||
PCT/US2008/001370 WO2008094688A1 (en) | 2007-01-31 | 2008-01-31 | Video rate-enabling probes for atomic force microscopy |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010517055A JP2010517055A (ja) | 2010-05-20 |
JP2010517055A5 JP2010517055A5 (ja) | 2011-03-24 |
JP5249245B2 true JP5249245B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=39674440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009548316A Expired - Fee Related JP5249245B2 (ja) | 2007-01-31 | 2008-01-31 | 原子間力顕微鏡法用のビデオレートを可能とするプローブ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8062535B2 (ja) |
EP (1) | EP2108118A4 (ja) |
JP (1) | JP5249245B2 (ja) |
WO (1) | WO2008094688A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1304768B1 (it) * | 1998-10-05 | 2001-03-29 | Esaote Spa | Lettino porta paziente o simili, e macchina, in particolare macchinaper il rilevamento d'immagini in risonanza magnetica nucleare in |
US8062535B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-11-22 | Chung Hoon Lee | Video rate-enabling probes for atomic force microscopy |
CN102279289B (zh) * | 2011-03-09 | 2012-12-26 | 大连理工大学 | 一种基于(110)单晶硅的微悬臂梁探针制作方法 |
US8756710B2 (en) | 2012-08-31 | 2014-06-17 | Bruker-Nano, Inc. | Miniaturized cantilever probe for scanning probe microscopy and fabrication thereof |
US8689361B1 (en) | 2012-10-29 | 2014-04-01 | Oicmicro, LLC | Method of making thin film probe tip for atomic force microscopy |
US9038269B2 (en) * | 2013-04-02 | 2015-05-26 | Xerox Corporation | Printhead with nanotips for nanoscale printing and manufacturing |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5066358A (en) * | 1988-10-27 | 1991-11-19 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Juninor University | Nitride cantilevers with single crystal silicon tips |
EP0413042B1 (en) | 1989-08-16 | 1992-12-16 | International Business Machines Corporation | Method of producing micromechanical sensors for the afm/stm profilometry and micromechanical afm/stm sensor head |
US5021364A (en) * | 1989-10-31 | 1991-06-04 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microcantilever with integral self-aligned sharp tetrahedral tip |
US5264696A (en) * | 1991-05-20 | 1993-11-23 | Olympus Optical Co., Ltd. | Cantilever chip for scanning probe microscope having first and second probes formed with different aspect ratios |
JP3069923B2 (ja) * | 1991-06-17 | 2000-07-24 | キヤノン株式会社 | カンチレバー型プローブ及び原子間力顕微鏡、情報記録再生装置 |
US5444244A (en) * | 1993-06-03 | 1995-08-22 | Park Scientific Instruments Corporation | Piezoresistive cantilever with integral tip for scanning probe microscope |
JPH0792173A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Agency Of Ind Science & Technol | 原子間力顕微鏡用カンチレバーとその製造方法 |
JPH08262040A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-10-11 | Olympus Optical Co Ltd | Afmカンチレバー |
JPH08313541A (ja) * | 1995-05-16 | 1996-11-29 | Olympus Optical Co Ltd | 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー及びその製造方法 |
WO1997009584A1 (en) * | 1995-09-01 | 1997-03-13 | International Business Machines Corporation | Cantilever with integrated deflection sensor |
JPH1048226A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-20 | Olympus Optical Co Ltd | 梁構造体 |
US6274198B1 (en) | 1997-02-24 | 2001-08-14 | Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. | Shadow mask deposition |
US6139759A (en) | 1997-07-08 | 2000-10-31 | International Business Machines Corporation | Method of manufacturing silicided silicon microtips for scanning probe microscopy |
DK1359593T3 (da) | 2002-03-20 | 2004-08-09 | Nanoworld Ag | SPM-sensor og fremgangsmåde til dens fremstilling |
JP2005265420A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Olympus Corp | Afmカンチレバー及びその製造方法 |
US8062535B2 (en) | 2007-01-31 | 2011-11-22 | Chung Hoon Lee | Video rate-enabling probes for atomic force microscopy |
US8701211B2 (en) * | 2009-08-26 | 2014-04-15 | Advanced Diamond Technologies, Inc. | Method to reduce wedge effects in molded trigonal tips |
US8828243B2 (en) * | 2010-09-02 | 2014-09-09 | Applied Nanostructures, Inc. | Scanning probe having integrated silicon tip with cantilever |
-
2008
- 2008-01-30 US US12/011,800 patent/US8062535B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-31 WO PCT/US2008/001370 patent/WO2008094688A1/en active Application Filing
- 2008-01-31 JP JP2009548316A patent/JP5249245B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-31 EP EP20080725061 patent/EP2108118A4/en not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-10-18 US US13/275,451 patent/US8695111B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-18 US US13/276,173 patent/US8398867B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8695111B2 (en) | 2014-04-08 |
US20120036602A1 (en) | 2012-02-09 |
US8398867B2 (en) | 2013-03-19 |
US8062535B2 (en) | 2011-11-22 |
EP2108118A1 (en) | 2009-10-14 |
EP2108118A4 (en) | 2012-09-19 |
WO2008094688A1 (en) | 2008-08-07 |
US20120090058A1 (en) | 2012-04-12 |
JP2010517055A (ja) | 2010-05-20 |
WO2008094688A9 (en) | 2008-12-24 |
US20080223823A1 (en) | 2008-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6668628B2 (en) | Scanning probe system with spring probe | |
US6066265A (en) | Micromachined silicon probe for scanning probe microscopy | |
EP0413042A1 (en) | Method of producing micromechanical sensors for the AFM/STM profilometry and micromechanical AFM/STM sensor head | |
US8756710B2 (en) | Miniaturized cantilever probe for scanning probe microscopy and fabrication thereof | |
JP5249245B2 (ja) | 原子間力顕微鏡法用のビデオレートを可能とするプローブ | |
US8828243B2 (en) | Scanning probe having integrated silicon tip with cantilever | |
US8857247B2 (en) | Probe for a scanning probe microscope and method of manufacture | |
JP4751190B2 (ja) | 温度測定用プローブ | |
US7861315B2 (en) | Method for microfabricating a probe with integrated handle, cantilever, tip and circuit | |
US11719719B2 (en) | Metrology probe with built-in angle and method of fabrication thereof | |
WO2003102966A2 (en) | Method of forming atomic force microscope tips | |
JP2007192589A (ja) | 温度測定用プローブ | |
JP2005114509A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーおよびその製造方法 | |
JPH1123590A (ja) | カンチレバー及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110118 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120910 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121207 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130318 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |