JP5233485B2 - 無酸素銅スパッタリングターゲット材及び無酸素銅スパッタリングターゲット材の製造方法 - Google Patents
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Description
(無酸素銅スパッタリングターゲット材1の構成)
図1は、本発明の実施の形態に係る無酸素銅スパッタリングターゲット材の部分斜視図の一例を示す。
図2は、本発明の実施の形態に係る無酸素銅スパッタリングターゲット材の製造工程の流れの一例を示す。
本実施の形態に係る無酸素銅スパッタリングターゲット材1は、アルミニウム系(抵抗率:4μΩcm程度)よりも低抵抗である純度が3N以上の無酸素銅(抵抗率:2μΩcm程度)からなる複数の板材を摩擦攪拌接合により接合して、接合部分の平均結晶粒径と非接合部分の平均結晶粒径とを略同程度にすることができる。接合部10の平均結晶粒径と非接合部12の平均結晶粒径との差を低減することができる。したがって、例えば、液晶パネルの大型化に伴って大面積化したガラス基板よりも広い面積を有するスパッタリングターゲット材であって、スパッタリングによるターゲットエロージョンの接合部10と非接合部12との間における進行の差を低減させ、安定したスパッタリングができる無酸素銅スパッタリングターゲット材1を提供することができる。
2 無酸素銅スパッタリングターゲット
10、10a 接合部
12、12a 非接合部
20 第1の板材
20a、22a 側面
22 第2の板材
24 突き合わせ部
30 回転ツール
32 ショルダ
34 突起
40 摩擦攪拌部
50 エロージョン領域
52、54 表面粗さ測定部分
Claims (3)
- 純度が3N以上の無酸素銅からなる第1の板材及び前記第1の板材と同一材料から構成される第2の板材と、
前記第1の板材と前記第2の板材との間に前記第1の板材及び前記第2の板材から形成される接合部と
を備え、
前記第1の板材及び前記第2の板材の平均粒径が0.02mm以上0.04mm以下、前記接合部は平均結晶粒径が0.02mmである無酸素銅スパッタリングターゲット材。 - ディスプレイパネル用のガラス基板の上面視における平面寸法より大きな平面寸法を有する請求項1に記載の無酸素銅スパッタリングターゲット材。
- 無酸素銅からなり、平均粒径が0.02mm以上0.04mm以下である第1の板材及び前記第1の板材と同一材料から構成される第2の板材を準備する板材準備工程と、
前記第1の板材の側面と前記第2の板材の側面とを突き合わせる突き合わせ工程と、
前記第1の板材の側面と前記第2の板材の側面とが突き合わされた突き合わせ部を摩擦攪拌接合により接合して接合部を形成する接合工程と
を備え、
前記接合工程は、平均結晶粒径が0.02mmである前記接合部を形成する無酸素銅スパッタリングターゲット材の製造方法。
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