JP5241697B2 - アライメントデータ作成システム及び方法 - Google Patents
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Description
半導体ウェーハ上に配線パターンを形成する場合、以下に示す処理が順番に実行される。まず、半導体ウェーハの表面にレジストと呼ばれる塗布材が塗布され、その上に配線パターンに対応する露光用マスク(レチクル)が重ねるように配置される。その後、レチクルの上方から可視光線、紫外線又は電子ビームを照射してレジストを感光し、感光パターンと非感光パターンを形成する。この後、形成されたパターンに基づいて半導体ウェーハの表面を加工し、配線パターンを形成する。
(i)回路動作上、高い信号伝送精度が要求されるためにパターンの仕上がりに要求される精度が厳しい高ペア性デバイスやクリティカルパス部の電気的特性の検証を実施することにより、付着物もなく一見すると設計データに近い形状に仕上がっているにも関わらず動作異常の原因となるような欠陥を、製造プロセスで早期に発見することができる。
図3に、任意のEPを観察する際に実行される代表的な撮像シーケンス300を示す。撮像シーケンス300における撮像ポイント、撮像順序、撮像条件は、撮像レシピにより指定する。まず、ステップ301において、試料である半導体ウェーハ101が、XYステージ117上に載置される。ステップ302では、光学顕微鏡(OM)等でウェーハ上のグローバルアライメントマークを観察することにより、半導体ウェーハの原点ずれや半導体ウェーハの回転ずれを補正する。
前述したように、アライメントマークは、半導体ウェーハを素子形成領域として有効活用するために、スクライブ領域に形成される。また、各ショット間の位置ずれを検出するために、1つのアライメントマークを複数のショットに跨るように配置することがある。この実施例では、1つのアライメントマークが複数のショットに跨ることを、隣接する複数ショットの縁部又は隅部同士を重複的に露光すると1つのアライメントマークを完成させるような部分パターンが、各ショットの縁部や隅部に分割して配置されている状態をいう。なお、部分パターンの形状は、1つのアライメントマークに対応する複数のショット間でそれぞれが互いに異なっている。
従来手法におけるグローバルアライメント点の登録は、ユーザ自身による手入力であった。これに対し、本実施例では、グローバルアライメント点の登録を自動化することができる。図6に、グローバルアライメント点の自動登録時の処理シーケンスを示す。なお、図6に示す処理シーケンスは、CPU121で実行されるプログラムを通じて実行される。因みに、過去に使用したグローバルアライメント点のデザイン(Design)テンプレート及びその時に使用したパラメータ情報がファイルとして出力され、CD−SEM100の画像メモリ122等に保持されているものとする。
前述したように、撮像レシピは、撮像ポイントの一部又は全てを含むポイントの座標、サイズ・形状、撮像シーケンス、撮像条件、デザインテンプレートとして管理される。この実施例の場合、合成CADデータの生成処理やグローバルアライメント点の登録処理の一部又は全部を自動化できる。この際、自動生成される合成CADデータやグローバルアライメント点の一部又は全てに対応するポイントの座標、サイズ・形状、撮像シーケンス、撮像条件を撮像レシピに自動登録することにより、撮像レシピの自動生成を実現できる。
前述の説明では、測長走査型電子顕微鏡(CD−SEM)に、合成CADデータの自動作成機能、グローバルアライメント点の自動登録機能、撮像レシピの自動作成機能を搭載する場合について説明した。しかし、合成CADデータの自動作成機能、グローバルアライメント点の自動登録機能、撮像レシピの自動作成機能の一部又は全部は、レシピ作成システムに搭載されていても良いし、いわゆるCADシステムに搭載されていても良い。
Claims (10)
- アライメントデータ作成システムにおいて、
隣接する複数ショットの縁部又は隅部同士を重複露光すると、1つのアライメントマークが完成する部分パターンを有する複数ショットのCADデータが少なくとも記憶されるメモリと、
処理対象とするアライメントマークを構成する前記部分パターンを有する複数ショットに対応する一組のCADデータを前記メモリから読み出すと共に、各ショット間の重ね合せ情報に基づいて前記一組のCADデータを合成し、アライメントマークの完成形を含む合成CADデータを生成する演算部と
を有するアライメントデータ作成システム。 - 請求項1に記載のアライメントデータ作成システムにおいて、
前記部分パターンが閉経図形であり、かつ、各部分パターンの重心又は中心が一致することでアライメントマークが完成する場合、
前記演算部は、前記一組のCADデータに含まれる各閉経図形について重心又は中心座標を算出する処理と、当該重心又は中心座標間の距離情報を算出する処理と、算出された距離情報に基づいて部分パターンの重心又は中心を一致させるように前記一組のCACデータを合成する処理とを実行する
ことを特徴とするアライメントデータ作成システム。 - 請求項1に記載のアライメントデータ作成システムにおいて、
前記演算部は、グローバルアライメントマークの撮像画像又はメモリに保持されているグローバルアライメントマークの画像ファイルと、設定された重ね幅だけ前記一組のCADデータのスクライブ領域を重複させた合成CADデータの候補とを照合し、高い類似度が得られる重ね幅を算出する処理と、算出された重ね幅に基づいて前記一組のCACデータを合成する処理とを実行する
ことを特徴とするアライメントデータ作成システム。 - 請求項1に記載のアライメントデータ作成システムは、
過去に使用されたグローバルアライメントマークに対応するデザインテンプレートのデータを記憶する第2のメモリと、
前記演算部において作成された合成CADデータと前記第2のメモリに記憶されたデザインテンプレートのデータとを照合し、照合されたデザインテンプレートと類似度が高いアライメントマークをグローバルアライメント点に登録する第2の演算部と
を更に有することを特徴とするアライメントデータ作成システム。 - 請求項4に記載のアライメントデータ作成システムは、
前記第2の演算部によりグローバルアライメント点として登録されたアライメントマーク周辺のパターンを、対応する合成CADデータからデザインテンプレートのデータとして切り出す
ことを特徴とするアライメントデータ作成システム。 - アライメントデータ作成方法において、
隣接する複数ショットの縁部又は隅部同士を重複露光すると、1つのアライメントマークが完成する部分パターンを有する複数ショットのCADデータが少なくとも記憶されるメモリから、処理対象とするアライメントマークを構成する部分パターンを有する複数ショットに対応する一組のCADデータを読み出す処理と、
各ショット間の重ね合せ情報に基づいて前記一組のCADデータを合成し、アライメントマークの完成形を含む合成CADデータを生成する処理と
を有するアライメントデータ作成方法。 - 請求項6に記載のアライメントデータ作成方法において、
前記部分パターンが閉経図形であり、かつ、各部分パターンの重心又は中心が一致することでアライメントマークが完成する場合、
前記合成CADデータを生成する処理は、
前記一組のCADデータに含まれる各閉経図形について重心又は中心座標を算出する処理と、
当該重心又は中心座標間の距離情報を算出する処理と、
算出された距離情報に基づいて部分パターンの重心又は中心を一致させるように前記一組のCACデータを合成する処理と
有することを特徴とするアライメントデータ作成方法。 - 請求項6に記載のアライメントデータ作成方法において、
前記合成CADデータを生成する処理は、
グローバルアライメントマークの撮像画像又はメモリに保持されているグローバルアライメントマークの画像ファイルと、設定された重ね幅だけ前記一組のCADデータのスクライブ領域を重複させた合成CADデータの候補とを照合し、高い類似度が得られる重ね幅を算出する処理と、
算出された重ね幅に基づいて前記一組のCACデータを合成する処理と
を有することを特徴とするアライメントデータ作成方法。 - 請求項6に記載のアライメントデータ作成方法は、
過去に使用されたグローバルアライメントマークに対応するデザインテンプレートのデータと、新たに作成された合成CADデータとを照合し、照合されたデザインテンプレートと類似度が高いアライメントマークをグローバルアライメント点に登録する処理
を更に有することを特徴とするアライメントデータ作成方法。 - 請求項9に記載のアライメントデータ作成方法は、
グローバルアライメント点として登録されたアライメントマーク周辺のパターンを、対応する合成CADデータからデザインテンプレートのデータとして切り出す処理
を更に有することを特徴とするアライメントデータ作成方法。
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