JP5229220B2 - 液中物質検出センサー - Google Patents

液中物質検出センサー Download PDF

Info

Publication number
JP5229220B2
JP5229220B2 JP2009507432A JP2009507432A JP5229220B2 JP 5229220 B2 JP5229220 B2 JP 5229220B2 JP 2009507432 A JP2009507432 A JP 2009507432A JP 2009507432 A JP2009507432 A JP 2009507432A JP 5229220 B2 JP5229220 B2 JP 5229220B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
detection sensor
piezoelectric substrate
substance detection
flow path
saw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009507432A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2008120511A1 (ja
Inventor
一 山田
直子 相澤
義弘 越戸
耕治 藤本
徹 家邉
道雄 門田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2009507432A priority Critical patent/JP5229220B2/ja
Publication of JPWO2008120511A1 publication Critical patent/JPWO2008120511A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5229220B2 publication Critical patent/JP5229220B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/02Analysing fluids
    • G01N29/022Fluid sensors based on microsensors, e.g. quartz crystal-microbalance [QCM], surface acoustic wave [SAW] devices, tuning forks, cantilevers, flexural plate wave [FPW] devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/222Constructional or flow details for analysing fluids
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/022Liquids
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/04Wave modes and trajectories
    • G01N2291/042Wave modes
    • G01N2291/0423Surface waves, e.g. Rayleigh waves, Love waves

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

本発明は、液中物質検出センサーに関し、詳しくは、SAW素子(表面波素子)を用いた液中物質検出センサーに関する。
液中の物質を検出する液中物質検出センサーとして、SAW素子を利用したものが提案されている。
例えば図8の斜視図及び図9の分解斜視図に示す液中物質検出センサー131は、ベース基板132の両面に、密着層133,135を介して保護部材134,136が接合されており、センシング部を備えるSAW素子チップ137,138がベース基板132の上面にフリップチップボンディィグ工法により実装されている。その際、図10の断面図に示すように、バンプ電極116a,116bは樹脂層117により封止されている。また、一方のSAW素子チップ137には、圧電基板108上に形成されたセンシング部であるIDT電極(櫛型電極)109,110を覆うように反応膜113が設けられている。
液体は、保護部材136の貫通孔136aに供給され、貫通孔135aを通り、第1の流路133aを流れる際にSAW素子チップ137のセンシング部に接触する。さらに、液体は、貫通孔135eを通り、第2の流路133bを流れる際にSAW素子チップ138のセンシング部に接触し、さらに、流路133bの端部から貫通孔135bを通り、保護部材136の貫通孔136bから排出される。
WO2006/027945号公報
上記のように構成された液中物質検出センサーは、ベース基板の上面にSAW素子チップがフリップチップ実装されているため、小型化には限界がある。また、SAW素子チップを実装するためのバンプ電極を封止する樹脂層が、液体を吸収したり、液体に接することにより溶け出し、バンプ電極が液体に接することになると、液中物質検出センサーの信頼性が低下する。また、2つのSAW素子チップの実装精度が悪いと、高精度な流路を形成することが困難である。また、2つのSAW素子チップを使用するため、素子間の特性差が大きいと検出精度が悪くなる。
本発明は、かかる実情に鑑み、小型化と検出精度の向上が容易である、液中物質検出センサーを提供しようとするものである。
本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成した液中物質検出センサーを提供する。
液中物質検出センサーは、(a)1つの圧電基板と、(b−1)前記圧電基板の一方主面に形成されており、少なくとも1つのIDT電極を有する、第1のSAW素子と、(b−2)前記圧電基板の一方主面に形成されており、少なくとも1つのIDT電極を有し、反応膜で覆われている、第2のSAW素子と、(c)前記圧電基板の他方主面に形成されており、前記圧電基板を貫通したビアを介して前記第1及び第2のSAW素子に電気的に接続されている、外部電極と、(d)前記圧電基板の前記一方主面において、前記第1及び第2のSAW素子のまわりと前記第1及び第2のSAW素子間を接続する部分のまわりに配置され、流路の側壁を形成する、流路形成用部材と、(e)前記圧電基板の前記一方主面側に前記流路形成用部材を介して接合されて前記流路を塞ぎ、前記流路に連通する少なくとも2つの貫通孔を有する、保護部材と、を備える。
上記構成において、保護部材の一方の貫通孔から、液体や気体などの流体が供給される。流体は、流路を通るときに、第1及び第2のSAW素子に接触する。流体中の物質によるSAW素子の振動伝搬特性の変化を、外部電極からの電気信号により検出する。
上記構成によれば、液中物質検出センサーは、流路面にSAW素子が直接形成されているため、SAW素子チップをベース基板に実装する場合と比べると、小型化することが容易である。また、SAW素子チップの実装が不要であるので、SAW素子チップを実装するためのバンプ電極を封止する樹脂層が溶け出して液中物質検出センサーの信頼性が低下することはない。また、SAW素子チップをベース基板に実装する場合と比べると、流路に対するSAW素子の位置精度を高め、高精度な流路を形成することが容易である。また、圧電基板上に複数のSAW素子を同時に形成することにより、SAW素子間の特性差を小さくして検出精度を向上することが容易である。
好ましくは、前記流路形成用部材は、樹脂である。
この場合、低コストで、流路形成用部材を介して圧電基板と保護部材とを接合することができる。
好ましくは、前記流路形成用部材は、感光性樹脂である。
この場合、例えばフォトリソグラフ技術を用いて、簡便に、かつ、高精度に、流路の側壁を形状することができる。
好ましくは、前記保護部材は、樹脂フィルムである。
この場合、低コストで、流路形成用部材を介して圧電基板に保護部材を接合することができる。
好ましくは、前記保護部材は、感光性樹脂フィルムである。
この場合、保護部材の貫通孔を、例えばフォトリソグラフ技術を用いて、簡便に、かつ、高精度に形成することができる。
好ましくは、前記保護部材は、無機材料からなる基板である。
この場合、保護部材の剛性を高くして、液中物質検出センサーを堅牢な構造とすることができる。
好ましくは、前記保護部材と前記圧電基板との線膨張係数の差が2ppm/℃以下である。
この場合、液中物質検出センサーは熱ストレスに強い構造であり、反りが小さくなるため、複数個分をウェハ(集合基板)の状態で一括して製造プロセスに通すことが容易である。
好ましくは、前記保護部材と前記圧電基板とが同一材料である。
この場合、より熱ストレスに強い構造であり、反りがより小さくなるため、複数個分をウェハ(集合基板)の状態で一括して製造プロセスに通すことがより容易である。
本発明によれば、液中物質検出センサーの小型化と検出精度の向上が容易である。
液中物質検出センサーの断面図である。(実施例1) 図1の線A−Aに沿って切断した断面図である。(実施例1) 液中物質検出センサーの製造方法を示す断面図である。(実施例1) 液中物質検出センサーの製造方法を示す断面図である。(実施例1) 液中物質検出センサーの断面図である。(実施例2) 液中物質検出センサーの製造方法を示す断面図である。(実施例2) 液中物質検出センサーの製造方法を示す断面図である。(実施例2) 液中物質検出センサーの斜視図である。(従来例) 液中物質検出センサーの分解斜視図である。(従来例) 液中物質検出センサーの要部拡大断面図である。(従来例)
符号の説明
10,10x 液中物質検出センサー
12 圧電基板
12a 表面(一方主面)
12b 裏面(他方主面)
13 ビア
14,14a ビア内部電極
15 はんだバンプ(外部電極)
16,17 SAW素子
16a,17a IDT電極
16b,17b 反射器
18 電極バンプ(外部電極)
19 支持層(流路形成用部材)
20,20x 蓋部材(保護部材)
22,22x,24,24x 貫通孔
30 流路
32 側壁
以下、本発明の実施の形態について、図1〜図7を参照しながら説明する。
<実施例1> 実施例1の液中物質検出センサー10について、図1〜図4を参照しながら説明する。
図1の断面図、及び図1の線A−Aに沿って切断した断面図である図2に示すように、液中物質検出センサー10は、圧電基板12と蓋部材20とが支持層19を介して接合され、圧電基板12の蓋部材20とは反対側の裏面12bに、外部電極であるはんだバンプ15が形成されている。例えば、圧電基板12にはLiTaOを用い、蓋部材20に樹脂フィルムを用い、支持層19に接着樹脂を用いる。
蓋部材20に対向する圧電基板12の上面120aには、蒸着等により形成された金属膜の導電パターンにより、2つのSAW素子16,17と、電極パッド18と、SAW素子16,17と電極パッド18との間を接続する接続パターン(図示せず)とが形成されている。
SAW素子16,17は、図2に模式的に示したように、弾性表面波(SAW)の振動伝搬方向に沿って、IDT電極16a,16a;17a,17bの両側に反射器16s,16t;17s,17tが配置されている。
圧電基板12には、貫通孔(ビア)13が形成され、貫通孔(ビア)13に充填されたビア内部電極14により、圧電基板12の表面12aの電極パッド18と圧電基板12の裏面12bのはんだバンプ15との間が電気的に接続されている。
蓋部材20には、2つのSAW素子16,17にそれぞれ対向する部分に、貫通孔22,24が形成されている。なお、構成が多少大きくなるが、蓋部材20の貫通孔22,24を、SAW素子16,17の直上に設けずに、SAW素子16,17から離れた位置に設けてもよい。
支持層19は、図2に示すように、2つのSAW素子16,17及び2つのSAW素子16,17を接続する部分のまわりに配置され、流路30の側壁32を形成している。
液中物質検出センサー10は、蓋部材20の一方の貫通孔22から液体や気体などの流体が供給される。供給された流体は、流路30を、一方のSAW素子16側から他方のSAW素子17側に、蓋部材20の他方の貫通孔24に向かって流れる。
図2に示すように、一方のSAW素子16は、反応膜16xで覆われている。すなわち、反応膜16xは、IDT電極16a,16b及び反射器16s,16tを全体的に覆っている。反応膜16xは、流体中の検出対象物質と結合する材料を含有している。流体が反応膜16xに接触し、流体中の検出対象物質が反応膜16xに結合されると、反応膜16xの特性変化等によって、弾性表面波の振動伝搬特性が変わり、SAW素子16から出力される電気信号に変化が現れる。これを利用して、流体中の検出対象物質を検出することができる。なお、図2以外では、反応膜の図示を省略している。
反応膜で覆われていない他方のSAW素子17は、流体中の検出対象物質の有無によって振動伝搬特性が影響されないため、両方のSAW素子16,17の電気信号出力を比較することにより、流体中の検出対象物質の検出精度を高めることができる。
次に、液中物質検出センサー10も製造方法の一例について、図3及び図4の断面図を参照しながら説明する。
液中物質検出センサー10は、複数個分を含むウェハ状態(親基板)で作製し、子基板に分割する。
まず、図3(a)に示すように、SAW素子16,17を形成した圧電基板12に、サンドブラスト、レーザー、ウェットエッチング、イオンミリング等の手法でビア13を形成する。加工レートの点から、サンドブラストが最もビア加工に適している。
サンドブラストを用いる場合には、電極パッド18の下に、エッチストップ層18sとして、Cuなどの電極を、圧電基板12の厚みの2%以上の厚みで形成する。例えば、厚みが350μmのLiTaO基板に対しては、厚み10μm程度のエッチストップ層18sを形成する。
次いで、図3(b)に示すように、電解めっき、導電性ペースト等で、圧電基板12の表面12aから裏面12bへ電気信号を取り出すビア内部電極14を形成する。ビア内部電極14の形成には、ビア内壁への電極被覆性、充填性の点から、電解めっき、特にCu電解めっきが適している。図3(b)'のように、ビア内部電極14を、裏面12bから10μm程度突出させることで、外部電極とすることができる。
次いで、図3(c)に示すように、圧電基板12の表面12aに、接着樹脂により支持層19を形成する。例えば、エポキシ系、ポリイミド系の感光性樹脂を用いて、フォトリソグラフィーでパターニングを行う。支持層19の厚みは、検体が流れるのに十分な厚み、例えば血液等を検体とする場合には100μm以上となるようにする。
次いで、図4(d)に示すように、エポキシ系、ポリイミド系の樹脂フィルムによって蓋部材20を形成する。樹脂フィルムはラミネートで支持層19に貼り付け、図4(e)に示すように、検体の導入用・排出用の貫通孔22,24を形成する。例えば、THGレーザーで貫通孔22,24を加工する。蓋部材20が感光性の樹脂フィルムの場合には、フォトリソグラフィーで貫通孔22,24を加工できるので、レーザー加工で発生するスミアや素子への熱ダメージを低減できる。
次いで、図4(f)に示すように、はんだペースト印刷とリフローによって、はんだバンプ15を形成する。ビア13の内部が電解めっき、導電性ペースト等で充填されている場合には、はんだバンプ15をビア直上に形成できる。ビア13の内部が充填されていない場合には、後述する実施例2のように、ビア13の横にはんだバンプ15を形成する。
次いで、図4(g)に示すように、ダイシング、レーザー等の手法で親基板を分割し、液中物質検出センサー10のチップ(子基板)を取り出す。
なお、上記以外のプロセスフローで液中物質検出センサー10を製造してもよい。
以上に説明したように、液中物質検出センサー10は、ウェハレベルで流路、ビアを形成するので、プロセスが簡便である。また、液中物質検出センサー10の小型化・低背化・低コスト化を実現できる。
蓋部材20に樹脂フィルムを用いているので、簡便でかつ低コストな流路形成が可能となる。
流路30の底面にSAW素子16,17が形成されているため、ベース基板にSAW素子チップを実装する場合と比べると、SAW素子のセンシング部分に効率よく検体を流すことができる。そのため、検体量が少量ですみ、かつ精度よくセンシング可能となる。
また、液体等の検体に接する面に端子がないため、液中物質検出センサーの特性が劣化せず、液中物質検出センサーの信頼性が向上する。また、端子を樹脂層などで覆う必要がなく、製造が簡単である。
2つのSAW素子が同一基板に同一の形成方法で同時に形成できるため、素子間の特性差がほとんどなく、良好な検出精度が得られる。
液中物質検出センサーの上面が平坦なため、液体を供給する装置などを容易に取り付けることができる。
ウェハレベルで流路を形成するため、高精度な流路形成が可能となり、検出精度が向上する。
ビアを介して下面からの外部電極(はんだバンプやCu、Au、Niバンプ)による信号取り出しのため、寄生インダクタの変動がなく、安定した素子特性が得られるとともに、安定したデバイス形成が可能となる。
<実施例2> 実施例2の液中物質検出センサーについて、図5〜図7を参照しながら説明する。
実施例2の液中物質検出センサー10xは、実施例1の液中物質検出センサーと略同様に構成されており、以下では相違点を中心に説明し、同じ構成部分には同じ符号を用いる。
図5の断面図に示すように、液中物質検出センサー10xは、実施例1と略同様に、表面12aに2つのSAW素子16,17が形成された圧電基板12と、蓋部材20xとが、支持層19を介して接合されている。
実施例1とは異なり、蓋部材20xには、LiTaO基板などの圧電基板を用いる。蓋部材20xには、実施例1と略同様に、貫通孔22x,24xが形成されている。
圧電基板12には、実施例1と同様にビア(貫通孔)13が形成されているが、実施例1と異なり、ビア内部電極14aはビア13の内面に沿って配置され、ビア13から延長され、圧電基板12の裏面12bに沿って延在している。外部電極となるはんだバンプ15は、ビア内部電極14aの延長部14xの上に、すなわち、ビア13の横に形成されている。外部との電気的信号の取り出し、導通が十分な場合、バンプ15を形成せず、ビア内部電極14xを外部端子としてもよい。
次に、液中物質検出センサー10xの製造方法の一例について、図6及び図7の断面図を参照しながら説明する。
図6(a)に示すように、蓋部材20xに検体の導入用・排出用のビア(貫通孔)22x,24xを形成する。ビア形成手法としては、サンドブラスト、レーザー、ウェットエッチング、イオンミリング等の手法を用いる。
次いで、図6(b)に示すように、SAW素子16,17が形成された圧電基板12の表面12aに、接着樹脂を用いて支持層19を形成する。例えば、エポキシ系、ポリイミド系の感光性樹脂を用いて、フォトリソグラフィーでパターニングを行い、流路30の側壁32を形成する。支持層19の厚みは、検体が流れるのに十分な厚み、例えば血液等を検体とする場合には100μm以上となるようにする。
次いで、図6(c)に示すように、圧電基板12と蓋部材20xとを加熱、加圧によって、支持層19を介して貼り合せて、流路30を塞ぐ。
次いで、図7(d)に示すように、圧電基板12に、サンドブラスト、レーザー、ウェットエッチング、イオンミリング等の手法でビア13を形成する。加工レートの点から、サンドブラストが最もビア加工に適している。
サンドブラストを用いる場合には、予め、電極パッド18の下に、エッチストップ層18sとしてCuなどの電極を圧電基板12の厚みの2%以上の厚みで形成する。例えば、圧電基板12が厚み350μmのLiTaO基板である場合には、厚み10μm程度のエッチストップ層18sを形成する。
次いで、図7(e)に示すように、電解めっき、導電性ペースト等で、圧電基板12の表面12aから圧電基板12の裏面12bへ電気信号を取り出すためのビア内部電極14a及び延長部14xを形成する。ビア13の内壁への電極被覆性、充填性の点から、電解めっき、特にCu電解めっきが適している。
次いで、図7(f)に示すように、はんだペースト印刷とリフローによって、はんだバンプ15を形成する。はんだバンプ15は、ビア13の内部が充填されていない場合には、延長部14xの上に、すなわちビア13の横に形成する。ビア13内部が電解めっき、導電性ペースト等で充填されている場合には、実施例1のように、はんだバンプ15は、ビア13の直上に形成できる。
次いで、図7(g)に示すように、ウェハ状態の親基板を、ダイシング、レーザー等の手法で、液中物質検出センサーのチップ(子基板)に分割する。
圧電基板12と蓋部材20xの接着は加熱しながら行うため、それぞれの線膨張係数差は2ppm/℃以下であることが望ましい。圧電基板12と蓋部材20xの線膨張係数差を小さくすることで、熱ストレスに強く、かつ接着後の基板のそりが小さくなるため、プロセスを通しやすい。
さらに、圧電基板12と蓋部材20xとが同一材料であることがより望ましい。この場合には、圧電基板12と蓋部材20xとの線膨張係数差がないため、熱ストレスにより強く、かつ接着後の基板のそりがより小さくなる。例えば、圧電基板12としてLiTaO基板、蓋部材20xとしてLiTaO基板を用いる。
液中物質検出センサー10xは、蓋部材20xとして基板を用いることで、堅牢な構造を実現することができる。
<まとめ> 以上に説明した液中物質検出センサー10,10xは、流路面にSAW素子が直接形成されているため、ベース基板にSAW素子チップを実装する場合と比べると、小型化と検出精度の向上が容易である。
なお、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加え得て実施することが可能である。

Claims (8)

  1. 1つの圧電基板と、
    前記圧電基板の一方主面に形成されており、少なくとも1つのIDT電極を有する、第1のSAW素子と、
    前記圧電基板の一方主面に形成されており、少なくとも1つのIDT電極を有し、反応膜で覆われている、第2のSAW素子と、
    前記圧電基板の他方主面に形成されており、前記圧電基板を貫通したビアを介して前記第1及び第2のSAW素子に電気的に接続されている、外部電極と、
    前記圧電基板の前記一方主面において、前記第1及び第2のSAW素子のまわりと前記第1及び第2のSAW素子間を接続する部分のまわりに配置され、流路の側壁を形成する、流路形成用部材と、
    前記圧電基板の前記一方主面側に前記流路形成用部材を介して接合されて前記流路を塞ぎ、前記流路に連通する少なくとも2つの貫通孔を有する、保護部材と、
    を備えたことを特徴とする液中物質検出センサー。
  2. 前記流路形成用部材は、樹脂であることを特徴とする、請求項1に記載の液中物質検出センサー。
  3. 前記流路形成用部材は、感光性樹脂であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の液中物質検出センサー。
  4. 前記保護部材は、樹脂フィルムであることを特徴とする、請求項1、2、又は3に記載の液中物質検出センサー。
  5. 前記保護部材は、感光性樹脂フィルムであることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の液中物質検出センサー。
  6. 前記保護部材は、無機材料からなる基板であることを特徴とする、請求項1、2、又は3に記載の液中物質検出センサー。
  7. 前記保護部材と前記圧電基板との線膨張係数の差が2ppm/℃以下であることを特徴とする、請求項1ないし3、6のいずれか一項に記載の液中物質検出センサー。
  8. 前記保護部材と前記圧電基板とが同一材料であることを特徴とする、請求項1ないし3、6のいずれか一項に記載の液中物質検出センサー。
JP2009507432A 2007-03-29 2008-02-27 液中物質検出センサー Expired - Fee Related JP5229220B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009507432A JP5229220B2 (ja) 2007-03-29 2008-02-27 液中物質検出センサー

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007089317 2007-03-29
JP2007089317 2007-03-29
JP2009507432A JP5229220B2 (ja) 2007-03-29 2008-02-27 液中物質検出センサー
PCT/JP2008/053386 WO2008120511A1 (ja) 2007-03-29 2008-02-27 液中物質検出センサー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008120511A1 JPWO2008120511A1 (ja) 2010-07-15
JP5229220B2 true JP5229220B2 (ja) 2013-07-03

Family

ID=39808096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009507432A Expired - Fee Related JP5229220B2 (ja) 2007-03-29 2008-02-27 液中物質検出センサー

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8256275B2 (ja)
EP (1) EP2131192A1 (ja)
JP (1) JP5229220B2 (ja)
WO (1) WO2008120511A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010087741A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Biosensor Applications Sweden Ab Analysis of several target antigens in a liquid sample
CN103314294B (zh) * 2010-10-05 2016-02-03 昌微***科技(上海)有限公司 疾病检测器件
JP2012217136A (ja) * 2011-03-30 2012-11-08 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電デバイスの製造方法、およびこの方法で製造した圧電デバイス
JP6154103B2 (ja) * 2011-12-27 2017-06-28 京セラ株式会社 弾性表面波センサおよびその製造方法
US10976326B2 (en) * 2013-12-26 2021-04-13 Kyocera Corporation Sensor
EP3252462B1 (en) * 2015-02-27 2020-05-06 Kyocera Corporation Liquid sample sensor based on surface acoustic wave elements
CN109314500A (zh) 2016-06-09 2019-02-05 株式会社村田制作所 弹性波装置
US11581870B2 (en) * 2019-09-27 2023-02-14 Skyworks Solutions, Inc. Stacked acoustic wave resonator package with laser-drilled VIAS

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11201951A (ja) * 1998-01-08 1999-07-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 表面弾性波センサ
JP3206345B2 (ja) * 1994-12-22 2001-09-10 株式会社明電舎 弾性表面波素子
JP2003502616A (ja) * 1998-11-04 2003-01-21 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 液体の濃度及び粘性を検出するセンサ装置及び方法
JP2004129222A (ja) * 2002-07-31 2004-04-22 Murata Mfg Co Ltd 圧電部品およびその製造方法
JP2005038946A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Murata Mfg Co Ltd 多層配線構造およびそれを用いた電子部品
JP2005181292A (ja) * 2003-11-27 2005-07-07 Kyocera Corp 圧力センサ
WO2005066621A1 (en) * 2003-12-30 2005-07-21 3M Innovative Properties Company Surface acoustic wave sensor assemblies
JP2005208043A (ja) * 2003-12-25 2005-08-04 Kyocera Corp 圧力センサ装置
JP2005208055A (ja) * 2003-12-25 2005-08-04 Kyocera Corp 圧力センサモジュール
WO2005120130A1 (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Olympus Corporation 静電容量型超音波振動子とその製造方法、静電容量型超音波プローブ
WO2006006343A1 (ja) * 2004-07-14 2006-01-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. 圧電デバイス
WO2006008940A1 (ja) * 2004-07-20 2006-01-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. 圧電フィルタ
WO2006027945A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. 液中物質検出センサ及びそれを用いた液中物質検出装置
JP2006162318A (ja) * 2004-12-03 2006-06-22 Japan Radio Co Ltd センサ
JP2006173557A (ja) * 2004-11-22 2006-06-29 Toshiba Corp 中空型半導体装置とその製造方法
JP2006184011A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Seiko Epson Corp 弾性表面波センサ
JP2006267184A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Fuji Xerox Co Ltd 用紙トレーおよび画像形成装置
WO2006106831A1 (ja) * 2005-04-01 2006-10-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 弾性表面波デバイスおよびその製造方法
WO2006114829A1 (ja) * 2005-04-06 2006-11-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 表面波センサ装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3846709B2 (ja) * 2002-03-18 2006-11-15 スズキ株式会社 シートベルト装置におけるシートベルト連結具の収納構造
JP4099505B2 (ja) * 2003-11-27 2008-06-11 京セラ株式会社 圧力センサ装置
DE112007002113B4 (de) * 2006-09-27 2015-04-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. Grenzflächenschallwellenvorrichtung
CN101569100A (zh) * 2006-12-25 2009-10-28 株式会社村田制作所 弹性边界波装置

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3206345B2 (ja) * 1994-12-22 2001-09-10 株式会社明電舎 弾性表面波素子
JPH11201951A (ja) * 1998-01-08 1999-07-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 表面弾性波センサ
JP2003502616A (ja) * 1998-11-04 2003-01-21 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 液体の濃度及び粘性を検出するセンサ装置及び方法
JP2004129222A (ja) * 2002-07-31 2004-04-22 Murata Mfg Co Ltd 圧電部品およびその製造方法
JP2005038946A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Murata Mfg Co Ltd 多層配線構造およびそれを用いた電子部品
JP2005181292A (ja) * 2003-11-27 2005-07-07 Kyocera Corp 圧力センサ
JP2005208055A (ja) * 2003-12-25 2005-08-04 Kyocera Corp 圧力センサモジュール
JP2005208043A (ja) * 2003-12-25 2005-08-04 Kyocera Corp 圧力センサ装置
WO2005066621A1 (en) * 2003-12-30 2005-07-21 3M Innovative Properties Company Surface acoustic wave sensor assemblies
WO2005120130A1 (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Olympus Corporation 静電容量型超音波振動子とその製造方法、静電容量型超音波プローブ
WO2006006343A1 (ja) * 2004-07-14 2006-01-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. 圧電デバイス
WO2006008940A1 (ja) * 2004-07-20 2006-01-26 Murata Manufacturing Co., Ltd. 圧電フィルタ
WO2006027945A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. 液中物質検出センサ及びそれを用いた液中物質検出装置
JP2006173557A (ja) * 2004-11-22 2006-06-29 Toshiba Corp 中空型半導体装置とその製造方法
JP2006162318A (ja) * 2004-12-03 2006-06-22 Japan Radio Co Ltd センサ
JP2006184011A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Seiko Epson Corp 弾性表面波センサ
JP2006267184A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Fuji Xerox Co Ltd 用紙トレーおよび画像形成装置
WO2006106831A1 (ja) * 2005-04-01 2006-10-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 弾性表面波デバイスおよびその製造方法
WO2006114829A1 (ja) * 2005-04-06 2006-11-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. 表面波センサ装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20090320574A1 (en) 2009-12-31
US8256275B2 (en) 2012-09-04
EP2131192A1 (en) 2009-12-09
JPWO2008120511A1 (ja) 2010-07-15
WO2008120511A1 (ja) 2008-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5229220B2 (ja) 液中物質検出センサー
US7336017B2 (en) Stack type surface acoustic wave package, and method for manufacturing the same
JP4873310B2 (ja) 圧電デバイス
US9088262B2 (en) Vibrating device, method for manufacturing vibrating device, and electronic apparatus
US7161283B1 (en) Method for placing metal contacts underneath FBAR resonators
KR20110035963A (ko) 압전 진동자, 발진기 및 발진기 패키지
JP2007318058A (ja) 電子部品及びその製造方法
JP2009159195A (ja) 圧電部品及びその製造方法
JP2009117544A (ja) 電子部品
JP2007000986A (ja) マイクロ構造体
KR20170073080A (ko) 음향 공진기 및 그 제조 방법
US7876168B2 (en) Piezoelectric oscillator and method for manufacturing the same
JP2005143042A (ja) 圧電デバイス
CN102201796A (zh) 封装件、电子装置、以及电子装置的制造方法
JP2006229632A (ja) 弾性表面波デバイス
JP2008028713A (ja) 弾性表面波装置
JP2009033333A (ja) 圧電部品
JP2010073919A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP5440148B2 (ja) 圧電デバイスの製造方法
KR100843419B1 (ko) 반도체 칩 패키지 및 제조방법
JP2008039469A (ja) 圧電振動ジャイロモジュール及び圧電振動ジャイロセンサ
JP2013046168A (ja) 振動デバイスの製造方法
JP2011117859A (ja) 物理量検出装置
KR100886862B1 (ko) 전자 패키지 및 그 제조방법
JP5151569B2 (ja) 圧電発振器

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110920

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130304

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160329

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5229220

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees