JP5240694B2

JP5240694B2 - Color liquid crystal panel, manufacturing method thereof, and color liquid crystal display device

Info

Publication number: JP5240694B2
Application number: JP2010174031A
Authority: JP
Inventors: 英徳池野; 江利子藤巻
Original assignee: NLT Technologeies Ltd
Current assignee: Tianma Japan Ltd
Priority date: 2010-08-02
Filing date: 2010-08-02
Publication date: 2013-07-17
Anticipated expiration: 2021-04-16
Also published as: JP2010244084A

Description

本発明は、携帯電話に好適なカラー液晶パネル、その製造方法及びカラー液晶表示装置に関し、特に、画質の向上を図ったカラー液晶パネル、その製造方法及びカラー液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a color liquid crystal panel suitable for a mobile phone, a manufacturing method thereof, and a color liquid crystal display device, and more particularly to a color liquid crystal panel with improved image quality, a manufacturing method thereof, and a color liquid crystal display device.

従来、透過型液晶表示装置及び反射型液晶表示装置の各特性を兼ね備えた液晶表示装置として、１画素内に透過表示領域及び反射表示領域が設けられた半透過型液晶表示装置がある。このような半透過型液晶表示装置では、色毎に透過表示領域用のカラーフィルタと反射表示領域用のカラーフィルタが設けられているため、総計で６種のカラーフィルタが設けられている。このため、このようなカラー液晶表示装置を製造するためには、カラーフィルタ用に６種のフォトレジスト膜を準備しておき、６回のフォトリソグラフィを行う必要がある。この結果、歩留まりが低く、コストが高いという欠点があった。また、そこで、近時、色毎に１種のカラーフィルタのみが設けられ、反射表示領域内にカラーフィルタが存在しない部分が設けられた半透過型液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。図２３は特許文献１に開示された従来の半透過型液晶表示装置におけるＴＦＴ基板のレイアウトを示す平面図であり、図２４は図２３中のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 2. Description of the Related Art Conventionally, as a liquid crystal display device having both characteristics of a transmissive liquid crystal display device and a reflective liquid crystal display device, there is a transflective liquid crystal display device in which a transmissive display region and a reflective display region are provided in one pixel. In such a transflective liquid crystal display device, since a color filter for a transmissive display area and a color filter for a reflective display area are provided for each color, a total of six color filters are provided. For this reason, in order to manufacture such a color liquid crystal display device, it is necessary to prepare six types of photoresist films for the color filter and perform photolithography six times. As a result, there are disadvantages in that the yield is low and the cost is high. Recently, therefore, a transflective liquid crystal display device has been proposed in which only one type of color filter is provided for each color, and a portion in which no color filter is present in the reflective display region is provided (for example, a patent). Reference 1). FIG. 23 is a plan view showing the layout of the TFT substrate in the conventional transflective liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1, and FIG. 24 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

この公報に開示された従来の半透過型液晶表示装置においては、赤色用の画素１０１Ｒ、緑色用の画素１０１Ｇ及び青色用の画素１０１Ｂが走査線が延びる方向にこの順で配置されている。各画素には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０２が設けられている。薄膜トランジスタ１０２には、走査線となるゲート線１０３から突出するゲート電極１０３ａ及びゲート線に対し垂直方向に延びるドレイン線１０４から突出するドレイン電極１０４ａが設けられている。ゲート線１０３及びゲート電極１０３ａは透明基板１００ａ上に形成されており、透明基板１００ａ上には、更に、ゲート線１０３及びゲート電極１０３ａを覆うようにして絶縁膜１０５が形成されている。ドレイン線１０４はこの絶縁膜１０５上に形成されている。絶縁膜１０５上のゲート電極１０３ａと整合する位置にアモルファスシリコン層１０６が形成され、ドレイン電極１０４ａはアモルファスシリコン層１０６上まで延びるようにして形成されている。更に、ドレイン電極１０４ａから離間する方向にアモルファスシリコン層１０６上から延びるソース電極１０７が形成されている。 In the conventional transflective liquid crystal display device disclosed in this publication, the red pixel 101R, the green pixel 101G, and the blue pixel 101B are arranged in this order in the direction in which the scanning line extends. Each pixel is provided with a thin film transistor (TFT) 102. The thin film transistor 102 is provided with a gate electrode 103a protruding from a gate line 103 serving as a scanning line and a drain electrode 104a protruding from a drain line 104 extending in a direction perpendicular to the gate line. The gate line 103 and the gate electrode 103a are formed on the transparent substrate 100a, and an insulating film 105 is further formed on the transparent substrate 100a so as to cover the gate line 103 and the gate electrode 103a. The drain line 104 is formed on the insulating film 105. An amorphous silicon layer 106 is formed on the insulating film 105 at a position aligned with the gate electrode 103 a, and the drain electrode 104 a is formed to extend to the amorphous silicon layer 106. Further, a source electrode 107 extending from the amorphous silicon layer 106 is formed in a direction away from the drain electrode 104a.

各画素の反射表示領域内では、絶縁膜１０５上に凸部１０８が形成され、透過表示領域内では、絶縁膜１０５上に透明電極１０９が形成されている。なお、反射表示領域は、透過表示領域を包囲するようにして設けられている。また、各画素の透過表示領域を除く領域内には、凸部１０８及び薄膜トランジスタ１０２等を覆う絶縁膜１１０が形成されており、この絶縁膜１１０にソース電極１０７まで到達するコンタクトホール１１１が開口されている。そして、このコンタクトホール１１１内及び絶縁膜１１０上に反射電極１１２が形成されている。反射電極１１２には、凸部１０８の形状を反映した凹凸が存在する。反射電極１１２は透明電極１０９にも接続されている。更に、透明基板１００ａの薄膜トランジスタ１０２等が形成されていない側の表面上には、位相差板１１３及び偏光板１１４が設けられている。このようにして、ＴＦＴ基板が構成されている。 A convex portion 108 is formed on the insulating film 105 in the reflective display area of each pixel, and a transparent electrode 109 is formed on the insulating film 105 in the transmissive display area. The reflective display area is provided so as to surround the transmissive display area. In addition, an insulating film 110 that covers the convex portion 108 and the thin film transistor 102 is formed in a region other than the transmissive display region of each pixel, and a contact hole 111 reaching the source electrode 107 is opened in the insulating film 110. ing. A reflective electrode 112 is formed in the contact hole 111 and on the insulating film 110. The reflective electrode 112 has irregularities reflecting the shape of the convex portion 108. The reflective electrode 112 is also connected to the transparent electrode 109. Further, a retardation plate 113 and a polarizing plate 114 are provided on the surface of the transparent substrate 100a where the thin film transistor 102 and the like are not formed. In this way, the TFT substrate is configured.

また、透明基板１００ａの薄膜トランジスタ１０２側には、これと平行に透明基板１００ｂが配置されている。透明基板１００ｂの透明基板１００ａと対向する側の表面上には、カラーフィルタ（ＣＦ）１２１及び対向電極１２２が形成されている。カラーフィルタ１２１は、図２３に示すように、ドレイン線１０４と平行に延びるようにして形成されており、平面視において、各画素内で、透明電極１０９はカラーフィルタ１２１の両縁内に収まるが、反射電極１１２は両縁からはみ出す程度の幅を有している。更に、透明基板１００ｂのカラーフィルタ１２１等が形成されていない側の表面上には、位相差板１２３及び偏光板１２４が設けられている。このようにして、ＣＦ基板が構成されている。 A transparent substrate 100b is disposed in parallel to the thin film transistor 102 side of the transparent substrate 100a. A color filter (CF) 121 and a counter electrode 122 are formed on the surface of the transparent substrate 100b facing the transparent substrate 100a. As shown in FIG. 23, the color filter 121 is formed so as to extend in parallel with the drain line 104, and the transparent electrode 109 fits within both edges of the color filter 121 in each pixel in plan view. The reflective electrode 112 has a width that protrudes from both edges. Further, a phase difference plate 123 and a polarizing plate 124 are provided on the surface of the transparent substrate 100b where the color filter 121 and the like are not formed. In this way, the CF substrate is configured.

そして、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に液晶１３０が挟持されている。 A liquid crystal 130 is sandwiched between the TFT substrate and the CF substrate.

このように構成された従来のカラー液晶表示装置においては、色毎に設けられているカラーフィルタが１種であるため、その製造工程数が低減され、歩留まりが向上する。 In the conventional color liquid crystal display device configured as described above, since one color filter is provided for each color, the number of manufacturing steps is reduced and the yield is improved.

また、反射電極１１２に対向する領域内にカラーフィルタ１２１が存在しない領域があるため、それまでのものと比較して高い明度が得られる。 In addition, since there is a region in which the color filter 121 does not exist in a region facing the reflective electrode 112, high brightness can be obtained compared to the previous one.

また、従来の反射型液晶表示装置においては、反射電極下に縦横無尽に延びる凸部が形成されている。この凸部のパターンは、入射光の経路及び反射光の経路を考慮して決定されている。図２５は従来の液晶表示装置における凸部を示すレイアウト図である。反射型液晶表示装置では、画素間の境界を特に考慮することなく凸部１０８が形成されている。また、透過表示領域及び反射表示領域が設けられた液晶表示装置では、このような凸部が反射表示領域内にのみ形成されている。 Further, in the conventional reflective liquid crystal display device, a convex portion extending indefinitely vertically and horizontally is formed under the reflective electrode. The pattern of the convex portion is determined in consideration of the path of incident light and the path of reflected light. FIG. 25 is a layout diagram showing convex portions in a conventional liquid crystal display device. In the reflective liquid crystal display device, the convex portion 108 is formed without particularly considering the boundary between pixels. Further, in a liquid crystal display device provided with a transmissive display area and a reflective display area, such a convex portion is formed only within the reflective display area.

特開２０００−１１１９０２号公報JP 2000-111902 A

しかしながら、工程数の削減等を目的として画素毎に１種のカラーフィルタを設けた従来の半透過型液晶表示装置においては、それまでの２種のカラーフィルタを設けたものと比較すると画質が劣るという問題点がある。 However, in the conventional transflective liquid crystal display device in which one type of color filter is provided for each pixel for the purpose of reducing the number of processes, the image quality is inferior compared with the conventional type in which two types of color filters are provided. There is a problem.

また、反射型液晶表示装置及び半透過型液晶表示装置のいずれにおいても、映像が黄色味を帯びているという問題点もある。 In addition, both the reflective liquid crystal display device and the transflective liquid crystal display device have a problem that the image is yellowish.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、半透過型液晶表示装置における画質を向上させることができるカラー液晶パネル、その製造方法及びカラー液晶表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a color liquid crystal panel capable of improving the image quality in a transflective liquid crystal display device, a manufacturing method thereof, and a color liquid crystal display device. .

本願発明者等が前記課題を解決すべく、鋭意実験研究を重ねた結果、映像の黄色味は、画素内と画素境界部とにおける基板間のギャップの相違によって生じていることを見出した。通常、反射型液晶表示装置では、画面を明るくするために画素境界部にブラックマトリクスは形成されていない。このため、前記ギャップに起因して液晶の光路差による位相差が生じるためと考えられる。そこで、本願発明においては、画素境界部にも凸部を設けてギャップの差を低減する。この結果、黄色味が低減された良好な画質が得られる。
本発明に係るカラー液晶パネルは、
透明基板と、この透明基板上に画素毎に形成された薄膜トランジスタと、画素毎に前記薄膜トランジスタに接続された反射電極と、を有するカラー液晶パネルにおいて、
前記画素内において、前記反射電極の下方かつ前記透明基板上に縦横無尽に形成され、前記反射電極に凹凸を反映させるための線状かつ断面が半楕円状の第１凸部と、隣り合う画素間の境界に沿って延び、前記第１凸部と同一の幅を有する第２凸部と、を有する、
ことを特徴とする。 The inventors of the present application have conducted extensive experimental research to solve the above problems, and as a result, found that the yellowness of the image is caused by the difference in the gap between the substrate in the pixel and the pixel boundary. Usually, in a reflective liquid crystal display device, a black matrix is not formed at a pixel boundary portion in order to brighten a screen. For this reason, it is considered that a phase difference due to the optical path difference of the liquid crystal occurs due to the gap. Therefore, in the present invention, a convex portion is also provided at the pixel boundary portion to reduce the gap difference. As a result, a good image quality with reduced yellowness can be obtained.
The color liquid crystal panel according to the present invention is
A transparent substrate, a transparent formed on the substrate for each pixel TFT, and a reflective electrode connected to the thin film transistor picture Motogoto, in a color liquid crystal panel having,
Prior Symbol the pixel, the so formed freely downwards and the transparent substrate of the reflective electrode, linear and cross-section for reflecting the irregularities to the reflective electrode and the first convex portion of the semi-elliptical shape, adjacent extending along the boundary between pixels, having a second protruding portion having the first protrusion and the same width,
It is characterized by that.

本発明に係るカラー液晶表示装置は、上述のカラー液晶パネルを有することを特徴とする。 A color liquid crystal display device according to the present invention includes the above-described color liquid crystal panel.

本発明に係るカラー液晶パネルの製造方法は、
画素毎に薄膜トランジスタ並びにこの薄膜トランジスタに接続された反射電極及び透明電極が透明基板上に設けられ、バックライトから発光された光が前記透明基板及び透明電極を透過して表示面から出射され、前記表示面から入射した光が前記反射電極で反射して前記表示面から出射されるカラー液晶パネルを製造する方法であって、
所定の位置に開口部を有するフォトマスクを使用して前記透明基板上に形成されたレジストを感光させる工程と、
前記レジストを焼成して前記透明基板上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜から、前記反射電極の下方かつ前記透明基板上に縦横無尽に形成され、前記反射電極に凹凸を反映させるための線状かつ断面が半楕円状の第１凸部、及び、隣り合う画素間の境界に沿って延び、前記第１凸部と同一の幅を有する第２凸部を含む凹凸を形成する工程と、を有する、
ことを特徴とする。 The method for producing a color liquid crystal panel according to the present invention includes:
A thin film transistor and a reflective electrode and a transparent electrode connected to the thin film transistor are provided on a transparent substrate for each pixel, and light emitted from a backlight is transmitted through the transparent substrate and the transparent electrode and emitted from a display surface, and the display A method of manufacturing a color liquid crystal panel in which light incident from a surface is reflected by the reflective electrode and emitted from the display surface,
Exposing the resist formed on the transparent substrate using a photomask having an opening at a predetermined position;
The resist is baked to form an insulating film on the transparent substrate. From the insulating film, a line is formed below and below the reflective electrode and on the transparent substrate to reflect irregularities on the reflective electrode. the first protrusion Jo and cross section of semi-elliptical, and the step of forming the unevenness extending along the boundary between the adjacent pixels, including a second protrusion having a first protruding portion and the same width and Having
It is characterized by that.

本発明に係るカラー液晶パネルによれば、画素内のカラーフィルタと反射電極下の絶縁膜との間のギャップｄ１と、画素境界部の透明基板と絶縁膜との間のギャップｄ２との差が、従来のものよりも小さくなる。つまり、従来の液晶パネルでは、画素境界部に凸部が設けられていない部分が存在するため、この部分における透明基板との間のギャップが極めて大きいのに対し、本発明によれば、このような部分が存在しなくなり、その結果、黄色味が解消される。
また、本発明に係るカラー液晶パネルの製造方法によれば、このようなカラー液晶パネルを製造することができる。 According to the color liquid crystal panel of the present invention, there is a difference between the gap d1 between the color filter in the pixel and the insulating film under the reflective electrode and the gap d2 between the transparent substrate and the insulating film at the pixel boundary. , Smaller than the conventional one. That is, in the conventional liquid crystal panel, there is a portion where no convex portion is provided at the pixel boundary portion, and thus the gap between the transparent substrate and this portion is extremely large. As a result, the yellow color is eliminated.
Moreover, according to the manufacturing method of the color liquid crystal panel which concerns on this invention, such a color liquid crystal panel can be manufactured.

また、本発明に係るカラー液晶表示装置によれば、このようなカラー液晶パネルをカラー液晶表示装置に適用することができる。 Further, according to the color liquid crystal display device of the present invention, such a color liquid crystal panel can be applied to the color liquid crystal display device.

本発明の第１の参考例に係る液晶パネルにおけるＴＦＴ基板のレイアウトを示す平面図である。It is a top view which shows the layout of the TFT substrate in the liquid crystal panel which concerns on the 1st reference example of this invention. 図１中のＡ−Ａ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the AA line in FIG. 図１中のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the BB line in FIG. 図１中のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along CC line in FIG. 標準の光Ｃのスペクトルを示すグラフ図である。3 is a graph showing a spectrum of standard light C. FIG. 白色ＬＥＤによる光のスペクトルを示すグラフ図である。It is a graph which shows the spectrum of the light by white LED. ＮＴＳＣで定められたテレビジョン表示に最適な色再現域を示すＣＩＥ色度図である。It is a CIE chromaticity diagram showing a color gamut optimal for television display defined by NTSC. 第１の３波長光源による光のスペクトルを示すグラフ図である。It is a graph which shows the spectrum of the light by a 1st 3 wavelength light source. 第２の３波長光源による光のスペクトルを示すグラフ図である。It is a graph which shows the spectrum of the light by a 2nd 3 wavelength light source. （ａ）乃至（ｃ）は画素内における種々のカラーフィルタの形状を示す平面図である。(A) thru | or (c) are top views which show the shape of the various color filter in a pixel. 本発明の第２の参考例に係る液晶パネルの構造を示す断面図であり、図１中のＡ−Ａ線に相当する線に沿った断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on the 2nd reference example of this invention, and is sectional drawing along the line corresponded to the AA line in FIG. 同じく、本発明の第２の参考例に係る液晶パネルの構造を示す断面図であり、図１中のＢ−Ｂ線に相当する線に沿った断面図である。Similarly, it is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on the 2nd reference example of this invention, and is sectional drawing along the line corresponded to the BB line in FIG. 同じく、本発明の第２の参考例に係る液晶パネルの構造を示す断面図であり、図１中のＣ−Ｃ線に相当する線に沿った断面図である。Similarly, it is sectional drawing which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on the 2nd reference example of this invention, and is sectional drawing along the line corresponded to CC line | wire in FIG. （ａ）は本発明の実施例に係る液晶パネルにおける反射電極下に設けられる凸部を示すレイアウト図、（ｂ）はその模式的断面図である。(A) is a layout figure which shows the convex part provided under the reflective electrode in the liquid crystal panel which concerns on the Example of this invention, (b) is the typical sectional drawing. 凸部の幅とその高さの変化との関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the relationship between the width | variety of a convex part, and the change of the height. （ａ）及び（ｂ）は凸部を２回の露光により形成する方法を示す模式図である。(A) And (b) is a schematic diagram which shows the method of forming a convex part by 2 times of exposure. （ａ）及び（ｂ）は、同じく、凸部を２回の露光により形成する方法を示す図であって、図１６（ａ）及び（ｂ）に示す工程の次工程を工程順に示す断面図である。(A) And (b) is a figure which similarly shows the method of forming a convex part by twice exposure, Comprising: Sectional drawing which shows the next process of the process shown to FIG. 16 (a) and (b) in order of a process It is. 同じく、凸部を２回の露光により形成する方法を示す図であって、図１７（ａ）及び（ｂ）に示す工程の次工程を工程順に示す断面図である。Similarly, it is a figure which shows the method of forming a convex part by twice exposure, Comprising: It is sectional drawing which shows the next process of the process shown to Fig.17 (a) and (b) in order of a process. （ａ）及び（ｂ）は凸部を１回の露光により形成する方法を示す模式図である。(A) And (b) is a schematic diagram which shows the method of forming a convex part by one exposure. （ａ）及び（ｂ）は、同じく、凸部を１回の露光により形成する方法を示す図であって、図１９（ａ）及び（ｂ）に示す工程の次工程を工程順に示す断面図である。(A) And (b) is a figure which similarly shows the method of forming a convex part by one exposure, Comprising: Sectional drawing which shows the next process of the process shown to FIG. 19 (a) and (b) in order of a process It is. 本発明の実施例に係る携帯型情報端末の構造を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the portable information terminal which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る携帯電話の構造を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the mobile telephone based on the Example of this invention. 特許文献１に開示された従来の半透過型液晶表示装置におけるＴＦＴ基板のレイアウトを示す平面図である。10 is a plan view showing a layout of a TFT substrate in a conventional transflective liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1. FIG. 図２３中のＡ−Ａ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the AA line in FIG. 従来の液晶表示装置における凸部を示すレイアウト図である。It is a layout figure which shows the convex part in the conventional liquid crystal display device.

以下、本発明の実施例又は参考例に係る液晶パネル、その製造方法及び液晶表示装置について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の第１の参考例に係る液晶パネルにおけるＴＦＴ基板のレイアウトを示す平面図である。図２は図１中のＡ−Ａ線に沿った断面図、図３は図１中のＢ−Ｂ線に沿った断面図、図４は図１中のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 Hereinafter, a liquid crystal panel, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display device according to an embodiment or a reference example of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view showing a layout of a TFT substrate in a liquid crystal panel according to a first reference example of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. It is.

第１の参考例においては、従来のものと同様に、赤色用の画素１０１Ｒ、緑色用の画素１０１Ｇ及び青色用の画素１０１Ｂが走査線が延びる方向にこの順で配置されている。各画素には、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０２が設けられている。薄膜トランジスタ１０２には、走査線となるゲート線１０３から突出するゲート電極１０３ａ及びゲート線に対し垂直方向に延びるドレイン線１０４から突出するドレイン電極１０４ａが設けられている。ゲート線１０３及びゲート電極１０３ａは透明基板１００ａ上に形成されており、透明基板１００ａ上には、更に、ゲート線１０３及びゲート電極１０３ａを覆うようにして絶縁膜１０５が形成されている。ドレイン線１０４はこの絶縁膜１０５上に形成されている。絶縁膜１０５上のゲート電極１０３ａと整合する位置にアモルファスシリコン層１０６が形成され、ドレイン電極１０４ａはアモルファスシリコン層１０６上まで延びるようにして形成されている。更に、ドレイン電極１０４ａから離間する方向にアモルファスシリコン層１０６上から延びるソース電極１０７が形成されている。 In the first reference example, as in the conventional example, the red pixel 101R, the green pixel 101G, and the blue pixel 101B are arranged in this order in the direction in which the scanning line extends. Each pixel is provided with a thin film transistor (TFT) 102. The thin film transistor 102 is provided with a gate electrode 103a protruding from a gate line 103 serving as a scanning line and a drain electrode 104a protruding from a drain line 104 extending in a direction perpendicular to the gate line. The gate line 103 and the gate electrode 103a are formed on the transparent substrate 100a, and an insulating film 105 is further formed on the transparent substrate 100a so as to cover the gate line 103 and the gate electrode 103a. The drain line 104 is formed on the insulating film 105. An amorphous silicon layer 106 is formed on the insulating film 105 at a position aligned with the gate electrode 103 a, and the drain electrode 104 a is formed to extend to the amorphous silicon layer 106. Further, a source electrode 107 extending from the amorphous silicon layer 106 is formed in a direction away from the drain electrode 104a.

また、本参考例では、走査線と同方向に延びる直線により各画素が、例えばほぼ２等分に反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔに区画されている。反射表示領域Ｒが薄膜トランジスタ１０２側に配置されている。 Further, in this reference example, each pixel is divided into a reflective display region R and a transmissive display region T, for example, by a straight line extending in the same direction as the scanning line. The reflective display region R is disposed on the thin film transistor 102 side.

そして、各画素の反射表示領域Ｒ内では、絶縁膜１０５上に凸部８が形成されている。凸部８は、例えば絶縁膜から構成されている。また、凸部８及び薄膜トランジスタ１０２等を覆う絶縁膜１０が形成されており、この絶縁膜１０にソース電極１０７まで到達するコンタクトホール１１が開口されている。そして、反射表示領域Ｒでは、このコンタクトホール１１内及び絶縁膜１０上に反射電極１２が形成されている。反射電極１２には、凸部８の形状を反映した凹凸が存在する。一方、透過表示領域Ｔ内では、絶縁膜１０上に透明電極９が形成され、反射電極１２と透明電極９とが、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界近傍で重なり合っている。更に、透明基板１００ａの薄膜トランジスタ１０２等が形成されていない側の表面上には、位相差板１１３及び偏光板１１４が設けられている。このようにして、ＴＦＴ基板が構成されている。 In the reflective display region R of each pixel, a convex portion 8 is formed on the insulating film 105. The convex part 8 is comprised, for example from the insulating film. In addition, an insulating film 10 is formed to cover the convex portion 8, the thin film transistor 102, and the like, and a contact hole 11 reaching the source electrode 107 is opened in the insulating film 10. In the reflective display region R, a reflective electrode 12 is formed in the contact hole 11 and on the insulating film 10. The reflective electrode 12 has irregularities that reflect the shape of the convex portions 8. On the other hand, in the transmissive display region T, the transparent electrode 9 is formed on the insulating film 10, and the reflective electrode 12 and the transparent electrode 9 overlap in the vicinity of the boundary between the reflective display region R and the transmissive display region T. Further, a retardation plate 113 and a polarizing plate 114 are provided on the surface of the transparent substrate 100a where the thin film transistor 102 and the like are not formed. In this way, the TFT substrate is configured.

また、透明基板１００ａの薄膜トランジスタ１０２側には、これと平行に透明基板１００ｂが配置されている。透明基板１００ｂの透明基板１００ａと対向する側の表面上には、カラーフィルタ（ＣＦ）２１が形成されている。カラーフィルタ２１は、図１乃至図４に示すように、ドレイン線１０４と平行に延びるようにして形成されており、平面視において、各画素内で、透明電極９及び反射電極１２がカラーフィルタ２１の両縁内に収まる程度の幅を有している。また、反射表示領域Ｒ内において、カラーフィルタ２１にスリット２１ａが形成されている。スリットの幅は、例えば１乃至１０μｍであり、反射表示領域Ｒ内のカラーフィルタ２１におけるスリット２１ａが占める割合は、例えば５０％未満である。但し、その割合は、色毎に異なっており、本参考例では、緑色用の画素１０１Ｇにおけるスリット２１ａの割合が、例えば赤色用の画素１０１Ｒ及び青色用の画素１０１Ｂのそれの約３倍になっている。なお、本参考例では、スリット２１ａは、カラーフィルタ２１と同方向に延びるように形成されているが、この形状に限定されるものではない。 A transparent substrate 100b is disposed in parallel to the thin film transistor 102 side of the transparent substrate 100a. A color filter (CF) 21 is formed on the surface of the transparent substrate 100b facing the transparent substrate 100a. As shown in FIGS. 1 to 4, the color filter 21 is formed so as to extend in parallel with the drain line 104, and the transparent electrode 9 and the reflective electrode 12 are included in each pixel in the plan view. It has a width that fits within both edges. In the reflective display region R, a slit 21 a is formed in the color filter 21. The width of the slit is, for example, 1 to 10 μm, and the ratio of the slit 21a in the color filter 21 in the reflective display region R is, for example, less than 50%. However, the ratio differs for each color, and in this reference example, the ratio of the slits 21a in the green pixel 101G is, for example, about three times that of the red pixel 101R and the blue pixel 101B. ing. In this reference example, the slit 21a is formed to extend in the same direction as the color filter 21, but is not limited to this shape.

更に、透明基板１００ｂ上には、スリット２１ａを埋め込みながらカラーフィルタ２１を覆うオーバーコート層２５が形成され、このオーバーコート層２５上に対向電極１２２が形成されている。オーバーコート層２５は、例えば透明な樹脂から構成され、対向電極１２２は、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）から構成されている。透明基板１００ｂのカラーフィルタ２１等が形成されていない側の表面上には、位相差板１２３及び偏光板１２４が設けられている。このようにして、ＣＦ基板が構成されている。 Further, an overcoat layer 25 is formed on the transparent substrate 100b so as to cover the color filter 21 while the slits 21a are embedded, and a counter electrode 122 is formed on the overcoat layer 25. The overcoat layer 25 is made of, for example, a transparent resin, and the counter electrode 122 is made of, for example, ITO (indium tin oxide). A phase difference plate 123 and a polarizing plate 124 are provided on the surface of the transparent substrate 100b where the color filter 21 and the like are not formed. In this way, the CF substrate is configured.

このように構成された第１の参考例においては、透過表示領域Ｔにおいては、バックライト（図示せず）から発光された光がカラーフィルタ２１を介して外部に出射される。反射表示領域Ｒにおいては、カラーフィルタ２１を介して反射電極１２に到達した光の一部はスリット２１ａを通過して外部に出射され、スリット２１ａを通過して反射電極１２に到達した光の一部はカラーフィルタ２１を介して外部に出射される。また、カラーフィルタ２１を介して反射電極１２に到達しカラーフィルタ２１を介して出射される光、及びスリット２１ａを通過して反射電極１２に到達しスリット２１ａを通過して外部に出射される光も存在する。従って、反射表示領域Ｒから出射される光が入射からの間に通過するカラーフィルタの平均的な厚さは、透過表示領域Ｔにおけるものに近くなる。更に、本参考例では、色毎にスリット２１ａの割合が異なるものとしているため、色毎に反射表示領域Ｒにおける色再現域と透過表示領域Ｔにおける色再現域とを一致させることが可能である。この結果、良好な画質が得られる。 In the first reference example configured as described above, in the transmissive display region T, light emitted from a backlight (not shown) is emitted to the outside through the color filter 21. In the reflective display region R, a part of the light reaching the reflective electrode 12 through the color filter 21 passes through the slit 21a and is emitted to the outside, and one part of the light that reaches the reflective electrode 12 through the slit 21a. The part is emitted to the outside through the color filter 21. Further, light that reaches the reflective electrode 12 through the color filter 21 and is emitted through the color filter 21, and light that passes through the slit 21a, reaches the reflective electrode 12, passes through the slit 21a, and is emitted to the outside. Is also present. Therefore, the average thickness of the color filter through which the light emitted from the reflective display region R passes is close to that in the transmissive display region T. Furthermore, in this reference example, since the ratio of the slits 21a is different for each color, the color reproduction area in the reflective display area R and the color reproduction area in the transmissive display area T can be matched for each color. . As a result, good image quality can be obtained.

次に、反射表示領域内のカラーフィルタの面積に対するスリット（開口部）の占める割合と色バランスとの関係について説明する。 Next, the relationship between the ratio of the slit (opening) to the area of the color filter in the reflective display area and the color balance will be described.

本願発明者は、白色発光ダイオード（ＬＥＤ）をバックライトとして使用し、カラーフィルタの膜厚を変化させながら、種々のカラーフィルタ膜厚に対し、透過表示領域においてＣＩＥ（国際照明委員会）の白表示座標に最も近似した座標を得られる開口部の割合をシミュレーションにより求めた。なお、反射表示領域における入射光には、ＣＩＥの標準の光Ｃを使用した。図５は標準の光Ｃのスペクトルを示すグラフ図であり、図６は白色ＬＥＤによる光のスペクトルを示すグラフ図である。なお、図５及び図６における縦軸の強度は、最大値が１になるように規格化してある。下記表１乃至７にこれらの結果を示す。 The inventor of the present application uses a white light emitting diode (LED) as a backlight, and changes the thickness of the color filter while changing the thickness of the color filter. The ratio of the openings that can obtain the coordinates closest to the display coordinates was obtained by simulation. Note that CIE standard light C was used as incident light in the reflective display region. FIG. 5 is a graph showing the spectrum of standard light C, and FIG. 6 is a graph showing the spectrum of light emitted from the white LED. In addition, the intensity | strength of the vertical axis | shaft in FIG.5 and FIG.6 is normalized so that the maximum value may be set to one. Tables 1 to 7 below show these results.

なお、表１乃至表７中のＮＴＳＣ比とは、ＮＴＳＣ（National Television System Committee）で定められたテレビジョン表示に最適な色再現域の面積に対する各色再現域の面積の比率である。図７はＮＴＳＣで定められたテレビジョン表示に最適な色再現域を示すＣＩＥ色度図である。 The NTSC ratio in Tables 1 to 7 is the ratio of the area of each color gamut to the area of the color gamut optimal for television display defined by the NTSC (National Television System Committee). FIG. 7 is a CIE chromaticity diagram showing a color gamut optimal for television display defined by NTSC.

上記表１乃至表７に示すように、適当な割合（開口率）でスリットが設けられている場合には、透過表示領域における色度座標及びＮＴＳＣ比と反射表示領域におけるそれらとが近似している。一方、反射表示領域にスリットが形成されていない場合には、透過表示領域における色度座標及びＮＴＳＣ比と反射表示領域におけるそれらとが著しく相違していた。また、全ての色において同じ開口率でスリットが形成されている場合にも、表５に示すように、色再現域の相違は大きいものではなかったが、赤色及び青色用の画素における彩度が低下する一方で、緑色用画素における彩度が上昇するため、透過表示領域と反射表示領域との間で色合いが相違する。 As shown in Tables 1 to 7, when slits are provided at an appropriate ratio (aperture ratio), the chromaticity coordinates and NTSC ratio in the transmissive display area approximate to those in the reflective display area. Yes. On the other hand, when no slit is formed in the reflective display area, the chromaticity coordinates and NTSC ratio in the transmissive display area are significantly different from those in the reflective display area. Also, when slits are formed with the same aperture ratio for all colors, as shown in Table 5, the difference in the color gamut was not large, but the saturation in the red and blue pixels was On the other hand, since the saturation of the green pixel is increased, the hue is different between the transmissive display area and the reflective display area.

また、本願発明者は、３波長光源（第１の３波長光源）をバックライトとして使用し、カラーフィルタの膜厚を変化させながら、透過表示領域におけるＣＩＥの色度座標に最も近似した色度座標が得られる開口部の割合をシミュレーションにより求めた。なお、反射表示領域における入射光には、ＣＩＥの標準の光Ｃを使用した。図８は第１の３波長光源による光のスペクトルを示すグラフ図である。なお、図８における縦軸の強度は、最大値が１になるように規格化してある。下記表８乃至１０にこれらの結果を示す。 Further, the inventor of the present application uses a three-wavelength light source (first three-wavelength light source) as a backlight, and changes the film thickness of the color filter, while the chromaticity closest to the CIE chromaticity coordinates in the transmissive display area. The ratio of the openings from which the coordinates can be obtained was obtained by simulation. Note that CIE standard light C was used as incident light in the reflective display region. FIG. 8 is a graph showing the spectrum of light from the first three-wavelength light source. The intensity on the vertical axis in FIG. 8 is normalized so that the maximum value is 1. Tables 8 to 10 below show these results.

上記表８乃至表１０に示すように、適当な割合（開口率）でスリットが設けられている場合には、光源が替わっても、透過表示領域における色度座標及びＮＴＳＣ比と反射表示領域におけるそれらとが近似している。一方、全ての色において同じ開口率でスリットが形成されている場合には、表９に示すように、色再現域の相違は大きいものではなかったが、赤色及び青色用の画素における彩度が低下する一方で、緑色用画素における彩度が上昇するため、透過表示領域と反射表示領域との間で色合いが相違する。 As shown in Table 8 to Table 10, when slits are provided at an appropriate ratio (aperture ratio), even if the light source is changed, the chromaticity coordinates and NTSC ratio in the transmissive display area and the reflective display area are changed. They are approximate. On the other hand, when slits are formed with the same aperture ratio for all colors, as shown in Table 9, the difference in the color gamut was not large, but the saturation in the red and blue pixels was On the other hand, since the saturation of the green pixel is increased, the hue is different between the transmissive display area and the reflective display area.

次に、開口率と光源との関係について説明する。光源から発光される光のスペクトルが異なれば、透過表示領域においてカラーフィルタを介して外部に出射される光の色座標も相違してくる。このことは、上記表１乃至表７と表８乃至表１０とを比較することによっても理解できる。そこで、本願発明者は、最適な開口率と光源との関係についてシミュレーションを行った。このシミュレーションでは、カラーフィルタの膜厚を１．６μｍに固定し、光源として前述の白色ＬＥＤ及び第１の３波長光源並びに他の３波長光源（第２の３波長光源）を使用した。図９は第２の３波長光源による光のスペクトルを示すグラフ図である。なお、図９における縦軸の強度は、最大値が１になるように規格化してある。下記表１１乃至表１３に、夫々白色ＬＥＤ、第１の３波長光源、第２の３波長光源を使用した場合の結果を示す。 Next, the relationship between the aperture ratio and the light source will be described. If the spectrum of the light emitted from the light source is different, the color coordinates of the light emitted to the outside through the color filter in the transmissive display region are also different. This can also be understood by comparing Tables 1 to 7 and Tables 8 to 10. Therefore, the inventor of the present application performed a simulation on the relationship between the optimum aperture ratio and the light source. In this simulation, the film thickness of the color filter was fixed at 1.6 μm, and the above-mentioned white LED, the first three-wavelength light source, and another three-wavelength light source (second three-wavelength light source) were used as the light source. FIG. 9 is a graph showing the spectrum of light from the second three-wavelength light source. The intensity on the vertical axis in FIG. 9 is normalized so that the maximum value is 1. Tables 11 to 13 below show the results when using a white LED, a first three-wavelength light source, and a second three-wavelength light source, respectively.

表１３に示すように、第２の３波長光源を使用した場合には、赤色用のカラーフィルタ及び緑色用のカラーフィルタにおける開口率を一致させた場合に最適な色再現域が得られた。 As shown in Table 13, when the second three-wavelength light source was used, an optimum color gamut was obtained when the aperture ratios of the red color filter and the green color filter were matched.

これらのシミュレーション結果より、赤色、緑色及び青色の各カラーフィルタにおける開口率は、光源の種類に拘わらず、緑色におけるものを最大とすることが好ましいといえる。特に、白色光源の場合には、緑色用のカラーフィルタにおける開口率が、赤色又は青色用のそれの２乃至４倍程度となっていることが好ましい。 From these simulation results, it can be said that the aperture ratio in each of the red, green, and blue color filters is preferably maximized in green regardless of the type of light source. In particular, in the case of a white light source, the aperture ratio of the green color filter is preferably about 2 to 4 times that of red or blue.

なお、スリットの幅は、１乃至１０μｍであることが好ましい。スリットの幅が１μｍ未満であると、そのパターニングが困難である。一方、スリットの幅が１０μｍを超えると、カラーフィルタ上に形成されるオーバーコート層の平坦化が困難になる。 The slit width is preferably 1 to 10 μm. When the width of the slit is less than 1 μm, the patterning is difficult. On the other hand, if the slit width exceeds 10 μm, it becomes difficult to flatten the overcoat layer formed on the color filter.

また、前述のように、カラーフィルタの開口部の形状はスリット状のものに限定されるものではない。また、反射表示領域と透過表示領域との間の相対的な位置関係も、上述のようなものに限定されるものではない。図１０（ａ）乃至（ｃ）は画素内における種々のカラーフィルタの形状を示す平面図である。 Further, as described above, the shape of the opening of the color filter is not limited to the slit shape. Further, the relative positional relationship between the reflective display area and the transmissive display area is not limited to the above. FIGS. 10A to 10C are plan views showing shapes of various color filters in the pixel.

例えば、図１０（ａ）に示すように、反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔが、上述の参考例と同様にして区画されている場合、カラーフィルタ４１の反射表示領域Ｒ内の中央部に開口部４１ａが形成されていてもよい。 For example, as shown in FIG. 10A, when the reflective display region R and the transmissive display region T are partitioned in the same manner as in the above-described reference example, the color filter 41 has a central portion in the reflective display region R. An opening 41a may be formed.

また、図１０（ｂ）に示すように、反射表示領域Ｒが透過表示領域Ｔに取り囲まれるようにして区画されている場合にも、カラーフィルタ４２の反射表示領域Ｒ内の中央部に開口部４２ａが形成されていてもよい。 Further, as shown in FIG. 10B, even when the reflective display region R is partitioned so as to be surrounded by the transmissive display region T, an opening is formed at the center of the color filter 42 in the reflective display region R. 42a may be formed.

更に、図１０（ｃ）に示すように、１画素内で透過表示領域Ｔが２つの反射表示領域Ｒに挟まれるようにして区画されている場合、カラーフィルタ４３の側縁４３ａが反射表示領域Ｒの側縁よりも透過表示領域Ｔ側に位置するようにして、反射表示領域Ｒ内にカラーフィルタ４３が存在しない領域を設けるようにしてもよい。 Further, as shown in FIG. 10C, when the transmissive display area T is partitioned so as to be sandwiched between the two reflective display areas R within one pixel, the side edge 43a of the color filter 43 is the reflective display area. An area where the color filter 43 does not exist may be provided in the reflective display area R so as to be positioned on the transmissive display area T side with respect to the side edge of R.

但し、カラーフィルタの形状に拘わらず、反射表示領域の面積に対する開口部の面積が占める割合は、５０％以下であることが好ましい。即ち、反射表示領域内には、少なくとも５０％のカラーフィルタが存在していることが好ましい。これは、カラーフィルタが存在している領域の面積が反射表示領域の面積の５０％を下回ると、入射から出射までの間にカラーフィルタを１度も介することがない光の割合が高くなり、透過表示領域における色再現域と一致させることが困難になるからである。 However, regardless of the shape of the color filter, the ratio of the area of the opening to the area of the reflective display region is preferably 50% or less. That is, it is preferable that at least 50% of the color filters exist in the reflective display area. This is because when the area of the area where the color filter is present is less than 50% of the area of the reflective display area, the ratio of light that never passes through the color filter between the incidence and the emission becomes high. This is because it becomes difficult to match the color reproduction area in the transmissive display area.

次に、本発明の第２の参考例について説明する。第２の参考例では、反射表示領域内のカラーフィルタの厚さを透過表示領域内のそれよりも薄くする。図１１乃至図１３は本発明の第２の参考例に係る液晶パネルの構造を示す断面図であり、夫々図１中のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線に相当する線に沿った断面図である。なお、図１１乃至図１３に示す第２の参考例において、図１乃至図４に示す第１の参考例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。 Next, a second reference example of the present invention will be described. In the second reference example, the thickness of the color filter in the reflective display area is made thinner than that in the transmissive display area. 11 to 13 are cross-sectional views showing the structure of the liquid crystal panel according to the second reference example of the present invention, and are lines corresponding to the lines AA, BB and CC in FIG. 1, respectively. FIG. In the second reference example shown in FIGS. 11 to 13, the same components as those in the first reference example shown in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. .

第２の参考例においても、走査線と同方向に延びる直線により各画素が、例えばほぼ２等分に反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔに区画されている。また、ＴＦＴ基板は、第１の参考例と同様に構成されている。 Also in the second reference example, each pixel is divided into a reflective display region R and a transmissive display region T, for example, approximately in half by a straight line extending in the same direction as the scanning line. The TFT substrate is configured in the same manner as in the first reference example.

第２の参考例におけるＣＦ基板においては、透明基板１００ｂの透明基板１００ａと対向する側の表面上に、カラーフィルタ５１が形成されている。また、反射表示領域Ｒ内では、カラーフィルタ５１と透明基板１００ｂとの間に透明樹脂層５２が形成されている。反射表示領域Ｒ内のカラーフィルタ５１及び透明樹脂層５２の総体積に対する透明樹脂層５２の体積が占める割合は、例えば３５乃至６５％である。この体積の割合は、透明樹脂層５２の厚さで調整してもよく、面積で調整してもよい。但し、その割合は、色毎に異なっており、本参考例では、緑色用の画素１０１Ｇにおける透明樹脂層５２の割合が、例えば赤色用の画素１０１Ｒ及び青色用の画素１０１Ｂのそれの約３倍になっている。なお、本参考例では、透明樹脂層５２は、カラーフィルタ５１と完全に重なり合うようにして形成されているが、この形状に限定されるものではない。また、カラーフィルタ５１の表面は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの間で面一となっていることが好ましい。 In the CF substrate in the second reference example, the color filter 51 is formed on the surface of the transparent substrate 100b on the side facing the transparent substrate 100a. In the reflective display region R, a transparent resin layer 52 is formed between the color filter 51 and the transparent substrate 100b. The ratio of the volume of the transparent resin layer 52 to the total volume of the color filter 51 and the transparent resin layer 52 in the reflective display region R is, for example, 35 to 65%. The volume ratio may be adjusted by the thickness of the transparent resin layer 52 or may be adjusted by the area. However, the ratio differs for each color. In this reference example, the ratio of the transparent resin layer 52 in the green pixel 101G is, for example, about three times that of the red pixel 101R and the blue pixel 101B. It has become. In this reference example, the transparent resin layer 52 is formed so as to completely overlap the color filter 51, but is not limited to this shape. The surface of the color filter 51 is preferably flush between the reflective display region R and the transmissive display region T.

このように構成された第２の参考例においては、透過表示領域Ｔにおいては、バックライト（図示せず）から発光された光がカラーフィルタ５１を介して外部に出射される。反射表示領域Ｒにおいては、カラーフィルタ５１を介して反射電極１２に到達した光はカラーフィルタ５１を介して外部に出射される。このとき、反射表示領域Ｒ内のカラーフィルタ５１の厚さは、透過表示領域Ｔ内の厚さの半分程度となっているため、反射表示領域Ｒから出射される光が入射からの間に通過するカラーフィルタの厚さは、透過表示領域Ｔにおけるものに近くなる。更に、本参考例では、色毎に透明樹脂層５２の割合が異なるものとしているため、色毎に反射表示領域Ｒにおける色再現域と透過表示領域Ｔにおける色再現域とを一致させることが可能である。この結果、良好な画質が得られる。 In the second reference example configured as described above, in the transmissive display region T, light emitted from a backlight (not shown) is emitted to the outside through the color filter 51. In the reflective display region R, the light that reaches the reflective electrode 12 through the color filter 51 is emitted to the outside through the color filter 51. At this time, since the thickness of the color filter 51 in the reflective display region R is about half of the thickness in the transmissive display region T, the light emitted from the reflective display region R passes between the incident. The thickness of the color filter is close to that in the transmissive display area T. Further, in this reference example, since the ratio of the transparent resin layer 52 is different for each color, the color reproduction area in the reflective display area R and the color reproduction area in the transmissive display area T can be matched for each color. It is. As a result, good image quality can be obtained.

次に、反射表示領域内のカラーフィルタ及び透明樹脂層の総体積に対する透明樹脂層の体積の占める割合と色バランスとの関係について説明する。 Next, the relationship between the ratio of the volume of the transparent resin layer to the total volume of the color filter and the transparent resin layer in the reflective display area and the color balance will be described.

本願発明者は、第１の参考例と同様に、白色ＬＥＤをバックライトとして使用し、透明樹脂層の面積を変化させながら、種々のカラーフィルタ膜厚に対し、透過表示領域におけるＣＩＥの色度座標に最も近似した色度座標が得られる透明樹脂層の割合をシミュレーションにより求めた。なお、反射表示領域における入射光には、ＣＩＥの標準の光Ｃを使用した。下記表１４及び１５にこれらの結果を示す。 As in the first reference example, the inventor of the present application uses a white LED as a backlight and changes the area of the transparent resin layer, while changing the area of the transparent resin layer, with respect to various color filter film thicknesses, the CIE chromaticity in the transmissive display region. The ratio of the transparent resin layer from which the chromaticity coordinates closest to the coordinates can be obtained was obtained by simulation. Note that CIE standard light C was used as incident light in the reflective display region. Tables 14 and 15 below show these results.

なお、表１４及び表１５において、面積率とは、反射表示領域内におけるカラーフィルタの面積に対する透明樹脂層の面積の割合であり、体積率とは、反射表示領域内におけるカラーフィルタ及び透明樹脂層の総体積に対する透明樹脂層の体積の割合である。また、膜厚は、透過表示領域内のカラーフィルタの厚さであり、反射表示領域内のカラーフィルタ及び透明樹脂層の総厚は、これに一致している。 In Tables 14 and 15, the area ratio is the ratio of the area of the transparent resin layer to the area of the color filter in the reflective display area, and the volume ratio is the color filter and transparent resin layer in the reflective display area. It is the ratio of the volume of the transparent resin layer to the total volume of. The film thickness is the thickness of the color filter in the transmissive display area, and the total thickness of the color filter and the transparent resin layer in the reflective display area is equal to this.

上記表１４及び表１５に示すように、適当な割合（体積率）で透明樹脂層が設けられている場合には、透過表示領域における色度座標及びＮＴＳＣ比と反射表示領域におけるそれらとが近似している。 As shown in Table 14 and Table 15, when the transparent resin layer is provided at an appropriate ratio (volume ratio), the chromaticity coordinates and NTSC ratio in the transmissive display area and those in the reflective display area are approximate. doing.

次に、第１の参考例に係る液晶パネルを製造する方法について説明する。ＴＦＴ基板については、従来の方法と同様に製造することができる。一方、ＣＦ基板については、例えば、以下のような方法により製造することができる。先ず、単色のカラーフィルタの原料膜として感光性樹脂膜を透明基板１００ｂ上に形成する。次いで、所定のスリットのパターンが形成されたフォトマスクを使用して感光性樹脂膜を露光し、その後現像する。この工程により、感光性樹脂膜をスリット２１ａが形成された単色のカラーフィルタ２１の形状にパターニングする。これらの工程を３色のカラーフィルタ２１について行う。なお、フォトマスクに形成するスリットに整合するパターンの割合は、例えば緑色用のフォトマスクで最大とし、色毎にスリットに整合するパターンの割合を調整する。即ち、フォトマスクには、カラーフィルタに形成されるスリットと整合するパターンを色毎に形成する。白色光源の場合には、緑色用のフォトマスクにおけるスリットパターンの割合が、赤色又は青色用のそれの２乃至４倍程度となっていることが好ましい。 Next, a method for manufacturing the liquid crystal panel according to the first reference example will be described. The TFT substrate can be manufactured in the same manner as a conventional method. On the other hand, the CF substrate can be manufactured by the following method, for example. First, a photosensitive resin film is formed on the transparent substrate 100b as a raw material film for a single color filter. Next, the photosensitive resin film is exposed using a photomask on which a predetermined slit pattern is formed, and then developed. By this step, the photosensitive resin film is patterned into the shape of the monochromatic color filter 21 in which the slits 21a are formed. These steps are performed for the three color filters 21. Note that the ratio of the pattern that matches the slit formed in the photomask is maximized, for example, in a green photomask, and the ratio of the pattern that matches the slit is adjusted for each color. In other words, a pattern that matches the slit formed in the color filter is formed for each color on the photomask. In the case of a white light source, the ratio of the slit pattern in the green photomask is preferably about 2 to 4 times that of red or blue.

３色のカラーフィルタを形成した後、全面にオーバーコート層をその表面が平坦になるようにして形成し、更にその上に対向電極を形成すればよい。更に、その裏面側に位相差板及び偏光板を形成する。 After forming the three color filters, an overcoat layer may be formed on the entire surface so that the surface thereof is flat, and a counter electrode may be further formed thereon. Further, a retardation plate and a polarizing plate are formed on the back side.

次に、第２の参考例に係る液晶パネルを製造する方法について説明する。ＴＦＴ基板については、従来の方法と同様に製造することができる。一方、ＣＦ基板については、例えば、以下のような方法により製造することができる。先ず、透明樹脂膜の原料膜を透明基板１００ｂ上に形成し、色毎に透明樹脂膜の形状に整合するパターンが形成されたフォトマスクを使用して原料膜をパターニングすることにより、透明樹脂膜５２を透明基板１００ｂ上に形成する。次いで、色毎に表面が面一となるようにしてカラーフィルタを原料膜の形成、現像及び露光等により形成する。なお、フォトマスクに形成する透明樹脂膜に整合するパターンの割合は、例えば緑色用のフォトマスクで最大とし、色毎に透明樹脂膜に整合するパターンの割合を調整する。即ち、フォトマスクには、透明樹脂膜と整合するパターンを色毎に形成する。白色光源の場合には、緑色用のフォトマスクにおける透明樹脂膜のパターンの割合が、赤色又は青色用のそれの２乃至４倍程度となっていることが好ましい。 Next, a method for manufacturing the liquid crystal panel according to the second reference example will be described. The TFT substrate can be manufactured in the same manner as a conventional method. On the other hand, the CF substrate can be manufactured by the following method, for example. First, a transparent resin film is formed by patterning the raw material film using a photomask in which a transparent resin film raw material film is formed on the transparent substrate 100b and a pattern matching the shape of the transparent resin film is formed for each color. 52 is formed on the transparent substrate 100b. Next, a color filter is formed by forming a raw material film, developing, exposing, etc. so that the surface is flush with each color. Note that the ratio of the pattern that matches the transparent resin film formed on the photomask is, for example, the maximum for a green photomask, and the ratio of the pattern that matches the transparent resin film is adjusted for each color. That is, a pattern matching the transparent resin film is formed for each color on the photomask. In the case of a white light source, the ratio of the pattern of the transparent resin film in the green photomask is preferably about 2 to 4 times that of red or blue.

なお、第１及び第２の参考例では、ＣＦ基板のカラーフィルタ間にブラックマトリクスが設けられていないが、ここにブラックマトリクスが設けられていてもよい。また、第１及び第２の参考例では、カラーフィルタが薄膜トランジスタとは異なる透明基板上に形成されているが、カラーフィルタが薄膜トランジスタと同一の基板上に形成されていてもよい。この場合、カラーフィルタは、例えば反射電極又は透明電極上に形成される。 In the first and second reference examples, no black matrix is provided between the color filters of the CF substrate, but a black matrix may be provided here. In the first and second reference examples, the color filter is formed on a transparent substrate different from the thin film transistor, but the color filter may be formed on the same substrate as the thin film transistor. In this case, the color filter is formed on, for example, a reflective electrode or a transparent electrode.

次に、本発明の実施例について説明する。本実施例は色味の改善を目的としたものである。図１４（ａ）は本発明の本実施例に係る液晶パネルにおける反射電極下に設けられる凸部を示すレイアウト図、（ｂ）はその模式的断面図である。 Next, examples of the present invention will be described. This example is intended to improve the color. FIG. 14A is a layout diagram showing convex portions provided under the reflective electrode in the liquid crystal panel according to this embodiment of the present invention, and FIG. 14B is a schematic sectional view thereof.

第１及び第２の参考例では、反射電極下は、反射電極に凹凸を反映させるための凸部８が縦横無尽に設けられている。本実施例においては、このような凸部８の他に同一工程で形成された凸部５８が、走査線（ゲート線）が延びる方向で隣り合う画素間の境界部に設けられている。凸部５８の幅及び高さは、凸部８のそれらと実質的に同一である。 In the first and second reference examples, under the reflective electrode, convex portions 8 for reflecting irregularities on the reflective electrode are provided indefinitely. In this embodiment, in addition to such a convex portion 8, a convex portion 58 formed in the same process is provided at a boundary portion between adjacent pixels in the direction in which the scanning line (gate line) extends. The width and height of the convex portion 58 are substantially the same as those of the convex portion 8.

このように構成された本実施例によれば、図１４（ｂ）に示すように、画素内のカラーフィルタ２１と反射電極下の絶縁膜１０との間のギャップｄ１と、画素境界部の透明基板１００ｂと絶縁膜１０との間のギャップｄ２との差が、従来のものよりも小さくなる。つまり、従来の液晶パネルでは、画素境界部に凸部１０８が設けられていない部分が存在するため、この部分における透明基板１００ｂとの間のギャップが極めて大きいが、本実施例では、このような部分が存在しなくなる。このため、本実施例によれば、黄色味が解消される。 According to the present embodiment configured as described above, as shown in FIG. 14B, the gap d1 between the color filter 21 in the pixel and the insulating film 10 under the reflective electrode, and the transparency at the pixel boundary portion. The difference with the gap d2 between the substrate 100b and the insulating film 10 is smaller than the conventional one. That is, in the conventional liquid crystal panel, since there is a portion where the convex portion 108 is not provided at the pixel boundary portion, the gap between the transparent substrate 100b in this portion is extremely large. The part disappears. For this reason, according to a present Example, yellowishness is eliminated.

なお、凸部５８の幅の設計値をＷ１、凸部８の幅の設計値をＷ２としたとき、（Ｗ２−１）≦Ｗ１≦（Ｗ２＋１）（μｍ）が成り立つことが好ましく、（Ｗ２−０．５）≦Ｗ１≦（Ｗ２＋０．５）（μｍ）が成り立つことがより好ましい。図１５は凸部の幅とその高さの変化との関係を示す模式図である。Ｗ２をＷ１より大きくした場合、製造工程中の熱プロセス（焼成による液状化）を行ったときに、凸部８と凸部５８との間の表面張力の差によって、矢印Ａで示すように、凸部８の原料が凸部５８側に流動する。この結果、凸部５８の高さが設計値よりも高くなる一方で、凸部８の高さが設計値よりも低くなってしまう。逆に、Ｗ２をＷ１より小さくした場合には、凸部５８の高さが設計値よりも低くなると共に、凸部８の高さが設計値よりも高くなり、ギャップｄ１及びｄ２間の差を補償することができなくなる。従って、Ｗ１とＷ２とは、上述のようなマージンを確保した範囲で実質的に等しいことが好ましい。なお、図１４（ａ）に対応させて厳密に断面図を描いた場合には、凸部８も図１４（ｂ）に描かれるべきであるが、図１４（ｂ）に示す断面図では、凸部５８は記載されているのに対し、簡素化のために凸部８は記載されていない。但し、上述のように、図１４（ａ）及び（ｂ）に示す構造においても、互いに幅及び高さが等しい凸部８及び凸部５８が存在している。 When the design value of the width of the convex portion 58 is W1 and the design value of the width of the convex portion 8 is W2, it is preferable that (W2-1) ≦ W1 ≦ (W2 + 1) (μm) holds. 0.5) ≦ W1 ≦ (W2 + 0.5) (μm) is more preferable. FIG. 15 is a schematic diagram showing the relationship between the width of the convex portion and the change in its height. When W2 is larger than W1, when a thermal process (liquefaction by firing) in the manufacturing process is performed, the difference in surface tension between the convex portion 8 and the convex portion 58 causes the difference in surface tension as indicated by an arrow A. The raw material of the convex part 8 flows to the convex part 58 side. As a result, the height of the convex portion 58 becomes higher than the design value, while the height of the convex portion 8 becomes lower than the design value. On the contrary, when W2 is made smaller than W1, the height of the convex portion 58 becomes lower than the design value, and the height of the convex portion 8 becomes higher than the design value, and the difference between the gaps d1 and d2 is reduced. It becomes impossible to compensate. Accordingly, it is preferable that W1 and W2 are substantially equal within a range in which the above margin is ensured. In addition, when a sectional view is drawn strictly corresponding to FIG. 14A, the convex portion 8 should also be drawn in FIG. 14B, but in the sectional view shown in FIG. While the convex portion 58 is described, the convex portion 8 is not described for simplification. However, as described above, even in the structure shown in FIGS. 14A and 14B, the convex portion 8 and the convex portion 58 having the same width and height are present.

次に、反射電極下の凸部を１つの感光性樹脂膜から形成する方法について説明する。先ず、２回の露光を行って形成する方法について説明し、その後、１回の露光を行って形成する方法について説明する。図１６乃至図１８は凸部を２回の露光により形成する方法を工程順に示す模式図である。 Next, a method for forming the convex portion under the reflective electrode from one photosensitive resin film will be described. First, a method of forming by performing exposure twice will be described, and then a method of forming by performing exposure once will be described. FIG. 16 to FIG. 18 are schematic views showing a method of forming a convex portion by two exposures in the order of steps.

先ず、図１６（ａ）に示すように、ＴＦＴ（図示せず）等を形成した後、透明基板１００ａ上に感光性樹脂レジスト膜７１を塗布する。また、凸部に整合する部分を遮光するＣｒ膜７３が透明基板７４上に形成されて構成されたフォトマスク７２を準備する。 First, as shown in FIG. 16A, after forming a TFT (not shown) or the like, a photosensitive resin resist film 71 is applied on the transparent substrate 100a. In addition, a photomask 72 is prepared in which a Cr film 73 that shields a portion matching the convex portion is formed on the transparent substrate 74.

次に、図１６（ｂ）に示すように、フォトマスク７２を使用して、感光性樹脂レジスト膜７１の露光を行うことにより、感光部７１ａを形成する。このとき、露光の深さは、例えば感光性樹脂レジスト膜７１の半分の厚さ程度とする。 Next, as shown in FIG. 16B, the photosensitive portion 71 a is formed by exposing the photosensitive resin resist film 71 using a photomask 72. At this time, the exposure depth is, for example, about half the thickness of the photosensitive resin resist film 71.

その後、図１７（ａ）に示すように、コンタクトホール１１に整合する部分のみに開口部が形成されたＣｒ膜７６が透明基板７４上に形成されて構成されたフォトマスク７５を準備する。そして、フォトマスク７５を使用して、感光性樹脂レジスト膜７１の露光を行うことにより、コンタクトホール１１の形成領域における感光部７１ａをソース電極（図示せず）まで到達させる。 Thereafter, as shown in FIG. 17A, a photomask 75 is prepared in which a Cr film 76 having an opening formed only in a portion aligned with the contact hole 11 is formed on a transparent substrate 74. Then, by exposing the photosensitive resin resist film 71 using the photomask 75, the photosensitive portion 71a in the formation region of the contact hole 11 reaches the source electrode (not shown).

続いて、図１７（ｂ）に示すように、現像を行うことにより、感光部７１ａを除去する。 Subsequently, as shown in FIG. 17B, development is performed to remove the photosensitive portion 71a.

次いで、図１８に示すように、感光性樹脂レジスト膜７１を焼成することにより、リフローし、感光性樹脂レジスト膜７１の表面に存在する段差を丸める。この結果、凸部及びコンタクトホール１１が形成される。 Next, as shown in FIG. 18, the photosensitive resin resist film 71 is baked to reflow to round off the steps existing on the surface of the photosensitive resin resist film 71. As a result, convex portions and contact holes 11 are formed.

次に、１回の露光を行って形成する方法について説明する。図１９及び図２０は凸部を１回の露光により形成する方法を示す模式図である。 Next, a method of forming by performing one exposure will be described. 19 and 20 are schematic views showing a method for forming a convex portion by one exposure.

先ず、図１９（ａ）に示すように、ＴＦＴ（図示せず）等を形成した後、透明基板１００ａ上に感光性樹脂レジスト膜７１を塗布する。また、コンタクトホール１１に整合する部分のみに開口部が形成された半透過膜８３が透明基板８４上に形成され、更にその上に凸部に整合する部分を遮光するＣｒ膜８５が形成されて構成されたフォトマスク８２を準備する。半透過膜８３は、例えば金属酸化膜からなる。 First, as shown in FIG. 19A, after forming a TFT (not shown) or the like, a photosensitive resin resist film 71 is applied on the transparent substrate 100a. Further, a semi-transmissive film 83 having an opening formed only in a portion that matches the contact hole 11 is formed on the transparent substrate 84, and a Cr film 85 that shields a portion that matches the convex portion is formed thereon. A configured photomask 82 is prepared. The semi-transmissive film 83 is made of, for example, a metal oxide film.

次に、図１９（ｂ）に示すように、フォトマスク８２を使用して、感光性樹脂レジスト膜７１の露光を行うことにより、感光部７１ｂを形成する。このとき、半透過膜８３を透過した光による露光の深さは、例えば感光性樹脂レジスト膜７１の半分の厚さ程度とする。この結果、感光性樹脂レジスト膜７１に感光部７１ｂが形成される。この感光部７１ｂのうち、コンタクトホール１１に整合する部分には、露光光が半透過膜８３を透過することなく直接到達しているので、その深さはソース電極（図示せず）に到達する程度のものになる。 Next, as shown in FIG. 19B, the photosensitive portion 71 b is formed by exposing the photosensitive resin resist film 71 using a photomask 82. At this time, the exposure depth by the light transmitted through the semi-transmissive film 83 is, for example, about half the thickness of the photosensitive resin resist film 71. As a result, a photosensitive portion 71 b is formed in the photosensitive resin resist film 71. Since the exposure light directly reaches the portion of the photosensitive portion 71b aligned with the contact hole 11 without passing through the semi-transmissive film 83, the depth reaches the source electrode (not shown). It will be about.

続いて、図２０（ａ）に示すように、現像を行うことにより、感光部７１ｂを除去する。 Subsequently, as shown in FIG. 20A, development is performed to remove the photosensitive portion 71b.

次いで、図２０（ｂ）に示すように、感光性樹脂レジスト膜７１を焼成することにより、リフローし、感光性樹脂レジスト膜７１の表面に存在する段差を丸める。この結果、凸部及びコンタクトホール１１が形成される。 Next, as shown in FIG. 20B, the photosensitive resin resist film 71 is baked to reflow and round the steps existing on the surface of the photosensitive resin resist film 71. As a result, convex portions and contact holes 11 are formed.

なお、第１及び第２の参考例のように、例えば絶縁膜からなる複数の凸部を形成し、更にその上に全面を覆う絶縁膜を形成することによって凹凸を画素内及び画素境界部に形成してもよい。 In addition, as in the first and second reference examples, for example, a plurality of protrusions made of an insulating film are formed, and an insulating film covering the entire surface is further formed thereon, whereby unevenness is formed in the pixel and the pixel boundary portion. It may be formed.

また、第１又は第２の参考例と実施例とを組み合わせて液晶パネルを構成してもよい。 Moreover, you may comprise a liquid crystal panel combining the 1st or 2nd reference example and an Example.

これらの実施例又は参考例に係る液晶パネルは、例えば携帯型情報端末、携帯電話機、携帯型パーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ又はデスクトップ型パーソナルコンピュータのモニタに適用することができる。図２１は本発明の実施例又は参考例に係る携帯型情報端末の構造を示すブロック図である。また、図２２は本発明の実施例に係る携帯電話の構造を示すブロック図である。 The liquid crystal panels according to these examples or reference examples can be applied to monitors of portable information terminals, mobile phones, portable personal computers, notebook personal computers, or desktop personal computers, for example. FIG. 21 is a block diagram showing the structure of a portable information terminal according to an embodiment or a reference example of the present invention. FIG. 22 is a block diagram showing the structure of the mobile phone according to the embodiment of the present invention.

本発明の実施例又は参考例に係る携帯型情報端末２５０には、液晶パネル２６５、バックライトユニット２６６及び映像信号を処理する映像信号処理部２６７から構成される表示部２６８が設けられている。更に、携帯型情報端末２５０の各構成要素を制御する制御部２６９、制御部２６９が実行するプログラム又は各種データを記憶する記憶部２７１、データ通信を行うための通信部２７２、キーボード又はポインタ等からなる入力部２７３、携帯型情報端末２５０の各構成要素へ電力を供給する電源部２７４が設けられている。上述の第１又は第２の参考例と実施例は、液晶パネル２６５に適用されている。 The portable information terminal 250 according to the embodiment or the reference example of the present invention is provided with a display unit 268 including a liquid crystal panel 265, a backlight unit 266, and a video signal processing unit 267 that processes a video signal. Further, from a control unit 269 that controls each component of the portable information terminal 250, a storage unit 271 that stores a program executed by the control unit 269 or various data, a communication unit 272 for performing data communication, a keyboard or a pointer, and the like The input unit 273 and the power supply unit 274 for supplying power to each component of the portable information terminal 250 are provided. The first or second reference example and embodiment described above are applied to the liquid crystal panel 265.

このように構成された本実施例又は参考例に係る携帯型情報端末２５０においては、色バランスの均一化又は黄色味の抑制により画質が向上する。 In the portable information terminal 250 according to the present embodiment or the reference example configured as described above, the image quality is improved by uniformizing the color balance or suppressing the yellow color.

本発明の実施例又は参考例に係る携帯電話２７５には、液晶パネル、バックライトユニット２６６及び映像信号を処理する映像信号処理部２６７から構成される表示部２７６が設けられている。更に、携帯電話２７５の各構成要素を制御する制御部２７７、制御部２７７が実行するプログラム又は各種データを記憶する記憶部２７８、無線信号を送信するための送信部２８１、キーボード又はポインタ等からなる入力部２８２、携帯電話２７５の各構成要素へ電力を供給する電源部２８３が設けられている。上述の第１又は第２の参考例と実施例は、液晶パネル２６５に適用されている。 A mobile phone 275 according to an embodiment or a reference example of the present invention is provided with a display unit 276 including a liquid crystal panel, a backlight unit 266, and a video signal processing unit 267 that processes a video signal. Furthermore, it includes a control unit 277 that controls each component of the mobile phone 275, a storage unit 278 that stores programs executed by the control unit 277 or various data, a transmission unit 281 for transmitting wireless signals, a keyboard or a pointer, and the like. A power supply unit 283 that supplies power to each component of the input unit 282 and the mobile phone 275 is provided. The first or second reference example and embodiment described above are applied to the liquid crystal panel 265.

このように構成された本実施例又は参考例に係る携帯電話２７５においても、色バランスの均一化又は黄色味の抑制により画質が向上する。 Also in the mobile phone 275 according to the present example or the reference example configured as described above, the image quality is improved by uniformizing the color balance or suppressing the yellowishness.

Ｒ；反射表示領域
Ｔ；透過表示領域
８、５８、１０８；凸部
９、１０９；透明電極
１０、１１０；絶縁膜
１１、１１１；コンタクトホール
１２、１１２；反射電極
２１、４１、４２、４３、５１、１２１；カラーフィルタ
２１ａ；スリット
４１ａ、４２ａ；開口部
４３ａ；側縁
５２；透明樹脂層
７１；感光性樹脂レジスト膜
７１ａ、７１ｂ；感光部
７２、７５、８２；フォトマスク
７３、７６、８５；Ｃｒ膜
７４、８４；透明基板
８３；半透過膜
１００ａ、１００ｂ；透明基板
１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ；画素
１０２；薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１０３；ゲート線
１０３ａ；ゲート電極
１０４；ドレイン線
１０４ａ；ドレイン電極
１０５；絶縁膜
１０６；アモルファスシリコン膜
１０７；ソース電極 R; reflective display region T; transmissive display region 8, 58, 108; convex portions 9, 109; transparent electrodes 10, 110; insulating films 11, 111; contact holes 12, 112; reflective electrodes 21, 41, 42, 43, 51, 121; Color filter 21a; Slit 41a, 42a; Opening 43a; Side edge 52; Transparent resin layer 71; Photosensitive resin resist film 71a, 71b; Photosensitive portion 72, 75, 82; Cr film 74, 84; Transparent substrate 83; Transflective film 100a, 100b; Transparent substrate 101R, 101G, 101B; Pixel 102; Thin film transistor (TFT)
103; gate line 103a; gate electrode 104; drain line 104a; drain electrode 105; insulating film 106; amorphous silicon film 107; source electrode

Claims

透明基板と、この透明基板上に画素毎に形成された薄膜トランジスタと、画素毎に前記薄膜トランジスタに接続された反射電極と、を有するカラー液晶パネルにおいて、
前記画素内において、前記反射電極の下方かつ前記透明基板上に縦横無尽に形成され、前記反射電極に凹凸を反映させるための線状かつ断面が半楕円状の第１凸部と、隣り合う画素間の境界に沿って延び、前記第１凸部と同一の幅を有する第２凸部と、を有することを特徴とするカラー液晶パネル。 In a color liquid crystal panel having a transparent substrate, a thin film transistor formed for each pixel on the transparent substrate, and a reflective electrode connected to the thin film transistor for each pixel,
In the pixel, a pixel adjacent to a first convex portion that is formed indefinitely vertically and horizontally below the reflective electrode and on the transparent substrate and has a linear and cross-sectional shape that reflects the concave and convex portions on the reflective electrode. A color liquid crystal panel, comprising: a second convex portion extending along a boundary between the first convex portion and the same width as the first convex portion.

前記第１凸部は、少なくとも前記反射電極が形成されている領域に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のカラー液晶パネル。 The first convex portion, a color liquid crystal panel according to claim 1, characterized in that it is formed in the region formed the previous SL reflective electrode also reduced.

前記第２凸部は、前記第１凸部と同一の幅及び高さを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のカラー液晶パネル。 Before Stories second convex portion, a color liquid crystal panel according to claim 1 or 2, characterized in that it has the same width and height as the first protrusion.

前記第２凸部の幅の設計値をＷ１、前記第１凸部の幅の設計値をＷ２としたとき、Ｗ１は、（Ｗ２−１）（μｍ）以上、且つ（Ｗ２＋１）（μｍ）以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のカラー液晶パネル。 When W1 is the design value of the width of the second protrusion and W2 is the design value of the width of the first protrusion, W1 is not less than (W2-1) (μm) and not more than (W2 + 1) (μm). The color liquid crystal panel according to claim 1, wherein the color liquid crystal panel is a color liquid crystal panel.

前記第１凸部と、前記第２凸部とは、同一の工程で形成されたものであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のカラー液晶パネル。 5. The color liquid crystal panel according to claim 1, wherein the first convex portion and the second convex portion are formed in the same process. 6.

請求項１乃至５のいずれか１項に記載のカラー液晶パネルを有することを特徴とするカラー液晶表示装置。 A color liquid crystal display device comprising the color liquid crystal panel according to claim 1.

画素毎に薄膜トランジスタ並びにこの薄膜トランジスタに接続された反射電極及び透明電極が透明基板上に設けられ、バックライトから発光された光が前記透明基板及び透明電極を透過して表示面から出射され、前記表示面から入射した光が前記反射電極で反射して前記表示面から出射されるカラー液晶パネルを製造する方法であって、
所定の位置に開口部を有するフォトマスクを使用して前記透明基板上に形成されたレジストを感光させる工程と、
前記レジストを焼成して前記透明基板上に絶縁膜を形成し、前記絶縁膜から、前記反射電極の下方かつ前記透明基板上に縦横無尽に形成され、前記反射電極に凹凸を反映させるための線状かつ断面が半楕円状の第１凸部、及び、隣り合う画素間の境界に沿って延び、前記第１凸部と同一の幅を有する第２凸部を含む凹凸を形成する工程と、を有することを特徴とするカラー液晶パネルの製造方法。 A thin film transistor and a reflective electrode and a transparent electrode connected to the thin film transistor are provided on a transparent substrate for each pixel, and light emitted from a backlight is transmitted through the transparent substrate and the transparent electrode and emitted from a display surface, and the display A method of manufacturing a color liquid crystal panel in which light incident from a surface is reflected by the reflective electrode and emitted from the display surface,
Exposing the resist formed on the transparent substrate using a photomask having an opening at a predetermined position;
The resist is baked to form an insulating film on the transparent substrate. From the insulating film, a line is formed below and below the reflective electrode and on the transparent substrate to reflect irregularities on the reflective electrode. Forming a concavo-convex shape including a first convex portion having a shape and a semi-elliptical cross section, and a second convex portion extending along a boundary between adjacent pixels and having the same width as the first convex portion; A method for producing a color liquid crystal panel, comprising: