JP5247396B2 - Mems用感光性樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
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Description
(1)光カチオン重合開始剤(A)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有してなるMEMS用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤(A)が下記式(1)
(2)MEMS用感光性樹脂組成物がパッケージ用である前項(1)に記載のMEMS用感光性樹脂組成物、
(3)エポキシ樹脂(B)の軟化点が40℃以上120℃以下かつエポキシ当量が150〜500/eq.である前項(1)または(2)に記載のMEMS用感光性樹脂組成物、
(4)エポキシ樹脂(B)が下記式(3)
下記式(4)
下記式(5)
下記式(6)
下記式(7)
1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と1分子中に少なくとも1個以上の水酸基と1個のカルボキシル基を有する化合物との反応物に、多塩基酸無水物を反応させることにより得られるエポキシ樹脂(B−6)、
下記式(9)
下記式(10)
下記式(11)
下記式(12)
下記式(13)及び/又は式(14)
(5)前項(1)乃至(4)のいずれか一項に記載のMEMS用感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物、
(6)前項(1)乃至(4)のいずれか一項に記載のMEMS用感光性樹脂組成物を基材で挟み込んだ積層体、
(7)前項(6)に記載の積層体を硬化して得られる硬化物、
に関する。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記式(1)で表される光カチオン重合開始剤(A−1)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有してなることを特徴とし、高感度でプレッシャークッカー試験後の基板への密着性が低下しないパターンを形成できる。さらに上記組成物は、毒性の高いアンチモン化合物を含まないため人体及び環境に対しても負荷を小さくすることができる。
本発明における前記エポキシ樹脂(B)とは、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されるものではない。1分子中に有するエポキシ基が2個未満の場合、硬化物の耐薬品性や耐熱性が著しく低下し、永久膜としての使用に耐えない可能性がある。エポキシ樹脂(B)の具体例としては、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応して得られるノボラック類と、エピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンのようなハロヒドリンとを反応させて得られるノボラック型エポキシ樹脂や、オレフィンを有する化合物の酸化反応によって得られるエポキシ化合物等が挙げられる。
また、軟化点が低い場合には、パターニングする際にマスクスティッキングが発生しやすく、さらに、ドライフィルムレジストとして使用する際にも常温で軟化するので好ましくない。一方、エポキシ樹脂(B)の軟化点が高い場合には、ドライフィルムレジストを基板へラミネートする際に軟化しにくく、基板への貼合性が悪くなるので好ましくない。上記のような理由により、多官能エポキシ樹脂の好ましい軟化点は40〜120℃であり、より好ましくは50〜100℃である。本発明でいう軟化点とはJIS K7234に準拠した方法で測定した軟化点のことである。
これらのことから、本発明の感光性樹脂組成物においては、軟化点が40℃以上120℃以下であり、かつエポキシ当量が150〜500/eq.であるエポキシ樹脂が好ましい。上記範囲を満たすエポキシ樹脂(B)の具体例としては、EOCN−102S、EOCN−103S、EOCN−104S、EOCN−1020、EOCN−4400H、EPPN−201、EPPN−501、EPPN−502、XD−1000、BREN−S、NER−7604、NER−7403、NER−1302、NER−7516、NC−3000H(いずれも商品名、日本化薬(株)製)、エピコート157S70(商品名、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EHPE3150(商品名、ダイセル(株)製)等が挙げられる。
尚、本発明において式(3)〜(12)等で表されるエポキシ樹脂とは、各式で表されるエポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂を意味するものであり、該エポキシ樹脂を製造する際に生成する副成分や、該エポキシ樹脂の高分子量体等が含有される場合も含まれる。
本発明の感光性樹脂組成物における、光カチオン重合開始剤(A)(以下、単に「(A)成分」という場合もある)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)(以下、単に「(B)成分」という場合もある)の合計量を100質量%とした場合、通常(A)成分0.1〜15質量%に対して(B)成分85〜99.9重量%の割合で配合される。本発明の感光性樹脂組成物に用いられる光カチオン重合開始剤(A)は、波長300〜380nmにおけるモル吸光係数が高いので、感光性樹脂組成物を使用する際の膜厚に応じて適切な配合比に調整される必要がある。
密着性付与剤は主成分とは未反応性のものであるため、基材界面で作用する成分以外は硬化後に残存成分として存在することになり、多量に使用すると物性低下などの悪影響を及ぼす。基材によっては、少量でも効果を発揮する点から、悪影響を及ぼさない範囲内での使用が適当であり、その使用割合は、感光性樹脂組成物に対して15質量%以下が好ましく、特に好ましくは5質量%以下である。
成分名 質量
光カチオン重合開始剤(A) 0.1〜 15.0
エポキシ樹脂(B) 85.0〜 99.9
反応性エポキシモノマー(C) 1.0〜 10.0
溶剤(D) 5.8〜2090.0
尚、「パッケージ」とは、基板、配線、素子等の安定性を保つため、外気の気体、液体の浸入を遮断するために用いられる封止方法である。本発明で記載するパッケージとは、MEMSのような駆動部があるものや、SAWデバイス等の振動子をパッケージするための中空パッケージや、半導体基板、プリント配線版、配線等の劣化を防ぐために行う表面保護や、樹脂封止等を表す。
(感光性樹脂組成物の調製)
表2に記載の配合量(単位は質量部)に従って、多官能エポキシ樹脂、光カチオン重合開始剤、およびその他の成分を攪拌機付きフラスコで60℃、1時間攪拌混合し、本発明、参考例及び比較用の感光性樹脂組成物を得た。
実施例1、参考例2〜3及び比較例1の各感光性樹脂組成物をシリコンウエハ上にスピンコーターで塗布後、乾燥し、表2に示す膜厚(表2における「塗工後膜厚」は塗布、乾燥した後の膜厚を意味する。)を有する感光性樹脂組成物層を得た。この感光性樹脂組成物層をホットプレートにより65℃で5分間および95℃で15分間プリベークした。その後、i線露光装置(マスクアライナー:ウシオ電機社製)を用いてパターン露光(ソフトコンタクト、i線)を行い、ホットプレートにより95℃で6分間の露光後ベーク(以下「PEB」と記載する)を行い、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下「PGMEA」と記載する)を用いて浸漬法により23℃で5分間現像処理を行い、基板(シリコンウエハ)上に硬化した樹脂パターンを得た。
前記パターン露光において、マスク転写精度が最良となる露光量を最適露光量とし、それぞれの感光性樹脂組成物の感度の評価を行った。最適露光量の値が小さいほど感度が高いことを表す。結果を下記表2に示す。
解像性:前記パターン露光において、1、5、10及び20μmのラインアンドスペースのフォトマスクを使用し、残渣がなく解像されたレジストパターン中、基板へ密着している最も細かいパターン幅を測定した。結果を下記表2に示す。
シリコンウエハ上に1000Åのアルミニウム薄膜をスッパッタリングにより成膜し、その基板を用いて実施例1、参考例2〜3及び比較例1で得られた各感光性樹脂組成物について、前記同様なパターニングを行なった。得られた各試験片を温風対流式オーブンにて150℃、30分間のハードベークを施した。その後、各試験片をHASTチャンバー(エスペック社製)中に入れ、121℃、100%RH、2気圧とし、20時間恒温恒湿状態を保持した(PCT)後、上記試験片を取り出し、図1で模式的に示す形状のパターンの密着力を測定し、PCT耐性を評価した。尚、密着力はシェアツールを用いて、パターン側面部から力を加え、基板からパターンが剥離した時点でのシェア強度を密着力とした。
評価基準
○:密着力が50gf以上
△:密着力が5g以上50g未満
×:5gf未満(測定限界以下)
(A−1):前記式(1)で示される光カチオン重合開始剤(商品名 GSID26−1、チバスペシャルティケミカルズ製)
(B−1):前記式(3)で表されるエポキシ樹脂(商品名 EPON SU−8、レゾリューション・パフォーマンス・プロダクツ製、エポキシ当量210g/eq.、軟化点85℃)
(B−2):前記式(4)で表されるエポキシ樹脂(商品名 NC−3000H、日本化薬社製、エポキシ当量285g/eq.、軟化点65℃)
(B−3):前記式(5)で表されるエポキシ樹脂(商品名 NER−7604、日本化薬社製、エポキシ当量347g/eq.、軟化点71℃)
(PAG−1):光カチオン重合開始剤(ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム=ヘキサフルオロアンチモナート、商品名 CPI−101A、サンアプロ社製、50%炭酸プロピレン溶液)
(C):反応性エポキシモノマー(商品名 EX−321L、ナガセケムテックス社製)
(D):溶剤 シクロペンタノン(CP)
(E):フッ素系レベリング剤(商品名 メガファックF−470、DIC社製)
(F):シランカップリング剤(商品名 S−510、チッソ社製)
(感光性樹脂組成物積層体)
上記実施例1にて得られた感光性樹脂組成物を膜厚15μmのポリプロピレン(PP)フィルム(ベースフィルム、東レ社製)上に均一に塗布し、温風対流乾燥機により65℃で5分間および80℃で20分間乾燥した後、露出面上に膜厚38μmのPPフィルム(カバーフィルム)をラミネートして、15μmの膜厚の感光性樹脂組成物積層体を調製した。
前記で得られた感光性樹脂組成物積層体のカバーフィルムを剥離し、ロール温度70℃、エアー圧力0.2MPa、速度0.5m/minでシリコンウエハ上にラミネートし、これを6回繰り返して80μmの感光性樹脂組成物層を得た。この感光性樹脂組成物層に、i線露光装置(マスクアライナー:ウシオ電機社製)を用いてパターン露光(ソフトコンタクト、i線)を行った。その後、ホットプレートにより95℃で4分間PEBを行い、PGMEAを用いて浸漬法により23℃で4分間現像処理を行い、基板上に硬化した樹脂パターンを得た。最適露光量130mJ/cm2細線密着5μmと良好な結果が得られた。
(感光性樹脂組成物の調製、パターニング、感度評価、解像性評価及びPCT耐性評価)
表3に記載の配合成分からなる本発明の感光性樹脂組成物について、実施例1〜3に準じた方法で感度、解像性及びPCT耐性を評価した。結果を下記表3及び表4に示す。
(B−4):前記式(6)で表されるエポキシ樹脂(商品名 EOCN−103S、日本化薬社製、エポキシ当量214g/eq.、軟化点83℃、及び商品名 EOCN−4400H、日本化薬社製、エポキシ当量190g/eq.、軟化点60℃)
(B−5):前記式(7)で表されるエポキシ樹脂(商品名 NC−6300H、日本化薬社製、エポキシ当量232g/eq.、軟化点70℃)
(B−6):特許3698499号公報の合成例2に準じて合成したエポキシ樹脂(サンプル名 EP3698499、エポキシ当量350g/eq.)
(B−7):前記式(9)で表されるエポキシ樹脂(商品名 EPPN−201−L、日本化薬社製、エポキシ当量190g/eq.、軟化点72℃)
(B−8):前記式(10)で表されるエポキシ樹脂(商品名 EPPN−502H、日本化薬社製、エポキシ当量168g/eq.、軟化点60℃)
(B−10):前記式(12)で表されるエポキシ樹脂(商品名 XD−1000、日本化薬社製、エポキシ当量252g/eq.、軟化点73℃)
1.カバーフィルム及びベースフィルムを取り除いた感光性樹脂組成物の積層体の硬化物、
2.感光性樹脂組成物の硬化物、
3.アルミニウム薄膜(厚さ1000Å)、
4.シリコンウエハ(厚さ500μm)、
をそれぞれ示す。
Claims (6)
- 光カチオン重合開始剤(A)と1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有してなるMEMS用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤(A)が下記式(1)
下記式(5)
下記式(6)
下記式(7)
1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と1分子中に少なくとも1個以上の水酸基と1個のカルボキシル基を有する化合物との反応物に、多塩基酸無水物を反応させることにより得られるエポキシ樹脂(B−6)、
下記式(9)
下記式(10)
下記式(11)
下記式(12)
下記式(13)及び/又は式(14)
- MEMS用感光性樹脂組成物がパッケージ用である請求項1に記載のMEMS用感光性樹脂組成物。
- エポキシ樹脂(B)の軟化点が40℃以上120℃以下かつエポキシ当量が150〜500/eq.である請求項1または請求項2に記載のMEMS用感光性樹脂組成物。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のMEMS用感光性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のMEMS用感光性樹脂組成物を基材で挟み込んだ積層体。
- 請求項5に記載の積層体を硬化して得られる硬化物。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4617387B2 (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-26 | キヤノン株式会社 | 微細構造体の製造方法 |
JP5849350B2 (ja) * | 2009-12-17 | 2016-01-27 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 基材を用いた積層造形法 |
JP5473645B2 (ja) * | 2010-02-05 | 2014-04-16 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂組成物及び液体吐出ヘッド |
US8980968B2 (en) | 2010-02-05 | 2015-03-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, method for producing structure, and liquid discharge head |
CN102741749B (zh) * | 2010-02-05 | 2014-10-08 | 佳能株式会社 | 负型感光性树脂组合物、图案形成方法和液体排出头 |
TWI523882B (zh) | 2010-07-14 | 2016-03-01 | 日本化藥股份有限公司 | 感光性樹脂組成物及其硬化物 |
JP5691987B2 (ja) * | 2010-10-13 | 2015-04-01 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 |
JP5697406B2 (ja) * | 2010-11-09 | 2015-04-08 | キヤノン株式会社 | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド |
JP5653181B2 (ja) * | 2010-11-09 | 2015-01-14 | キヤノン株式会社 | 親水被膜の形成方法および親水被膜、ならびにインクジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット記録ヘッド |
GB2497906B (en) * | 2010-11-17 | 2016-05-04 | Nippon Kayaku Kk | Epoxy resin composition for transparent sheets and cured product thereof |
JP5749631B2 (ja) * | 2010-12-07 | 2015-07-15 | 東京応化工業株式会社 | 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 |
JP5787720B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
EP2481703B1 (en) * | 2011-01-27 | 2020-07-01 | Sensirion AG | Sensor protection |
JP5885269B2 (ja) * | 2011-06-20 | 2016-03-15 | 日本化薬株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP6210986B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2017-10-11 | マイクロケム コーポレイション | 低表面エネルギー基板上にレリーフパターンを製作するためのエポキシ配合物及び方法 |
JP6120574B2 (ja) | 2012-01-31 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物、微細構造体、微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッド |
US11635688B2 (en) | 2012-03-08 | 2023-04-25 | Kayaku Advanced Materials, Inc. | Photoimageable compositions and processes for fabrication of relief patterns on low surface energy substrates |
JP5967824B2 (ja) * | 2012-10-26 | 2016-08-10 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5901070B2 (ja) | 2012-10-26 | 2016-04-06 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP6066413B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2017-01-25 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP5939964B2 (ja) | 2012-11-22 | 2016-06-29 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジスト積層体及びそれらの硬化物 |
JP2013178526A (ja) * | 2013-04-01 | 2013-09-09 | Hitachi Chemical Co Ltd | 中空構造体及びその製造方法 |
JP6071718B2 (ja) | 2013-04-10 | 2017-02-01 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
CN105849639B (zh) * | 2013-11-28 | 2019-10-22 | 日本化药株式会社 | 活性能量射线固化型树脂组合物以及使用该组合物的显示元件用间隔物和/或滤色片保护膜 |
CN106662814B (zh) * | 2014-06-13 | 2019-12-17 | 日本化药株式会社 | 感光性树脂组合物、光刻胶层叠体以及它们的固化物(11) |
JP7050411B2 (ja) | 2016-08-31 | 2022-04-08 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法 |
TW201913233A (zh) * | 2017-09-01 | 2019-04-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 圖案形成方法、抗蝕劑組成物及電子元件的製造方法 |
WO2019111796A1 (ja) * | 2017-12-06 | 2019-06-13 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルムレジスト及びそれらの硬化物 |
TW201936688A (zh) * | 2018-02-08 | 2019-09-16 | 日商日本化藥股份有限公司 | 感光性樹脂組成物及其硬化物 |
JP7134825B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | 微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5554664A (en) * | 1995-03-06 | 1996-09-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-activatable salts with fluorocarbon anions |
US7192991B2 (en) * | 2003-11-26 | 2007-03-20 | 3M Innovative Properties Company | Cationically curable composition |
JP2005217212A (ja) | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Mitsui Chemicals Inc | 半導体素子用中空パッケージ |
US20050260522A1 (en) | 2004-02-13 | 2005-11-24 | William Weber | Permanent resist composition, cured product thereof, and use thereof |
DE102005002960A1 (de) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Kompositzusammensetzung für mikrogemusterte Schichten mit hohem Relaxationsvermögen, hoher chemischer Beständigkeit und mechanischer Stabilität |
JP4851359B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2012-01-11 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
WO2007119391A1 (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-25 | San-Apro Limited | 感活性エネルギー線ネガ型フォトレジスト組成物およびその硬化物 |
CN101466804B (zh) * | 2006-04-13 | 2012-02-22 | 西巴控股有限公司 | 硫鎓盐引发剂 |
JP4913141B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2012-04-11 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法(2) |
JP4789727B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2011-10-12 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4789726B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2011-10-12 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2008026667A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Nippon Kayaku Co Ltd | 永久レジスト組成物、及びレジスト積層体 |
JP4564977B2 (ja) * | 2007-04-05 | 2010-10-20 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
US20090233225A1 (en) * | 2008-03-12 | 2009-09-17 | Johnson Donald W | Low chlorine epoxy resin formulations |
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2008
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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